專利名稱：胸牌的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及徽章或胸牌，尤其涉及一種用激光刻制的胸牌。
背景技術：
傳統(tǒng)的徽章、胸牌一般是在基材上雕刻圖案構成。背景就是基材表面固有的痕跡，表現(xiàn)手法單一。

發(fā)明內容
本實用新型的目的是為了解決上述背景技術存在的不足，提出一種表現(xiàn)手法豐富，背景圖案更為美觀的胸牌。
為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用如下技術方案一種胸牌，其特征是該胸牌由竹材、木材或復合木質材料作基材，其表面由用激光刻制的底紋、圖案或文字構成。
所述文字和圖案的周圍設有類似絨面底紋，該絨面底紋由不規(guī)則分布的凹坑或顆粒構成，凹坑的深度或顆粒的高度為0.1-1mm，凹坑或顆粒的最大為0.1-0.5mm，凹坑或顆粒的密度為100-1000個/cm2。
本實用新型由于采用獨特的背景圖案，因此它更能凸顯徽章、胸牌上的文字和圖案，并襯托它們，使徽章、胸牌上的文字和圖案更豐滿，美觀。


圖1是本實用新型主視圖。
具體實施方式
參照圖1，本實用新型所述胸牌上包括基材1，基材1上雕刻有文字或圖案2，所述圖案的周圍設有絨面底紋，該絨面底紋由不規(guī)則分布的凹坑或顆粒構成，凹坑的深度或顆粒的高度為0.1-1mm，凹坑或顆粒的最大直徑為0.1-0.5mm，凹坑或顆粒的密度為100-1000/cm2。所述基材為木材、竹材或復合木質材料。
權利要求1.一種胸牌，其特征是該胸牌由竹材、木材或復合木質材料作基材，其表面由用激光刻制的底紋、圖案或文字構成。
2.按照權利要求1所述一種胸牌，其特征是所述文字和圖案的周圍設有絨面底紋，該絨面底紋由不規(guī)則分布的凹坑或顆粒構成，凹坑的深度或顆粒的高度為0.1-1mm，凹坑或顆粒的最大為0.1-0.5mm，凹坑或顆粒的密度為100-1000個/cm2。
專利摘要一種胸牌，其特征是該胸牌由竹材、木材或復合木質材料作基材，其表面由用激光刻制的底紋、圖案或文字構成。本實用新型由于采用獨特的背景圖案，因此它更能凸顯徽章、胸牌上的文字和圖案，并襯托它們，使徽章、胸牌上的文字和圖案更豐滿，美觀。
文檔編號A44C3/00GK2847928SQ2005200955
公開日2006年12月20日 申請日期2005年3月17日 優(yōu)先權日2005年3月17日
發(fā)明者張成偉, 鄒詩娟, 王付雁, 高芹, 孫文 申請人:武漢楚天激光(集團)股份有限公司