雙通道涂層的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及形成含有活性物的膜產(chǎn)品、同時(shí)顯著減少浪費(fèi)的活性物質(zhì)量的方法和設(shè)備。所得產(chǎn)品是符合使用者預(yù)先確定的物理性質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)并且適于使用的含有活性物的膜產(chǎn)品。
【專利說明】雙通道涂層【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及形成含有活性物的膜產(chǎn)品、同時(shí)顯著減少浪費(fèi)的活性物質(zhì)量的方法和設(shè)備。所得產(chǎn)品是符合使用者預(yù)先確定的物理性質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)并且適于使用的含有活性物的膜產(chǎn)品O
【背景技術(shù)】
[0002]可溶性或可分解的膜在治療性活性試劑(如藥物、生物有效試劑、美容劑和其他類似物質(zhì))的給藥中的使用正變得越來越普遍。通過這種膜的遞送具有相當(dāng)多的益處，包括，例如易于向使用者給藥。這種膜應(yīng)具有相當(dāng)均勻的尺寸以及在每個(gè)單位的劑量中基本均勻的組分分布。當(dāng)膜包含藥物組分時(shí)，為了保證精確的劑量，基本均勻的組分分布是特別重要的。
[0003]膜能以任意需要的方式形成，并且在一些情況下，可用于在相同的時(shí)間形成大規(guī)模批料的膜產(chǎn)品，然后從膜中測量并剪裁單獨(dú)劑量單位。通常，形成濕膜的基質(zhì)在基材的表面沉積，然后干燥以形成所得的膜，然后測量并剪裁至單獨(dú)的膜條產(chǎn)物。然而，不幸的是，這種通常的方法需要幾次調(diào)節(jié)以實(shí)現(xiàn)在所得膜中需要的涂層重量和水分水平。在這些調(diào)節(jié)期間，產(chǎn)生的膜被認(rèn)為是浪費(fèi)的膜并且必須被棄去。因此，這種調(diào)節(jié)期間造成大量浪費(fèi)的膜。
[0004]在這些膜中使用的活性物可能是非常昂貴的，特別是如果這些活性物包括藥物或其他生物有效試劑。如果在調(diào)節(jié)期間形成的膜包含活性物質(zhì)，對于公司而言這浪費(fèi)的物質(zhì)可能是成本極高的。
[0005]因此，本發(fā)明尋求解決在膜形成方法的早期階段的活性物浪費(fèi)的問題。通過本發(fā)明形成的膜不僅可節(jié)約浪費(fèi)的活性物質(zhì)，同時(shí)也節(jié)約相當(dāng)量的浪費(fèi)成本?！?br/>【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中，提供了在膜形成設(shè)備中形成含有活性物的膜產(chǎn)品的方法，所述方法包括下述步驟:(a)提供能夠在第一通道和與第一通道平行的第二通道中沉積濕膜產(chǎn)品的涂覆噴頭；(b)提供第一批料的包括至少一種聚合物的膜形成基質(zhì)；(c)提供第二批料的包括至少一種聚合物和活性組分的膜形成基質(zhì)；(d)用第一通道施涂第一批料的涂層并且干燥第一次施涂的涂層以形成所得替代膜；(e)測量所得替代膜的至少一個(gè)物理性質(zhì)并且確定這至少一個(gè)物理性質(zhì)是否符合預(yù)先確定的標(biāo)準(zhǔn)；(f)任選地，調(diào)節(jié)至少一個(gè)工藝參數(shù)并重復(fù)上述步驟(d)和(e);以及(g)用第二通道施涂第二批料的涂層并且干燥第二次施涂的涂層以形成含有活性物的所得膜。
[0007]本發(fā)明可進(jìn)一步提供用于形成含活性物的膜產(chǎn)品的膜形成裝置，包括:(a)可移動(dòng)基板；(b)能夠在第一通道和與第一通道基本平行的第二通道中沉積濕膜產(chǎn)品的涂覆噴頭，(C)適當(dāng)尺寸的能容納基板的干燥設(shè)備；(d)向第一通道進(jìn)料第一批料的膜形成材料的裝置；以及(e)向第二通道進(jìn)料第二批料的膜形成材料的裝置?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0008]圖1A-1B顯示了可用于本發(fā)明中的設(shè)備，其中使用輥涂系統(tǒng)形成兩條通道的膜。
[0009]圖1C-1D顯示了可用于本發(fā)明中的另一個(gè)設(shè)備，其中使用輥涂系統(tǒng)形成超過兩條通道的膜。
[0010]圖2A-2B顯示了可用于本發(fā)明中的設(shè)備，其中使用狹縫模頭涂覆形成雙通道的膜。
[0011]圖2C-2D顯示了可用于本發(fā)明中的另一個(gè)設(shè)備，其中使用狹縫模頭涂覆形成超過兩條通道的膜。
[0012]發(fā)明詳述
[0013]本發(fā)明涉及用于形成膜產(chǎn)品的方法和設(shè)備，膜產(chǎn)品包括含有至少一種活性組合物的膜產(chǎn)品。具體地，本發(fā)明提供了用于形成膜產(chǎn)品的方法和設(shè)備，所述方法和設(shè)備盡可能減少了在小批料尺寸膜加工中通常要求的浪費(fèi)的活性物質(zhì)量。膜系統(tǒng)體現(xiàn)了在向需要的個(gè)體給予藥物、藥劑和多種其他活性物和試劑遞送體系的領(lǐng)域中具有主要優(yōu)勢的【技術(shù)領(lǐng)域】。為了提供展現(xiàn)出有利特性和所需性質(zhì)(包括組分的均勻性)的所需最終產(chǎn)物，膜產(chǎn)品的加工和制造以及膜技術(shù)在技術(shù)上是要求苛刻和繁瑣的。
[0014]在本文中，術(shù)語“藥物”、“藥劑”、“藥”和“活性物”可互換使用，并指用于預(yù)防或治療病癥的物質(zhì)或組合物。這些術(shù)語可包括藥物、營養(yǎng)劑、美容劑、生物劑、生物有效物質(zhì)等。
[0015]會(huì)被理解的是，術(shù)語“膜”包括任意厚度的遞送系統(tǒng)，包括任意形狀(包括矩形、正方形或其他需要的形狀)的膜和膜條、膜片、膜盤、膜晶片等。膜可以是連續(xù)卷的形式或可被剪裁至需要的長度和寬度。本文所述的這些膜可以是任意適于預(yù)期用途的需要的厚度和尺寸。例如，本發(fā)明的膜能被剪裁至其可以放入使用者的口腔中。其他膜可以剪裁用于使用者的皮膚上，例如局部使用。例如，一些膜可以具有約0.1-約10密耳(mil)的相對薄的厚度，而其他的膜可以具有約10-約30密耳的較厚的厚度。對于一些膜，特別是預(yù)期用于局部使用的膜，其厚度可以更大，例如，超過約30密耳。另外，術(shù)語“膜”包含單層組合物和多層組合物，如疊層膜、膜上涂層等。干燥膜形式的組合物在膜的加工中保持組分的均勻分布。膜可包括兩個(gè)膜之間的囊袋或藥劑區(qū)域。
[0016]在本文中，術(shù)語“貼片”包括多層膜產(chǎn)品，其中第一層(或“背襯層”)是具有低于第二層(或“活性層”)的溶解速率的膜產(chǎn)品。本文所述的貼片通常包括互相粘附或?qū)盈B的第一層和第二層，其中第二層具有小于第一層的長度和/或?qū)挾?，以至于第一層的至少一部分表面在第二層之外是可見的?br> [0017]本發(fā)明形成的膜可適于向使用者身體的至少一個(gè)區(qū)域給藥，如粘膜區(qū)域或使用者體內(nèi)的區(qū)域，如內(nèi)部器官的表面。在本發(fā)明的一些實(shí)施方式中，膜用于口服給藥。在其他實(shí)施方式中，膜用于局部給藥。在本文中，術(shù)語“局部藥劑”是指包括用于特定表面區(qū)域的活性藥劑。例如，在一個(gè)實(shí)施方式中，局部藥劑用于皮膚的區(qū)域。在其他實(shí)施方式中，局部藥劑也用于身體的粘膜區(qū)域，如身體的口腔(例如口頰、舌下、舌頭)、陰道、眼部和肛門。可以理解的是，本發(fā)明的膜能夠同時(shí)用于超過一個(gè)的身體區(qū)域，如超過一處的口腔粘膜表面。超過一個(gè)表面的例子能夠包括，例如舌下-口腔底部、舌-硬板(hard pallet)以及口頰-牙齦。在其他實(shí)施方式中，局部藥劑用于使用者的內(nèi)部器官或其他身體表面，如在手術(shù)中，在手術(shù)完成后藥劑可以被去除或留在體內(nèi)。在其他實(shí)施方式中，局部藥劑用于硬表面，如需要治療的特定表面區(qū)域。在其他實(shí)施方式中，本發(fā)明的膜是可攝取的，并且用于放置在使用者的口中并且在膜分解和/或溶解時(shí)被吞咽。
[0018]藥劑可以通過膜分散，或在膜的一個(gè)或多個(gè)表面上沉積。在任意方式中，希望每單位面積的藥劑量在膜上是基本均勻的。“單位面積”包括合適的單位面積，如一個(gè)局部劑量單位的面積。希望本發(fā)明的其中分散有藥劑的膜包括所得膜的體積內(nèi)組分分布的均勻性。這種均勻性包括每單位體積膜中基本均勻的藥劑量，其中單位體積是一個(gè)劑量的形式，無論藥劑是在膜的基質(zhì)內(nèi)或被涂覆、層疊、沉積或穩(wěn)定化在其一個(gè)或多個(gè)表面上。均勻性可以包括在單獨(dú)劑量之間基本均勻的成分。當(dāng)這樣的膜被剪裁成單獨(dú)的單位時(shí)，就能非常精確地了解單位中的藥劑量。對于本文形成的膜，本領(lǐng)域技術(shù)人員可理解所得的膜不需要100%精確的均一。所需要的是膜“基本均勻”，例如，輕微量的不均勻性被理解為可以接受的?！盎揪鶆颉笨梢园?，例如，膜的一個(gè)區(qū)域與另一個(gè)區(qū)域之間的含量為約90%均勻，或膜的一個(gè)區(qū)域與另一個(gè)區(qū)域之間的含量為約95%均勻，以及最理想地，膜的一個(gè)區(qū)域與另一個(gè)區(qū)域之間的含量為約99%均勻。術(shù)語“基本均勻”也可以指對于30個(gè)獨(dú)立隨機(jī)樣本，相對標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD)應(yīng)該不超過約7.8%，其中RSD如下定義:
[0019]S=樣本標(biāo)準(zhǔn)偏差。
[0020]測試的單位得到的平均值，表示為目標(biāo)含量的百分比。
[0021]η=測試的單位的數(shù)量。
[0022]X1, χ2, X3...Xn=測試的單位的獨(dú)立值(Xi)，表示為目標(biāo)含量的百分比。
【權(quán)利要求】
1.一種在膜形成設(shè)備中形成含活性物的膜產(chǎn)品的方法，所述方法包括以下步驟: a.提供能夠在基材上沉積第一通道和第二通道中的膜成形基質(zhì)的涂覆噴頭； b.提供第一批料的含有至少一種聚合物的第一膜形成基質(zhì)； c.提供第二批料的含有至少一種聚合物和活性組分的第二膜形成基質(zhì)； d.通過所述涂覆噴頭在所述第一通道中施涂所述第一批料的層并且干燥施涂的所述第一層以形成所得的替代膜； e.測量得到的所述替代膜的至少一個(gè)物理性質(zhì)并且確定所述至少一個(gè)物理性質(zhì)是否滿足預(yù)先確定的標(biāo)準(zhǔn)； f.任選地，調(diào)節(jié)至少一個(gè)加工參數(shù)并且重復(fù)上述的步驟(d)和(e)； g.在所述第二通道中施涂所述第二批料的層并且干燥施涂的所述第二層以形成含有活性物的所得膜。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，每個(gè)所述通道包括兩個(gè)基本平行的擋板形成所述通道的側(cè)邊。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂覆噴頭包括至少3條通道。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，每個(gè)所述通道具有約20-約40_的寬度。
5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一膜形成基質(zhì)包括聚合物、溶劑并且不含活性物。
6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二膜形成基質(zhì)包括聚合物、溶劑和活性物。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述膜形成設(shè)備包括涂覆輥、可移動(dòng)的基材和干燥設(shè)備。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，步驟(d)包括移動(dòng)所述基材穿過所述干燥設(shè)備的步驟。
9.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述物理性質(zhì)包括至少一種選自下組的物理性質(zhì):膜的厚度、含水量、涂層重量及其組合。
10.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述物理性質(zhì)包括可觀察到的缺陷。
11.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述加工參數(shù)包括選自下組的參數(shù):輥隙大小、基材速度、干燥溫度及其組合。
12.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二批料包括至少30%活性物。
13.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，將所述第二批料以約IOmg/ cm2施涂在所述基材上。
14.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括以下步驟: h.將所述膜產(chǎn)品切成多個(gè)基本相同尺寸的單獨(dú)劑量單元。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于，測得所述單獨(dú)劑量單元具有不超過7.8%的 RSD。
16.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二通道基本與所述第一通道平行。
17.一種用于形成含有活性物的膜產(chǎn)品的膜形成設(shè)備，所述設(shè)備包括: a.可移動(dòng)的基材； b.能夠在第一通道和第二通道中沉積膜成形基質(zhì)的涂覆噴頭；b.大小調(diào)整到容納所述基材的干燥設(shè)備； C.向所述第一通道進(jìn)料第一批料的膜形成材料的設(shè)備；以及 d.向所述第二通道進(jìn)料第二批料的膜形成材料的設(shè)備。
18.如權(quán)利要求17所述的膜形成設(shè)備，其特征在于，所述膜形成設(shè)備能夠從進(jìn)料所述第一批料切換為進(jìn)料所述第二批料，同時(shí)所述基材移動(dòng)穿過所述干燥設(shè)備。
19.如權(quán)利要求17所述的膜形成設(shè)備，其特征在于，通過基本平行的擋板形成所述通道。
20.如權(quán)利要求17所述的膜形成設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括超過2條通道。
21.如權(quán)利要求17所述的膜形成設(shè)備，其特征在于，所述進(jìn)料第一批料的設(shè)備是涂覆輥。
22.如權(quán)利要求17所述的膜形成設(shè)備，其特征在于，所述進(jìn)料第二批料的設(shè)備是涂覆輥。
23.如權(quán)利要求17所述的膜形成設(shè)備，其特征在于，所述進(jìn)料第一批料的設(shè)備和所述進(jìn)料第二批料的設(shè)備是同一個(gè)涂覆輥。
24.如權(quán)利要求17所述的膜形成設(shè)備，其特征在于，所述第一批料儲(chǔ)存在第一容器中。
25.如權(quán)利要求17所述的膜形成設(shè)備，其特征在于，所述第二批料儲(chǔ)存在第二容器中。
26.如權(quán)利要求17所述的膜形成設(shè)備，其特征在于，所述可移動(dòng)基材的速度是可調(diào)節(jié)的。
27.如權(quán)利要求17所述的膜形成設(shè)備，其特征在于，涂覆輥的間隙大小是可調(diào)節(jié)的。
28.如權(quán)利要求17所述的膜形成設(shè)備，其特征在于，所述第二通道基本與所述第一通道平行。
29.一種在膜形成設(shè)備中形成含有活性物的膜產(chǎn)品的方法，所述方法包括以下步驟: a.提供能夠在基材上的第一通道和與所述第一通道平行的第二通道中沉積膜成形基質(zhì)的狹縫模頭擠出噴頭； b.提供第一批料的含有至少一種聚合物的第一膜形成基質(zhì)； c.提供第二批料的含有至少一種聚合物和活性組分的第二膜形成基質(zhì)； d.通過所述擠出噴頭在所述第一通道中施涂所述第一批料的層并且干燥施涂的所述第一層以形成所得的替代膜； e.測量得到的所述替代膜的至少一個(gè)物理性質(zhì)并且確定所述至少一個(gè)物理性質(zhì)是否滿足預(yù)先確定的標(biāo)準(zhǔn)； f.任選地，調(diào)節(jié)至少一個(gè)加工參數(shù)并且重復(fù)上述的步驟(d)和(e)； g.通過所述擠出噴頭在所述第二通道中施涂所述第二批料的層并且干燥施涂的所述第二層以形成含有活性物的所得膜。
30.一種用于形成含有活性物的膜產(chǎn)品的膜形成設(shè)備，所述設(shè)備包括: a.可移動(dòng)的基材； b.能夠在第一通道和與所述第一通道基本平行的第二通道中沉積膜成形基質(zhì)的狹縫豐旲頭擠出嗔頭； b.大小調(diào)整到容納所述基材的干燥設(shè)備； c.向所述第一通道進(jìn)料第一批料的膜形成材料的設(shè)備；以及 d.向所述第二通道進(jìn)料第二批料的膜形成材料的設(shè)備。
【文檔編號】A61K9/00GK103596552SQ201280028737
【公開日】2014年2月19日 申請日期:2012年4月5日 優(yōu)先權(quán)日:2011年4月12日
【發(fā)明者】B·A·博格 申請人:莫諾索爾克斯有限公司