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      晶圓清潔裝置的轉(zhuǎn)軸定位機(jī)構(gòu)的制作方法

      文檔序號(hào):1515033閱讀:255來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:晶圓清潔裝置的轉(zhuǎn)軸定位機(jī)構(gòu)的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型與半導(dǎo)體設(shè)備有關(guān),特別是指一種晶圓清潔裝置的轉(zhuǎn)軸定位機(jī)構(gòu)。
      背景技術(shù)
      在半導(dǎo)體晶圓的制造過(guò)程里,一般都經(jīng)過(guò)例如氧化物沉積、微影成形、電漿蝕刻, 或是化學(xué)機(jī)械拋光法等操作程序。而在這些制造程序之后,通常會(huì)在晶圓存留表面微粒或殘余物。為了不讓上述表面微?;驓堄辔镉绊懞罄m(xù)晶圓的制造程序與整個(gè)半導(dǎo)體電路的正常運(yùn)作,因而會(huì)進(jìn)行晶圓清潔的程序去除上述微粒與殘余物。晶圓的清潔方式是先使二具有泡棉表面的清潔刷沾浸氫氟酸(HF)清潔液,然后利用可旋轉(zhuǎn)的定位組件帶動(dòng)清潔刷旋轉(zhuǎn),同時(shí)接觸晶圓表面,即可達(dá)到清洗晶圓的效果。但是,由于氫氟酸具有強(qiáng)烈的腐蝕性,當(dāng)清潔刷清洗晶圓的時(shí)候,清潔液除了會(huì)沾附于晶圓以外,還會(huì)殘留于定位組件,使得定位組件受到腐蝕,必須時(shí)常更換零件。而現(xiàn)有定位組件的零件組裝較為繁瑣,因此增加了更換維修上的困難。
      發(fā)明內(nèi)容針對(duì)上述問(wèn)題,本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種晶圓清潔裝置的轉(zhuǎn)軸定位機(jī)構(gòu),其可降低晶圓清潔裝置的維修時(shí)間與成本,使晶圓清潔裝置的運(yùn)行更為順暢與穩(wěn)定,增加使用壽命。為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型所提供的一種晶圓清潔裝置的轉(zhuǎn)軸定位機(jī)構(gòu),其特征在于包含有一基座,具有一呈開放狀的容置部;一定位組件,所述定位組件具有一本體與一樞設(shè)于所述本體的軸心,所述定位組件直接連同所述本體與所述軸心能拆卸地設(shè)于所述基座的容置部。上述本實(shí)用新型的技術(shù)方案中,所述本體與所述軸心均以強(qiáng)化工程塑料材質(zhì)制成。所述本體內(nèi)設(shè)有至少一軸承,所述軸心穿設(shè)于所述本體與各所述軸承,使所述軸心樞設(shè)所述本體。各所述軸承利用一 C形扣環(huán)固定于所述本體。所述軸心通過(guò)鎖固于一端的二螺帽固定于所述軸承。 所述軸承以耐蝕性材料制成。所述本體套設(shè)一環(huán)圈,所述環(huán)圈的外周設(shè)有至少一油封。所述軸心內(nèi)部呈中空狀能連通一導(dǎo)管。采用上述技術(shù)方案,由于本實(shí)用新型的各組成構(gòu)件均以塑料或耐腐蝕材質(zhì)制成, 因此清潔液不會(huì)在零件表面產(chǎn)生出結(jié)晶物,也不會(huì)侵蝕定位組件的結(jié)構(gòu),讓晶圓清潔裝置的運(yùn)作可更為順暢與穩(wěn)定,并增加使用壽命。同時(shí),也由于本體與軸心等構(gòu)件均設(shè)計(jì)成一具整體、單獨(dú)的部件,當(dāng)需要更換定位組件時(shí),只要將整組定位組件從基座中抽出,再將新的定位組件插入基座即可完成作業(yè),由此可降低維修時(shí)間且減少成本。
      圖1是本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例的立體分解圖;圖2是本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例由另一角度顯示的立體分解圖;圖3是本實(shí)用新型另一實(shí)施形態(tài)的立體分解圖;圖4是本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例的立體分解圖,主要顯示應(yīng)用狀態(tài);圖5是本實(shí)用新型另一實(shí)施形態(tài)的立體分解圖,主要顯示應(yīng)用狀態(tài);圖6是本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例的使用狀態(tài)圖,主要顯示二清潔刷相互分開的狀態(tài);圖7類同于圖6,主要顯示二清潔刷相互靠近的狀態(tài)。
      具體實(shí)施方式
      為了詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)、特點(diǎn)及功效,現(xiàn)舉以下較佳實(shí)施例并配合附圖說(shuō)明如下。如圖1所示,為本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例所提供的晶圓清潔裝置的轉(zhuǎn)軸定位機(jī)構(gòu),包含一基座10以及一定位組件20?;?0的一側(cè)面具有一呈凹陷狀的圓形容置部12,定位組件20包含一圓筒狀本體22與一軸心M。如圖1及圖2所示,本體22內(nèi)設(shè)有軸承沈,軸心M穿設(shè)于本體22與軸承沈,軸承沈利用一 C形扣環(huán)23固定于本體22,軸心M則通過(guò)鎖固于末端的二螺帽27 固定于軸承26,使軸心M利用軸承沈樞設(shè)本體22并可相對(duì)本體22旋轉(zhuǎn)。定位組件20的本體22與軸心M等構(gòu)件均以強(qiáng)化工程塑料材質(zhì)制成,軸承沈則是用耐蝕性材料制成,例如不銹鋼。當(dāng)軸心M穿設(shè)于本體22與軸承沈時(shí),本體22與軸心M相互結(jié)合成為單獨(dú)部件。定位組件20利用本體22直接連同軸心M設(shè)置于基座10的容置部12,也可將本體22 連同軸心M抽出基座10。為了符合晶圓清潔裝置的使用形態(tài),讓定位組件20能流入清潔液,因而如圖3所示,本實(shí)用新型也可在本體22套設(shè)一環(huán)圈28,環(huán)圈28的外周設(shè)有二油封30,軸心25內(nèi)部則呈中空狀可連通一導(dǎo)管32。如圖4及圖5所示,當(dāng)本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例主要應(yīng)用于8時(shí)Mirra Mesa化學(xué)機(jī)械研磨系統(tǒng)或12時(shí)Ref Iexion化學(xué)機(jī)械研磨系統(tǒng)的晶圓清潔裝置時(shí),主要是將二基座 10設(shè)置于一驅(qū)動(dòng)件40,驅(qū)動(dòng)件40為氣壓缸,且具有二由內(nèi)部活塞所帶動(dòng)的連結(jié)件42。各基座10頂側(cè)與各連結(jié)件42相互結(jié)合,使二基座10可由連結(jié)件42帶動(dòng)而相對(duì)分離或是靠近地連結(jié)于驅(qū)動(dòng)件40。定位組件20的軸心M另外套設(shè)一齒輪44,齒輪44 一側(cè)向設(shè)有一載重座46,載重座46可用于固定一清潔刷48的端部,再由各齒輪44帶動(dòng)清潔刷48相對(duì)于基座10原地旋轉(zhuǎn)。另外,如圖4所示為不需流入清潔液的干側(cè)(Dry side),而圖5所示則為可流入清潔液的濕側(cè)(Wet side)。要進(jìn)行晶圓清潔工作時(shí),如圖6所示,二基座10受驅(qū)動(dòng)件40控制而相互分開一預(yù)定距離,當(dāng)完成制造過(guò)程的晶圓置于二清潔刷48之間,二基座10即可如圖7所示地受驅(qū)動(dòng)件40控制而相互靠近,經(jīng)導(dǎo)管32流入軸心M的清潔液隨即滲入清潔刷48,使受帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)的清潔刷48接觸晶圓進(jìn)行清潔工作。當(dāng)用于清潔晶圓的氫氟酸清潔液沾浸于定位組件20表面時(shí),由于本實(shí)用新型的各組成構(gòu)件均以塑料或耐腐蝕材質(zhì)制成,因此清潔液不會(huì)在零件表面產(chǎn)生出結(jié)晶物,也不會(huì)侵蝕定位組件20的結(jié)構(gòu),讓晶圓清潔裝置的運(yùn)作可更為順暢與穩(wěn)定,并增加使用壽命。 同時(shí),也由于本體22與軸心M等構(gòu)件均設(shè)計(jì)成一具整體、單獨(dú)的部件,若是定位組件20使用至必須更換時(shí),只要將整組定位組件20從基座10中抽出,再將新的定位組件20插入基座10即可完成作業(yè),由此可降低維修時(shí)間且減少成本。最后,必須再次說(shuō)明,本實(shí)用新型在前述實(shí)施例中所揭示的構(gòu)成組件,僅為舉例說(shuō)明,并非用來(lái)限制本案的專利保護(hù)范圍,其它等效組件的替代或變化,均應(yīng)被涵蓋在本案的專利保護(hù)范圍。
      權(quán)利要求1.一種晶圓清潔裝置的轉(zhuǎn)軸定位機(jī)構(gòu),其特征在于包含有一基座,具有一呈開放狀的容置部;一定位組件,所述定位組件具有一本體與一樞設(shè)于所述本體的軸心,所述定位組件直接連同所述本體與所述軸心能拆卸地設(shè)于所述基座的容置部。
      2.如權(quán)利要求1所述晶圓清潔裝置的轉(zhuǎn)軸定位機(jī)構(gòu),其特征在于所述本體與所述軸心均以強(qiáng)化工程塑料材質(zhì)制成。
      3.如權(quán)利要求1所述晶圓清潔裝置的轉(zhuǎn)軸定位機(jī)構(gòu),其特征在于所述本體內(nèi)設(shè)有至少一軸承,所述軸心穿設(shè)于所述本體與各所述軸承,使所述軸心樞設(shè)所述本體。
      4.如權(quán)利要求3所述晶圓清潔裝置的轉(zhuǎn)軸定位機(jī)構(gòu),其特征在于各所述軸承利用一C 形扣環(huán)固定于所述本體。
      5.如權(quán)利要求3所述晶圓清潔裝置的轉(zhuǎn)軸定位機(jī)構(gòu),其特征在于所述軸心通過(guò)鎖固于一端的二螺帽固定于所述軸承。
      6.如權(quán)利要求3所述晶圓清潔裝置的轉(zhuǎn)軸定位機(jī)構(gòu),其特征在于所述軸承以耐蝕性材料制成。
      7.如權(quán)利要求1所述晶圓清潔裝置的轉(zhuǎn)軸定位機(jī)構(gòu),其特征在于所述本體套設(shè)一環(huán)圈,所述環(huán)圈的外周設(shè)有至少一油封。
      8.如權(quán)利要求1所述晶圓清潔裝置的轉(zhuǎn)軸定位機(jī)構(gòu),其特征在于所述軸心內(nèi)部呈中空狀能連通一導(dǎo)管。
      專利摘要本實(shí)用新型涉及一種晶圓清潔裝置的轉(zhuǎn)軸定位機(jī)構(gòu),其包含有一基座,具有一呈開放狀的容置部;一定位組件,所述定位組件具有一本體與一樞設(shè)于所述本體的軸心,所述定位組件直接連同所述本體與所述軸心能拆卸地設(shè)于所述基座的容置部。本實(shí)用新型可降低晶圓清潔裝置的維修時(shí)間與成本,使其運(yùn)作更為順暢與穩(wěn)定,增加使用壽命。
      文檔編號(hào)B08B3/08GK202199553SQ201120275828
      公開日2012年4月25日 申請(qǐng)日期2011年8月1日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月22日
      發(fā)明者劉元周 申請(qǐng)人:科建國(guó)際實(shí)業(yè)股份有限公司
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