專利名稱：消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電容式觸摸屏的制造方法，尤其是一種電容式觸摸屏sensor的制作過程中使用的消除殘留溶液的方法，具體地說是一種消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法。
背景技術(shù)：
目前，電容技術(shù)觸摸屏是利用人體的電流感應(yīng)進(jìn)行工作的。電容式觸摸屏是一塊復(fù)合玻璃屏，玻璃屏的表面涂有ΙΤ0，最外層是一薄層矽土玻璃保護(hù)層，夾層ITO涂層作為工作面，工作面上引出電極，邊緣有防護(hù)層保證良好的工作環(huán)境。 當(dāng)手指觸摸在金屬層上時，由于人體電場，用戶和觸摸屏表面形成以一個耦合電容，對于高頻電流來說，電容是直接導(dǎo)體，于是手指從接觸點(diǎn)吸走一個很小的電流。這個電流分從觸摸屏的四角上的電極中流出，并且流經(jīng)這四個電極的電流與手指到四角的距離成正比，控制器通過對這四個電流比例的精確計(jì)算，得出觸摸點(diǎn)的位置。在電容式觸摸屏中，一般所指的是ITO Sensor, 一塊觸摸屏上有橫縱交錯的M條X軸和N條Y軸的ITO Sensor，用來感應(yīng)手指觸摸位置的(X，Y)坐標(biāo)。M和N的數(shù)量依據(jù)觸摸屏大小而不同，屏越大，需要的ITO Sensor軸數(shù)越多。
在電容式觸摸屏sensor的制作過程中，對于ITO玻璃進(jìn)行黃光制程，用于使ITO 玻璃上留下可以導(dǎo)電的、符合要求的ITO膜，將不需要的ITO膜使用蝕刻的方法將其蝕刻掉，在此生產(chǎn)過程中，會有蝕刻溶液的部分雜質(zhì)及溶液殘留在蝕刻后的玻璃和ITO膜的交界的地方，在介于ITO膜與玻璃之間的臺階，因此此種殘留得以留存，在蝕刻后的脫膜工藝，強(qiáng)堿溶液與殘留蝕刻雜質(zhì)進(jìn)行反應(yīng)，形成“殘留物”，并且在后道生產(chǎn)工序中不能消除， 嚴(yán)重影響了合格率。并且，此種情況一旦產(chǎn)生，由于以下原因，此種情況在生產(chǎn)的后續(xù)工序中很難被發(fā)現(xiàn)I.殘留物很微小，并且有相應(yīng)的防蝕刻物質(zhì)覆蓋在需要的ITO圖形的上方，影響此處的觀察。
2.觀察是否有殘留需要在黑箱進(jìn)行，由于是濕法工序，玻璃表面有水跡，影響了黑箱檢查的光反射，難以發(fā)現(xiàn)殘留。
若此時不能消除殘留，則在后續(xù)生產(chǎn)不能處理掉，只能專門處理，但是處理帶來的合格率的損傷很大，且費(fèi)時費(fèi)工。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有的電容式觸摸屏制作過程中會有蝕刻溶液的部分雜質(zhì)及溶液殘留在蝕刻后的玻璃和ITO膜的交界的地方嚴(yán)重影響產(chǎn)品質(zhì)量的問題，發(fā)明一種消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法。
本發(fā)明的技術(shù)方案是一種消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法，其特征是它包括以下步驟首先，將經(jīng)過刻蝕的觸摸屏掛置于支架上，并在90秒內(nèi)將支架放入裝有清洗液的浸泡箱中，浸泡箱中的清洗液的液面應(yīng)高出觸摸屏的有效工作區(qū)域；其次，觸摸屏在浸泡箱中浸泡25 35分鐘后取出立即進(jìn)入下一道工序；所述的清洗液的由重量百分比為0. 8 1%的HCl，O. 05% O. 07%的HNO3和余量的去離子水配制而成。
所述的清洗液必須每24小時更換一次。
本發(fā)明的有益效果本發(fā)明能消除刻蝕過程中的殘留溶液，保證產(chǎn)品質(zhì)量，確保后續(xù)工序的正常進(jìn)行。
本發(fā)明方法簡單，易行，生產(chǎn)效率高，提高了產(chǎn)品的合格率。


圖I是本發(fā)明的觸摸屏插裝支架的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本發(fā)明的浸泡箱的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。
如圖1-2所示。
一種消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法，它包括以下步驟首先，將經(jīng)過刻蝕的觸摸屏掛置于圖I所示的支架上，并在90秒內(nèi)將支架放入圖2所示的裝有清洗液的浸泡箱中，浸泡箱中的清洗液的液面應(yīng)高出觸摸屏的有效工作區(qū)域； 其次，觸摸屏在浸泡箱中浸泡25 35分鐘后取出立即進(jìn)入下一道工序；所述的清洗液的由重量百分比為0. 8 1%的HCl，O. 05% O. 07%的HNO3和余量的去離子水配制而成。
支架和溶液不發(fā)生反應(yīng)。生產(chǎn)時將批量生產(chǎn)的ITO玻璃基板，放置在支架內(nèi)，注意溶液對玻璃基板的阻力，防止碎片，待批量產(chǎn)品結(jié)束后，進(jìn)行下一道工序，此時本發(fā)明溶液會對蝕刻溶液殘留進(jìn)行反應(yīng)，消除在產(chǎn)品的表面殘留，從而解決蝕刻溶液殘留問題。
本發(fā)明的支架和浸泡箱及清洗液必須滿足如下要求I.支架尺寸必須滿足ITO玻璃基板的尺寸要求，故應(yīng)根據(jù)相應(yīng)尺寸加以制作。
2.支架、浸泡箱及清洗液不能發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，不然會影響溶液質(zhì)量，故支架、浸泡箱應(yīng)選用不銹鋼材質(zhì)制作。
3.支架和浸泡箱要分開，支架要有把手，這樣方便下道工序。
4.清洗液要按工作量更換，以殘留程度確定溶液濃度，一般每天更換一次。
5.要確保觸摸屏在清洗液中的時間不致過長，過長時間的浸泡會導(dǎo)致防蝕刻物質(zhì)的變化，導(dǎo)致缺陷發(fā)生，因此應(yīng)嚴(yán)格控制浸泡時間，及時取出。
在曝光、顯影后，在ITO玻璃表面留下一層抗蝕刻層，可以防止蝕刻液對其下的 ITO膜進(jìn)行蝕刻，而沒有抗蝕刻層保護(hù)的ITO會被蝕刻掉，這樣在玻璃表面就留下了需要的導(dǎo)電ITO膜，然后再進(jìn)行后續(xù)工序，以達(dá)到可以接受的阻值范圍。在蝕刻工序中，會有雜質(zhì)留存在蝕刻后裸露的玻璃和未蝕刻ITO膜處，此種雜質(zhì)以鐵元素為主，經(jīng)過后道脫膜工序， 雜質(zhì)將和強(qiáng)堿反應(yīng)，如不處理將導(dǎo)致廢品，并且產(chǎn)生的比例很高，達(dá)到80%以上。
因此，將本發(fā)明的方法放置在蝕刻程序后，在蝕刻工序后將正常生產(chǎn)產(chǎn)品通過支架放置在清洗溶液內(nèi)，清洗溶液可以消除殘留雜質(zhì)，從而消除蝕刻殘留缺陷，并且對生產(chǎn)效率沒有影響。
本發(fā)明未涉及部分均與現(xiàn)有技術(shù)相同或可采用現(xiàn)有技術(shù)加以實(shí)現(xiàn)。
權(quán)利要求
1.一種消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法，其特征是它包括以下步驟首先，將經(jīng)過刻蝕的觸摸屏掛置于支架上，并在90秒內(nèi)將支架放入裝有清洗液的浸泡箱中，浸泡箱中的清洗液的液面應(yīng)高出觸摸屏的有效工作區(qū)域；其次，觸摸屏在浸泡箱中浸泡25 35分鐘后取出立即進(jìn)入下一道工序；所述的清洗液的由重量百分比為0. 8 1%的HCl，O. 05% O. 07%的HNO3和余量的去離子水配制而成。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法，其特征是所述的清洗液必須每24小時更換一次。
全文摘要
一種消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法，其特征是它包括以下步驟首先，將經(jīng)過刻蝕的觸摸屏掛置于支架上，并在90秒內(nèi)將支架放入裝有清洗液的浸泡箱中，浸泡箱中的清洗液的液面應(yīng)高出觸摸屏的有效工作區(qū)域；其次，觸摸屏在浸泡箱中浸泡25～35分鐘后取出涼干進(jìn)入下一道工序；所述的清洗液的由重量百分比為0.8～1%的HCl，0.05%～0.07%的HNO3和余量的去離子水配制而成。本發(fā)明能消除刻蝕過程中的殘留溶液，保證產(chǎn)品質(zhì)量，確保后續(xù)工序的正常進(jìn)行。
文檔編號B08B3/08GK102921666SQ201210474009
公開日2013年2月13日 申請日期2012年11月21日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月21日
發(fā)明者池榮軍 申請人:南京華顯高科有限公司