一種清洗裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種清洗裝置，屬于清洗【技術(shù)領(lǐng)域】，其可解決現(xiàn)有的清洗基板的技術(shù)存在的或投入成本較高或清洗效果不理想的問題。本實用新型的清洗裝置包括抽吸裝置，所述抽吸裝置用于對基板待清洗表面外的清洗液體或氣體進行抽吸，所述清洗裝置還包括至少一個用于形成渦旋流體的筒狀元件，其兩端均設(shè)開口，所述筒狀元件的一端朝向所述抽吸裝置，另一端朝向基板。本實用新型可用于對基板進行清洗。
【專利說明】一種清洗裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于基板清洗【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在薄膜晶體管液晶顯不器(ThinFilm Transistor Liquid CrystalDisplay, TFT-LCD)生產(chǎn)過程中，玻璃基板表面通常會殘留很多顆粒(如玻璃碎屑、灰塵、微小有機物或纖維等)，如果不及時有效地清除這些顆粒，將會產(chǎn)生如金屬層之間短路、大面積脫落等不良現(xiàn)象，從而影響液晶顯示器的各種性能。在TFT-LCD生產(chǎn)過程中，清洗工藝是重復(fù)次數(shù)最多的工藝，直接決定了 TFT的良品率。
[0003]當(dāng)前，對于玻璃基板的清洗，針對不同的顆粒采用不同的清洗技術(shù)。一般地，等離子體(Plasma)清洗用于清除玻璃基板上的有機物殘留；毛刷噴淋(brush+shower)用于清除玻璃基板上粒徑為10微米以上的顆粒；壓力噴射用于清除玻璃基板上粒徑為1-10微米的顆粒；雙流體噴射用于清除玻璃基板上粒徑為1-5微米的顆粒；超聲波清洗技術(shù)則可以用于清除玻璃基板表面上的不同粒徑的顆粒。
[0004]超聲波清洗技術(shù)是在清洗液中使用超聲波對玻璃基板進行清洗。相對于其他清洗裝置的物理沖擊的清洗原理，超聲波清洗技術(shù)利用了空蝕作用，空蝕作用是指利用清洗液中的微型氣泡的內(nèi)爆裂進行玻璃基板表面的清洗。其中微型氣泡的內(nèi)爆裂是由于清洗液中的液體的壓力變化導(dǎo)致的，當(dāng)液體處于負壓狀態(tài)時，液體的沸點會降低，從而產(chǎn)生許多小氣泡；當(dāng)液體處于正壓狀態(tài)時，小氣泡就會發(fā)生猛烈的內(nèi)爆裂，因此空蝕現(xiàn)象使清洗液產(chǎn)生了攪拌和洗滌作用，這樣可以較好的清洗玻璃基板的表面。
[0005]發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問題:而目前的玻璃基板的清洗裝置存在以下的不足:
[0006]1、當(dāng)采用物理沖擊清洗時，針對不同粒徑的顆粒采用不同的清洗機臺，造成了機臺的高成本投入，并在各種機臺的轉(zhuǎn)換過程中會浪費較多的工時且易引入新的顆粒。
[0007]2、當(dāng)采用物理沖擊清洗時，對于尺寸較小并頑固附著的顆粒的清洗效果并不明顯，且對清洗需要使用的蒸餾水和添加溶劑消耗較大。
[0008]3、采用超聲波對玻璃基板表面進行清洗時，超聲波頻率發(fā)生器的振子發(fā)出的超聲波容易在清洗液中產(chǎn)生駐波等相干效應(yīng)而影響超聲波對玻璃基板表面的清洗。
[0009]因此，有必要提供一種高效、低成本的玻璃基板的清洗裝置以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題。
實用新型內(nèi)容
[0010]本實用新型所要解決的技術(shù)問題包括，針對現(xiàn)有的清洗基板的技術(shù)存在的或投入成本較高或清洗效果不理想的問題，提供一種效率高且成本低的清洗裝置。
[0011]解決本實用新型技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種清洗裝置，包括抽吸裝置，所述抽吸裝置用于對基板待清洗表面外清洗液體或氣體進行抽吸，還包括至少一個用于保持真空度并形成渦旋氣流的筒狀元件，其兩端均設(shè)開口，所述筒狀元件的一端朝向所述抽吸裝置，另一端朝向基板。
[0012]優(yōu)選的是，所述筒狀元件為圓錐臺形，其半徑較小的一端朝向所述抽吸裝置，半徑較大的一端朝向基板。
[0013]進一步優(yōu)選的是，所述筒狀元件包括第一筒狀元件和第二筒狀元件，第二筒狀元件設(shè)于第一筒狀元件內(nèi)。
[0014]更進一步優(yōu)選的是，所述第二筒狀元件的外壁設(shè)有至少一個導(dǎo)流槽。
[0015]優(yōu)選的是，所述清洗裝置還包括支架，其與所述筒狀元件連接，所述支架用于調(diào)節(jié)所述筒狀元件與基板之間的距離。
[0016]優(yōu)選的是，所述清洗裝置還包括排出單元，其用于將所述抽吸裝置旋轉(zhuǎn)吸附的清洗液體和/或空氣排出。
[0017]優(yōu)選的是，所述抽吸裝置包括渦輪。
[0018]進一步優(yōu)選的是，所述抽吸裝置還包括驅(qū)動單元。
[0019]更進一步優(yōu)選的是,所述驅(qū)動單元包括電動機。
[0020]再進一步優(yōu)選的是,所述電動機為調(diào)速電動機。
[0021]本實用新型的清洗裝置的抽吸裝置對基板待清洗表面外的清洗液體或氣體進行連續(xù)的抽吸，配合使用圓錐臺形狀的筒狀元件形成強力渦旋流體，渦旋流體對基板表面具有強大的吸附力，從而清除掉附著在玻璃基板表面上的顆?；蚱渌s質(zhì)，從而能夠產(chǎn)生較好的清洗效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0022]圖1為本實用新型的實施例1的清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖2為本實用新型的實施例1第一筒狀元件和第二筒狀元件的透視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]其中附圖標(biāo)記為:1、回收裝置；2、玻璃基板；3、清洗液體；4、筒狀元件；41、第一筒狀元件；42、第二筒狀元件；421、導(dǎo)流槽；5、抽吸裝置；6、排出單元；7、支撐柱。
【具體實施方式】
[0025]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更清楚地理解本實用新型的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本實用新型作進一步詳細描述。
[0026]實施例1:
[0027]本實施例提供一種清洗裝置，可對液晶顯示器生產(chǎn)過程中的玻璃基板進行清洗，本實施例以玻璃基板處于無清洗液體的環(huán)境中對玻璃基板進行清洗為例進行說明，顯然，本實施例的清洗裝置也可以對其他的基板進行清洗或者干燥等。
[0028]如圖1和圖2所示，清洗裝置包括抽吸裝置5，抽吸裝置5用于對玻璃基板2待清洗表面外的區(qū)域抽真空，玻璃基板2由支撐柱7進行支撐。清洗裝置還包括至少一個用于保持真空度并形成渦旋氣流的筒狀元件4，所述筒狀元件4的兩端均設(shè)開口，一端朝向抽吸裝置5，即抽吸裝置5設(shè)在筒狀元件4的上部，另一端朝向玻璃基板2。
[0029]本實施例的清洗裝置的抽吸裝置5對玻璃基板2待清洗表面外的區(qū)域進行連續(xù)地抽真空，配合使用筒狀元件4保持真空度，形成強力渦旋氣流，渦旋氣流對玻璃基板2表面具有強大的吸附力，從而清除掉附著在玻璃基板2表面上的顆?；蚱渌s質(zhì)，具有較好的清洗效果。另外，渦旋氣流對玻璃基板2還具有干燥的作用。
[0030]抽吸裝置5可以為真空泵以及渦輪等。優(yōu)選的，抽吸裝置5包括渦輪等，這樣便于制作抽吸裝置5。
[0031]進一步優(yōu)選的，抽吸裝置5還包括驅(qū)動單元(附圖中未示出)，用于驅(qū)動渦輪，更進一步優(yōu)選的，驅(qū)動單元包括電動機，再進一步優(yōu)選的，電動機為調(diào)速電動機。使用調(diào)速電動機更容易實現(xiàn)對抽吸裝置5的轉(zhuǎn)速的調(diào)節(jié)，也即更容易實現(xiàn)對真空度和渦旋氣流的強度的調(diào)節(jié)。
[0032]筒狀元件4的形狀可以為圓筒狀、棱錐臺狀或圓錐臺狀等。優(yōu)選的，在本實施例中筒狀元件4優(yōu)選為圓錐臺狀，其半徑較小的一端的上部設(shè)有抽吸裝置5，半徑較大的一端的下部靠近玻璃基板2。這樣設(shè)置筒狀元件4有利于在筒狀元件4內(nèi)形成真空，也有利于保持
真空度。
[0033]進一步優(yōu)選的，如圖2所示，筒狀元件4包括第一筒狀元件41和第二筒狀元件42，第二筒狀元件42設(shè)于第一筒狀元件41內(nèi)，且第二筒狀元件42的半徑較小的一端的上部朝向抽吸裝置5，半徑較大的一端的下部靠近玻璃基板2。第二筒狀元件42可通過條狀物與第一筒狀元件41膠結(jié)在一起，也可通過支架結(jié)構(gòu)與和抽吸裝置5連接在一起。這樣，第一筒狀元件41和第二筒狀元件42就形成了雙筒狀結(jié)構(gòu)，更有利于真空度的保持和渦旋氣流的形成，而且通過選擇第一筒狀元件41和第二筒狀元件42的大小以形成不同的配合，進而實現(xiàn)對真空度和渦旋氣流的強度的調(diào)節(jié)。
[0034]更進一步優(yōu)選的，第二筒狀元件42的外壁設(shè)有至少一個導(dǎo)流槽421，設(shè)置多個導(dǎo)流槽421更有利于渦旋氣流的形成。
[0035]優(yōu)選的，本實施例的清洗裝置還包括支架(附圖中未示出)，其與第一筒狀元件41連接，這樣可以調(diào)節(jié)第一筒狀元件41與玻璃基板2之間的距離，從而實現(xiàn)對真空度和渦旋氣流的強度的調(diào)節(jié)。
[0036]優(yōu)選的，本實施例的清洗裝置還包括排出單元6，排出單元6可由軟管等組成，抽吸裝置5旋轉(zhuǎn)吸附的氣體經(jīng)由排除單元6排放到回收裝置I中。
[0037]需要說明的是，以上是以對玻璃基板2的表面外的區(qū)域持續(xù)抽真空為例說明如何清洗玻璃基板2的。顯然，當(dāng)玻璃基板2表面上噴淋有清洗液體3時，本實施例中的清洗裝置也可以在筒狀元件4內(nèi)形成渦旋氣流體，從而對玻璃基板2的表面形成強力吸附，清除掉附著在玻璃基板2表面上的顆?；蚱渌s質(zhì)，或者當(dāng)玻璃基板2處于清洗液體3中時，清洗裝置亦可以在筒狀元件4內(nèi)形成渦旋液流體，渦旋液流體對玻璃基板2的表面形成吸附以及攪拌，從而達到清洗玻璃基板2的目的。
[0038]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本實用新型的原理而采用的示例性實施方式，然而本實用新型并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本實用新型的精神和實質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本實用新型的保護范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種清洗裝置，包括抽吸裝置，所述抽吸裝置用于對基板待清洗表面外的清洗液體或氣體進行抽吸，其特征在于， 所述清洗裝置還包括至少一個用于形成渦旋流體的筒狀元件，所述筒狀元件的兩端均設(shè)開口，所述筒狀元件的一端朝向所述抽吸裝置，另一端朝向基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述筒狀元件為圓錐臺形，其半徑較小的一端朝向所述抽吸裝置，半徑較大的一端靠近基板。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗裝置，其特征在于，所述筒狀元件包括第一筒狀元件和第二筒狀元件，第二筒狀元件設(shè)于第一筒狀元件內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清洗裝置，其特征在于，所述第二筒狀元件的外壁設(shè)有至少一個導(dǎo)流槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括支架，其與所述筒狀元件連接，所述支架用于調(diào)節(jié)所述筒狀元件與基板之間的距離。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括排出單元，其用于將所述抽吸裝置旋轉(zhuǎn)吸附的清洗液體和/或空氣排出。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述抽吸裝置包括渦輪。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的清洗裝置，其特征在于，所述抽吸裝置還包括用于驅(qū)動渦輪的驅(qū)動單元。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的清洗裝置，其特征在于，所述驅(qū)動單元包括電動機。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的清洗裝置，其特征在于，所述電動機為調(diào)速電動機。
【文檔編號】B08B11/04GK203635584SQ201320599735
【公開日】2014年6月11日 申請日期:2013年9月26日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月26日
【發(fā)明者】劉利萍, 劉俊豪, 孔益, 葉超前, 管禮志 申請人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司