專利名稱：超聲波氣化器的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于化學氣相沉積(CVD)鍍膜前驅液的氣化器，尤其是用于浮法玻璃在線化學氣相沉積工藝中的前驅液的氣化器。
背景技術：
在20世紀70年代，人們開始嘗試CVD與平板玻璃生產線結合在一起的在線工藝，試圖用它在大面積平板玻璃上進行鍍膜。采用這種工藝生產出來的第一個產品是英國皮爾金頓公司生產的“Reflectafloat”陽光控制膜。與用于生產半導體部件產品相反的是，在平板玻璃應用中，吹過玻璃表面的鍍膜氣體氣流與周圍氣壓屬于湍流的范圍。這樣，在大面積玻璃表面上得到的膜層沉積速率就更高，厚度也更均勻。現在，使用在線CVD技術的公司主要是英國、德國和美國的皮爾金頓集團，主要產品包括基于SnO2:F膜的導電玻璃(例如“TecGlass”)、基于SnO2:F和SnO2:Sb膜的低輻射玻璃以及基于光催化TiO2膜(如“Active”)的所謂自清潔玻璃。倡導在線CVD技術的人士曾經預言這種技術將在大多數應用領域上取代目前廣泛使用的濺射沉積工藝。目前，在浮法玻璃生產線上利用CVD工藝可以在玻璃基片上鍍多種金屬和非金屬及其氧化物、氮化物和碳化物薄膜。目前已知的用來鍍膜的化學物只有很少的一部分是氣態(tài)的，大多數為液態(tài)或固態(tài)。而現在在線鍍膜所面臨的就是如何解決鍍膜的均勻性、防止在玻璃表面出現彩虹、如何使膜層的技術指標達到要求的問題。這和均勻的氣體成分、穩(wěn)定的氣壓是密不可分的。而目前我們所采用的鍍膜前驅液大多數為液態(tài)物質，所以就需要這樣一種氣化器來保證液體完全氣化后的氣體的穩(wěn)定及均勻。如專利CN1754983A所述超聲波霧化器能夠將液體均勻的霧化，采用超聲波霧化的方式可以提高氣化效率。但是，該設備的氣化加熱裝置設置在霧化罐內，不易對溫度進行精確的控制，氣體出口設置在霧化罐的底部，致使氣化效果差，常有未完全氣化的液滴被帶出。另外在更換以及清洗方面會帶來難度，采用加壓的方式會降低超聲波振動子的使用壽命。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的就是為了克服已有技術中存在的未完全氣化的液滴被帶出缺點以及難于對溫度、壓力進行精確控制的缺點，而設計的一種改進的超聲波氣化器。
為了實現上述目的，本發(fā)明采用了如下技術方案一種超聲波氣化器，它由霧化罐、鍍膜前驅液罐和載氣罐組成，鍍膜前驅液罐和載氣罐通過所連接的管道分別與霧化罐相連，其特征在于在霧化罐的底部設有超聲波霧化器，載氣儲罐內的載氣通過管道輸送至霧化腔底部，霧化罐頂部設有氣體出口，并通過管道連接到一個加熱氣化裝置，加熱氣化裝置的另一端通過管道連接到氣體流量計，氣體流量計通過管道連接至反應器。所述的加熱氣化裝置內一組電熱絲和一組測溫熱電偶，電熱絲和測溫熱電偶均有一個電子控制裝置控制。
本發(fā)明的優(yōu)點是載氣和霧化設在霧化罐內進行，可在常溫常壓下霧化鍍膜前驅液，避免不必要的浪費，從而節(jié)約成本，加熱氣化裝置設置在霧化罐的頂部出口，能夠輸送狀態(tài)下精確的控制氣體的壓力和溫度，最終能夠提供一種高效率、大流量、無液滴的優(yōu)質氣化鍍膜前驅液。
為了更加詳細地說明本發(fā)明，下列附圖提供了一個最佳實施例。


圖1是本發(fā)明的超聲波氣化器的結構示意圖；圖2是電子控制裝置示意圖。
具體實施例方式
如圖1所示，本發(fā)明的超聲波氣化器首先包括一個霧化罐1，其下殼體為圓筒形、上殼體為圓錐形，在下殼體的底部內設有超聲波霧化器2，它是公知的產品。載氣儲罐3的出口處設有計量閥4并通過管道4a連接到霧化罐的底部位置。鍍膜前驅液罐5通過輸液泵6及其管道、閥門連接于霧化罐1的上部。霧化罐1的頂部設有氣體出口，并通過所連接的閥門、管道連接到加熱氣化裝置7，加熱氣化裝置7的殼體中設有保溫層8以及電子控制裝置9，如圖2所示，加熱氣化裝置7中設有一組加熱霧化氣體的電熱絲9b以及一組測溫熱電偶9a，它們均連于電子控制裝置TC上，并由其精確控制，電子控制裝置TC可以采用公知的控制裝置。加熱氣化裝置7的另一端通過管道連接到氣體流量計10，所述的氣體流量計10也是公知的產品，流氣體計量10通過管道連接至反應器11。
本發(fā)明的工作過程如下鍍膜前驅液罐5通過輸液泵6將一定量的鍍膜前驅液裝入霧化罐1內，將電源接通，超聲波霧化器2將鍍膜前驅液霧化為6μm～40μm的小液滴。載氣儲罐3內的載氣通過管道輸送至霧化罐底部，通過載氣攜帶的方式將霧化的小液滴輸送至加熱氣化裝置7。加熱氣化裝置7內安裝的電熱絲9b對霧化的前驅液進行加熱氣化，同時由電子控制裝置TC實時精確控制溫度、壓力等參數，經過氣體流量計10的計量后輸送至反應器[11]進行鍍膜。
權利要求
1.一種超聲波氣化器，它由霧化罐、鍍膜前驅液罐和載氣罐組成，鍍膜前驅液罐和載氣罐通過所連接的管道分別與霧化罐相連，其特征在于在霧化罐內腔的底部設有超聲波霧化器，霧化罐頂部設有氣體出口，并通過管道連接到加熱氣化裝置，加熱氣化裝置的另一端通過管道連接氣體流量計，氣體流量計通過管道連接至反應器。
2.按權利要求1所述的超聲波氣化器，其特征在于載氣罐所連接的管道延伸到霧化罐內腔的底部。
3.按權利要求1或2所述的超聲波氣化器，其特征在于加熱氣化裝置內設有一組電熱絲和一組測溫熱電偶，電熱絲和測溫熱電偶均與電子控制裝置連接控制。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于化學氣相沉積(CVD)鍍膜前驅液的超聲波氣化器，尤其是用于浮法玻璃在線化學氣相沉積工藝中的前驅液的氣化器。它由霧化罐1、鍍膜前驅液罐5和載氣罐3組成，鍍膜前驅液罐5和載氣罐3通過所連接的管道分別與霧化罐相連，在霧化罐的底部設有超聲波霧化器2，載氣儲罐內的載氣通過管道4a輸送至霧化腔底部，霧化罐頂部設有氣體出口，并通過管道連接到一個加熱氣化裝置7，加熱氣化裝置的另一端通過管道連接到氣體流量計10，流氣體計量通過管道連接至反應器11。本發(fā)明的優(yōu)點是在常溫常壓下霧化鍍膜前驅液，避免不必要的浪費，從而節(jié)約成本，能夠提供一種高效率、大流量、無液滴的優(yōu)質氣化鍍膜前驅液，并能夠輸送狀態(tài)下精確的控制氣體的壓力和溫度。
文檔編號C03C17/00GK101077492SQ200710013628
公開日2007年11月28日 申請日期2007年2月14日 優(yōu)先權日2007年2月14日
發(fā)明者陳凱, 甘治平, 馬立云, 金良茂, 王友樂, 周建民 申請人:中國建材國際工程有限公司, 蚌埠玻璃工業(yè)設計研究院