專利名稱：采用氧化鋅陶瓷靶磁控濺射的新型膜系結(jié)構(gòu)玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及應(yīng)用Zn0x陶瓷靶磁控濺射、使玻璃膜層組合成 新型的膜系結(jié)構(gòu)，由該新型的膜系結(jié)構(gòu)，使玻璃的光學(xué)性能和熱學(xué) 性能達(dá)到最佳的匹配，屬于無機非金屬技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
市場上現(xiàn)有的低輻射鍍膜玻璃，普遍高透低反射遮陽系數(shù)較 高，而中低透透射的玻璃能滿足低遮陽系數(shù)的要求但反射率又偏 高，故尚沒有使用能同時滿足低遮陽系數(shù)和低反射率的特殊薄膜 的低輻射鍍膜玻璃。
采用真空磁控濺射法生產(chǎn)普通低輻射玻璃的膜層結(jié)構(gòu)一般為玻 璃/基層電介質(zhì)層/銀層/阻隔保護層/上層電介質(zhì)層。
基層電介質(zhì)層的材料一般為金屬或非金屬的氧化物或氮化物，如 Sn02， ZnO, Nb205， Ti02， Si3N^;
阻隔保護層一般為NiCr或者NiCrOx;
上層和中間電介質(zhì)層的材料一般為金屬或非金屬的氧化物或氮 化物，如Sn02， ZnO， Nb205， Ti02， SbN4等；
但是，這種傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)的低輻射玻璃，不能同時滿足低遮陽系數(shù) 和中低反射的條件，這是因為低遮陽系數(shù)往往要求產(chǎn)品有較低的反射率，在降低了遮陽系數(shù)的同時會形成了較高的反射率。隨著目前許多 國家和地區(qū)為了限制光污染紛紛出臺限制玻璃的可見光反射率法 規(guī)。這種結(jié)構(gòu)的低輻射玻璃已經(jīng)越來越達(dá)不到客戶的要求。為了同
時滿足低遮陽系數(shù)和中低反射的要求，本企業(yè)發(fā)明一種采用ZnOx陶 瓷靶，用陶瓷ZnOx濺射成的特殊薄膜，組合成鍍膜玻璃特殊的膜 系結(jié)構(gòu)，開發(fā)出低遮陽和中低反射的鍍膜玻璃新產(chǎn)品。
發(fā)明內(nèi)容
為了同時滿足低遮陽系數(shù)和中低反射的要求，本實用新型的目的是 提供一種采用Zn0x陶瓷靶磁控濺射的新型膜系結(jié)構(gòu)玻璃及生產(chǎn)工 藝；該玻璃的膜層結(jié)構(gòu)依次為玻璃、基層電介質(zhì)層、吸收層、銀 層、保護層、中間電介質(zhì)層、銀層、保護層、上層電介質(zhì)層； 其中基層電介質(zhì)層；為Sn02的膜層，厚度為25mn ~ 30nm;
吸收層為為單層的陶瓷ZnOx層，或者是NiCr/ZnOx的復(fù) 合吸收層，膜層厚度為10 20nm; 銀層膜層厚度為12rnn; 保護層為NiCr膜層，厚度為2 3nm; 中間層電介質(zhì)層為Sn02，膜層厚度為25 30nm; 上層電介質(zhì)層為Si3N4,膜層厚為25 30nm。 本實用新型的優(yōu)點是，由陶瓷ZnOx濺射的特殊薄膜，與其它膜 層組合成特殊的膜系結(jié)構(gòu)，應(yīng)用在低輻射玻璃產(chǎn)品中，在保證原有低 遮陽系數(shù)的前提下，可以有效的增加最終產(chǎn)品的吸收，能同時滿足低遮陽系數(shù)和低反射率的特殊薄膜的低輻射鍍膜玻璃，在保持原有 的低遮陽系數(shù)的前提下，有效的降低了反射率。


附圖是本實用新各膜層結(jié)構(gòu)示意圖。 圖中各膜層標(biāo)號說明
1-上層電介質(zhì)層Si3N4; 2-保護層NiCr; 3-銀層Ag; 4-中間電 介質(zhì)層;5-保護層NiCr ;6-銀層Ag ;7-復(fù)合吸收層NiCr/陶瓷ZnOx 或吸收層陶瓷ZnOx/; 8-基層電介質(zhì)層Sn02; 9-玻璃基板。
具體實施方式
請參閱附圖所示，本實用新型的采用氧化鋅陶瓷靶磁控濺射的新 型膜系結(jié)構(gòu)玻璃，各膜層結(jié)構(gòu)從玻璃基板9向外各層依次是
8-基層電介質(zhì)層Sn02 ， 7-復(fù)合吸收層NiCr/陶瓷ZnOx或吸收層 陶瓷ZnOx/, 6-銀層Ag， 5-保護層NiCr， 4-中間電介質(zhì)層，3-銀層 Ag， 2-保護層NiCr, 1上層電介質(zhì)層SbN4。
本實用新型采用ZnOx陶瓷靶磁控濺射工藝，制成各膜層結(jié)構(gòu)，制 成后的玻璃，其光學(xué)性能如下 玻璃可見光透過率T=41% 可見光玻璃面反射率=12% 可見光玻璃面色坐標(biāo)&*值=-1.5 色坐標(biāo)"值=-1.7可見光透射色坐標(biāo)3*值=-3 色坐標(biāo)1)*值=-1
玻璃的輻射率e =0.030。
本實用新型制成中空玻璃間隔為12mm充空氣窗結(jié)構(gòu)，按照 ISO10292標(biāo)準(zhǔn)測定的數(shù)據(jù)如下 可見光透過率T=37%
可見光玻璃面反射率(Out) =14%
可見光玻璃面反射率(In) =23%
太陽能透過率丁=21%
太陽能反射率(Out) =28%
G-value=0.28
遮陽系數(shù)SC-0.32
傳熱系數(shù)U=1.62W/m2 K。
權(quán)利要求1、一種采用氧化鋅陶瓷靶磁控濺射的新型膜系玻璃結(jié)構(gòu)，其特征在于，該玻璃的膜層結(jié)構(gòu)依次為玻璃、基層電介質(zhì)層、吸收層、銀層、保護層、中間電介質(zhì)層、銀層、保護層、上層電介質(zhì)層；其中基層電介質(zhì)層；為SnO2的膜層，厚度為25nm～30nm；吸收層為為單層的陶瓷ZnOx層，或者是NiCr/ZnOx的復(fù)合吸收層，膜層厚度為10～20nm；銀層膜層厚度為12nm；保護層為NiCr膜層，厚度為2～3nm；中間層電介質(zhì)層為SnO2，膜層厚度為25～30nm；上層電介質(zhì)層為Si3N4，膜層厚度為25～30nm。
專利摘要本實用新型提供一種采用氧化鋅陶瓷靶磁控濺射的新型膜系結(jié)構(gòu)玻璃；該玻璃的膜層結(jié)構(gòu)自玻璃基板向外依次為玻璃/基層電介質(zhì)層/吸收層/銀層/保護層/中間電介質(zhì)層/銀層/保護層/上層電介質(zhì)層。通過交流陰極的錫靶在氧氬氛圍中濺射SnO₂基層電介質(zhì)層，利用陶瓷ZnOx材料所生成的特殊薄膜作為吸收層，使得最終產(chǎn)品在保持原有的低遮陽系數(shù)的前提下，以有效的增加最終產(chǎn)品的吸收，有效的降低了反射率。使其能滿足目前大部分國家和地區(qū)為了限制光污染紛紛出臺限制玻璃的可見光反射率法規(guī)，有廣闊的應(yīng)用范圍和市場前景。
文檔編號C03C17/36GK201161976SQ200720074609
公開日2008年12月10日 申請日期2007年9月12日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月12日
發(fā)明者斌 吳, 李志軍, 王茂良, 葛建軍, 云 顧, 黃一波 申請人:上海耀皮工程玻璃有限公司;上海耀華皮爾金頓玻璃股份有限公司