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      一種樁施工方法

      文檔序號:10647037閱讀:228來源:國知局
      一種樁施工方法
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種樁施工方法,包括就位、沉管步驟,沉管方法:啟動樁工設備的加壓靜壓系統(tǒng)及沉管系統(tǒng)中的內管,交互加壓與內夯,將沉管系統(tǒng)下沉至設定深度。本發(fā)明改進了沉管工藝,投料工藝,提高了工效,是一種流程可控、質量可靠的樁施工新技術。
      【專利說明】
      _種樁施工方法
      技術領域
      [0001]本發(fā)明涉及一種粧的施工方法。
      【背景技術】
      [0002]現(xiàn)有的靜壓澆注粧、預制粧、擴底粧、復合粧的施工工藝,其中沉管粧工藝,擴底工藝,投料工藝、插芯粧工藝有待改進,工效性有待提高。
      [0003]現(xiàn)有的壓粧機最大壓粧力1200噸(自重+配重),最大拔粧力800噸,最大滿負荷1200+800 = 2000噸,一般場地難以滿足施工要求。

      【發(fā)明內容】

      [0004]本發(fā)明的目的在于提供一種施工方便,壓粧機少配重的粧的施工方法。
      [0005]本發(fā)明的技術解決方案是:
      一種粧的施工方法,包括就位、沉管步驟,其特征是:沉管方法:
      啟動粧工設備的加壓靜壓系統(tǒng)及沉管系統(tǒng)中的內管,交互加壓與內窮,將沉管系統(tǒng)下沉至設定深度;具體方法包括:
      a)內管錘上夯擊盤以下長度不大于外管長度,粧機自重配重能滿足壓粧力的前提下,交互加壓與內夯;粧機自重配重不能滿足壓粧力的前提下,內夯下沉;
      b)內夯管錘上夯擊盤以下長度大于外管長度,粧機自重配重能滿足壓粧力的前提下,交互加壓與內夯擊;粧機自重配重不能滿足壓粧力的前提下,內夯擊下沉。
      [0006]沉管后,先進行擴底,再進行澆筑;所述澆筑為:上提內夯管系統(tǒng),澆筑粧身或下放預制粧身;沉管系統(tǒng)為設定剛度的單鋼外管、單鋼內夯管及聯(lián)接裝置;內夯管外徑小于外管內徑;
      擴底的方法是:按設定投料量,投料高度H=投料體積V,投入填充料;內夯管上部設不小于外管內徑的上夯擊盤,內夯管下部設不大于外管內徑的下夯擊盤;上、下夯擊盤與內夯管形成內夯管錘;投料工藝采用下列二種方法之一或二種方法復合使用:
      (一)內夯管內腔投料工藝:
      將填充料投料至內夯管內腔,投料至內夯管內腔時,采用從內夯管頂部開口處投料或從內夯管側面開孔處投料;然后上拔外管至一定高度h>0,上提內夯管,填充料從內夯管底部下落,通過抱壓、頂壓或反壓方法反復加壓和/或內夯擊填充料,上拔下插外管至粧底距離C為10-30cm,形成抗壓、抗拔擴大頭;
      (二)內外管空腔投料工藝:將填充料投料至內外管之間的空腔;內夯管下夯擊盤上設置出料結構,且內夯管下壓時出料結構擋在內外管之間的空腔部位,阻擋出料,內夯管上提時出料結構打開出料;通過抱壓、頂壓或反壓方法反復加壓和/或內夯擊填充料,上拔下插外管至粧底距離C為10-30cm,形成抗壓、抗拔擴大頭。
      [0007]所述出料結構包括環(huán)形設置在內夯管下夯擊盤主體周邊的齒狀活瓣,齒狀活瓣與下夯擊盤活動連接;內夯管下壓,土體上頂下夯擊盤,齒狀活瓣水平向張開擋在內外管之間的空腔部位,形成大直徑下夯擊盤,此時齒狀活瓣阻擋出料;內夯管上提,下夯擊盤離開土體,齒狀活瓣自然環(huán)形下落,形成小直徑下夯擊盤,將內外管之間的空腔沒有阻擋,順利出料。
      [0008]下夯擊盤采用鋼板封底,所述鋼板為花孔狀、活頁狀或活瓣狀。
      [0009]投料工藝方法(一)所述填充料從內夯管底部下落是:填充料從下夯擊盤花孔處、活頁張開處、活瓣狀張開處、內腔脫開處或內外管空腔處下落;在內夯管下部開設有側槽孔,下夯擊盤與連接板固定連接,連接板覆蓋在所述側槽孔上,連接板上部固裝可在側槽孔中上下移動的栓;所述內腔脫開是指內夯管下夯擊盤在內夯管上拔時,沿內夯管側槽孔下落,連接板同步下落,側槽孔打開;所述內外管空腔處下落是指內夯管內腔投料高度超過內夯管內腔開孔處自然溢出;
      或投料工藝方法(一)所述填充料從內夯管底部下落是:在內夯管下部側面開設出料口,填充料從出料口下落。
      [0010]本發(fā)明改進了單一沉管工藝,增加了單管、雙管、取土倉庫部分取土,全取土工藝以及壓灌、預攪拌水泥土拌合物工藝;增加了潛孔錘高壓沖擊地下障礙物以及潛孔錘高壓旋噴水泥工藝;復合了加壓與內夯交互工藝,內夯交互工藝、振動工藝一體化;壓粧機少配重甚至零配重,也能正常沉管,大大提高工效。
      [0011]本發(fā)明改進了投料出料工藝,在原有內夯管錘內腔投料工藝的基礎上;增加了內外管空腔投料工藝,而且改善了相應的出料工藝,而且復合內夯管錘內腔投料工藝及內外管空腔投料工藝;大大提高了工效。
      [0012]本發(fā)明改進了擴底工藝,在現(xiàn)在單一內夯管加壓填充料擴底的基礎上,增加了內外管沉管系統(tǒng)擴底;在現(xiàn)在單一內夯管加壓工藝的基礎上,增加了夯擊,復合了加壓,內夯,加壓內窮擊工藝,反復加壓,內窮擊,交互加壓、內窮擊,內、外管上拔下插,形成抗壓抗拔擴大頭,通過設定系數(shù),既能控制擴大頭的大小形狀,形成夯擴粧,還能控制擴大頭周圍土體的擠密程度,形成載體粧,還能控制終止壓粧力的大小,預估單粧極限抗壓承載力的大小,形成擴底粧。
      [0013]本發(fā)明改進了沉管工藝,投料工藝,擴底工藝,提高了工效,是一種流程可控、質量可靠的靜壓擴底粧新技術。
      [0014]下面結合實施例對本發(fā)明作進一步說明。
      【具體實施方式】
      [0015]一種粧的施工方法,包括
      (一)就位:將設備沉管系統(tǒng)就位于設定好的粧位上,或已施工好的粧位近側,或已施工好的水泥土粧位中心;粧位上可預埋設粧靴;
      (二)沉管:將設備沉管系統(tǒng)下沉至設定深度;
      (三)澆筑:上提內夯管系統(tǒng),澆筑粧身或下放預制粧身;
      (四)拔管:對預制粧:拔出外管,將預制粧粧身周圍空隙用填充料、固化劑填注滿,粧成型;對現(xiàn)澆粧:拔出外管,鋼筋混凝土粧成型;也可不拔外管,鋼管混凝土粧成型;
      步驟(一)中的沉管系統(tǒng)為設定剛度的單鋼外管、單鋼內夯管及聯(lián)接裝置;內夯管外徑小于外管內徑; 沉管方法:
      啟動粧工設備的加壓靜壓系統(tǒng)及沉管系統(tǒng)中的內管,交互加壓與內窮,將沉管系統(tǒng)下沉至設定深度;具體方法包括:
      a)內管錘上夯擊盤以下長度不大于外管長度,粧機自重配重能滿足壓粧力的前提下,交互加壓(加壓沉管系統(tǒng)下沉)與內窮(上提內窮管錘、自由落體,內窮管錘的上窮擊盤帶動外管一起下沉);粧機自重配重不能滿足壓粧力的前提下,內夯下沉(上提內夯管錘、自由落體,內夯管錘的上夯擊盤帶動外管一起下沉);
      b)內夯管錘上夯擊盤以下長度大于外管長度,粧機自重配重能滿足壓粧力的前提下,交互加壓(加壓沉管系統(tǒng)下沉)與內窮擊(上提內窮管錘、自由落體,內窮管錘先沖剪外管口下的土體或水泥土體,然后上夯擊盤帶動外管一起下沉);粧機自重配重不能滿足壓粧力的前提下,內窮擊下沉(上提內窮管鍾、自由落體,內窮管錘先沖剪外管口下的土體或水泥土體,然后上夯擊盤帶動外管一起下沉)。
      [0016]沉管后,先進行擴底,再進行澆筑;沉管系統(tǒng)為設定剛度的單鋼外管、單鋼內夯管及聯(lián)接裝置;內夯管外徑小于外管內徑;
      擴底的方法是:按設定投料量,投料高度H=投料體積V,投入填充料;既可以沉管時投料,也可以擴底時投料,隨用隨投,保證供料及時同步,節(jié)省了第一次以及每一次分次分量投料的時間,大大提高了工效。內夯管上部設不小于外管內徑的上夯擊盤,內夯管下部設不大于外管內徑的下夯擊盤;上、下夯擊盤與內夯管形成內夯管錘;內夯管錘內置自落錘、液壓錘、電動錘、潛孔錘或柴油錘。投料工藝采用下列二種方法之一或二種方法復合同時使用:
      (一)內夯管內腔投料工藝:
      將填充料投料至內夯管內腔,投料至內夯管內腔時,采用從內夯管頂部開口處投料或從內夯管側面開孔處投料;然后上拔外管至一定高度h>0,上提內夯管,填充料從內夯管底部下落,通過抱壓、頂壓或反壓方法反復加壓和/或內夯擊填充料,上拔下插外管至粧底距離C為10-30cm,形成抗壓、抗拔擴大頭;
      (二)內外管空腔投料工藝:內外管空腔投料工藝:將填充料投料至內外管之間的空腔;內夯管下夯擊盤上設置出料結構,且內夯管下壓時出料結構擋在內外管之間的空腔部位(可以是全部封閉內外管之間的空腔或部分封閉內外管之間的空腔),阻擋出料,內夯管上提時出料結構打開出料;通過抱壓、頂壓或反壓方法反復加壓和/或內夯擊填充料,上拔下插外管至粧底距離C為10-30cm,形成抗壓、抗拔擴大頭。
      [0017]所述出料結構包括環(huán)形設置在內夯管下夯擊盤主體周邊的齒狀活瓣,齒狀活瓣與下夯擊盤活動連接;內夯管下壓,土體上頂下夯擊盤,齒狀活瓣水平向張開擋在內外管之間的空腔部位,形成大直徑下夯擊盤,此時齒狀活瓣阻擋出料;內夯管上提,下夯擊盤離開土體,齒狀活瓣自然環(huán)形下落,形成小直徑下夯擊盤,將內外管之間的空腔沒有阻擋,順利出料。最大限度保證了內外管空腔下去盤的出料空間,水泥砂漿中細拌合物能出料,混凝土中粗拌合物也能出料;
      下夯擊盤采用鋼板封底,所述鋼板為花孔狀、活頁狀或活瓣狀。
      [0018]投料工藝方法(一)所述填充料從內夯管底部下落是:填充料從下夯擊盤花孔處、活頁張開處、活瓣狀張開處、內腔脫開處或內外管空腔處下落;在內夯管下部開設有側槽孔,下夯擊盤與連接板固定連接,連接板覆蓋在所述側槽孔上,連接板上部固裝可在側槽孔中上下移動的栓;所述內腔脫開是指內夯管下夯擊盤在內夯管上拔時,沿內夯管側槽孔下落,連接板同步下落,側槽孔打開;所述內外管空腔處下落是指內夯管內腔投料高度超過內夯管內腔開孔處自然溢出;
      或投料工藝方法(一)所述填充料從內夯管底部下落是:在內夯管下部側面開設出料口,填充料從出料口下落。
      [0019]內夯管內上部設吊栓。
      [0020]外管和內夯管上埋設有傳感器,傳感器采集壓力、貫入度數(shù)據通過互聯(lián)網同步傳輸至終端。
      [0021 ]上夯擊盤為空心環(huán)狀;內夯管底部采用鋼板封底。
      [0022]步驟(四)拔出外管后,填注粧身周圍空隙的填充料為中細顆粒、固結粉、水泥、石灰、石膏、建筑廢料、工業(yè)廢料、水泥拌合物、干濕混凝土、干濕水泥砂漿中的一種或幾種;固化劑是以固結粉、水泥為主料,摻入水玻璃、活性物、膨脹土中的一種或幾種的液態(tài)或粉狀軟土加固材料。
      【主權項】
      1.一種粧施工方法,包括就位、沉管步驟,其特征是:沉管方法: 啟動粧工設備的加壓靜壓系統(tǒng)及沉管系統(tǒng)中的內管,交互加壓與內窮,將沉管系統(tǒng)下沉至設定深度;具體方法包括: a)內管錘上夯擊盤以下長度不大于外管長度,粧機自重配重能滿足壓粧力的前提下,交互加壓與內夯;粧機自重配重不能滿足壓粧力的前提下,內夯下沉; b)內夯管錘上夯擊盤以下長度大于外管長度,粧機自重配重能滿足壓粧力的前提下,交互加壓與內夯擊;粧機自重配重不能滿足壓粧力的前提下,內夯擊下沉。2.根據權利要求1所述的一種粧的施工方法,其特征是:沉管后,先進行擴底,再進行澆筑;所述澆筑為:上提內夯管系統(tǒng),澆筑粧身或下放預制粧身;沉管系統(tǒng)為設定剛度的單鋼外管、單鋼內夯管及聯(lián)接裝置;內夯管外徑小于外管內徑; 擴底的方法是:按設定投料量,投料高度H=投料體積V,投入填充料;內夯管上部設不小于外管內徑的上夯擊盤,內夯管下部設不大于外管內徑的下夯擊盤;上、下夯擊盤與內夯管形成內夯管錘;投料工藝采用下列二種方法之一或二種方法復合使用: (一)內夯管內腔投料工藝: 將填充料投料至內夯管內腔,投料至內夯管內腔時,采用從內夯管頂部開口處投料或從內夯管側面開孔處投料;然后上拔外管至一定高度h>0,上提內夯管,填充料從內夯管底部下落,通過抱壓、頂壓或反壓方法反復加壓和/或內夯擊填充料,上拔下插外管至粧底距離C為10-30cm,形成抗壓、抗拔擴大頭; (二)內外管空腔投料工藝:將填充料投料至內外管之間的空腔;內夯管下夯擊盤上設置出料結構,且內夯管下壓時出料結構擋在內外管之間的空腔部位,阻擋出料,內夯管上提時出料結構打開出料;通過抱壓、頂壓或反壓方法反復加壓和/或內夯擊填充料,上拔下插外管至粧底距離C為10-30cm,形成抗壓、抗拔擴大頭。3.根據權利要求2所述的一種粧施工方法,其特征是:所述出料結構包括環(huán)形設置在內夯管下夯擊盤主體周邊的齒狀活瓣,齒狀活瓣與下夯擊盤活動連接;內夯管下壓,土體上頂下夯擊盤,齒狀活瓣水平向張開擋在內外管之間的空腔部位,形成大直徑下夯擊盤,此時齒狀活瓣阻擋出料;內夯管上提,下夯擊盤離開土體,齒狀活瓣自然環(huán)形下落,形成小直徑下夯擊盤,將內外管之間的空腔沒有阻擋,順利出料。4.根據權利要求2或3所述的一種粧施工方法,其特征是:下夯擊盤采用鋼板封底,所述鋼板為花孔狀、活頁狀或活瓣狀。5.根據權利要求2或3所述的一種粧施工方法,其特征是:投料工藝方法(一)所述填充料從內夯管底部下落是:填充料從下夯擊盤花孔處、活頁張開處、活瓣狀張開處、內腔脫開處或內外管空腔處下落;在內夯管下部開設有側槽孔,下夯擊盤與連接板固定連接,連接板覆蓋在所述側槽孔上,連接板上部固裝可在側槽孔中上下移動的栓;所述內腔脫開是指內夯管下夯擊盤在內夯管上拔時,沿內夯管側槽孔下落,連接板同步下落,側槽孔打開;所述內外管空腔處下落是指內夯管內腔投料高度超過內夯管內腔開孔處自然溢出; 或投料工藝方法(一)所述填充料從內夯管底部下落是:在內夯管下部側面開設出料口,填充料從出料口下落。
      【文檔編號】E02D5/38GK106013093SQ201610414527
      【公開日】2016年10月12日
      【申請日】2016年6月15日
      【發(fā)明人】邢峰, 朱峰, 姚亞光, 鄧峰祥, 朱建新
      【申請人】朱建新
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