專(zhuān)利名稱(chēng)：可單片使用的單銀結(jié)構(gòu)低輻射鍍膜玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種新型的可單片使用的單銀結(jié)構(gòu)低輻射鍍膜玻璃。
背景技術(shù)：
市場(chǎng)上目前使用的低輻射鍍膜玻璃，因其膜層中的功能層銀層非常容易被大氣中的氧氣和水所氧化，失去低輻射的功能，這種玻璃都必須生產(chǎn)成中空玻璃，將鍍膜層放置在中空玻璃腔體內(nèi)使用,才有低輻射功能。這樣不僅增加了生產(chǎn)工序,也增加了玻璃幕墻的重量。
發(fā)明內(nèi)容為解決前述低輻射玻璃存的問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種可單片使用的單銀結(jié)構(gòu)低輻射鍍膜玻璃及工藝。該玻璃的膜層結(jié)構(gòu)，自玻璃基板向外依次為:電介質(zhì)層1、復(fù)合吸收層、銀層、保護(hù)層1、電介質(zhì)層I1、第二保護(hù)層II ;其中:電介質(zhì)層1、II為SiNx,膜層厚度為35nm 70nm;復(fù)合吸收層為:金屬鍍層、金屬化合物層、金屬層的三層復(fù)合結(jié)構(gòu)；或金屬鍍層、金屬化合物層二層結(jié)構(gòu)；或金屬化合物層、金屬層二層結(jié)構(gòu)；其中金屬材料為T(mén)i,或Ni, Cr,或Cu,或Zn，或Nb，或Zr,或Sn，或V ;金屬化合物為，ZnOx，或AZ0,或SiNx,或SiO2,或SnO2,或TiOx,或ZrO2,或TiNx,或NbOx,或NbNx ;該復(fù)合吸收層總厚度為5nnT30nm;銀層為Ag,膜層厚度為5nnTl5nm;保護(hù)層I為NiCr或Ti，膜層厚度為2nnTl5nm;保護(hù)層II為金屬化合物，ZrO2或NbO2或SiO2或BN或CNx或TiNx或NbNx較致密的材料，膜層厚度為10nnT25nm。本實(shí)用新型優(yōu)點(diǎn)是，在保證鍍膜玻璃低輻射性能的同時(shí)，其膜層保護(hù)性能優(yōu)異，耐磨損性能較好，可以像熱反射鍍膜玻璃一樣進(jìn)行單片使用。

附圖1為本實(shí)用新型的層結(jié)構(gòu)截面圖。圖中標(biāo)號(hào)說(shuō)明:1-玻璃基板；2-電介質(zhì)層I ;3_復(fù)合吸收層；4_銀層；5_保護(hù)層I ;6_電介質(zhì)層II ; 7-保護(hù)層II。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型用平板玻璃雙端連續(xù)式鍍膜機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)，其中一種最優(yōu)選的工藝方案，使用3個(gè)交流圓靶，4個(gè)直流單靶，共7個(gè)靶位進(jìn)行生產(chǎn)，制出本實(shí)用新型的可單片使用的單銀結(jié)構(gòu)低輻射鍍膜玻璃。本實(shí)用新型是將熱反射鍍膜玻璃可單片使用的特性和低輻射鍍膜玻璃的優(yōu)良的光學(xué)性能相結(jié)合，成為一種可以單片使用的低輻射鍍膜玻璃。本產(chǎn)品主要有兩方面的改進(jìn)，在底層結(jié)構(gòu)上增加復(fù)合結(jié)構(gòu)的吸收層，更加充分的保護(hù)銀層不被玻璃中的鈉離子所侵襲，并且在頂層外增加了一層更加致密的保護(hù)層，可以更有效的阻止銀層被大氣中的氧氣和水所氧化。
權(quán)利要求1.一種可單片使用的單銀結(jié)構(gòu)低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:該鍍膜玻璃的膜層結(jié)構(gòu)，自玻璃基板向外依次為: 電介質(zhì)層1、復(fù)合吸收層、銀層、保護(hù)層1、電介質(zhì)層I1、保護(hù)層II; 其中:電介質(zhì)層1、II為SiNx,膜層厚度為35nm 70nm; 復(fù)合吸收層為:金屬鍍層、金屬化合物鍍層、金屬鍍層的三層復(fù)合結(jié)構(gòu)；或金屬鍍層、金屬化合物鍍層二層結(jié)構(gòu)；或金屬化合物鍍層、金屬鍍層二層結(jié)構(gòu)；其中金屬材料為T(mén)i，或Ni，或Cr，或Cu，或Zn，或Nb，或Zr，或Sn，或V ;金屬化合物為，ZnOx，或AZO，或SiNx，或SiO2,或SnO2,或TiOx,或ZrO2,或TiNx,或NbOx,或NbNx ;該復(fù)合吸收層總厚度為5nnT30nm;銀層為Ag,膜層厚度為5nnTl5nm; 保護(hù)層I為NiCr或Ti，膜層厚度為2nnTl5nm; 保護(hù)層II為金屬化合物，ZrO2或NbO2或SiO2或BN或CNx或TiNx或NbNx較致密的材料，膜層厚度為10nnT25nm。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型提供一種可單片使用的單銀結(jié)構(gòu)低輻射鍍膜玻璃，該玻璃自玻璃基板向外的結(jié)構(gòu)層依次為電介質(zhì)層Ⅰ+復(fù)合吸收層+銀層+保護(hù)層Ⅰ+電介質(zhì)層Ⅱ+保護(hù)層Ⅱ；采用真空磁控濺射鍍膜工藝，優(yōu)點(diǎn)是，將熱反射鍍膜玻璃可單片使用的特性和低輻射鍍膜玻璃優(yōu)良的光學(xué)性能相結(jié)合，使得離線(xiàn)低輻射玻璃能夠單片使用。
文檔編號(hào)B32B17/06GK202986242SQ201220570740
公開(kāi)日2013年6月12日 申請(qǐng)日期2012年11月1日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月1日
發(fā)明者陳波, 吳斌, 孫大海, 葛劍君, 董華明 申請(qǐng)人:上海耀皮玻璃集團(tuán)股份有限公司, 上海耀皮工程玻璃有限公司