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      一種少劑量無針靜電紡絲溶液槽的制作方法

      文檔序號:8974274閱讀:373來源:國知局
      一種少劑量無針靜電紡絲溶液槽的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      :
      [0001]本實用新型涉及一種少劑量無針靜電紡絲溶液槽,屬于無針靜電紡絲技術(shù)領(lǐng)域。【背景技術(shù)】:
      [0002]現(xiàn)有的紡絲溶液槽底部為直角形,不利于清洗頑固的粘性溶液,且極大地浪費了溶液,材質(zhì)多為PP,耐腐蝕性較差。
      【實用新型內(nèi)容】:
      [0003]針對上述問題,本實用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種少劑量無針靜電紡絲溶液槽。
      [0004]本實用新型的一種少劑量無針靜電紡絲溶液槽,它包含溶液槽本體、圓形溶液凹槽、第一紡絲圓盤軸支撐架、平臺、第二紡絲圓盤軸支撐架、鎖扣,溶液槽本體內(nèi)設置有圓形溶液凹槽,且溶液槽本體與圓形溶液凹槽的前側(cè)面正中間位置開設有第一紡絲圓盤軸支撐架,圓形溶液凹槽內(nèi)設置有平臺,平臺的正中間開設有與第一紡絲圓盤軸支撐架相對應的第二紡絲圓盤軸支撐架,鎖扣嵌插在第一紡絲圓盤軸支撐架上固定。
      [0005]作為優(yōu)選,所述的溶液槽本體為長方體結(jié)構(gòu)設計,采用PTFE材料制成,長為100-150mm,寬為50-70mm,高為60-80mm,PTFE材料具有耐酸堿和耐高溫的作用,適用于強酸強堿溶液的靜電紡絲。
      [0006]作為優(yōu)選,所述的圓形溶液凹槽與所承載的紡絲圓盤為同軸同心圓,其直徑為^ 100mm,寬度為30_50mm,圓形溶液凹槽距離頂面深為40_60mm。
      [0007]作為優(yōu)選,所述的第一紡絲圓盤軸支撐架深為10-30mm,底部直徑為5-15mm。
      [0008]作為優(yōu)選,所述的平臺寬度為10-30mm,深度為10_30mm,作用是節(jié)省了紡絲溶液,可以起到支撐軸承的作用。
      [0009]作為優(yōu)選,所述的第二紡絲圓盤軸支撐架與第一紡絲圓盤軸支撐架為同軸的半圓形結(jié)構(gòu),直徑為5_15mm0
      [0010]作為優(yōu)選,所述的鎖扣與第一紡絲圓盤軸支撐架結(jié)構(gòu)吻合,其作用為固定軸承一端,使其不會錯位。
      [0011]本實用新型的有益效果:它結(jié)構(gòu)設計合理,操作簡單,使用方便,在靜電紡絲過程中,可以通過導電片放在槽底使所用溶液帶電,曲面節(jié)省溶液,有利于溶液分散到圓盤表面,曲面溝槽容易清洗,不會留下殘留液,導電片可以充分接觸到溶液,使溶液帶電,所用軸承為PP絕緣材料,保證槽體與機器絕緣,鎖扣的設計能保證槽身在紡絲過程中的固定。
      【附圖說明】
      :
      [0012]為了易于說明,本實用新型由下述的具體實施及附圖作以詳細描述。
      [0013]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0014]圖2為本實用新型的主視圖;
      [0015]圖3為本實用新型的俯視圖;
      [0016]圖4為本實用新型的側(cè)視剖面圖。
      [0017]1-溶液槽本體;2_圓形溶液凹槽;3_第一紡絲圓盤軸支撐架;4_平臺;5_第二紡絲圓盤軸支撐架;6_鎖扣。
      【具體實施方式】
      :
      [0018]如圖1-圖4所示,本【具體實施方式】采用以下技術(shù)方案:它包含溶液槽本體1、圓形溶液凹槽2、第一紡絲圓盤軸支撐架3、平臺4、第二紡絲圓盤軸支撐架5、鎖扣6,溶液槽本體I內(nèi)設置有圓形溶液凹槽2,且溶液槽本體I與圓形溶液凹槽2的前側(cè)面正中間位置開設有第一紡絲圓盤軸支撐架3,圓形溶液凹槽2內(nèi)設置有平臺4,平臺4的正中間開設有與第一紡絲圓盤軸支撐架3相對應的第二紡絲圓盤軸支撐架5,鎖扣6嵌插在第一紡絲圓盤軸支撐架3上固定。
      [0019]其中,所述的溶液槽本體I為長方體結(jié)構(gòu)設計,采用PTFE材料制成,長為100-150mm,寬為50-70mm,高為60-80mm,PTFE材料具有耐酸堿和耐高溫的作用,適用于強酸強堿溶液的靜電紡絲;所述的圓形溶液凹槽2與所承載的紡絲圓盤為同軸同心圓,其直徑為彡100mm,寬度為30-50mm,圓形溶液凹槽2距離頂面深為40_60mm ;所述的第一紡絲圓盤軸支撐架3深為10-30mm,底部直徑為5_15mm ;所述的平臺4寬度為10_30臟,深度為10-30mm,作用是節(jié)省了紡絲溶液,可以起到支撐軸承的作用;所述的第二紡絲圓盤軸支撐架5與第一紡絲圓盤軸支撐架3為同軸的半圓形結(jié)構(gòu),直徑為5-15_ ;所述的鎖扣6與第一紡絲圓盤軸支撐架3結(jié)構(gòu)吻合,其作用為固定軸承一端,使其不會錯位。
      [0020]本【具體實施方式】用于單紡絲圓盤紡絲過程中,紡絲圓盤固定于平臺4與第一紡絲圓盤軸支撐架3之間,圓盤厚度約為5mm,圓盤半徑為20mm,當圓盤置于槽內(nèi)進行紡絲過程中,紡絲圓盤的底部最低點距離溶液槽底部最低點的距離是5mm,所以,倒入的溶液高度至少要高于溶液槽底部5mm,最多可以倒入溶液高度為25mm,試驗用量一般高度在1mm左右即可,當發(fā)動機帶著圓盤旋轉(zhuǎn)時候,由于導電片帶上了高壓電,帶點分子在電場力的作用下,克服分子間作用力,被圓盤帶起向著接收板(O電勢地方)運動,形成無數(shù)的納米級纖維射流,溶劑會在噴射過程中揮發(fā),得到的就是納米級纖維。
      [0021]本【具體實施方式】結(jié)構(gòu)設計合理,操作簡單,使用方便,在靜電紡絲過程中,可以通過導電片放在槽底使所用溶液帶電,曲面節(jié)省溶液,有利于溶液分散到圓盤表面,曲面溝槽容易清洗,不會留下殘留液,導電片可以充分接觸到溶液,使溶液帶電,所用軸承為PP絕緣材料,保證槽體與機器絕緣,鎖扣的設計能保證槽身在紡絲過程中的固定。
      [0022]以上顯示和描述了本實用新型的基本原理和主要特征和本實用新型的優(yōu)點。本行業(yè)的技術(shù)人員應該了解,本實用新型不受上述實施例的限制,上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理,在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下,本實用新型還會有各種變化和改進,這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內(nèi)。本實用新型要求保護范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。
      【主權(quán)項】
      1.一種少劑量無針靜電紡絲溶液槽,其特征在于:它包含溶液槽本體(I)、圓形溶液凹槽(2)、第一紡絲圓盤軸支撐架(3)、平臺(4)、第二紡絲圓盤軸支撐架(5)、鎖扣(6),溶液槽本體(I)內(nèi)設置有圓形溶液凹槽(2),且溶液槽本體(I)與圓形溶液凹槽(2)的前側(cè)面正中間位置開設有第一紡絲圓盤軸支撐架(3),圓形溶液凹槽(2)內(nèi)設置有平臺(4),平臺(4)的正中間開設有與第一紡絲圓盤軸支撐架(3)相對應的第二紡絲圓盤軸支撐架(5),鎖扣(6)嵌插在第一紡絲圓盤軸支撐架(3)上固定。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種少劑量無針靜電紡絲溶液槽,其特征在于:所述的溶液槽本體⑴為長方體結(jié)構(gòu)設計,采用PTFE材料制成,長為100-150mm,寬為50-70mm,高為60-80mmo3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種少劑量無針靜電紡絲溶液槽,其特征在于:所述的圓形溶液凹槽(2)與所承載的紡絲圓盤為同軸同心圓,其直徑為彡100mm,寬度為30-50mm,圓形溶液凹槽(2)距離頂面深為40-60mm。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種少劑量無針靜電紡絲溶液槽,其特征在于:所述的第一紡絲圓盤軸支撐架(3)深為10-30mm,底部直徑為5_15mm。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種少劑量無針靜電紡絲溶液槽,其特征在于:所述的平臺(4)寬度為 10-30mm,深度為 10_30mm。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種少劑量無針靜電紡絲溶液槽,其特征在于:所述的第二紡絲圓盤軸支撐架(5)與第一紡絲圓盤軸支撐架(3)為同軸的半圓形結(jié)構(gòu),直徑為5-15mm。
      【專利摘要】本實用新型公開了一種少劑量無針靜電紡絲溶液槽,它涉及無針靜電紡絲領(lǐng)域,溶液槽本體內(nèi)設置有圓形溶液凹槽,且溶液槽本體與圓形溶液凹槽的前側(cè)面正中間位置開設有第一紡絲圓盤軸支撐架,圓形溶液凹槽內(nèi)設置有平臺,平臺的正中間開設有與第一紡絲圓盤軸支撐架相對應的第二紡絲圓盤軸支撐架,鎖扣嵌插在第一紡絲圓盤軸支撐架上固定。它在靜電紡絲過程中,可以通過導電片放在槽底使所用溶液帶電,曲面節(jié)省溶液,有利于溶液分散到圓盤表面,曲面溝槽容易清洗,不會留下殘留液,導電片可以充分接觸到溶液,使溶液帶電,所用軸承為PP絕緣材料,保證槽體與機器絕緣,鎖扣的設計能保證槽身在紡絲過程中的固定。
      【IPC分類】D01D13/02
      【公開號】CN204625862
      【申請?zhí)枴緾N201520357238
      【發(fā)明人】白蓮村, 屈永帥, 柯勤飛, 黃晨
      【申請人】東華大學
      【公開日】2015年9月9日
      【申請日】2015年5月29日
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