專利名稱：偶氮金屬螯合染料及光學(xué)記錄媒體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種適合高速記錄的偶氮金屬螯合染料，尤其涉及一種顯示出特定膜吸收光譜的偶氮金屬螯合染料及使用該偶氮金屬螯合染料的光學(xué)記錄媒體(本發(fā)明中的光學(xué)記錄媒體也稱為“盤片”或“光盤”)。
背景技術(shù)：
近年來隨著計(jì)算機(jī)的高速化，硬盤容量的增大，其所需處理的數(shù)據(jù)也大幅增加。與此相對(duì)應(yīng)的是急需尋求記錄媒體的大容量化，因而開發(fā)出作為大容量可錄CD的DVD-R。一般用于DVD-R記錄層使用的染料提出過包括花青系、金屬螯合系染料等各種染料。前述染料中，已有提出使用具有優(yōu)良耐光性、耐候性的金屬螯合染料作為光學(xué)記錄媒體(請(qǐng)參考專利文獻(xiàn)1)。
又，也有報(bào)道過使用由含有氮原子的偶氮成分與含有氟取代烷基磺酰胺基的耦合成分所形成的偶氮系染料化合物與金屬組成的偶氮金屬螯合染料(請(qǐng)參考專利文獻(xiàn)2)。又有報(bào)道指出，使用苯環(huán)上的胺基與苯環(huán)縮合以形成稠雜環(huán)的耦合成份的偶氮系染料化合物與金屬所組成的偶氮金屬螯合染料作為光學(xué)記錄媒體的記錄層時(shí)，可提高光學(xué)記錄媒體的耐光性、耐久性等記錄特性(請(qǐng)參考專利文獻(xiàn)3)。
專利文獻(xiàn)1特開平3-268994號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2特開平11-166125號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3特開2000-309722號(hào)公報(bào)發(fā)明內(nèi)容發(fā)明要解決的課題但，最近隨著數(shù)據(jù)數(shù)量大幅增加，對(duì)在光學(xué)記錄媒體上記錄信息的速度越發(fā)重視起來。例如目前一般DVD-R的記錄速度約為3.5m/s(以下稱為1X)，但市場(chǎng)需要可記錄具有是此1X的8倍速的約28m/s(以下稱為8X)的高速度記錄速度的信息的光學(xué)記錄媒體。
為對(duì)應(yīng)上述市場(chǎng)需求，就需要開發(fā)一種極適合用于高速記錄的染料。
解決課題的手段鑒于上述問題，本發(fā)明的目的，在于提供一種可高速記錄的偶氮金屬螯合染料以及使用該偶氮金屬螯合染料的光學(xué)記錄媒體。
鑒于高速記錄下難以獲得光學(xué)記錄媒體的高反射率以及提高記錄媒體的折射率會(huì)提高光學(xué)記錄媒體的反射率的事實(shí)，本發(fā)明人以制得具有更高折射率的偶氮金屬螯合染料為目標(biāo)。具體而言，本發(fā)明人針對(duì)可通過測(cè)定含有染料的涂膜的吸收光譜得到的兩個(gè)光密度(OpticalDensity)，即在從500nm至700nm的吸收帶內(nèi)，位于長(zhǎng)波端的吸收峰或吸收肩的光密度OD2，以及位于短波端的吸收峰或吸收肩的光密度OD1，發(fā)現(xiàn)把OD2/OD1的值設(shè)定高于某預(yù)定值時(shí)，能夠提供高折射率的染料，從而完成了本發(fā)明。
具體的，本發(fā)明的關(guān)鍵在于一種由偶氮系染料化合物與金屬組成的偶氮金屬螯合染料，其特征在于，依下述測(cè)定方法測(cè)定所得的OD2/OD1大于1.25。
(OD2/OD1的測(cè)定方法)(1)在2g八氟戊醇(OFP)溶劑中加入20mg偶氮金屬螯合染料，在50至55℃下進(jìn)行60分鐘超聲波分散，后得到溶液A。將溶液A冷卻至室溫(25±5℃)后得到溶液B。
(2)將溶液B以800rpm的轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)涂布于聚碳酸酯基板上。其后，將涂布有上述溶液B的基板在80℃下放置5分鐘。依此方式所得的涂布有溶液B的基板稱為涂布基板A。
(3)測(cè)定涂布基板A在400nm至800nm的吸收光譜。
(4)在所得吸收光譜的500nm至700nm范圍內(nèi)觀察到的吸收光譜中，選取具有最大光密度的吸收峰和具有第二大光密度的吸收峰，將長(zhǎng)波端的吸收峰的光密度定義為OD2、短波端的吸收峰的光密度定義為OD1，而后計(jì)算OD2/OD1值。
本發(fā)明的另一關(guān)鍵在于在基板上具有可通過光照而記錄和/或讀取信息的記錄層的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，該記錄層含有由偶氮系染料化合物與金屬所組成的偶氮金屬螯合染料，依下述測(cè)定法測(cè)定偶氮金屬螯合染料的OD2/OD1值大于1.25。
(OD2/OD1的測(cè)定方法)(1)在2g八氟戊醇(OFP)溶劑中加入20mg偶氮金屬螯合染料，在50至55℃下進(jìn)行60分鐘超聲波分散后得到溶液A。將溶液A冷卻至室溫(25±5℃)后得到溶液B。
(2)將溶液B以800rpm的轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)涂布于聚碳酸酯基板上。其后，將涂布有上述溶液B的基板在80℃下放置5分鐘。依此方式所得的涂布有溶液B的基板稱為涂布基板A。
(3)測(cè)定涂布基板A在400nm至800nm的吸收光譜。
(4)在所得吸收光譜中的500nm至700nm范圍內(nèi)觀察到的吸收光譜中，選取具有最大光密度的吸收峰與具有第二大光密度的吸收峰，將長(zhǎng)波端的吸收峰的光密度定義為OD2、短波端的吸收峰的光密度定義為OD1，而后計(jì)算OD2/OD1值。
依本發(fā)明的內(nèi)容，可提供一種可用于高速記錄的偶氮金屬螯合染料，以及使用此偶氮金屬螯合染料的具備高速記錄能力的光學(xué)記錄媒體。


圖1是使用實(shí)施例1制備的染料所得到的涂布基板A的吸收光譜；圖2是使用染料(S-1)至(S-6)的染料膜中OD2/OD1與折射率的關(guān)系圖；圖3是實(shí)施例1至實(shí)施例8與比較例1至比較例6的OD2/OD1值；圖4是實(shí)施例1至實(shí)施例8與比較例1至比較例5所制得的涂布基板A的最大吸收波長(zhǎng)(OD2值處的波長(zhǎng))，以及使用DVD-ROM測(cè)試系統(tǒng)(647nm)所測(cè)得的各光盤在40mm半徑處的反射率測(cè)定結(jié)果。
圖5是偶氮金屬螯合染料的染料膜的吸收光譜中出現(xiàn)吸收肩的例示圖。
具體實(shí)施例方式
以下，將詳細(xì)說明實(shí)施本發(fā)明的最佳實(shí)施形態(tài)(以下簡(jiǎn)稱發(fā)明的實(shí)施方式)。注意，本發(fā)明并不受以下的實(shí)施方式所限定，其實(shí)施方式可于其實(shí)質(zhì)內(nèi)容中作各種變化。
本發(fā)明的實(shí)施方式中，一種由偶氮系染料化合物與金屬所組成的偶氮金屬螯合染料，其特征在于，依特定的測(cè)定方法測(cè)得的OD2/OD1值大于1.25。
以下將說明本實(shí)施方式中將OD2/OD1值限定為特定值的理由。
一般進(jìn)行高速記錄的方法中，為了有效吸收記錄用激光時(shí)，一般多使用在記錄波長(zhǎng)處具有較大光密度(吸收)的染料的方法。它是將染料的最大吸收波長(zhǎng)移向比傳統(tǒng)低速記錄所使用的染料更長(zhǎng)的波長(zhǎng)的方法。但是，使用前述在長(zhǎng)波處具有最大吸收的染料時(shí)，光盤的反射率相比傳統(tǒng)光盤容易降低。故，上述方法中，難以滿足光盤反射率的要求。例如在DVD中，則難以滿足用于從記錄部分讀出的光盤“應(yīng)具有45％或以上的反射率”的規(guī)定。因此，使用上述方法時(shí)，為確保反射率而常需在一定程度上犧牲記錄靈敏度。
本實(shí)施例的方式中，考慮了不同于上述方法的方面，確立了一種即使在高速記錄下仍可提供充分的反射率并具有優(yōu)良記錄靈敏度的高速記錄用染料。以下將作更詳細(xì)的說明。
首先，本發(fā)明人基于對(duì)特定膜厚度(90nm或以下)的染料膜(記錄層)的折射率越大，光盤的反射率也越大(參見例如特開平10-208303號(hào)公報(bào)，圖1至圖5)的理解，將制得具有較大折射率的偶氮金屬螯合染料設(shè)定為目標(biāo)。
又，在偶氮金屬螯合染料膜的吸收光譜中，在500nm至700nm的范圍內(nèi)出現(xiàn)了兩個(gè)吸收帶，它們是被認(rèn)為是由于配位電子定域化產(chǎn)生的吸收帶和被認(rèn)為是因金屬與配位體相互作用所產(chǎn)生的吸收帶(請(qǐng)參考圖1，又，圖1的內(nèi)容將于后述內(nèi)容說明)。
本實(shí)施方式中，在上述500nm至700nm間所出現(xiàn)的2個(gè)吸收帶以外，將短波端的吸收峰的光密度作為OD1，長(zhǎng)波端的吸收峰的光密度作為OD2。通過設(shè)定OD2/OD1值大于1.25，得到折射率特別高的偶氮金屬螯合染料。結(jié)果是，可制得在高速記錄中具有充分反射率的光學(xué)記錄媒體。此OD2/OD1值的測(cè)定方法依下述方法進(jìn)行。
(OD2/OD1的測(cè)定方法)(1)在2g八氟戊醇(OFP)溶劑中加入20mg偶氮金屬螯合染料，在50至55℃下進(jìn)行60分鐘超聲波分散后得到溶液A。將溶液A冷卻至室溫(25±5℃)后得到溶液B。
(2)將溶液B以800rpm轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)涂布在聚碳酸酯基板上。其后，將涂布有上述溶液B的基板在80℃下放置5分鐘。依此方式所得的涂布有溶液B的基板稱為涂布基板A。
(3)測(cè)定涂布基板A在400nm至800nm的吸收光譜。
(4)在所得吸收光譜中的500nm至700nm范圍內(nèi)觀察到的吸收光譜中，選取具有最大光密度的吸收峰與具有第二大光密度的吸收峰，將長(zhǎng)波端的吸收峰的光密度定義為OD2、短波端的吸收峰的光密度定義為OD1，而后計(jì)算OD2/OD1。
以下，將說明上述(1)至(4)各步驟內(nèi)容。
首先，在2g八氟戊醇(OFP)溶劑中加入20mg將被測(cè)定的偶氮金屬螯合染料，在50至55℃下進(jìn)行60分鐘超聲波分散后得溶液A。使用超聲波分散的目的是使偶氮金屬螯合染料溶解或分散于溶劑。超聲波分散可使用公知的方法。
其次，將溶液A冷卻至室溫(25±5℃)后得到溶液B。溶液A的冷卻方法是將溶液A在室溫下放置。不推薦使用冰水等對(duì)溶液A進(jìn)行急速冷卻，因?yàn)闀?huì)有大大促進(jìn)結(jié)晶的可能。當(dāng)溶液A冷卻至室溫后，最好將溶液A用過濾器(例如0.2μm)過濾。過濾器可使用Millipore公司的特氟隆(注冊(cè)商標(biāo))過濾器等。經(jīng)由過濾器過濾，可去除溶液A中未知的成分或分散不充分的成分。這樣制得的溶液稱為溶液B。但是，若發(fā)現(xiàn)有染料未溶解于溶液A中時(shí)，可取其澄清液作為溶液B使用。
注意，依上述內(nèi)容明確得知，偶氮金屬螯合染料在溶液A中以全部或部分溶解于溶液的狀態(tài)存在?；蛘?，偶氮金屬螯合染料在溶液A中以全部或部分分散于溶液的狀態(tài)存在。
隨后，將溶液B以800rpm轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)涂布在聚碳酸酯基板上。進(jìn)行旋轉(zhuǎn)涂布的裝置可以是用于形成CD-R或DVD-R記錄層的膜所使用的公知裝置。具體而言，例如將溶液B滴到以轉(zhuǎn)數(shù)800rpm旋轉(zhuǎn)的聚碳酸酯基板上，從而在聚碳酸酯基板上形成由溶液B所形成的涂膜。
其后，為除去溶液B中的溶劑，將旋轉(zhuǎn)涂布有上述溶液B的基板在80℃下退火5分鐘。最好是經(jīng)由80℃下退火5分鐘而使溶劑完全由溶液B中去除。但是，只要能夠良好地進(jìn)行后文所述的吸收光譜的測(cè)定，則無須完全去除溶劑。
依此方式所得的旋轉(zhuǎn)涂布有溶液B的基板稱為涂布基板A。隨后測(cè)定此涂布基板A在400nm至800nm的吸收光譜。吸收光譜的測(cè)定可使用以往公知的方法。具體而言，將測(cè)定吸收光譜用的樣品光線(400nm至800nm)由涂布基板A的基板側(cè)進(jìn)行照射。使用空氣作為參照樣，在測(cè)定參照樣中的光線強(qiáng)度和通過涂布基板A的光線的強(qiáng)度后，再測(cè)定涂布基板A的吸收光譜。
更具體的吸收光譜的測(cè)定方法例如以下所述的方法等。
將涂布有偶氮金屬螯合染料的光盤以扇形切出，使用紫外-可見光分光光度計(jì)測(cè)定通過由染料膜的相對(duì)的面(基板側(cè)的面)所照射的光。測(cè)定所使用的分光器和測(cè)定條件，可使用市售的光度計(jì)并依一般條件測(cè)定即可。例如，在本實(shí)施方式的實(shí)施例中使用日立制作所股份有限公司的U-3300。所采用測(cè)定條件為波長(zhǎng)掃描速度300nm/min，在取樣周期為0.5nm的光密度測(cè)定模式下進(jìn)行。
依前述方法所得OD2/OD1的數(shù)值越高時(shí)，折射率越高。圖2為適用于本發(fā)明的實(shí)施方式的各種偶氮金屬螯合染料的染料膜的OD2/OD1值與折射率的關(guān)系圖。由圖2的測(cè)定結(jié)果也證實(shí)OD2/OD1值越高，折射率也越高?；趫D2的測(cè)定結(jié)果，本實(shí)施方式的膜的折射率的最大值為1.25或以上，約為3.3。
為在高速記錄用途下得到充分的反射率，OD2/OD1值以1.25以上為宜，以1.26或以上為佳，以1.27或以上為更佳，以1.28或以上為最佳，以1.29或以上為特佳。義，根據(jù)本發(fā)明的目的，OD2/OD1值是越高越好，但較佳為5或以下，更佳為3或以下。如果該值超過5，因吸收帶的寬度較為狹窄，會(huì)造成吸收在很大程度上依賴于波長(zhǎng)。
要注意的是，在某些情況下，經(jīng)使用上述測(cè)定方法測(cè)定偶氮金屬螯合染料的染料膜的吸收光譜時(shí)，也有未能在500nm至700nm的區(qū)間確認(rèn)出2個(gè)以上吸收光譜的情形。例如，在500至700nm區(qū)間的吸收光譜中觀察到數(shù)個(gè)具有吸收肩的吸收光譜。在此情形中，可使用所得波峰中具有最大光密度的吸收峰或吸收肩和具有第二大光密度的吸收峰或吸收肩，來計(jì)算OD2/OD1值。
圖5為偶氮金屬螯合染料的染料膜的吸收光譜中觀察到吸收肩的示例圖。將舉例說明對(duì)于圖5所示的吸收光譜中OD2/OD1值的計(jì)算方法。在得到如圖5所示的吸收光譜的情形中，在400nm至700nm區(qū)間的吸收光譜的短波端所觀察到的吸收肩作為OD1。
作為具有高OD2/OD1值的優(yōu)選實(shí)施例，可列舉具有特定結(jié)構(gòu)的偶氮金屬螯合染料。發(fā)現(xiàn)使用前述染料作為記錄層使用的光盤，與使用傳統(tǒng)染料作為記錄層使用的光盤相比，即使記錄層的最大吸收波長(zhǎng)為較長(zhǎng)波，也可顯示出穩(wěn)定的高反射率。
以下，將舉例說明上述具有特定結(jié)構(gòu)的偶氮金屬螯合染料。
首先，在含有氮原子的雜環(huán)中，選擇1，3，4-噻二唑環(huán)作為偶氮成分。此偶氮成分與含有包括氟取代烷基磺酰胺基和胺基在內(nèi)的縮環(huán)的耦合成分組合而制得的偶氮系染料化合物。優(yōu)選使用含有此偶氮系染料化合物與金屬所形成的偶氮金屬螯合染料的記錄層，因?yàn)槠浔憩F(xiàn)出優(yōu)良的耐光性、耐候性等特性。又，優(yōu)選使用作為上述偶氮成分的1，3，4-噻二唑環(huán)經(jīng)氫原子或酯基取代的偶氮金屬螯合染料，因?yàn)槠渚哂锌蓾M足本實(shí)施方式要求的OD2/OD1值的傾向。其原因推測(cè)為，通過選擇在空間結(jié)構(gòu)上最小的氫原子或具有極大極性的酯基作為偶氮成分的取代基，能夠降低偶氮配位基與金屬離子配位時(shí)的位阻。這種結(jié)構(gòu)的一個(gè)具體例子如下所示〔化1〕 (式中，R1為氫原子或由CO2R3所示的酯基；R3為可被取代的直鏈或支鏈烷基，或可被取代的環(huán)烷基；R2為可被取代的直鏈或支鏈烷基，X1或X2中至少1個(gè)為NHSO2Y基，Y為至少用2個(gè)氟原子所取代的直鏈或支鏈烷基；R4、R5各自獨(dú)立為氫原子或可被取代的直鏈或支鏈烷基；R6、R7、R8與R9各自獨(dú)立為氫原子或含有1至2個(gè)碳原子的烷基)本實(shí)施方式所適用的偶氮金屬螯合染料由前述式(1)所示的偶氮系染料化合物與金屬之間以形成螯合鍵的方式形成。又，式(1)所示偶氮系染料化合物，是由作為偶氮成分的1，3，4-噻二唑環(huán)與含有包括氟取代烷基磺酰胺基和胺基在內(nèi)的縮環(huán)的耦偶成分組合而成。
偶氮成分中的取代基R1為氫原子或由CO2R3所示的酯基；R3為可被取代的直鏈或支鏈烷基，或可被取代的環(huán)烷基。R3的取代基，除鹵素原子以外，只要是如氧、氮、硫等典型元素時(shí)則無特別限制。R3是例如未被取代的直鏈或支鏈烷基、未被取代的環(huán)烷基、氟取代的直鏈或支鏈烷基、烷基取代的直鏈或支鏈烷基為佳。R3尤其優(yōu)選是氫原子；含有1到4個(gè)碳原子的直鏈或支鏈烷基例如乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、叔丁基和仲丁基；含有3到8個(gè)碳原子的環(huán)烷基例如環(huán)丙基、環(huán)丁基、環(huán)戊基、環(huán)己基和環(huán)庚基。從較小的位阻考慮，特別優(yōu)選含有1到2個(gè)碳原子的直鏈烷基如甲基和乙基；以及含有3到6個(gè)碳原子的環(huán)烷基如環(huán)戊基和環(huán)己基。
就滿足本實(shí)施方式中一定OD2/OD1值的觀點(diǎn)而言，偶氮成分中的取代基R1以位阻最小的氫原子為最佳。作為用作偶氮成分的具體化合物的優(yōu)選實(shí)施例，可列舉具有下述(化2)結(jié)構(gòu)的化合物。
〔化2〕 耦合成份中，X1或X2中至少1個(gè)為NHSO2Y。此時(shí)較佳為X1或X2中至少1個(gè)為NHSO2Y，更佳為X1為NHSO2Y。X1為NHSO2Y時(shí)或X2為NHSO2Y時(shí)，對(duì)X2或X1并未有特別限定，但就合成上的簡(jiǎn)易度而言，以使用氫原子為佳。
Y為至少被2個(gè)氟原子所取代的直鏈或支鏈烷基。烷基優(yōu)選是含有1至6個(gè)碳原子的直鏈或支鏈烷基。Y更優(yōu)選是含有1至3個(gè)碳原子的直鏈或支鏈烷基。所引入的氟原子的數(shù)目一般為2或以上，但通常為7或以下，較佳為5或以下，更佳為3或以下。Y的具體例如二氟甲基、三氟甲基、五氟乙基、五氟丙基、2，2，2-三氟乙基、3，3，3-三氟丙基等。Y尤其優(yōu)選為三氟甲基、2，2，2-三氟乙基。
R4、R5各自獨(dú)立為氫原子或可被取代的直鏈或支鏈烷基。R4、R5為例如氫原子；甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基等碳原子數(shù)1至6的直鏈烷基；異丙基、仲丁基、異丁基、叔丁基、2-乙基己基、環(huán)丙基、環(huán)己基甲基等碳原子數(shù)3至8的支鏈烷基；氟、氯、溴、碘等鹵素原子；甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、環(huán)丙氧基、環(huán)己基甲基氧基、2-乙基己基氧基等碳原子數(shù)1至8的烷氧基；甲氧羰基、乙氧羰基、正丙氧羰基、異丙氧羰基、正丁氧羰基、異丁氧羰基、仲丁氧羰基、叔丁氧羰基、正戊氧羰基、環(huán)丙氧羰基、環(huán)己基甲氧羰基、2-乙基己氧羰基等碳原子數(shù)2至9的烷氧羰基；甲基羰氧基、乙基羰氧基、正丙基羰氧基、異丙基羰氧基、正丁基羰氧基、異丁基羰氧基、仲丁基羰氧基、叔丁基羰氧基、正戊基羰氧基、環(huán)丙基羰氧基、環(huán)己基甲基羰氧基、2-乙基甲基羰氧基等碳原子數(shù)2至9的烷羰氧基；乙?；⒈；⒍□；?、異丁?；?、戊酰基、異戊酰基、2-甲基丁?；?、三甲基乙?；?、己酰基、環(huán)丙基羰基、環(huán)己基甲基羰基、2-乙基乙基羰基等碳原子數(shù)2至9的烷羰基；二甲基胺基、二乙基胺基、二丙基胺基、二異丙基胺基、二丁基胺基、二異丁基胺基、二-叔丁基胺基、二己基胺基、乙基甲基胺基、丁基胺基等碳原子數(shù)2至16的二烷基胺基等。
直鏈或支鏈烷基和烷氧基可進(jìn)一步被R4、R5所列舉的取代基所取代。R4、R5的較佳者例如氫原子、碳原子數(shù)1至6的直鏈烷基和碳原子數(shù)1至8的烷氧基。R4、R5的更佳者例如氫原子、碳原子數(shù)1至2的烷基和碳原子數(shù)1至2的烷氧基。上述烷基、烷氧基以無取代者為佳。R4、R5中，最佳者例如氫原子、甲基、乙基、甲氧基等。
R2為可被取代的直鏈或支鏈烷基，R2是例如，甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基等碳原子數(shù)1至6的烷基；異丙基、仲丁基、異丁基、叔丁基、2-乙基己基、環(huán)丙基、環(huán)己基甲基等碳原子數(shù)3至8的支鏈烷基。
前述烷基可被取代基所取代。取代基可以是例如氟、氯、溴、碘等鹵素原子；甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、環(huán)丙氧基、環(huán)己基甲氧基、2-乙基己氧基等碳原子數(shù)1至8的烷氧基；甲氧羰基、乙氧羰基、正丙氧羰基、異丙氧羰基、正丁氧羰基、異丁氧羰基、仲丁氧羰基、叔丁氧羰基、正戊氧羰基、環(huán)丙氧羰基、環(huán)己基甲氧羰基、2-乙基己氧羰基等碳原子數(shù)2至9的烷氧羰基；甲基羰氧基、乙基羰氧基、正丙基羰氧基、異丙基羰氧基、正丁基羰氧基、異丁基羰氧基、仲丁基羰氧基、叔丁基羰氧基、正戊基羰氧基、環(huán)丙基羰氧基、環(huán)己基甲基羰氧基、2-乙基己基羰氧基等碳原子數(shù)2至9的烷羰氧基；乙?；?、丙?；?、丁?；?、異丁?；?、戊酰基、異戊?；?-甲基丁?；?、三甲基乙酰基、己?；?、環(huán)丙基羰基、環(huán)己基甲基羰基、2-乙基己基羰基等碳原子數(shù)2至9的烷羰基；二甲基胺基、二乙基胺基、二丙基胺基、二異丙基胺基、二丁基胺基、二異丁基胺基、二-叔丁基胺基、二己基胺基、乙基甲基胺基、丁基胺基等碳原子數(shù)2至16的二烷基胺基等。
其中，R2優(yōu)選為碳原子數(shù)1至6的未取代直鏈烷基或碳原子數(shù)3至8的未取代支鏈烷基。當(dāng)使用未取代直鏈烷基時(shí)，一般碳原子數(shù)設(shè)定為1到6(含)。碳原子數(shù)較佳為5或以下，更佳為4或以下。同時(shí)，當(dāng)使用未取代的支鏈烷基時(shí)，一般碳原子數(shù)設(shè)定為3到8(含)。碳原子數(shù)較佳為7或以下，更佳為6或以下，最佳為5或以下，特佳為4或以下。R2中，最佳者為甲基、乙基、丙基、異丙基、異丁基。
每個(gè)R6、R7、R8與R9各自獨(dú)立為氫原子或碳原子數(shù)1至2的烷基。優(yōu)選使用氫原子或碳原子數(shù)1至2的烷基，因?yàn)槟侨菀讓D2/OD1值設(shè)定為預(yù)定值。在碳原子數(shù)1至2的烷基中，與碳原子鍵合的氫原子還可被其它取代基(例如鹵素原子)取代，但烷基以未取代的烷基為佳。作為碳原子數(shù)1至2的烷基，舉例有甲基、乙基。就合成的簡(jiǎn)易性或空間結(jié)構(gòu)的觀點(diǎn)而言，R6、R7、R8與R9最優(yōu)選為氫原子。
式(1)所示偶氮系染料化合物的分子量一般為2,000或以下，其中優(yōu)選以分子量為1,000或以下的偶氮系染料化合物，因?yàn)槠淇梢栽龃笕玖蠈?duì)溶劑的溶解度，并表現(xiàn)出優(yōu)良的耐光性、耐候性和高反射率。作為式(1)所示的偶氮系染料化合物的具體例子，可列舉如下(化3至34)所示的化合物內(nèi)容。
〔化3〕

〔化4〕
〔化5〕
〔化6〕
〔化7〕
〔化8〕
〔化9〕
〔化10〕

除結(jié)構(gòu)外，對(duì)偶氮金屬螯合染料并未有特別限定。但是，考慮到偶氮金屬螯合染料將被應(yīng)用到利用短波激光進(jìn)行記錄和讀取、以及將來會(huì)有日益增長(zhǎng)的需求的光學(xué)記錄媒體上，當(dāng)以單層染料膜測(cè)定時(shí)，以在700nm或以下波長(zhǎng)處出現(xiàn)最大吸收的染料為最佳，以在650nm至500nm波長(zhǎng)區(qū)間內(nèi)出現(xiàn)最大吸收的染料為更佳。
在本實(shí)施方式的偶氮金屬螯合染料中，作為與式(1)所示的偶氮系染料化合物形成螯合物的金屬，各種可形成絡(luò)合物的金屬皆可使用。這類金屬優(yōu)選是屬于IX族、X族和XI族的元素。優(yōu)選的是至少一種這類金屬是選自Co、Ni、Cu和Pd。因?yàn)槭褂蒙鲜鼋饘倏墒刮展庾V具有良好的形狀，并改進(jìn)在各種溶劑中的溶解度、耐光性和耐久性。
以下，將對(duì)適用于本發(fā)明實(shí)施方式的記錄層中含有偶氮金屬螯合染料的光學(xué)記錄媒體作說明。
適用于本實(shí)施方式的光學(xué)記錄媒體，具有基板和含有OD2/OD1值大于1.25的偶氮金屬螯合染料的記錄層。本實(shí)施例的光學(xué)記錄媒體，優(yōu)選具有基板和含有由式(1)所示的偶氮系染料化合物與金屬組成的偶氮金屬螯合染料的記錄層。上述光學(xué)記錄媒體合適時(shí)可具有層結(jié)構(gòu)，其在基板上設(shè)置下涂層、金屬反射層和保護(hù)層等。較佳的層結(jié)構(gòu)可以是例如，在基板上設(shè)置記錄層、金屬反射層與保護(hù)層的高反射率光學(xué)記錄媒體。
以下，通過以具有上述層結(jié)構(gòu)的光學(xué)記錄媒體為例，對(duì)適用于本發(fā)明實(shí)施方式的光學(xué)記錄媒體作說明。
適用于本實(shí)施方式的光學(xué)記錄媒體中基板的材料，基本上只要在記錄光與讀取光的波長(zhǎng)下為透明即可，例如可使用聚碳酸酯樹脂、氯乙烯系樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸樹脂、聚苯乙烯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、乙酸乙烯樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰亞胺系樹脂、非晶質(zhì)聚烯烴等高分子材料或玻璃等無機(jī)材料。就高產(chǎn)能、低成本和耐吸濕性等觀點(diǎn)而言，以使用聚碳酸酯樹脂為佳。
前述基板的材料通過注塑成型法等成型為圓盤狀基板。必要時(shí)可在基板表面形成導(dǎo)向溝槽或孔洞。前述導(dǎo)向溝槽或孔洞優(yōu)選在成型時(shí)一并形成，但也可在基板上使用紫外線硬化樹脂層的方式形成。當(dāng)導(dǎo)向溝槽為螺旋狀時(shí)，溝槽的螺距以0.4到1.2μm(含)為佳，以0.6到0.9μm(含)尤其佳。
溝槽深度，按照AFM(原子力顯微鏡)的測(cè)定值，一般為100～200nm(含)。為使其可從低速的1X至高速的8X的范圍記錄，溝槽深度以150nm～180nm(含)尤其佳。當(dāng)溝槽深度大于上述下限值時(shí)，即使在低速下也能獲得大的調(diào)制振幅，當(dāng)溝槽深度小于上述上限值時(shí)，容易確保其充分的反射率。溝槽寬度的AFM(原子力顯微鏡)測(cè)定值一般為0.20μm～0.40μm(含)。在高速記錄用途時(shí)，溝槽的寬度以0.28μm～0.33μm(含)為更佳。當(dāng)溝槽寬度大于上述下限值時(shí)，容易得到充分的推挽信號(hào)振幅。又，基板的變形對(duì)記錄信號(hào)振幅有很大的影響。因此，當(dāng)在8X以上高速記錄時(shí)，將溝槽寬度設(shè)定為大于上述下限值可抑制熱干擾的影響，促進(jìn)獲得小的抖動(dòng)。又，較寬的記錄功率范圍確保了優(yōu)良的記錄特性和記錄條件，例如對(duì)激光功率波動(dòng)的耐受性。溝槽寬度小于前述上限值時(shí)，在1X等低速記錄時(shí)，因可抑制記錄標(biāo)記內(nèi)的熱干擾，并獲得較佳的抖動(dòng)值。
適用于本實(shí)施方式的光學(xué)記錄媒體可記錄地址信息、有關(guān)媒體類型的信息、記錄脈沖和最佳記錄功率等信息。記錄前述信息的方式可使用如DVD-R、DVD+R標(biāo)準(zhǔn)所記載的LPP和ADIP等格式。
在適用于本實(shí)施方式的光學(xué)記錄媒體中，含有具有上述特定特征和結(jié)構(gòu)的偶氮金屬螯合染料的記錄層形成于基板或按需要提供的下涂層上。含有前述偶氮金屬螯合染料的記錄層具有高靈敏度、高反射率和較高的分解溫度(或在TG-DTA測(cè)定下開始減量的溫度)。故，含有上述偶氮金屬螯合染料記錄層在單組成下即可實(shí)現(xiàn)高速記錄。
傳統(tǒng)上被認(rèn)為具有高靈敏度的記錄層中，已知的有在記錄光波長(zhǎng)下具有較大吸收系數(shù)的記錄層，以及使用分解溫度低于240℃的低溫分解染料的記錄層。但是，對(duì)于前者，使用這種染料作為單一組分難以達(dá)到40％或以上的反射率。又，對(duì)于后者則容易出現(xiàn)下面的問題因讀取光功率導(dǎo)致惡化；因記錄標(biāo)記的擴(kuò)散導(dǎo)致串?dāng)_(Cross Talk)；以及因熱干擾導(dǎo)致抖動(dòng)增大。
相對(duì)于此，使用含有上述特定特征和結(jié)構(gòu)的偶氮金屬螯合染料的記錄層即可解決前述問題并實(shí)現(xiàn)高速記錄。盡管前述記錄層所使用的染料的吸收峰出現(xiàn)在長(zhǎng)波段，即染料在記錄和讀出波長(zhǎng)下具有高的吸收系數(shù)，仍能得到較高的反射率。相信這是由于記錄層具有較高折射率的結(jié)果。
一般而言，光學(xué)記錄媒體的記錄層優(yōu)選在記錄和讀出波長(zhǎng)±3nm范圍內(nèi)的折射率為2至3，衰減系數(shù)為0.03至0.1。在進(jìn)行高速記錄時(shí)，此范圍內(nèi)的折射率越高(例如2.5或以上)越好。這是因?yàn)檎凵渎试?，記錄調(diào)制振幅就越大，因?yàn)槟軌蛟谙嗤穸认麓_保較大的光程差。光盤的折射率越高，反射率就越高，從而能夠在越薄的膜厚度上得到較高的記錄調(diào)制振幅。使用此具有較高折射率的記錄層時(shí)，能夠滿足8X以上高記錄用途所要求的低膜厚化，且可因熱干擾和串?dāng)_得到了抑制而實(shí)現(xiàn)良好的高速記錄。
適用于本實(shí)施方式的光學(xué)記錄媒體的記錄層的形成方法，可使用例如真空沉積法、濺鍍法、刮刀涂覆法、澆鑄涂覆法、旋轉(zhuǎn)涂覆法和浸漬法等一般常用的薄膜形成法。就批量產(chǎn)能和成本考慮，以旋轉(zhuǎn)涂覆法為最佳。
使用旋轉(zhuǎn)涂覆法進(jìn)行成膜時(shí)，轉(zhuǎn)數(shù)以500至10000rpm為佳。在某些情況下，旋轉(zhuǎn)涂覆后還可進(jìn)行加熱或涂布溶劑蒸氣等處理。只要不會(huì)侵蝕基板，對(duì)在使用刮刀涂覆法、澆鑄涂覆法、旋轉(zhuǎn)涂覆法、浸漬法等涂覆方法形成記錄層時(shí)所用的涂布溶劑未有特別限定。涂布溶劑可列舉的有，例如，雙丙酮醇、3-羥基-3-甲基-2-丁酮等酮醇系溶劑；甲基溶纖劑、乙基溶纖劑等纖維素溶劑；正己烷、正辛烷等鏈狀烴系溶劑；環(huán)己烷、甲基環(huán)己烷、乙基環(huán)己烷、二甲基環(huán)己烷、正丁基環(huán)己烷、叔丁基環(huán)己烷、環(huán)辛烷等環(huán)狀烴系溶劑；四氟丙醇、九氟戊醇、六氟丁醇等全氟烷基醇系溶劑；乳酸甲酯、乳酸乙酯、異丁酸甲酯等羥基羧酸酯系溶劑等。
記錄層成膜時(shí)，必要時(shí)可將淬冷劑、紫外線吸收劑、粘結(jié)劑等添加劑與上述染料混合。或者，可將具有淬冷效果、紫外線吸收效果等各種效果的取代基引入上述染料中。為提高記錄層的耐光性或耐久性所添加的單態(tài)氧淬冷劑，可使用例如乙酰丙酮酸鹽絡(luò)合物等金屬絡(luò)合物、雙二硫-α-二酮絡(luò)合物或雙苯基二硫醇絡(luò)合物等雙二硫醇系絡(luò)合物、硫基鄰苯二酚系絡(luò)合物、水楊基甲醛肟系絡(luò)合物和硫基雙酚酯系等絡(luò)合物為佳。
又，為改善記錄特性等性質(zhì)，也一同使用其它染料。又，為兼顧高速記錄與低速記錄，本實(shí)施方式所適用的偶氮金屬螯合染料可與低速記錄用染料合用。但，其添加比例相對(duì)于偶氮金屬螯合染料的重量應(yīng)小于60％，較佳為50％或以下，更佳為40％或以下。同時(shí)，當(dāng)并用上述低速記錄用染料時(shí)，其添加比例一般為0.01％或以上。如果低速記錄用的染料的添加比例過大，會(huì)難以得到8X以上高速記錄所必須的記錄靈敏度。
作為可并用的染料，可列舉那些與式(1)所示的偶氮系染料化合物同屬于一類的偶氮系染料化合物。又，作為可并用的染料，可列舉的有與具有上述特定特性或結(jié)構(gòu)的偶氮金屬螯合染料同屬于一類的偶氮系染料或偶氮-金屬螯合物染料、花青系染料、異方酸二酰胺(Squarylium)系染料、萘醌系染料、蒽醌系染料、卟啉系染料、四卟繞啉(Tetrapyraporphyrazindye)系染料、吲哚酚系染料、吡喃鎓系染料、硫基吡喃鎓系染料、偶氮菁(azulenium dyes)系染料、三苯基甲烷系染料、噸(xanthene)系染料、陰丹士林系染料、靛藍(lán)系染料、硫基靛藍(lán)系染料、呋喃花青系染料、雙亞甲基吡咯系染料、噻嗪系染料、吖啶系染料、惡嗪系染料、吲哚苯胺系染料等，以及屬于其它系統(tǒng)的染料。作為促進(jìn)染料熱分解的試劑，可列舉的有金屬化合物如金屬抗爆劑、金屬茂合物和乙酰丙酮金屬鹽絡(luò)合物。
又，必要時(shí)可再并用膠粘劑、均化劑、消泡劑等。較佳的膠粘劑例如聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、硝基纖維素、乙酸纖維素、酮系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、聚乙烯丁縮醛、聚碳酸酯和聚烯烴等。
對(duì)記錄層(染料層)的膜厚未有特別限定，但較佳的膜厚為50nm～300nm(含)。染料層的膜厚度大于前述下限值時(shí)，因可抑制熱擴(kuò)散的影響，故容易進(jìn)行良好的記錄。又，因記錄信號(hào)不易產(chǎn)生偏差，故容易擴(kuò)大信號(hào)的振幅。染料層的膜厚度小于前述上限值時(shí)，因反射率容易提高，故容易得到較佳的讀取信號(hào)特性。
又，記錄層溝部的膜厚度一般為90nm～180nm(含)，較佳為50nm～90nm(含)，溝間部的膜厚度一般為50nm～100nm(含)，較佳為30nm～70nm(含)。溝部膜厚度大于上述下限值時(shí)，因可擴(kuò)大地址信息(LPP或ADIP)的振幅，故可容易抑制產(chǎn)生誤差。溝部膜厚度或溝間部膜厚度小于上述上限值時(shí)，因可抑制記錄標(biāo)記內(nèi)的蓄熱的影響及防止增加串?dāng)_，而容易提供小的抖動(dòng)。
本實(shí)施例所適用的光學(xué)記錄媒體，通過把含有上述特定特性或結(jié)構(gòu)的偶氮金屬螯合染料的記錄層與在基板上設(shè)置溝槽的形式相結(jié)合，從而使反射率達(dá)40％或以上。因此，可實(shí)現(xiàn)例如能與DVD-ROM讀取兼容的DVD-R(按照標(biāo)準(zhǔn)有DVD-R與DVD+R2種，以下則統(tǒng)稱為DVD-R)的目標(biāo)。注意，反射率是指，使用一個(gè)在拾取裝置上搭載有波長(zhǎng)為650+10nm～650-5nm的激光的讀光盤機(jī)(例如DVD播放機(jī)、DVD-ROM測(cè)試系統(tǒng)和DVD驅(qū)動(dòng)機(jī))，在尋光盤上的溝時(shí)所測(cè)得的反射率。
其次，在記錄層上優(yōu)選形成厚度為50nm至300nm的反射層。反射層的材料只要在讀取光波的波長(zhǎng)下表現(xiàn)出高反射率即可，例如可將Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta、與Pd等金屬單獨(dú)或以合金形式使用。其中又以Au、Al、Ag因具有較高反射率，故適合作為反射層的材料。尤其Ag以及Ag的合金，因高反射率、高熱傳導(dǎo)度性能優(yōu)良而理想。又，除前述金屬以外，還可再含有下述元素，例如Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Cu、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等金屬與半金屬。前述金屬中，尤其優(yōu)選Ag作為記錄層的主要成分，因?yàn)槠渲圃熨M(fèi)用更為經(jīng)濟(jì)，與偶氮金屬螯合染料組合時(shí)表現(xiàn)出提高反射率傾向，以及如后面所述的當(dāng)設(shè)置印刷接受層時(shí)可得到具有白色的美觀底色。前述主成分是指含量在50％或以上比例的材料。也可將由金屬以外的材料制成的低折射率薄膜與高折射率膜薄膜交互層合的方式形成多層膜，將該多層膜作為反射層使用。
形成反射層的方法，例如可使用濺鍍法、離子鍍敷法、化學(xué)氣相沉積法、真空沉積法等。又，為提升反射率、改善記錄特性、提高粘結(jié)性，可在基板之上或反射層之下再設(shè)置公知的無機(jī)或有機(jī)的中間層和粘結(jié)層。
形成在反射層上的保護(hù)層的材料只要可保護(hù)反射層不受外力侵?jǐn)_即可，而無特別限定。有機(jī)物質(zhì)可列舉例如熱塑性樹脂、熱固性樹脂、電子束硬化樹脂、UV硬化樹脂等。又，無機(jī)物質(zhì)例如SiO2、SiN4、MgF2、SnO2等。熱塑性樹脂、熱固性樹脂等可使其溶解于適當(dāng)?shù)娜軇┲?，形成涂布液后進(jìn)行涂布、干燥而形成。UV硬化樹脂，可直接涂布或?qū)⑵淙芙庥谶m當(dāng)?shù)娜軇┲行纬赏坎家汉筮M(jìn)行涂布，隨后照射UV光線使其硬化而形成。UV硬化樹脂例如可使用胺基甲酸酯丙烯酸酯、環(huán)氧基丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯等丙烯酸系樹脂。前述材料可單獨(dú)或混合使用，以1層或以多層使用皆可。
形成保護(hù)層的方法與記錄層相同，可使用旋轉(zhuǎn)涂布法或澆注法等涂布法，濺鍍法或化學(xué)沉積法等方法，其中又以旋轉(zhuǎn)涂布法為佳。保護(hù)層的厚度，一般為0.1μm～100μm(含)。本實(shí)施方式中，保護(hù)層的厚度較佳為3μm或以上，更佳為5μm或以上，但，較佳為30μm或以下，更佳為20μm或以下。
注意，本實(shí)施方式并不局限于上述方面，其可能有各種變化。例如，光學(xué)記錄媒體可具有2層或更多層記錄層。又，還可使用下列方法反射層面可與不具溝槽的被稱為虛擬基板的基板貼合的方法，或，將反射層面作為內(nèi)側(cè)，使對(duì)向的2片光絕記錄媒體相互貼合等方法。在基板鏡面拋光表面上可形成紫外線硬化樹脂薄膜、無機(jī)薄膜等，以保護(hù)表面或防止塵埃等的附著。又，在反射層上的保護(hù)層之上，或貼合在反射層面上的基板上，還可形成印刷接受層。
上述方法所得的光學(xué)記錄媒體的記錄方式，一般分別由設(shè)置在基板的兩面或單側(cè)面的記錄層以接收激光方式進(jìn)行。經(jīng)由激光照射的部分，一般而言，會(huì)吸收激光的能量而產(chǎn)生分解、發(fā)熱、熔融等反應(yīng)，而使記錄層產(chǎn)生熱變形。而經(jīng)記錄后的信息的讀取，一般則是讀取經(jīng)激光照射產(chǎn)生熱變形的部分與未產(chǎn)生熱變形部分的反射率差的方式進(jìn)行。
記錄、讀取所使用的激光線并未有特別限定，可使用例如在可見光區(qū)域內(nèi)波長(zhǎng)的染料激光、波長(zhǎng)633nm的氦氣激光、最近開發(fā)出的波長(zhǎng)在680、660、635nm附近的高輸出半導(dǎo)體激光、400nm附近的藍(lán)光激光、波長(zhǎng)532nm的高次諧波變換YAG激光等。其中，從輕量性、操作簡(jiǎn)易性、整體性和經(jīng)濟(jì)性觀點(diǎn)考慮，以半導(dǎo)體激光為最佳。
本實(shí)施例所適用的光學(xué)記錄媒體，在由其中所選擇的一波長(zhǎng)或多數(shù)波長(zhǎng)下，可進(jìn)行高密度記錄及讀取。
實(shí)施例以下，將以實(shí)施例對(duì)本實(shí)施方式作更具體的說明。但本實(shí)施例在未超過發(fā)明的實(shí)質(zhì)內(nèi)容下，本發(fā)明并不受本實(shí)施方式所限制。
(實(shí)施例1)(a)化合物制造例(偶氮耦合物)將2-胺基-1，3，4-噻二唑(結(jié)構(gòu)式1a)1.15g溶解于含乙酸13.7g、磷酸11.8g、硫酸4.7g的混合物中，并冷卻至5℃以下，再滴入43％硝基硫酸3.4g，以調(diào)制得到2-胺基-1，3，4-噻二唑的偶氮溶液。其次，在下述結(jié)構(gòu)式1b所示化合物2.2g與甲醇44ml的溶液中，在5℃以下的條件下，滴入前述所得偶氮溶液后攪拌2小時(shí)。隨后，使用28％氨水中和后，將析出的結(jié)晶過濾、精制而得下式結(jié)構(gòu)式1c所示偶氮化合物1.3g。
〔化35〕 (螯合作用)將結(jié)構(gòu)式1c所示的偶氮化合物1.3g溶解于四氫呋喃52ml中后，將不溶物濾除。其次，將乙酸鎳四水合物0.47g溶解于甲醇7ml中，并將其于室溫下滴入結(jié)構(gòu)式1c所示的偶氮化合物的THF溶液中。再加入72ml水，將析出結(jié)晶過濾、精制、干燥后得偶氮鎳螯合染料0.8g。此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為588nm，克吸光系數(shù)為141L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為607nm。
(b)記錄例將依此方式調(diào)制的偶氮鎳螯合染料1.7重量％的九氟戊醇(以下簡(jiǎn)稱OFP)溶液，旋轉(zhuǎn)涂布于形成有軌道節(jié)距(Track pitch)為0.74μm、溝深160nm、溝槽寬0.31μm的透明聚碳酸酯基板上，并在100℃下干燥20分鐘。此記錄層的溝間部膜厚度為55nm，溝槽部膜厚度為85nm。在此記錄層上濺鍍120nm厚的銀，再旋轉(zhuǎn)涂布紫外線硬化樹脂3μm厚，隨后將不具有溝槽的虛擬基板(同為透明基板)在旋轉(zhuǎn)涂布粘著劑后進(jìn)行貼合。對(duì)此光盤，使用660nm半導(dǎo)體激光測(cè)試機(jī)(NA＝0.65)依DVD-R標(biāo)準(zhǔn)ver2.01的記錄脈沖條件下，進(jìn)行8X(28m/s線速度)記錄。相對(duì)于其后于1X(3.5m/s線速度)讀取條件下，8X的記錄靈敏度為26.8mW，抖動(dòng)值(以下為指相對(duì)于時(shí)脈1T＝38.2ns時(shí)的抖動(dòng)值)為8.2％的良好值。將此光盤以1X進(jìn)行記錄時(shí)，記錄靈敏度為6.2mW，記錄調(diào)制振幅為55％，抖動(dòng)值為7.8％的良好值。上述光盤以DVD-ROM測(cè)試系統(tǒng)(西百克公司制1LMA220波長(zhǎng)647nm)測(cè)定所得的反射率為47％的良好值。
順便提及，在660nm附近的記錄用激光的功率上限已逐漸提升，因此就批量產(chǎn)能、電子束形狀(當(dāng)電子束具有更佳的形狀時(shí)，將可使功率降低)、價(jià)格而言，8X下的記錄靈敏度以28mW附近為較佳。又，抖動(dòng)值在9％以下，以8％以下為宜。
(實(shí)施例2)(a)化合物制造例在實(shí)施例1相同條件下，起始原料使用下述結(jié)構(gòu)式2a與結(jié)構(gòu)式2b所示化合物，以調(diào)制下式結(jié)構(gòu)式2c所示偶氮化合物2c，與鎳制得偶氮鎳螯合染料。此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為589nm，克吸光系數(shù)為139L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為609nm。
〔化36〕 (b)記錄例將染料變更為上述結(jié)構(gòu)的染料，除膜厚度減為實(shí)施例1的75％(溝間部膜厚度為約41nm，溝槽部膜厚度為約64nm)以外，其它都依實(shí)施例1相同方法制作光盤。隨后將此光盤依實(shí)施例1的方法進(jìn)行記錄、讀取。得知其8X的記錄靈敏度為22mW，抖動(dòng)值為7.7％的良好值。反射率為46％的良好值。
(實(shí)施例3)(a)化合物制造例在實(shí)施例1相同條件下，起始原料使用下述結(jié)構(gòu)式3a與下述結(jié)構(gòu)式3b所示化合物，以調(diào)制下式結(jié)構(gòu)式3c所示偶氮化合物，將偶氮化合物3c與鎳制得偶氮鎳螯合染料。此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為588nm，克吸光系數(shù)為143L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為607nm。
〔化37〕 (b)記錄例將染料變更為上述結(jié)構(gòu)的染料以外，其它皆依實(shí)施例2相同方法制作光盤。隨后將此光盤依實(shí)施例2的方法進(jìn)行記錄、讀取。得知其8X的記錄靈敏度為24.8mW，抖動(dòng)值為7.3％的良好值。反射率為47％的良好值。
(實(shí)施例4)(a)化合物制造例在實(shí)施例1相同條件下，起始原料使用下述結(jié)構(gòu)式4a與下述結(jié)構(gòu)式4b所示化合物，以調(diào)制下式結(jié)構(gòu)式4c所示偶氮化合物，將偶氮化合物4c與鎳制得偶氮鎳螯合染料。此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為587nm，克吸光系數(shù)為139L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為610nm。
〔化38〕 (b)記錄例將染料變更為上述結(jié)構(gòu)的染料以外，其它皆依實(shí)施例2相同方法制作光盤。隨后將此光盤依實(shí)施例2的方法進(jìn)行記錄、讀取。得知其8X的記錄靈敏度為23.6mW，抖動(dòng)值為7.2％，反射率為46％的良好值。
(實(shí)施例5)
(a)化合物制造例在實(shí)施例1相同條件下，起始原料使用下述結(jié)構(gòu)式5a與下述結(jié)構(gòu)式5b所示化合物，以調(diào)制下式結(jié)構(gòu)式5c所示偶氮化合物，將偶氮化合物5c與鎳制得偶氮鎳螯合染料。此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為587nm，克吸光系數(shù)為139L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為608nm。
〔化39〕 (b)記錄例將染料變更為上述結(jié)構(gòu)的染料以外，其它皆依實(shí)施例2相同方法制作光盤。隨后將此光盤依實(shí)施例2的方法進(jìn)行記錄、讀取。得知其8X的記錄靈敏度為23.6mW，抖動(dòng)值為7.4％，反射率為48％的良好值。
(實(shí)施例6)(a)化合物制造例在實(shí)施例1相同條件下，起始原料使用下述結(jié)構(gòu)式6a與下述結(jié)構(gòu)式6b所示化合物，以調(diào)制下式結(jié)構(gòu)式6c所示偶氮化合物，將偶氮化合物6c與鎳制得偶氮鎳螯合染料。此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為590nm，克吸光系數(shù)為140L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為608nm。
〔化40〕 (b)記錄例將染料變更為上述結(jié)構(gòu)的染料以外，其它皆依實(shí)施例2相同方法制作光盤。隨后將此光盤依實(shí)施例2的方法進(jìn)行記錄、讀取。得知其8X的記錄靈敏度為25mW，抖動(dòng)值為7.4％，反射率為47％的良好值。
(實(shí)施例7)(a)化合物制造例于實(shí)施例1相同條件下，起始原料使用下述結(jié)構(gòu)式7a與下述結(jié)構(gòu)式7b所示化合物，以調(diào)制下式結(jié)構(gòu)式7c所示偶氮化合物，將偶氮化合物7c與鎳制得偶氮鎳螯合染料。此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為590nm，克吸光系數(shù)為137L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為609nm。
〔化41〕 (b)記錄例將染料變更為上述結(jié)構(gòu)的染料以外，其它皆依實(shí)施例2相同方法制作光盤。隨后將此光盤依實(shí)施例2的方法進(jìn)行記錄、讀取。得知其8X的記錄靈敏度為25.8mW，抖動(dòng)值為7.6％，反射率為47％的良好值。
(實(shí)施例8)(a)化合物制造例在實(shí)施例1相同條件下，起始原料使用下述結(jié)構(gòu)式8a與下述結(jié)構(gòu)式8b所示化合物，以調(diào)制下式結(jié)構(gòu)式8c所示偶氮化合物，將偶氮化合物8c與鎳制得偶氮鎳螯合染料。此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為595nm，克吸光系數(shù)為137L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為613nm。
〔化42〕 (b)記錄例將染料變更為上述結(jié)構(gòu)的染料以外，其它皆依實(shí)施例2相同方法制作光盤。隨后將此光盤依實(shí)施例2的方法進(jìn)行記錄、讀取。得知其8X的記錄靈敏度為22.8mW，抖動(dòng)值為7.8％，反射率為48％的良好值。又，實(shí)施例2至8的光盤的1X記錄下的記錄調(diào)制振幅皆為40至50％。
(比較例1)(a)化合物制造例在實(shí)施例1相同條件下，制得偶氮化合物101c的鎳螯合染料。此偶氮鎳嗸合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為580nm，克吸光系數(shù)為142L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為598nm。
〔化43〕 (b)記錄例將染料變更為上述染料以外，其它皆依實(shí)施例2相同方法制作光盤。隨后將此光盤依實(shí)施例2的方法進(jìn)行記錄、讀取。得知其至28mW為止，無論如何提高激光強(qiáng)度，在4X記錄下，即因記錄靈敏度過度惡化而無法記錄(抖動(dòng)值大于14％)。又，以DVD-ROM測(cè)試系統(tǒng)測(cè)定此光盤的反射率為58％。
(比較例2)(a)化合物制造例在實(shí)施例1相同條件下，制得偶氮化合物102c的鎳螯合染料。此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為585nm，克吸光系數(shù)為125L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為604nm。
〔化44〕 (b)記錄例將染料變更為上述染料以外，其它皆依比較例1相同方法制作光盤。隨后將此光盤依實(shí)施例2的方法進(jìn)行記錄、讀取。得知其在4X記錄下并未能得到充分的記錄靈敏度，但在48mW下仍未達(dá)足夠記錄靈敏度，抖動(dòng)值為13％的優(yōu)良值。又，以DVD-ROM測(cè)試系統(tǒng)測(cè)定此光盤的反射率為48％。
(實(shí)施例9)將實(shí)施例4所調(diào)制的偶氮鎳螯合染料，與比較例2中所調(diào)制的鎳螯合染料依重量比60∶40的比例混合，隨后制作此混合染料對(duì)溶劑為1.9重量％的OFP溶液。其次，將此溶液以旋轉(zhuǎn)涂布方式涂布于設(shè)有軌道節(jié)距(track pitch)為0.74μm，溝槽深度163nm、溝槽寬0.32μm的凹型溝的聚碳酸酯基板上，形成溝間部膜厚度60nm、溝部膜厚度90nm的記錄層。另外再依實(shí)施例2相同方法制作光盤，以8X記錄1X讀取。其結(jié)果得知8X記錄的記錄靈敏度為25.4mW、抖動(dòng)值為7.3％，反射率為49％的良好值。又，1X記錄下記錄靈敏度為6.0mW、抖動(dòng)值為7.1％，記錄調(diào)制振幅為61％，得知在1X記錄下也具有良好的記錄特性。即，顯示可滿足DVD-R標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定中1X與8X的規(guī)定。
(實(shí)施例10)除將染料變更為實(shí)施例2所調(diào)制的染料，與比較例1中所調(diào)制的染料以外，其它皆依實(shí)施例9相同方法制作光盤。其后依實(shí)施例9相同方法進(jìn)行記錄、讀取。其結(jié)果得知8X的記錄靈敏度為26mW、抖動(dòng)值為7.2％，反射率為49％。又，1X的記錄靈敏度為6.2mW、抖動(dòng)值為7.1％，記錄調(diào)制振幅為60％，顯示出良好的記錄讀取特性。
(實(shí)施例11)除染料使用由實(shí)施例5所調(diào)制的染料與比較例1中所調(diào)制的染料(重量比60∶40)以外，其它皆依實(shí)施例9相同方法制作光盤。其后依實(shí)施例9相同方法進(jìn)行記錄、讀取。其結(jié)果得知8X的記錄靈敏度為26.2mW、抖動(dòng)值為7.3％，反射率為50％。又，1X的記錄靈敏度為6.2mW、抖動(dòng)值為7.1％，記錄調(diào)制振幅為61％，顯示出良好的記錄讀取特性。
(實(shí)施例12)除染料變更為由實(shí)施例1所調(diào)制的染料與比較例1中所調(diào)制的染料以重量比50∶50混合所得的混合染料以外，其它皆依實(shí)施例9相同方法制作光盤。其后依實(shí)施例9相同方法進(jìn)行記錄、讀取。其結(jié)果得知8X的記錄靈敏度在28mW下略有不足，其抖動(dòng)值為7.5％，反射率為52％。又，1X的記錄靈敏度為6.4mW、抖動(dòng)值為7.1％，記錄調(diào)制振幅為61％，顯示出良好的特性。
(比較例3)(a)化合物制造例在實(shí)施例1相同條件下，制得偶氮化合物105c的鎳螯合染料。此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為589nm，克吸光系數(shù)為109L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為607nm。
〔化45〕 (b)記錄例將染料變更為上述結(jié)構(gòu)式的染料以外，其它皆依實(shí)施例2相同方法制作光盤。隨后將此光盤依實(shí)施例2的方法進(jìn)行記錄、讀取。得知其在28mW下的記錄靈敏度略有不足，且抖動(dòng)值為9.3％的不佳狀況。與可提高記錄靈敏度的實(shí)施例9相同記錄條件下進(jìn)行記錄結(jié)果，得知8X的記錄靈敏度為25mW，因熱干擾過大，故所得抖動(dòng)值為11％，且未能得良好的記錄特性。又，以DVD-ROM測(cè)試系統(tǒng)測(cè)定此光盤的反射率為46％。
(比較例4)(a)化合物制造例在實(shí)施例1相同條件下，制得偶氮化合物106c的鎳螯合染料。此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為585nm，克吸光系數(shù)為132L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為609nm。
〔化46〕 (b)記錄例將染料變更為上述結(jié)構(gòu)式的染料以外，其它皆依實(shí)施例2相同方法制作光盤。隨后將此光盤依實(shí)施例2的方法進(jìn)行記錄、讀取。得知其在8X下雖具有良好的22mW記錄靈敏度，但因熱干擾過大，故僅在比記錄靈敏度低1mW的功率下得到良好的記錄特性。其反射率為39％，及于DVD-ROM讀取動(dòng)作上得到不佳的反射率。
(比較例5)(a)化合物制造例在實(shí)施例1相同條件下，制得偶氮化合物107c的鎳螯合染料。此偶氮鎳螯合染料于氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為589nm，克吸光系數(shù)為91L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為601nm。
〔化47〕 (b)記錄例將染料變更為上述結(jié)構(gòu)式的染料以外，其它皆依實(shí)施例2相同方法制作光盤。隨后將此光盤依比較例1的方法進(jìn)行記錄、讀取。得知于28mW下以4X記錄時(shí)其靈敏度仍略有不足，而未能進(jìn)行良好的記錄。又，以DVD-ROM測(cè)試系統(tǒng)測(cè)定此光盤的反射率為46％。
(比較例6)(a)化合物的制造例將1，2，3，4-四羥基喹啉13.99g、碳酸鉀14.52g溶解于350ml甲醇中，攪拌中保持45至50℃間，再滴入硫酸二甲酯25.54g。隨后再于45至50℃間攪拌3小時(shí)后，放置一晚。在此反應(yīng)液中加入甲苯350ml、水350ml后以甲苯萃取。萃取所得的甲苯溶液經(jīng)無水硫酸鈉干燥后，將甲苯餾除得褐色液體。將其使用柱精制后得下示結(jié)構(gòu)式(e)所示淡黃色溶液12.9g。
〔化48〕 冷卻至0至5℃的濃硫酸230g，并保持0至5℃下，將上述結(jié)構(gòu)式(e)所示的化合物12.9g滴入其中。隨后將濃硫酸36g、濃硝酸9.0g的混合液于保持0至5℃下滴入其中。滴入結(jié)束后，回復(fù)至室溫后攪拌2小時(shí)。將此反應(yīng)液注入冰水300ml中，在冷卻中添加50％氫氧化鈉水溶液，使pH值為9。經(jīng)1小時(shí)攪拌后，濾除所析出的結(jié)晶，并經(jīng)干燥得下示結(jié)構(gòu)式(f)所示紅色結(jié)晶12.4g。
〔化49〕
將鐵粉31.4g懸浮于DMF-水〔2∶1)183ml中，攪拌中加熱至85至90℃，其后再滴入鹽酸6.7ml、DMF-水(2∶1)91.5ml混合溶液。隨后將含有上述結(jié)構(gòu)式(f)所示化合物12.0g的DMF溶液183ml在保持85至95℃下以15分鐘滴入其中。在80至90℃下攪拌20分鐘，在溶液冷卻過程中添加碳酸氫鈉6.39g，并進(jìn)行10分鐘攪拌。其后，將此溶液過濾去除鐵粉，再將此濾液注入冰水500ml中以甲苯萃取。經(jīng)無水硫酸鈉干燥后，將甲苯餾除得下述結(jié)構(gòu)式(g)所示褐色液體5.47g。
〔化50〕 在氮?dú)饬飨?，將三氟甲烷磺酸?.31g于攪拌中保持于20℃以下，隨后將上述結(jié)構(gòu)式(g)所示化合物5.47g的甲苯40ml溶液滴入其中。其次于10至15℃間攪拌4小時(shí)后，放置1晚。于10至25℃下將反應(yīng)溶液添加2ml水后攪拌1小時(shí)，將析出的固體濾除。使所取得的固體溶解于乙酸乙酯中，加入150ml水后以乙酸乙酯萃取，經(jīng)無水硫酸鈉干燥后，將乙酸乙酯濾除得下示結(jié)構(gòu)式(h)所示的濃褐色液體6.87g。
〔化51〕 將上述結(jié)構(gòu)式(i)所示2-胺基-5-甲基-1，3，4-噻二唑0.58g溶解于乙酸5ml、丙酸3ml中，在0至5℃下滴入硫酸1ml，并于0至5℃下加入43％硝基硫酸1.78g后使其偶氮化。隨后于溶解有結(jié)構(gòu)式(h)所示化合物1.77g、尿素0.2g、乙酸鈉2.0g的甲醇20ml的溶液中，將所得偶氮溶液于0至5℃間滴下，經(jīng)3小時(shí)攪拌后，放置一晚。將析出的結(jié)晶濾除、干燥，得下述結(jié)構(gòu)式(j)所示紅色結(jié)晶1.44g。
〔化52〕 將前述所得結(jié)構(gòu)式(j)所示偶氮化合物1.30g溶解于THF50ml中，在室溫下加入乙酸鎳四水合物0.46g的甲醇6ml溶液后，在室溫下攪拌3小時(shí)，并加入水50ml。將析出的結(jié)晶濾除，將其以水洗凈后，經(jīng)干燥得鎳螯合化合物0.59g。此化合物的λmax(氯仿中)為591nm(ε＝9.9×104)、克吸光系數(shù)為113L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為613nm。
(OD2/OD1的測(cè)定)使實(shí)施例1至實(shí)施例8，比較例1至比較例6的染料20mg加入到八氟戊醇(OFP)溶劑2g中，于50℃至55℃間進(jìn)行60分鐘超聲波分散處理而制得溶液A。將溶液A冷卻至室溫(25±5℃)后，使用0.2u mMillipor公司制特氟隆過濾器過濾，得溶液B。隨后于溝槽深度170nm、溝槽寬度500nm、溝槽間隔1600nm的厚度1.2mm的聚碳酸酯基板上，以轉(zhuǎn)數(shù)800pm進(jìn)行旋轉(zhuǎn)涂覆。將依此方法所制得的由染料單獨(dú)組成的膜，于80℃的送風(fēng)干燥機(jī)中保持5分鐘后，放置于室內(nèi)后冷卻至室溫為止(涂布基板A的制作)。
測(cè)定此涂布基板A的吸收光譜，將涂布基板A作扇型切割后作為測(cè)試樣品。參照樣為空氣。測(cè)定方法為使用日立制作所制U-3300進(jìn)行測(cè)定。測(cè)定條件為，測(cè)定波長(zhǎng)掃描波峰300nm/min.，采樣周期0.5nm的光密度(吸光度)模式。
圖1為使用實(shí)施例1的染料所得涂布基板A的吸收光譜。又，表1為記載各涂布基板A的在OD1、OD2處的波長(zhǎng)與光密度，以及OD2/OD1的值。
〔表1〕

又，圖3為實(shí)施例1至實(shí)施例8與比較例1與比較例6的OD2/OD1值。由圖3所得結(jié)果得知，實(shí)施例1至實(shí)施例8與比較例1至比較例6之間的分界線在1.25。
又，圖4為，實(shí)施例1至實(shí)施例8及比較例1至比較例5所制得的涂布基板A的最大吸收波長(zhǎng)(OD2所示波長(zhǎng))，與DVD-ROM測(cè)試系統(tǒng)(647nm)所測(cè)定的各光盤的半徑40mm的反射率的測(cè)定結(jié)果。由圖4所示結(jié)果得知，比較例1至5的光盤，如圖4中的回歸直線所示，膜的最大吸收波長(zhǎng)越長(zhǎng)時(shí)反射率則有降低的傾向。比較例1至比較例5的染料因?yàn)槠渥畲笪瘴挥诒?05nm更大的波長(zhǎng)處，故具有不符合于DVD讀取規(guī)格所需的45％以上反射率的傾向。相對(duì)于此，使用實(shí)施例1至實(shí)施例8的染料的光盤，使用于610nm附近具有最大吸收的染料，故可確保較高的反射率。
(參考數(shù)據(jù)的測(cè)定)將具有下述結(jié)構(gòu)式((S-1)至(S-6))的偶氮金屬螯合染料0.06g分別添加于5g的OFP溶液中，并于50℃下進(jìn)行60分鐘的超聲波分散處理。其后，將此溶液放置于室內(nèi)使其冷卻至室溫。將此溶液使用0.2μmMillipor公司制特氟隆過濾器過濾，將所得溶液以覆蓋鏡面光盤(無導(dǎo)向溝槽的聚碳酸酯劑板)的一半盤面方式放置后進(jìn)行旋轉(zhuǎn)涂布。干燥后，將經(jīng)旋轉(zhuǎn)涂布后記錄層的一部分濺鍍反射層。對(duì)于未包覆反射層的未涂布部分與包覆反射層的記錄層使用立體表面粗糙度測(cè)定儀(佳能公司制ZYGOMaxim5800)測(cè)定以求得膜厚度。又，對(duì)于未附有反射層的記錄層，使用日本分光公司制自動(dòng)波長(zhǎng)掃描儀(MEL-30S型)以照射580nm至650nm的光線，并使用多入射角測(cè)定模式測(cè)定反射率與相位差。其后，參考前述膜厚度，以求得使各波長(zhǎng)達(dá)到良好匯聚的折射率n、消光系數(shù)k(Extinction Coefficient)的組合。依前述方法所得的各波長(zhǎng)的折射率中，求得最大值作為折射率n。
同時(shí)，在各(S-1)至(S-6)的染料中，依與前述「OD2/OD1的測(cè)定」相同方法，分別制作形成有染料的涂布基板A，并測(cè)定其吸收光譜。隨后求得OD2/OD1。
依上述方法求得的OD2/OD1與n(折射率的最大值)記載如表2與圖2所示。數(shù)據(jù)的標(biāo)記為由左側(cè)(OD2/OD1由小向大的方向)開始分別為(S-1)～(S-6)的值。
〔化53〕
〔表2〕

(實(shí)施例13)(a)化合物的制造在實(shí)施例1相同條件下，起始原料使用下述結(jié)構(gòu)式13a與下述結(jié)構(gòu)式13b所示化合物制造偶氮化合物13c的鎳螯合染料。
此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為588nm，克吸光系數(shù)為130L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為604nm。
〔化54〕

(實(shí)施例14)(a)化合物的制造在實(shí)施例1相同條件下，起始原料使用下述結(jié)構(gòu)式14a與下述結(jié)構(gòu)式14b所示化合物制造偶氮化合物14c的鎳螯合染料。
此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為591nm，克吸光系數(shù)為133L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為607nm。
〔化55〕
(實(shí)施例15)(a)化合物的制造在實(shí)施例1相同條件下，起始原料使用下述結(jié)構(gòu)式15a與下述結(jié)構(gòu)式15b所示化合物制造偶氮化合物15c的鎳螯合染料。
此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為588nm，克吸光系數(shù)為138L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為608nm。
〔化56〕 (實(shí)施例16)(a)化合物的制造在實(shí)施例1相同條件下，起始原料使用下述結(jié)構(gòu)式16a與下述結(jié)構(gòu)式16b所示化合物制造偶氮化合物16c的鎳螯合染料。
此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為587nm，克吸光系數(shù)為140L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為607nm。
〔化57〕
(實(shí)施例17)(a)化合物的制造在實(shí)施例1相同條件下，起始原料使用下述結(jié)構(gòu)式17a與下述結(jié)構(gòu)式17b所示化合物制造偶氮化合物17c的鎳螯合染料。
此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為596nm，克吸光系數(shù)為150L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為613nm。
〔化58〕 (實(shí)施例18)(a)化合物的制造在實(shí)施例1相同條件下，起始原料使用下述結(jié)構(gòu)式18a與下述結(jié)構(gòu)式18b所示化合物制造偶氮化合物18c的鎳螯合染料。此偶氮鎳螯合染料在氯仿中的最大吸收波長(zhǎng)為598nm，克吸光系數(shù)為139L/gcm，涂布膜的最大吸收波長(zhǎng)為613nm。
〔化59〕 將上述實(shí)施例13至18的染料，依上述「OD2/OD1的測(cè)定」相同方法，分別制作形成有染料的涂布基板A，并測(cè)定其吸收光譜。隨后求得OD2/OD1。其結(jié)果如表3所示。
如表3所示般，實(shí)施例13至18中任一例示，OD2/OD1皆大于1.25，故顯示出良好結(jié)果。
〔表3〕

產(chǎn)業(yè)應(yīng)用性本發(fā)明為提供一種可用于高速記錄的偶氮金屬螯合染料及使用該偶氮金屬螯合染料的可高速記錄的光學(xué)記錄媒體。
注意，本發(fā)明基于2003年9月11日于日本提出申請(qǐng)的日本專利申請(qǐng)案(特愿2003-319766號(hào))所提出，本發(fā)明內(nèi)容得以引用方式援用前述申請(qǐng)案。
權(quán)利要求
1.一種含有偶氮系染料化合物和金屬的偶氮金屬螯合染料，其特征在于，依下述測(cè)定方法測(cè)定的OD2/OD1值大于1.25，所述OD2/OD1值的測(cè)定方法(1)在2g八氟戊醇(OFP)溶劑中加入20mg偶氮金屬螯合染料，在50至55℃下進(jìn)行60分鐘超聲波分散后得到溶液A，將溶液A冷卻至室溫(25±5℃)后得到溶液B；(2)將所述溶液B以800rpm轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)涂布于聚碳酸酯基板上，將涂布有所述溶液B的基板在80℃下放置5分鐘，得到的涂布有所述溶液B的基板稱為涂布基板A；(3)測(cè)定所述涂布基板A在400nm至800nm范圍內(nèi)的吸收光譜；以及(4)在所得吸收光譜的500nm至700nm范圍內(nèi)觀察到的吸收光譜中，選取具有最大光密度的吸收峰和具有第二大光密度的吸收峰，將長(zhǎng)波端的吸收峰的光密度定義為OD2、短波端的吸收峰的光密度定義為OD1，而后計(jì)算所述OD2/OD1值。
2.如權(quán)利要求1所述的偶氮金屬螯合染料，其特征在于，它包含由下面的通式(1)所示的偶氮系染料化合物和金屬，化1 式中，R1為氫原子或由CO2R3所示的酯基；R3為可被取代的直鏈或支鏈烷基，或可被取代的環(huán)烷基；R2為可被取代的直鏈或支鏈烷基，X1或X2中至少1個(gè)為NHSO2Y基，Y為至少被2個(gè)氟原子所取代的直鏈或支鏈烷基；R4、R5各自獨(dú)立為氫原子或可被取代的直鏈或支鏈烷基；R6、R7、R8與R9各自獨(dú)立為氫原子或碳原子數(shù)1至2的烷基。
3.如權(quán)利要求1或2所述的偶氮金屬螯合染料，其特征在于，所述金屬至少是選自Ni、Co、Cu和Pd中的一種。
4.一種在基板上具有記錄層的光學(xué)記錄媒體，通過光照射便可使其上的記錄層進(jìn)行信息記錄和/或讀取，其特征在于，所述記錄層含有由偶氮系染料化合物與金屬所形成的偶氮金屬螯合染料，依下述測(cè)定法測(cè)定的所述偶氮金屬螯合染料的OD2/OD1值大于1.25，所述OD2/OD1值的測(cè)定方法(1)在2g八氟戊醇(OFP)溶劑中加入20mg偶氮金屬螯合染料，在50至55℃下進(jìn)行60分鐘超聲波分散后得到溶液A，將溶液A冷卻至室溫(25±5℃)后得到溶液B；(2)將溶液B以800rpm轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)涂布于聚碳酸酯基板上，將涂布有所述溶液B的基板在80℃下放置5分鐘，得到的涂布有所述溶液B的基板稱為涂布基板A；(3)測(cè)定所述涂布基板A在400nm至800nm范圍內(nèi)的吸收光譜；以及(4)在所得吸收光譜中的500nm至700nm范圍內(nèi)觀察到的吸收光譜中，選取具有最大光密度的吸收峰和具有第二大光密度的吸收峰，將長(zhǎng)波端的吸收峰的光密度定義為OD2、短波端的吸收峰的光密度定義為OD1，而后計(jì)算所述OD2/OD1值。
5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，所述偶氮金屬螯合染料含有由下面的通式(1)所示偶氮系染料化合物和金屬，化2 式中，R1為氫原子或由CO2R3所示的酯基；R3為可被取代的直鏈或支鏈烷基，或可被取代的環(huán)烷基；R2為可被取代的直鏈或支鏈烷基，X1或X2中至少1個(gè)為NHSO2Y基，Y為至少被2個(gè)氟原子所取代的直鏈或支鏈烷基；R4、R5各自獨(dú)立為氫原子或可被取代的直鏈或支鏈烷基；R6、R7、R8與R9各自獨(dú)立為氫原子或碳原子數(shù)1至2的烷基。
6.如權(quán)利要求4或5所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，所述金屬至少是選自Ni、Co、Cu和Pd中的一種。
7.如權(quán)利要求第4至第6項(xiàng)中的任一項(xiàng)所述的光學(xué)記錄媒體，其特征在于，所述偶氮金屬螯合染料在所應(yīng)用的光線下，在650nm或更短波長(zhǎng)下出現(xiàn)最大吸收。
全文摘要
本發(fā)明的偶氮金屬螯合染料是通過如下方式形成的化合物例如，選擇1，3，4－噻二唑環(huán)作為偶氮成分；此偶氮成分與含有包括氟取代烷基磺酰胺基和胺基在內(nèi)的縮環(huán)的耦合成分組合成為偶氮系染料化合物；該偶氮系染料化合物與至少一種選自Ni、Co、Cu和Pd的金屬形成螯合鍵。這里，在400nm至800nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)測(cè)定的吸收光譜中出現(xiàn)的2個(gè)吸收帶的光密度比(OD2/OD1)大于1.25。通過使用本偶氮金屬螯合染料，可提供適合高速記錄的光學(xué)記錄媒體。
文檔編號(hào)B41M5/26GK1753955SQ2004800052
公開日2006年3月29日 申請(qǐng)日期2004年9月9日 優(yōu)先權(quán)日2003年9月11日
發(fā)明者佐竹賢一, 內(nèi)藤優(yōu)子, 照田尚, 鈴木夕起 申請(qǐng)人:三菱化學(xué)株式會(huì)社, 三菱化學(xué)媒體株式會(huì)社