專利名稱:電化鋁的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及一種印刷包裝裝潢用材料,尤其涉及一種電化鋁。
技術(shù)背景現(xiàn)有技術(shù)中用于燙印文字、圖案的電化鋁在包裝、印刷行業(yè)應(yīng)用廣泛,電化鋁為多膜層結(jié)構(gòu), 一般由順序設(shè)置的基膜(可以是PET材料的,也可以是0PP 材料的)、離型層、色層、噴鋁層以及熱敏膠層組成,而一些具有鐳射圖案或其 它識(shí)別圖案的電化鋁則以帶著色的信息層(也可叫'成形層')取代色層,并在 信息層表面模壓設(shè)置不同反射角度的干涉光腐蝕形成的凹凸條紋或者凹凸斑點(diǎn) (如圖1、 2、 3、 4所示),以組成信息文字或圖案,這樣由于組成文字、圖案 的凹凸條紋具有反射角,所以在光的照射下就能辨識(shí)出文字或圖案,同時(shí)如果 不同反射角度的凹凸條紋相間排列的話,就形成按不同角度變化圖案或色彩的 電化鉬;但其功能也始終是美觀、標(biāo)識(shí)作用。 發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是要提供一種內(nèi)設(shè)有防偽標(biāo)識(shí)、圖文信息 的電化鋁,在通常條件下與一般的電化鋁一樣不能看到防偽標(biāo)識(shí),而借助相應(yīng) 倍數(shù)的放大鏡在光源照射條件下就能辨識(shí)設(shè)置于該電化鋁上的防偽標(biāo)識(shí)、圖文l口 。為解決上述技術(shù)問(wèn)題本實(shí)用新型的電化鋁包括基膜、離型層、帶著色的信 息層、噴鋁層和熱敏膠層,所述的信息層面向噴鋁層的一面設(shè)置有凹凸圖文, 所述的凹凸圖文為文字筆畫(huà)或者圖案線條整體凹陷或凸出于非圖文區(qū)域,凹凸文字筆畫(huà)或圖案線條的寬度為0. 04 — 30jum。所述的凹凸文字筆畫(huà)或圖案線條的寬度可以為l一30jum。
所述的文字筆畫(huà)或圖案線條區(qū)域與非圖文區(qū)域可以互為漫反射面和光滑面。所述的文字筆畫(huà)或圖案線條也可以為帶不同方向反射面的凹陷或凸起線條。所述的凹凸文字筆畫(huà)或圖案線條的高度或者深度為0. 04—4ym。 本實(shí)用新型的電化鋁突破了原先利用設(shè)置于信息層表面的多條相間排列的 凹凸條紋或者凹凸斑點(diǎn)組成文字筆畫(huà)或圖案線條的現(xiàn)有技術(shù),釆用了文字筆畫(huà) 或圖案線條的整體凹凸形式,而且凹凸文字筆畫(huà)或圖案線條的寬度為0.04 — 30 iam,這樣如此微小的文字圖案在常態(tài)用肉眼是無(wú)法分辨的,而用相應(yīng)倍數(shù)的放 大鏡(譬如40倍放大鏡)在光源照射的條件下就能清晰地辨識(shí)出隱藏于其中的 防偽標(biāo)識(shí),當(dāng)凹凸文字筆畫(huà)或圖案線條的寬度為l一30pm時(shí),識(shí)別防偽標(biāo)識(shí)只需要用 一般倍數(shù)的放大鏡就可以了;如果再小就要用顯微鏡來(lái)辨識(shí)了,只有在特殊的 制品上才會(huì)使用。一般在非圖文區(qū)域?yàn)楣饣妫鳛榉纻螛?biāo)識(shí)的文字筆畫(huà)或圖案線條區(qū)域 則為漫反射面,這樣本身圖案線條非常小,再加上其上面為漫反射面,在平時(shí) 用肉眼就更不能識(shí)別了,而在相應(yīng)倍數(shù)的放大鏡下,由于字跡、線條本身有凹 凸,再加上其上表面為與背景不同的漫反射面,所以就能清晰地識(shí)別防偽標(biāo)識(shí) 了;當(dāng)然非圖文區(qū)域也可以是漫反射面,而圖文區(qū)域則為光滑面。作為另外一種方案防偽標(biāo)識(shí)的文字筆畫(huà)或圖案線條可以為帶不同方向反射 面的凹陷或凸起線條,同樣由于線條微小在日常條件下是無(wú)法辨識(shí)的,而有光 源照射時(shí)在放大鏡下觀測(cè),由于線條處的折光反射就可以看到相應(yīng)的防偽標(biāo)識(shí)。本實(shí)用新型的爽印用電化鋁使得原先只有在印刷中起到美觀功能的材料附 加上了全新的高科技防偽識(shí)別功能,在越來(lái)越注重防偽識(shí)別的當(dāng)今社會(huì)其經(jīng)濟(jì)效應(yīng)與社會(huì)效應(yīng)都是無(wú)可限量的。
圖l是現(xiàn)有技術(shù)中信息層設(shè)置凹凸條紋以形成圖文標(biāo)記的示意圖; 圖2是圖1中A處截面放大示意圖;圖3是現(xiàn)有技術(shù)中信息層設(shè)置凹凸斑點(diǎn)以形成圖文標(biāo)記的示意圖; 圖4是圖1中B處截面放大示意圖;圖5是本實(shí)用新型電化鋁凸起式文字筆畫(huà)或圖案線條區(qū)域上表面為漫反射面的 示意圖;圖6是本實(shí)用新型電化鋁文字筆畫(huà)或圖案線條為帶不同方向反射面的凹陷線條 的示意圖;圖中1.基膜 2.離型層 3.信息層4.噴鋁層 5.熱敏膠層 6.反射面具體實(shí)施方式
以下結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明圖5、 6示出了一種燙印用電化鋁,呈多層膜狀,順序設(shè)置有基膜l、離型 層2、帶著色的信息層3、噴鋁層4和熱敏膠層5,所述的信息層3面向噴鋁層 4的一面設(shè)置有凹凸圖文,凹凸圖文為文字筆畫(huà)或者圖案線條整體凹陷或凸出于 非圖文區(qū)域,凹凸文字筆畫(huà)或圖案線條的寬度為0.04 — 30iam(當(dāng)寬度為1一30 nm時(shí),辨識(shí)防偽標(biāo)識(shí)只需要相應(yīng)倍數(shù)的放大鏡即可;而當(dāng)寬度小于liam時(shí)就 要使用成本比較昂貴的顯微鏡來(lái)辨識(shí),在某些特珠要求的制品上才會(huì)使用到)。如圖5所示非圖文區(qū)域?yàn)楣饣?,作為防偽?biāo)識(shí)的文字筆畫(huà)或圖案線條區(qū) 域則為漫反射面,這樣由于本身圖案線條非常小,再加上其上面為漫反射面,
平時(shí)用肉眼也就不能識(shí)別了,而在相應(yīng)倍數(shù)的放大鏡下,由于字跡、線條本身 有凹凸,再加上其上表面為與背景不同的漫反射面,所以就能清晰地識(shí)別防偽標(biāo)識(shí)了;當(dāng)然非圖文區(qū)域也可以是漫反射面,而圖文區(qū)域則為光滑面。如圖6所示作為另外一種方案防偽標(biāo)識(shí)的文字筆畫(huà)或圖案線條可以為帶反 射面6的凹陷或凸起線條,同樣由于線條微小在日常條件下是無(wú)法辨識(shí)的,而有光源照射時(shí)在放大鏡下觀測(cè),由于線條處的折光反射就可以看到相應(yīng)的防偽標(biāo)識(shí);同時(shí)各線條的反射面的角度可以各不相同,這樣所設(shè)置的文字、圖案從 不同角度觀測(cè)就會(huì)產(chǎn)生不同的效果(即觀測(cè)到的圖案、色彩會(huì)隨著觀測(cè)角度、 光源照射角度的變化而發(fā)生變化)。而凹凸文字筆畫(huà)或圖案線條的高度或者深度為0. 04 — 4jam。
權(quán)利要求1. 一種電化鋁,包括基膜、離型層、帶著色的信息層、噴鋁層和熱敏膠層,所述的信息層面向噴鋁層的一面設(shè)置有凹凸圖文,其特征在于所述的凹凸圖文為文字筆畫(huà)或者圖案線條整體凹陷或凸出于非圖文區(qū)域,凹凸文字筆畫(huà)或圖案線條的寬度為0.04-30μm。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電化鋁,其特征在于所述的凹凸文字筆畫(huà)或圖案線 條的寬度為1一30罪。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的電化鋁,其特征在于所述的文字筆畫(huà)或圖案線條區(qū) 域與非圖文區(qū)域互為漫反射面和光滑面。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的電化鋁,其特征在于所述的文字筆畫(huà)或圖案線條為 帶不同方向反射面的凹陷或凸起線條。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l、 2、 3或4所述的電化鋁,其特征在于所述的凹凸文字筆 畫(huà)或圖案線條的高度或者深度為0. 04 — 4jam。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種電化鋁,包括基膜、離型層、帶著色的信息層、噴鋁層和熱敏膠層,信息層設(shè)置有凹凸圖文,所述的凹凸圖文為文字筆畫(huà)或者圖案線條整體凹凸于非圖文區(qū)域,且其寬度為0.04-30μm。文字筆畫(huà)或圖案線條區(qū)域與非圖文區(qū)域可以互為漫反射面和光滑面。本實(shí)用新型的電化鋁突破了原先的技術(shù),采用文字筆畫(huà)或圖案線條的整體凹凸形式,且線條寬度微小,這樣文字圖案在常態(tài)用肉眼是無(wú)法分辨的,而用相應(yīng)倍數(shù)的放大鏡在光源照射的條件下就能清晰地辨識(shí)出隱藏于其中的防偽標(biāo)識(shí);本實(shí)用新型使得原先只有在印刷中起到美觀功能的材料附加上了全新的高科技防偽識(shí)別功能,在越來(lái)越注重防偽識(shí)別的當(dāng)今社會(huì)其經(jīng)濟(jì)效應(yīng)與社會(huì)效應(yīng)都是無(wú)可限量的。
文檔編號(hào)B41M5/00GK201080039SQ20072007250
公開(kāi)日2008年7月2日 申請(qǐng)日期2007年7月16日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月16日
發(fā)明者欣 沈 申請(qǐng)人:欣 沈