專利名稱：光學(xué)多層結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其包含聚合物基材，該基材具有非零的平面外雙折射率，和無定形聚合物覆蓋層，該覆蓋層具有與基材的平面外雙折射率符號相反的平面外雙折射率。所述多層結(jié)構(gòu)具有總體上低的平面外相位延遲。
背景技術(shù)：
由于具有低的材料成本并且容易加工，因此聚合物材料被廣泛用于光電子組件。其目的是替代無機(jī)玻璃，眾所周知，無機(jī)玻璃是“脆性的”、“重的”和“對于機(jī)械加工而言是硬的”。然而，聚合物材料具有依賴于工藝的光學(xué)特性，特別是雙折射率。所有光學(xué)品級的聚合物都是透明的和無定形的。當(dāng)無定形聚合物被加工成希望的形狀時(shí)，它們不是光學(xué)各向同性的，不同于無機(jī)玻璃。即，三個(gè)折光指數(shù)，nx，ny和nz，不是相等的。這是由于聚合物特有的聚合物-鏈取向現(xiàn)象。因此，在一定的加工條件下，觀察到的光學(xué)各向異性取決于聚合物鏈排列的程度。聚合物分子具有特性雙折射率Δnint，其由若干因素決定，例如官能團(tuán)的極化性和它們相對于聚合物鏈的鍵角。聚合物產(chǎn)品具有不同于特性雙折射率的非固有的雙折射率(平面內(nèi)的或者平面外的)，該非固有的雙折射率強(qiáng)烈地依賴于加工過程。根據(jù)應(yīng)用，必須對雙折射率進(jìn)行控制，以滿足應(yīng)用要求。在很多情況下，希望的是在平面內(nèi)方向和平面外方向兩者中具有實(shí)質(zhì)上低的雙折射率或者相位延遲。
在光盤應(yīng)用中，例如密度盤(CD)和數(shù)字視頻盤(DVD)中，基材材料必須滿足例如以下條件1)高透光度，2)低濕氣滲透性，3)尺寸穩(wěn)定性和4)低雙折射率。通常，光盤的讀取包括n的輕微變化，偏振狀態(tài)或者從盤表面反射的光強(qiáng)度變化的檢測。因此，盤基材的雙折射性對讀出具有不利影響，例如讀取-誤差或者噪音。光盤基材通過聚合物注塑制造。聚碳酸酯(PC)已經(jīng)廣泛用于CD和DVD的基材。其具有高透光度，耐熱和濕氣的高尺寸穩(wěn)定性，和高機(jī)械強(qiáng)度。然而PC具有較高的特性雙折射率Δnint。注塑的過程導(dǎo)致聚合物鏈排列。因此，具有高特性雙折射率的聚合物，例如PC，易于產(chǎn)生無法接受的水平的平面內(nèi)延遲Rin和平面外延遲Rth。為了防止這一問題，通常調(diào)節(jié)模塑條件，例如溫度和流動(dòng)速率。工藝條件的這種優(yōu)化已經(jīng)成功地得到應(yīng)用，通過減小Δnin顯著地減小了Rin。在某些情況下，對于法向入射光，可以使平面內(nèi)雙折射率Δnin低到1～3×10-5。另一方面，平面外雙折射率Δnth通常是負(fù)的，并且使用優(yōu)化的模塑工藝，其值為-6～-5×10-4。雖然Δnth的值是小的，但是對于傾斜的入射光，相應(yīng)的相位延遲不是可以忽略的，因?yàn)榛木哂邢喈?dāng)大的厚度，～1毫米。因此，以偏斜角(相對于基材法線方向測量)入射到基材上的光將產(chǎn)生相位延遲，其對于小的，為2的量級。在某些情況下，考慮到反射后的總的相位延遲，在＝30°，可能達(dá)到高達(dá)-150nm。
在典型的液晶顯示器(LCDs)中，液晶元件位于一對起偏器之間。通過起偏器偏振化的入射光通過液晶單元，并且受液晶的分子取向的影響，液晶的分子取向可以通過在液晶單元上施加電壓而改變。改變的光進(jìn)入第二起偏器。廣泛用于液晶顯示器(LCDs)的典型的起偏器具有這樣一種結(jié)構(gòu)，其中在三乙酰纖維素(TAC)基材之間夾有吸收性偏振化層(例如聚乙烯醇(PVA)層吸收的碘染料)。TAC被廣泛用于起偏器的制造，這部分地是因?yàn)槠渚哂械偷摩int。對于典型的未拉伸TAC，Δnin約為5×10-5。因此，具有100微米厚度的TAC具有Rin～5nm。這樣的相位延遲量不是顯著的，并且由PVA層線式偏振的光在通過TAC層時(shí)基本上保持線式偏振的狀態(tài)。然而，只有當(dāng)光法向入射到起偏器平面時(shí)才是這種情況。已知大多數(shù)TAC基材具有大約～-5×10-4的負(fù)的Δnth。這將給出Rth～-50nm。對于傾斜的入射光，這種平面外相位延遲Rth受到偏振狀態(tài)的變化的影響。對于某些LCDs模式，TAC基材具有有限的負(fù)的Δnth是有利的。這是因?yàn)樨?fù)的Rth可以補(bǔ)償垂直于液晶單元平面排列的液晶分子的正的Rth。然而，TAC的負(fù)的Δnth在其中液晶基本上保持與單元平面平行的LCD模式中具有不利影響。平面內(nèi)開關(guān)LCDs就是這種情況，其中液晶分子旋轉(zhuǎn)，同時(shí)實(shí)質(zhì)上保持與單元平面平行。
在典型的背部照明LCD中，背部照明組合體包含幾個(gè)光學(xué)薄膜，它們在光達(dá)到液晶單元之前改善光分布和偏振。這種背部照明組合體201在圖2中進(jìn)行了舉例說明。從背部照明裝置203出來的光首先遇到改善顯示器中光分布的光學(xué)薄膜，例如散射薄膜，205，和提高亮度薄膜，207。然后光入射到反射起偏器209上，反射起偏器209包含基材211和偏振層213，其透射一種偏振狀態(tài)并且反射另一種偏振狀態(tài)。光程中的下一個(gè)組件是吸收性起偏器215，其包含底部基材217，吸收偏振層219，和頂部基材221。吸收性起偏器的透光軸和反射起偏器的透光軸是平行的。理想地，由反射起偏器209傳輸?shù)钠駹顟B(tài)與由吸收起偏器215傳輸?shù)钠駹顟B(tài)是相同的。背部照明裝置203和反射起偏器209之間的光學(xué)疊層使被反射的偏振狀態(tài)循環(huán)。入射到吸收起偏器215上的偏振光必須基本上是線式偏振的，以便光被有效地透射而不被吸收。如前所述，典型的吸收起偏器在吸收性偏振化層219兩側(cè)包含作為基材217，221的TAC。用作底部基材217的TAC的負(fù)的平面外雙折射性將入射到吸收起偏器215上的線式偏振光轉(zhuǎn)化為橢圓偏振光。于是偏振化層219將吸收一部分橢圓偏振光。因此降低了顯示器的光通過量。為了獲得最大的光通過量，反射起偏器209和吸收性偏振化層219之間的底部基材217必須具有小的Δnth和Rth。
如前面提到的，仔細(xì)調(diào)節(jié)工藝可以顯著地降低Δnin，因此降低聚合物基材的Rin?？梢栽O(shè)想，工藝條件的進(jìn)一步優(yōu)化將進(jìn)一步降低剩余的負(fù)的Δnth。然而，這將增加生產(chǎn)成本?？晒┻x擇的方法是形成多層。即在具有負(fù)的Rth的聚合物基材上配置具有正的Rth的覆蓋層。這種工藝提供了光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其對于在400nm＜λ＜700nm范圍中的波長λ具有低的Rth(-30nm＜Rth＜30nm)。
產(chǎn)生具有非零的Δnth，因此具有非零的Rth的層的幾種方法已經(jīng)是已知的。
本領(lǐng)域技術(shù)人員眾所周知，如果液晶的Δnint是正的，則垂直于基材均勻地排列的液晶產(chǎn)生正的Δnth?？删酆弦壕В鏤S6,261,649中公開的那種給出垂直排列。然而，液晶化合物通常具有高成本，并且在大的生產(chǎn)規(guī)模中產(chǎn)生均勻的液晶排列是復(fù)雜的和不現(xiàn)實(shí)的。在某些情況下，為了將垂直排列凍結(jié)，要求使用光聚合過程，這增加了額外的工藝和成本。
Li等(聚合物，第37卷，笫5321-5325頁，1996)描述了通過在透明基材上旋轉(zhuǎn)-涂覆聚酰胺來產(chǎn)生非零Rth的方法。產(chǎn)生了聚酰亞胺聚合物鏈的隨機(jī)定向。公開的方法是聚合物的簡單涂覆。然而得到的Δnth和Rth是負(fù)的。因此，該方法僅僅提高了上述聚合物基材的Δnth的負(fù)性。
使用過程優(yōu)化難以獲得具有足夠小的Rth的聚合物基材。此外，現(xiàn)有技術(shù)沒有提供生產(chǎn)具有正的Δnth的聚合物層的簡單方法，因此使具有低的Rth的聚合物多層結(jié)構(gòu)的制造工藝變得困難。因此，需要解決的問題是提供一種聚合物多層結(jié)構(gòu)和簡單的產(chǎn)生該多層結(jié)構(gòu)的方法，其中所述多層結(jié)構(gòu)包括具有正的Δnth的聚合物層，其可以被配置在具有負(fù)的Rth的聚合物基材上，形成具有低Rth的多層結(jié)構(gòu)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其包含具有非零平面外雙折射率的聚合物基材和包含無定形聚合物的無定形聚合物覆蓋層，該無定形聚合物具有高于160℃的Tg值并且具有與所述聚合物基材相反的平面外雙折射率符號，從而使所述光學(xué)多層結(jié)構(gòu)的總平面外相位延遲對于在400到700nm之間的光的波長，在-30nm和30nm之間。
本發(fā)明因此提供了聚合物多層結(jié)構(gòu)和簡單的生產(chǎn)該聚合物多層結(jié)構(gòu)的方法，其中所述多層結(jié)構(gòu)包含可以被配置在具有負(fù)的Rth的聚合物基材上的具有正的Δnth的聚合物層，從而形成具有低的Rth的多層結(jié)構(gòu)。


圖1是具有厚度d和x-y-z坐標(biāo)系的層的視圖；圖2是典型的LCD背部照明單元的斷面略圖；圖3A、圖3B和圖3C是光學(xué)多層結(jié)構(gòu)的斷面略圖。
圖4A和圖4B分別是液晶的垂直排列和無定形聚合物鏈的隨機(jī)平面內(nèi)取向的略圖；圖5A和圖5B是具有光學(xué)多層結(jié)構(gòu)的起偏器的斷面略圖；圖6是光記錄介質(zhì)的斷面略圖；圖7是顯示波長λ與本發(fā)明示例性多層結(jié)構(gòu)的平面外相位延遲Rth的相關(guān)性的圖形。
具體實(shí)施例方式
以下定義適用于本文的描述
有序參數(shù)，S指聚合物相對于參考方向的排列程度。
其由S=3⟨cosθ2-1⟩2]]>給出，其中θ是參考方向和聚合物鏈中單獨(dú)鏈段之間的角度。括號<>表明統(tǒng)計(jì)平均數(shù)。S可以取-0.5到1.0的值。
示于圖1中的層101的平面內(nèi)相位延遲，Rin，是由(nx-ny)d定義的量，其中nx和ny是在x和y方向中的折光指數(shù)。x是在x-y面中最大折光指數(shù)的方向，而y方向是垂直于x的方向。x-y面平行于層的平面103。d是層在z-方向中的厚度。量(nx-ny)指平面內(nèi)雙折射率，Δnin。Δnin的值在波長λ＝550nm下給出。
示于圖1中的層101的平面外相位延遲Rth是由[nz-(nx+ny)/2]d定義的量。nz是z-方向中的折光指數(shù)。量[nz-(nx+ny)/2]被稱為平面外雙折射率，Δnth。如果nz＞(nx+ny)/2，則Δnth是正的，因此相應(yīng)的Rth也是正的。如果nz＜(nx+ny)/2，則Δnth是負(fù)的，并且Rth也是負(fù)的。Δnth的值在λ＝550nm下給出。
聚合物的特性雙折射率Δnint指由(ne-no)定義的量，其中ne和no分別是聚合物的非尋常折射率和尋常折射率。聚合物層的實(shí)際的雙折射率(平面內(nèi)Δnin或者平面外Δnth)取決于其制造方法，因此取決于有序參數(shù)，和Δnint。
無定形的指缺少長程有序。因此無定形聚合物不具通過例如X-射線衍射等技術(shù)測量的有長程有序。
透光度是測定光學(xué)透射率的量。其由出來的光強(qiáng)度Iout比進(jìn)入的光強(qiáng)度Iin的百分比Iout/Iin×100給出。
本文的發(fā)色團(tuán)被定義為在光吸收中起一個(gè)單元的作用的原子或者原子團(tuán)。(現(xiàn)代分子光化學(xué)，Nicholas J.Turro編輯，Benjamin/Cummings出版公司，Menlo Park，CA(1978)Pg77)。非可見光發(fā)色團(tuán)是在400-700nm范圍外具有最大吸收的發(fā)色團(tuán)。
現(xiàn)在將參考附圖，在附圖中本發(fā)明的各種元件被標(biāo)上附圖標(biāo)記，將對本發(fā)明進(jìn)行討論，以便本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠制造和使用本發(fā)明。應(yīng)當(dāng)理解，沒有被特別地顯示或者描述的元件可以采用本領(lǐng)域技術(shù)人員眾所周知的各種形式。
圖3A顯示了本發(fā)明的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)301的結(jié)構(gòu)。303是聚合物基材，并且305是無定形聚合物覆蓋層。無定形聚合物覆蓋層305可以配置在聚合物基材303的兩個(gè)側(cè)面，如圖3B所示。兩個(gè)聚合物基材303可以配置在無定形聚合物覆蓋層的兩個(gè)側(cè)面上，圖3C。聚合物基材303的Δnth是負(fù)的，并且無定形聚合物覆蓋層305的Δnth是正的。通常，基材303的Δnth值是極其小的(-1×10-4～-3×10-5)。然而，如果基材303的厚度是較大的(例如～1mm)，則Rth不是可以忽略的，并且將處于-100nm～-30nm范圍內(nèi)。另一方面，覆蓋層305的Δnth是比5×10-3(0.005)更正的。因此，對于在400nm＜λ＜700nm下具有-30nm＜Rth＜30nm的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)301，覆蓋層305的厚度大大小于基材的厚度。例如，為了平衡基材303(例如厚度1mm和Δnth＝-5×10-5)的Rth＝-50nm，如果無定形聚合物覆蓋層305的Δnth是0.01，則覆蓋層305將僅是5微米。為了使多層結(jié)構(gòu)301的總厚度保持在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)，聚合物覆蓋層305的厚度優(yōu)選在1到50微米之間，或更優(yōu)選5到20微米。覆蓋層305的透光度應(yīng)該足夠高，以便光學(xué)多層結(jié)構(gòu)301的總透光度保持高的值。對于400nm≤λ≤700nm，無定形聚合物覆蓋層305的透光度優(yōu)選高于80％，或更優(yōu)選高于90％。
正如本領(lǐng)域技術(shù)人員眾所周知的，無定形聚合物的雙折射率Δnp由Δnp＝SΔnint給出。在現(xiàn)有技術(shù)中，液晶401的垂直排列(在圖4A中的z方向)用于產(chǎn)生正的Δnth。在這種情況下，S在0≤S≤1范圍內(nèi)，并且Δnint是正的。如果聚合物鏈403在聚合物層的平面中是隨機(jī)取向的，如圖4B所示，則產(chǎn)生Δnth，同時(shí)Δnin是零。對于這樣一種取向，聚合物鏈的有序參數(shù)S在-0.5＜S＜0的范圍內(nèi)。因此，對于聚合物基材上的無定形聚合物覆蓋層，為了獲得正的Δnth，可以使用具有負(fù)的Δnint的聚合物。這類聚合物的實(shí)例包括在聚合物主鏈外具有非可見光發(fā)色團(tuán)的材料。這類非可見光發(fā)色團(tuán)將包括乙烯基，羰基，酰胺，酰亞胺，酯，碳酸酯，砜，偶氮，和芳族雜環(huán)和碳環(huán)基團(tuán)(例如苯基，萘基，聯(lián)苯基，聯(lián)三苯，苯酚，雙酚A，和噻吩)。此外，這些非可見光發(fā)色團(tuán)的組合可能是希望的(即共聚物)。這類聚合物的實(shí)例和它們的結(jié)構(gòu)顯示如下。
實(shí)例I聚(4-乙烯基聯(lián)苯) 實(shí)例II聚(4-乙烯基苯酚) 實(shí)例III聚(N-乙烯基咔唑)
實(shí)例IV聚(甲基羧基苯基甲基丙烯酰胺) 實(shí)例V聚[(1-乙?；胚?3-基羰氧基)亞乙基] 實(shí)例VI聚(苯二酰亞氨基亞乙基)
實(shí)例VII聚(4-(1-羥基-1-甲基丙基)苯乙烯) 實(shí)例VIII聚(2-羥基甲基苯乙烯) 實(shí)例IX聚(2-二甲基氨基羰基苯乙烯) 實(shí)例X聚(2-苯基氨基羰基苯乙烯)
實(shí)例XI聚(3-(4-聯(lián)苯基)苯乙烯) 實(shí)例XII聚(4-(4-聯(lián)苯基)苯乙烯) 另一個(gè)重要因素是獲得有限的負(fù)值的S。獲得這樣的負(fù)的S值的一種方法是將玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg大于160℃的聚合物進(jìn)行溶劑涂覆。這類聚合物在溶劑蒸發(fā)時(shí)將不會(huì)有足夠的時(shí)間來松馳，并且將保持負(fù)的S值。
聚合物基材的實(shí)例可以由以下材料制成聚碳酸酯，TAC，環(huán)狀聚烯烴，及其他在光電子裝置應(yīng)用中通常使用的聚合物。聚合物基材的厚度應(yīng)該是足以保持機(jī)械完整性并且便于加工的厚度。其優(yōu)選在10微米到5毫米之間，或更優(yōu)選在30微米到2毫米之間。
圖5A是具有光學(xué)多層結(jié)構(gòu)301的吸收性起偏器501的斷面略圖。多層結(jié)構(gòu)301具有例如示于圖3A、3B和3C中的一種結(jié)構(gòu)。偏振化層505由例如染料吸收的PVA薄膜制成?；?03可以是光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，例如301，或者其他單層聚合物材料。圖5B是起偏器507的另一個(gè)實(shí)例。在這種情況下，偏振化層505接觸地配置在多層結(jié)構(gòu)301上。這是反射性起偏器的典型結(jié)構(gòu)。正如本領(lǐng)域技術(shù)人員眾所周知的，膽甾基液晶層起反射偏振化層的作用。此外，偏振化層505可以是基于周期地放置的金屬細(xì)絲的反射起偏器，例如US6,081,376中公開的那種。
光學(xué)-重編碼介質(zhì)601的斷面略圖示于圖6。603是記錄層。在磁光記錄介質(zhì)(MO)中，603是由例如稀土-鈷-鐵合金制造的磁光層。本發(fā)明的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)301被放置在MO層603上。用于讀取記錄的信號的光607從多層結(jié)構(gòu)301側(cè)面入射。605是保護(hù)層。
覆蓋層可以通過任何適合的方法例如溶劑流延而被容易地配置在聚合物基材上。
本發(fā)明借助于以下非限制性實(shí)施例進(jìn)一步舉例說明。
實(shí)施例聚(N-乙烯基咔唑)(聚合物I)從Acros Organics獲得，并且通過差示掃描量熱法(DSC)測定具有161℃的Tg。
將聚合物I(在甲苯中15％固體)旋轉(zhuǎn)流延在TAC基材上。使用偏振光橢圓計(jì)(M2000V型，J.A.Woollam Co.)在λ＝550nm處測量這種樣品(以及TAC對照物)的Rin和Rth。結(jié)果示于表I。
聚合物I的層沒有顯示出任何長程有序的跡象。因此該層被認(rèn)為是由無定形聚合物組成。該光學(xué)多層結(jié)構(gòu)在400到700nm之間的λ下具有在+30和-30nm之間的Rth。在圖7中，TAC和多層結(jié)構(gòu)的Rth分別使用虛線701和實(shí)線703顯示為λ的函數(shù)。
表I

特別地參考某些優(yōu)選的實(shí)施方案詳細(xì)地描述了本發(fā)明，但是應(yīng)當(dāng)理解，在本發(fā)明范圍內(nèi)可以作出改變和修正。在本說明書中提到的專利及其他出版物的全部內(nèi)容在此引入作為參考。
部件列表101薄膜103薄膜的平面201背部照明組合體203背部照明裝置205散射薄膜207亮度提高薄膜209反射起偏器211基材213偏振化層215吸收性起偏器217217底部基材219吸收性偏振化層221頂部基材301光學(xué)多層結(jié)構(gòu)303聚合物基材305無定形聚合物覆蓋層401液晶403在x-y面中隨機(jī)取向的聚合物鏈501吸收性起偏器503基材505偏振化層507起偏器601光記錄介質(zhì)603記錄層605保護(hù)層607用于讀取信號的入射光701顯示TAC的Rth的波長相關(guān)性的虛線703顯示光學(xué)多層結(jié)構(gòu)的Rth的波長相關(guān)性的實(shí)線S 有序參數(shù)θ參考方向和聚合物鏈的單獨(dú)的鏈段之間的角度 光入射角
nxx軸方向折射率nyy軸方向折射率nzz軸方向折射率no尋常折射率ne非常折射率Δnth平面外雙折射率Δnin平面內(nèi)雙折射率Δnint聚合物的特性雙折射率Δnp聚合物的雙折射率d 薄膜厚度Rth平面外相位延遲Rin平面內(nèi)相位延遲λ 波長Iout出射光強(qiáng)度Iin入射光強(qiáng)度
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其包含具有非零平面外雙折射率的聚合物基材和包含無定形聚合物的無定形聚合物覆蓋層，該無定形聚合物具有高于160℃的Tg值并且具有與所述聚合物基材相反的平面外雙折射率符號，從而使所述光學(xué)多層結(jié)構(gòu)的總平面外相位延遲對于在400到700nm之間的光的波長，在-30nm和30nm之間。
2.權(quán)利要求1的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其中所述聚合物基材的平面外雙折射率是負(fù)的，并且所述無定形聚合物覆蓋層的平面外雙折射率是正的。
3.權(quán)利要求2的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其中所述無定形聚合物覆蓋層的平面外雙折射率在550nm的波長下為大于0.005的正值。
4.權(quán)利要求1的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其中所述無定形聚合物覆蓋層的厚度在1和50微米之間。
5.權(quán)利要求4的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其中所述無定形聚合物覆蓋層的厚度在5和20微米之間。
6.權(quán)利要求1的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其中所述光學(xué)多層結(jié)構(gòu)的透光度高于80％。
7.權(quán)利要求6的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其中所述光學(xué)多層結(jié)構(gòu)的透光度高于90％。
8.權(quán)利要求2的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其中所述無定形聚合物覆蓋層包含具有負(fù)的特性雙折射率的聚合物。
9.權(quán)利要求8的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其中所述聚合物具有在聚合物主鏈外的非可見光發(fā)色團(tuán)。
10.權(quán)利要求2的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其中所述無定形聚合物覆蓋層包含至少一種選自以下的聚合物A)聚(4-乙烯基苯酚)，B)聚(4-乙烯基聯(lián)苯)，C)聚(N-乙烯基咔唑)，D)聚(甲基羧基苯基甲基丙烯酰胺)，E)聚[(1-乙酰基吲唑-3-基羰氧基)乙烯]，F(xiàn))聚(苯二酰亞氨基乙烯)，G)聚(4-(1-羥基-1-甲基丙基)苯乙烯)，H)聚(2-羥甲基苯乙烯)，I)聚(2-二甲基氨基羰基苯乙烯)，J)聚(2-苯基氨基羰基苯乙烯)，K)聚(3-(4-聯(lián)苯基)苯乙烯)，L)聚(4-(4-聯(lián)苯基)苯乙烯)，M)聚(4-氰基苯基甲基丙烯酸酯)，N)聚(2，6-二氯苯乙烯)，O)聚(全氟代苯乙烯)，P)聚(2，4-二異丙基苯乙烯)，Q)聚(2，5-二異丙基苯乙烯)，和R)聚(2，4，6-三甲基苯乙烯)。
11.權(quán)利要求1的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其中所述聚合物基材的厚度在10微米和5毫米之間。
12.權(quán)利要求1的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其中所述聚合物基材的厚度在30微米和2毫米之間。
13.一種光記錄介質(zhì)，其包含重編碼層和配置在所述記錄表面的至少一個(gè)側(cè)面上的權(quán)利要求1的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)。
14.權(quán)利要求13的光記錄介質(zhì)，其中所述光學(xué)多層結(jié)構(gòu)的聚合物基材是聚碳酸酯。
15.一種起偏器，其包含偏振化層和配置在所述偏振化層的至少一個(gè)表面上的權(quán)利要求1的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)。
16.權(quán)利要求15的起偏器，其中所述光學(xué)多層結(jié)構(gòu)的聚合物基材是三乙酰纖維素。
17.權(quán)利要求15的起偏器，其中所述起偏器是反射起偏器。
18.權(quán)利要求15的起偏器，其中所述起偏器是透射起偏器。
19.一種液晶顯示器，其包含液晶單元和至少一個(gè)權(quán)利要求15的起偏器。
20.權(quán)利要求2的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其中所述無定形聚合物覆蓋層包含至少一種由以下所列單體制造的共聚物A)4-乙烯基苯酚，B)4-乙烯基聯(lián)苯，C)N-乙烯基咔唑，D)甲基羧基苯基甲基丙烯酰胺，E)(1-乙?；胚?3-基羰氧基)乙烯，F(xiàn))苯二酰亞氨基乙烯，G)4-(1-羥基-1-甲基丙基)苯乙烯，H)2-羥甲基苯乙烯，I)2-二甲基氨基羰基苯乙烯，J)2-苯基氨基羰基苯乙烯，K)3-(4-聯(lián)苯基)苯乙烯，L)4-(4-聯(lián)苯基)苯乙烯，M)4-氰基苯基甲基丙烯酸酯，N)二氯苯乙烯，O)全氟代苯乙烯，P)2，4-二異丙基苯乙烯，Q)2，5-二異丙基苯乙烯，和R)2，4，6-三甲基苯乙烯。
全文摘要
公開了一種光學(xué)多層結(jié)構(gòu)，其包含具有非零平面外雙折射率的聚合物基材和包含無定形聚合物的無定形聚合物覆蓋層，該無定形聚合物具有高于160℃的Tg值并且具有與所述聚合物基材相反的平面外雙折射率符號，從而使所述光學(xué)多層結(jié)構(gòu)的總平面外相位延遲對于在400到700nm之間的光的波長，在－30nm和30nm之間。
文檔編號G02B27/28GK1875413SQ200480031615
公開日2006年12月6日 申請日期2004年10月13日 優(yōu)先權(quán)日2003年10月27日
發(fā)明者T·伊施卡瓦, J·F·埃爾曼, D·J·馬薩, E·N·蒙特巴赫, D·M·特加登 申請人:伊斯曼柯達(dá)公司