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      圖形形成材料、以及圖形形成裝置和圖形形成方法

      文檔序號(hào):2779806閱讀:237來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:圖形形成材料、以及圖形形成裝置和圖形形成方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及適于感光膠膜(DFR)等的圖形形成材料、以及具備了該圖形形成材料的圖形形成裝置和使用上述圖形形成材料的圖形形成方法。
      背景技術(shù)
      一直以來(lái),當(dāng)形成布線圖等永久圖形時(shí),一般使用通過(guò)在支撐體上涂布、干燥感光性樹(shù)脂組合物而使其形成感光層的圖形形成材料。上述永久圖形的制造方法例如為,在可形成上述永久圖形的鍍銅膜層疊板等基體上,層疊上述圖形形成材料而形成層疊體,對(duì)該層疊體的上述感光層進(jìn)行曝光,在該曝光后,使上述感光層顯影而使其形成圖形,然后進(jìn)行蝕刻處理等使其形成為上述永久圖形。
      在上述圖形形成材料的上述感光層中,通常含有粘合劑,但是關(guān)于下述方面技術(shù)沒(méi)有任何公開(kāi),即著眼于該粘合劑的I/O值(有機(jī)概念圖的無(wú)機(jī)性/有機(jī)性比)和玻璃化轉(zhuǎn)變溫度的組合,當(dāng)該I/O值和玻璃化轉(zhuǎn)變溫度都在一定的數(shù)值范圍內(nèi)時(shí),分辨率和遮蓋性(strength of the tenting film)優(yōu)良、顯影性也優(yōu)異,還可抑制熔邊(edge fusion)的發(fā)生的特點(diǎn)沒(méi)有任何公開(kāi)。
      因此,目前還沒(méi)有出現(xiàn)由于上述感光層中含有的上述粘合劑的I/O值和玻璃化轉(zhuǎn)變溫度都在一定的數(shù)值范圍內(nèi)而具備優(yōu)良的分辨率和遮蓋性、并且顯影性也優(yōu)異而且可抑制熔邊的發(fā)生的圖形形成材料、以及具有該圖形形成材料的圖形形成裝置和使用上述圖形形成材料的圖形形成方法,還需要進(jìn)一步的研究和開(kāi)發(fā)。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明是鑒于該情況而提出的,并把解決以往的上述各種問(wèn)題,實(shí)現(xiàn)以下目的作為課題。即,本發(fā)明的目的是通過(guò)使感光層中含有的粘合劑的I/O值和玻璃化轉(zhuǎn)變溫度都在一定的數(shù)值范圍內(nèi),提供分辨率和遮蓋性優(yōu)良、顯影性也優(yōu)異而且可抑制熔邊的產(chǎn)生的圖形形成材料、以及具有該圖形形成材料的圖形形成裝置和使用上述圖形形成材料的圖形形成方法。
      作為用于解決上述課題的方法如下。即,&lt;1&gt;一種圖形形成材料,其特征在于在支撐體上至少具有感光層,該感光層含有粘合劑、聚合性化合物和光聚合引發(fā)劑,該粘合劑的I/O值為0.300-0.650,而且玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為80℃以上。在該&lt;1&gt;中記載的圖形形成材料中,由于上述感光層含有上述粘合劑、上述聚合性化合物和上述光聚合引發(fā)劑且該粘合劑的I/O值為0.300-0.650,而且玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為80℃以上,可同時(shí)改善分辨率和遮蓋性,而且,使該分辨率、遮蓋性和顯影性同時(shí)達(dá)到較高的水平,而且還可以抑制上述感光層的熔邊的發(fā)生。
      &lt;2&gt;上述&lt;1&gt;中記載的圖形形成材料,其中粘合劑的I/O值為0.350-0.630。
      &lt;3&gt;上述&lt;1&gt;-&lt;2&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料,其中粘合劑的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為100℃以上。
      &lt;4&gt;上述&lt;1&gt;-&lt;3&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料,其中粘合劑的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為115℃以上。
      &lt;5&gt;上述&lt;1&gt;-&lt;4&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料,其中粘合劑中含有共聚物,該共聚物具有來(lái)自苯乙烯和苯乙烯衍生物中中的至少一種的結(jié)構(gòu)單元。
      &lt;6&gt;上述&lt;1&gt;-&lt;5&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料,粘合劑具有酸性基團(tuán)。
      &lt;7&gt;上述&lt;1&gt;-&lt;6&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料,其中粘合劑中含有乙烯基共聚物。
      &lt;8&gt;上述&lt;1&gt;-&lt;7&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料,其中粘合劑的酸值是100-250(mgKOH/g。
      &lt;9&gt;上述&lt;1&gt;-&lt;8&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料,其中聚合性化合物包含具有尿烷基和芳基中的至少一種的單體。
      &lt;10&gt;上述&lt;1&gt;-&lt;9&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料,其中光聚合引發(fā)劑含有選自鹵化烴衍生物、六芳基二咪唑、肟衍生物、有機(jī)過(guò)氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽和芳環(huán)烯金屬衍生物(metallocene)類中的至少一種。
      &lt;11&gt;上述&lt;1&gt;-&lt;10&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料,其中感光層的厚度為1-100μm。
      &lt;12&gt;上述&lt;1&gt;-&lt;11&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料,其中感光層含有30-90質(zhì)量%粘合劑,5-60質(zhì)量%聚合性化合物,0.1-30質(zhì)量%光聚合引發(fā)劑。&lt;13&gt;上述&lt;1&gt;-&lt;12&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料,其中支撐體中含有合成樹(shù)脂,而且是透明的。
      &lt;14&gt;上述&lt;1&gt;-&lt;13&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料,其中支撐體為長(zhǎng)條狀。
      &lt;15&gt;上述&lt;1&gt;-&lt;14&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料,圖形形成材料為帶狀,而且被卷成滾筒狀。
      &lt;16&gt;上述&lt;1&gt;-&lt;15&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料,其中在圖形形成材料的感光層上具有保護(hù)薄膜。
      &lt;17&gt;一種圖形形成裝置,其特征在于具備上述&lt;1&gt;-&lt;16&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料,并且至少具有可以照射光的光照射機(jī)構(gòu),和調(diào)制來(lái)自該光照射機(jī)構(gòu)的光而對(duì)上述圖形形成材料中的感光層進(jìn)行曝光的光調(diào)制機(jī)構(gòu)。在該&lt;17&gt;中記載的圖形形成裝置中,上述光照射機(jī)構(gòu)向上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)照射光。上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)對(duì)從上述光照射機(jī)構(gòu)接收的光進(jìn)行調(diào)制。由上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)調(diào)制的光對(duì)上述感光層進(jìn)行曝光。例如,之后如果使上述感光層顯影,可形成高精細(xì)的圖形。
      &lt;18&gt;上述&lt;17&gt;中記載的圖形形成裝置,其中光調(diào)制機(jī)構(gòu)還具有根據(jù)形成的圖形信息產(chǎn)生控制信號(hào)的圖形信號(hào)產(chǎn)生機(jī)構(gòu),根據(jù)該圖形信號(hào)產(chǎn)生機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的控制信號(hào)調(diào)制由光照射機(jī)構(gòu)照射的光。在該&lt;18&gt;中記載的圖形形成裝置中,上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)通過(guò)具有上述圖形信號(hào)產(chǎn)生機(jī)構(gòu),可根據(jù)該圖形信號(hào)產(chǎn)生機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的控制信號(hào)調(diào)制由上述光照射機(jī)構(gòu)照射的光。
      &lt;19&gt;上述&lt;17&gt;-&lt;18&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成裝置,其中光調(diào)制機(jī)構(gòu)具有n個(gè)描素部(成像部,imagingpartion),可以根據(jù)形成的圖形信息控制該n個(gè)描素部中連續(xù)設(shè)置的任意不足n個(gè)的上述描素部。在該&lt;19&gt;中記載的圖形形成裝置中,通過(guò)根據(jù)圖形信息控制上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)中的n個(gè)描素部中連續(xù)設(shè)置的任意不足n個(gè)的描素部,可高速調(diào)制來(lái)自上述光照射機(jī)構(gòu)的光。
      &lt;20&gt;上述&lt;17&gt;-&lt;19&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成裝置,其中光調(diào)制機(jī)構(gòu)是空間光調(diào)制元件。
      &lt;21&gt;上述&lt;20&gt;中記載的圖形形成裝置,其中空間光調(diào)制元件是數(shù)字·微型反射鏡·裝置(DMD)。
      &lt;22&gt;上述&lt;19&gt;-&lt;21&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成裝置,其中描素部是微型反射鏡。
      &lt;23&gt;上述&lt;17&gt;-&lt;22&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成裝置,其中光照射機(jī)構(gòu)可以合成二種以上的光后進(jìn)行照射。在該&lt;23&gt;中記載的圖形形成裝置中,上述光照射機(jī)構(gòu)可以合成二種以上的光進(jìn)行照射,由此可用焦深較深的曝光光進(jìn)行曝光。其結(jié)果,可以非常高精細(xì)地進(jìn)行對(duì)上述圖形形成材料的曝光。例如,之后如果使上述感光層顯影,可形成非常高精細(xì)的圖形。
      &lt;24&gt;上述&lt;17&gt;-&lt;23&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成裝置,其中光照射機(jī)構(gòu)具有多個(gè)激光器、多模光纖和將由該多個(gè)激光器分別照射的激光聚光而使其結(jié)合于上述多模光纖的聚光系統(tǒng)。在該&lt;24&gt;中記載的圖形形成裝置中,用上述光照射機(jī)構(gòu)中的聚光系統(tǒng)將由上述多個(gè)激光器分別照射的激光聚光,并可以結(jié)合于上述多模光纖,由此可用焦深較深的曝光光進(jìn)行曝光。其結(jié)果,可以非常高精細(xì)地進(jìn)行對(duì)上述圖形形成材料的曝光。例如,之后如果使上述感光層顯影,可形成非常高精細(xì)的圖形。
      &lt;25&gt;一種圖形形成方法,其特征在于至少包括對(duì)上述&lt;1&gt;-&lt;16&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成材料中的該感光層進(jìn)行曝光的步驟。在該&lt;25&gt;中記載的圖形形成方法中,對(duì)上述圖形形成材料進(jìn)行曝光。例如,之后如果使上述感光層顯影,可形成非常高精細(xì)的圖形。
      &lt;26&gt;上述&lt;25&gt;中記載的圖形形成方法,其中,用具有n個(gè)接收來(lái)自光照射機(jī)構(gòu)的光并射出的描素部的光調(diào)制機(jī)構(gòu),調(diào)制來(lái)自上述光照射機(jī)構(gòu)的光,然后用通過(guò)了微透鏡陣列的光對(duì)感光層進(jìn)行曝光,其中所述微透鏡陣列中排列有具有可以校正由上述描素部中射出面的變形產(chǎn)生的像差的非球面的微透鏡。在該&lt;26&gt;中記載的圖形形成方法中,用具有n個(gè)接收來(lái)自上述光照射機(jī)構(gòu)的光并射出的描素部的上述光調(diào)制機(jī)構(gòu),調(diào)制來(lái)自該光照射機(jī)構(gòu)的光,然后用通過(guò)了所述微透鏡陣列的光對(duì)感光層進(jìn)行曝光,其中所述微透鏡陣列中排列有具有可以校正由上述描素部中射出面的變形產(chǎn)生的像差的非球面的微透鏡,可以校正在上述描素部中由射出面的變形產(chǎn)生的像差,用能夠抑制形成在上述圖形形成材料上的圖形變形的光進(jìn)行曝光。其結(jié)果,由于上述圖形形成材料進(jìn)行高精細(xì)的曝光,之后通過(guò)使上述感光層顯影,可形成高精細(xì)的圖形。
      &lt;27&gt;上述&lt;25&gt;-&lt;26&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成方法,其中在基體上層疊圖形形成材料,進(jìn)行曝光。
      &lt;28&gt;上述&lt;27&gt;中記載的圖形形成方法,其中基體是印刷電路布線形成用基板。
      &lt;29&gt;上述&lt;27&gt;-&lt;28&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成方法,其中一邊對(duì)圖形形成材料進(jìn)行加熱和加壓中的至少一種,一邊層疊在基體上。
      &lt;30&gt;上述&lt;25&gt;-&lt;29&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成方法,其中根據(jù)形成的圖形信息進(jìn)行曝光,以形成圖形。
      &lt;31&gt;上述&lt;25&gt;-&lt;30&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成方法,其中根據(jù)形成的圖形信息產(chǎn)生控制信號(hào),使用按照該控制信號(hào)調(diào)制的光進(jìn)行曝光。在該&lt;31&gt;中記載的圖形形成方法中,根據(jù)形成的圖形信息產(chǎn)生控制信號(hào),并按照該控制信號(hào)調(diào)制光。
      &lt;32&gt;上述&lt;25&gt;-&lt;31&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成方法,其中進(jìn)行曝光時(shí),使用照射光的光照射機(jī)構(gòu)和根據(jù)形成的圖形信息調(diào)制由上述光照射機(jī)構(gòu)照射的光的光調(diào)制機(jī)構(gòu)。
      &lt;33&gt;上述&lt;32&gt;中記載的圖形形成方法,其中用光調(diào)制機(jī)構(gòu)調(diào)制光之后,通過(guò)排列有微透鏡的微透鏡陣列之后進(jìn)行曝光,其中上述微透鏡具有可以校正在上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)中由描素部的射出面的變形產(chǎn)生的像差的非球面。在該&lt;33&gt;中記載的圖形形成方法中,由上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)調(diào)制的光經(jīng)過(guò)上述微透鏡陣列中的上述非球面,由此可校正由上述描素部中的射出面的變形產(chǎn)生的像差。其結(jié)果,抑制了形成在圖形形成材料的圖形的變形,可以對(duì)該圖形形成材料進(jìn)行非常高精細(xì)的曝光。例如,之后如果使上述感光層顯影,可形成非常高精細(xì)的圖形。
      &lt;34&gt;上述&lt;33&gt;中記載的圖形形成方法,其中非球面是復(fù)曲(toric)面。在該&lt;34&gt;中記載的圖形形成方法中,由于上述非球面是復(fù)曲面,可有效地校正由上述描素部中的射出面的變形產(chǎn)生的像差,有效地抑制形成在圖形形成材料上的圖形變形。其結(jié)果,可對(duì)上述圖形形成材料非常高精細(xì)地進(jìn)行曝光。例如,之后如果使上述感光層顯影,可形成非常高精細(xì)的圖形。
      &lt;35&gt;上述&lt;25&gt;-&lt;34&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成方法,其中通過(guò)開(kāi)口陣列(aperture array)后進(jìn)行曝光。在該&lt;35&gt;中記載的圖形形成方法中,通過(guò)上述開(kāi)口陣列后進(jìn)行曝光,由此可改善消光比。其結(jié)果,可非常高精細(xì)地進(jìn)行曝光。例如,之后如果使上述感光層顯影,可形成非常高精細(xì)的圖形。
      &lt;36&gt;上述&lt;25&gt;-&lt;35&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成方法,其中一邊使曝光光和感光層相對(duì)移動(dòng),一邊進(jìn)行曝光。在該&lt;36&gt;中記載的圖形形成方法中,通過(guò)一邊使上述被調(diào)制的光和上述感光層相對(duì)移動(dòng)一邊進(jìn)行曝光,可高速進(jìn)行曝光。例如,之后如果使上述感光層顯影,可形成非常高精細(xì)的圖形。
      &lt;37&gt;上述&lt;25&gt;-&lt;36&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成方法,其中對(duì)感光層的局部區(qū)域進(jìn)行曝光。
      &lt;38&gt;上述&lt;25&gt;-&lt;37&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成方法,其中進(jìn)行曝光后,對(duì)感光層進(jìn)行顯影。在該&lt;38&gt;中記載的圖形形成方法中,進(jìn)行上述曝光后,通過(guò)使上述感光層顯影,可形成非常高精細(xì)的圖形。
      &lt;39&gt;上述&lt;25&gt;-&lt;38&gt;的任何一項(xiàng)中記載的圖形形成方法,其中進(jìn)行顯影后,形成永久圖形。
      &lt;40&gt;上述&lt;39&gt;中記載的圖形形成方法,其中永久圖形是布線圖形,并且該永久圖形的形成通過(guò)蝕刻處理和鍍覆處理中的至少一種進(jìn)行。
      根據(jù)本發(fā)明,可以解決目前存在的問(wèn)題,并且由于感光層中含有的粘合劑的I/O值和玻璃化轉(zhuǎn)變溫度都在一定的數(shù)值范圍內(nèi),可以提供分辨率和遮蓋性優(yōu)良,并且顯影性也優(yōu)異,而且可抑制熔邊的產(chǎn)生的圖形形成材料、以及具有該圖形形成材料的圖形形成裝置和使用上述圖形形成材料的圖形形成方法。


      圖1是表示數(shù)字·微型反射鏡·裝置(DMD)的結(jié)構(gòu)的局部放大圖的一個(gè)例子。
      圖2(A)和(B)是用于說(shuō)明DMD的操作的說(shuō)明圖的一個(gè)例子。
      圖3(A)和(B)是在不傾斜設(shè)置DMD和傾斜設(shè)置DMD的情況下,對(duì)曝光光束的設(shè)置和掃描線進(jìn)行比較后示出的俯視圖的一個(gè)例子。
      圖4(A)和(B)是表示DMD的使用區(qū)域的例子的圖例。
      圖5是用于說(shuō)明在用掃描器的一次掃描中使圖形形成材料曝光的曝光方式的俯視圖的一個(gè)例子。
      圖6(A)和(B)是用于說(shuō)明在用掃描器的多次掃描中使圖形形成材料曝光的曝光方式的俯視圖的一個(gè)例子。
      圖7是表示圖形形成裝置的一個(gè)例子的外觀的立體示意圖的一個(gè)例子。
      圖8是表示圖形形成裝置的掃描器的結(jié)構(gòu)的立體示意圖的一個(gè)例子。
      圖9(A)是表示形成于圖形形成材料的曝光完成區(qū)域的俯視圖的一個(gè)例子,圖9(B)表示由各曝光頭形成的曝光區(qū)的排列圖的一個(gè)例子。
      圖10是表示包含光調(diào)制機(jī)構(gòu)的曝光頭的大致結(jié)構(gòu)的立體圖的一個(gè)例子。
      圖11(A)是表示示于圖10中的曝光頭的結(jié)構(gòu)的沿光軸副掃描方向的截面圖的一個(gè)例子,圖11(B)是(A)的側(cè)視圖的一個(gè)例子。
      圖12是根據(jù)圖形信息進(jìn)行DMD控制的控制器的一個(gè)例子。
      圖13(A)是表示聚光體系中的其它不同的曝光頭的結(jié)構(gòu)的沿光軸截面圖的一個(gè)例子,圖13(B)是表示不使用微透鏡陣列等時(shí)投影于被曝光面的圖形的俯視圖的一個(gè)例子,圖13(C)是表示使用微透鏡陣列等時(shí)投影于被曝光面的圖形的俯視圖的一個(gè)例子。
      圖14是用等高線表示構(gòu)成DMD的微型反射鏡反射面的變形的圖的一個(gè)例子。
      圖15是表示相對(duì)于該反射鏡的兩個(gè)對(duì)角線方向的上述微型反射鏡反射面的變形的曲線的一個(gè)例子。
      圖16是用于圖形形成裝置的微透鏡陣列的主視圖(A)和側(cè)視圖(B)的一個(gè)例子。
      圖17是構(gòu)成微透鏡陣列的微透鏡的主視圖(A)和側(cè)視圖(B)的一個(gè)例子。
      圖18是在一個(gè)截面內(nèi)(A)和另一個(gè)截面內(nèi)(B)表示由微透鏡產(chǎn)生的聚光狀態(tài)的示意圖的一個(gè)例子。
      圖19a是表示模擬了微透鏡聚光位置附近的光束直徑的結(jié)果的圖的一個(gè)例子。
      圖19b是在另一個(gè)位置表示與圖19a相同的模擬結(jié)果的圖的一個(gè)例子。
      圖19c是在另一個(gè)位置表示與圖19a相同的模擬結(jié)果的圖的一個(gè)例子。
      圖19d是在另一個(gè)位置表示與圖19a相同的模擬結(jié)果的圖的一個(gè)例子。
      圖20a是表示在以往的圖形形成方法中,模擬了微透鏡聚光位置附近的光束直徑的結(jié)果的圖的一個(gè)例子。
      圖20b是在另一個(gè)位置表示與圖20a相同的模擬結(jié)果的圖的一個(gè)例子。
      圖20c是在另一個(gè)位置表示與圖20a相同的模擬結(jié)果的圖的一個(gè)例子。
      圖20d是在另一個(gè)位置表示與圖20a相同的模擬結(jié)果的圖的一個(gè)例子。
      圖21是表示復(fù)合波激光光源的其它結(jié)構(gòu)的俯視圖的一個(gè)例子。
      圖22是構(gòu)成微透鏡陣列的微透鏡的主視圖(A)和側(cè)視圖(B)的一個(gè)例子。
      圖23是在一個(gè)截面內(nèi)(A)和另一個(gè)截面內(nèi)(B)表示由圖22的微透鏡產(chǎn)生的聚光狀態(tài)的示意圖的一個(gè)例子。
      圖24是用于說(shuō)明光量分布校正光學(xué)體系的校正概念的圖的一個(gè)例子。
      圖25是表示光照射機(jī)構(gòu)為高斯分布而且不進(jìn)行光量分布校正時(shí)的光量分布的曲線的一個(gè)例子。
      圖26是表示用光量分布校正光學(xué)體系校正后的光量分布的曲線的一個(gè)例子。
      圖27a(A)是表示纖維陣列(fiber array)光源的結(jié)構(gòu)的立體圖,圖27a(B)是(A)的局部放大圖的一個(gè)例子,圖27a(C)和(D)是表示激光射出部分中的發(fā)光點(diǎn)排列的俯視圖的一個(gè)例子。
      圖27b是表示纖維陣列光源的激光射出部分中的發(fā)光點(diǎn)排列的主視圖的一個(gè)例子。
      圖28是表示多模光纖的結(jié)構(gòu)的圖的一個(gè)例子。
      圖29是表示復(fù)合波激光光源的結(jié)構(gòu)的俯視圖的一個(gè)例子。
      圖30是表示激光模塊結(jié)構(gòu)的俯視圖的一個(gè)例子。
      圖31是表示示于圖30中的激光模塊結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖的一個(gè)例子。
      圖32是表示示于圖30中的激光模塊結(jié)構(gòu)的局部側(cè)視圖。
      圖33是表示激光陣列結(jié)構(gòu)的立體圖的一個(gè)例子。
      圖34(A)是表示多模穴(multi cavity)激光器結(jié)構(gòu)的立體圖的一個(gè)例子,圖34(B)是使示于(A)中的多模穴激光器排列為陣列狀的多模穴激光器陣列的立體圖的一個(gè)例子。
      圖35是表示復(fù)合波激光光源的其它結(jié)構(gòu)的俯視圖的一個(gè)例子。
      圖36(A)是表示復(fù)合波激光光源的其它結(jié)構(gòu)的俯視圖的一個(gè)例子,圖36(B)是(A)的沿光軸的截面圖的一個(gè)例子。
      圖37(A)和(B)是表示以往的曝光裝置中的焦深和采用本發(fā)明的圖形形成方法(圖形形成裝置)的焦深的不同點(diǎn)的沿光軸的截面圖的一個(gè)例子。
      圖中,LD1-LD7 GaN系半導(dǎo)體激光器
      10加熱塊11-17 準(zhǔn)直透鏡20聚光透鏡30-31 多模光纖44準(zhǔn)直透鏡夾持器(collimator lens holder)45聚光透鏡夾持器46光纖夾持器50數(shù)字·微型反射鏡·裝置(DMD)52透鏡體系53反射光圖形(曝光光束)54第2成像光學(xué)體系的透鏡55微透鏡陣列56被曝光面(掃描面)55a 微透鏡57第2成像光學(xué)體系的透鏡58第2成像光學(xué)體系的透鏡59開(kāi)口陣列64激光模塊66纖維陣列光源67透鏡體系68激光射出部分69反射鏡70棱鏡71聚光透鏡72棒形積分器73組合透鏡74成像透鏡100 加熱塊110 多模穴激光器111 加熱塊
      113 棒形透鏡120 聚光透鏡130 多模光纖130a 芯部140 激光陣列144 光照射機(jī)構(gòu)150 圖形形成材料152 平臺(tái)155a 微透鏡156 安裝臺(tái)158 導(dǎo)桿160 門162 掃描器164 傳感器166 曝光頭168 曝光區(qū)170 曝光完成區(qū)域180 加熱塊184 準(zhǔn)直透鏡陣列302 控制器304 平臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置454 透鏡體系468 曝光區(qū)472 微透鏡陣列474 微透鏡476 開(kāi)口陣列478 開(kāi)口部480 透鏡體系
      具體實(shí)施例方式
      (圖形形成材料)本發(fā)明的圖形形成材料中,在支撐體上至少具有感光層,也可以具有適當(dāng)選擇的其它的層。
      &lt;感光層&gt;
      上述感光層只要含有粘合劑、聚合性化合物和聚合引發(fā)劑,就沒(méi)有特別限制,也可以包含根據(jù)目的適當(dāng)選擇的其它的層。另外,上述感光層的層疊數(shù)可以是一層,也可以是二層以上。
      —粘合劑—作為上述粘合劑,只要I/O值為0.300-0.650,而且玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為80℃以上,就沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇。
      另外,上述粘合劑含有共聚物,該共聚物優(yōu)選具有來(lái)自苯乙烯和苯乙烯衍生物中的至少一種的結(jié)構(gòu)單元。
      作為上述I/O值的上限,例如,從進(jìn)一步提高分辨率和遮蓋性中的至少一種的觀點(diǎn)來(lái)看,更優(yōu)選0.630,特別優(yōu)選0.600。
      作為上述I/O值的下限,例如,從改善顯影性的觀點(diǎn)來(lái)看,更優(yōu)選0.350,特別優(yōu)選0.400。
      作為調(diào)整上述粘合劑的I/O值的方法,可以通過(guò)適當(dāng)選擇構(gòu)成共聚物的單體種類和使該單體聚合時(shí)的聚合比(含量)中的至少一種,調(diào)整為例如0.300-0.650的范圍。
      上述I/O值是按照有機(jī)概念表示可稱為(無(wú)機(jī)性值)/(有機(jī)性值)的各種有機(jī)化合物的極性的值,是對(duì)各個(gè)官能團(tuán)設(shè)定參數(shù)的官能團(tuán)貢獻(xiàn)法之一。對(duì)于上述I/O值,具體內(nèi)容在有機(jī)概念圖(甲田善生著,三共出版(1984));KUMAMOTO PHARMACEUTIUCAL BULLETIN,第1號(hào),第1-16項(xiàng)(1954年);化學(xué)領(lǐng)域,第11卷,第10號(hào),719-725項(xiàng)(1957年);フレグランスジヤ—ナル,第34號(hào),第97-111項(xiàng)(1979年);フレグランスジヤ—ナル,第50號(hào),第79-82項(xiàng)(1981年);等文獻(xiàn)中進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明。
      上述I/O值的概念中,把化合物的性質(zhì)分為表示共價(jià)鍵性的有機(jī)性基團(tuán)和表示離子鍵性的無(wú)機(jī)性基團(tuán),使所有的有機(jī)化合物分別位于叫做有機(jī)軸和無(wú)機(jī)軸的平行座標(biāo)上的每一個(gè)點(diǎn)上來(lái)表示。
      上述無(wú)機(jī)性值是將有機(jī)化合物所具有的各種取代基和鍵等對(duì)沸點(diǎn)影響力的大小以羥基為基準(zhǔn)數(shù)值化的值。具體地講,如果在碳原子數(shù)5左右時(shí)取直鏈醇的沸點(diǎn)曲線和直鏈?zhǔn)灥姆悬c(diǎn)曲線的距離,約為100℃,所以把1個(gè)羥基的影響力用數(shù)值規(guī)定為100,根據(jù)該數(shù)值,將各種取代基或者各種鍵等對(duì)沸點(diǎn)影響力數(shù)值化,該值就是有機(jī)化合物所具有的取代基的無(wú)機(jī)性值。例如,-COOH基的無(wú)機(jī)性值是150,雙鍵的無(wú)機(jī)性值是2。因此,某種有機(jī)化合物的無(wú)機(jī)性值意味著該化合物所具有的各種取代基和鍵等的無(wú)機(jī)性值的總和。
      上述有機(jī)性值是以分子內(nèi)的亞甲基為單元,把代表該亞甲基的碳原子對(duì)沸點(diǎn)的影響力作為基準(zhǔn)而規(guī)定的值。即,直鏈飽和烴化合物的碳原子數(shù)為5-10時(shí),如果增加一個(gè)碳,則由此帶來(lái)的沸點(diǎn)上升平均值是20℃,因而以此為基準(zhǔn),把一個(gè)碳原子的有機(jī)性值規(guī)定為20,把它作為基礎(chǔ),將各種取代基和鍵等對(duì)沸點(diǎn)的影響力數(shù)值化,該值就是有機(jī)性值。例如,硝基(-NO2)的有機(jī)性值是70。
      上述I/O值越接近于0表明是非極性(疏水性、有機(jī)性較大)的有機(jī)化合物,越大表示是極性(親水性、無(wú)機(jī)性較大)的有機(jī)化合物。
      下面對(duì)上述I/O值的計(jì)算方法的一個(gè)例子進(jìn)行說(shuō)明。
      甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(摩爾比)2/5/3)的I/O值,通過(guò)用以下方法計(jì)算該聚合物的無(wú)機(jī)性值和有機(jī)性值后計(jì)算下式(上述共聚物的無(wú)機(jī)性值)/(上述共聚物的有機(jī)性值)而求出。
      上述共聚物的無(wú)機(jī)性值可通過(guò)求出上述甲基丙烯酸的無(wú)機(jī)性值×上述甲基丙烯酸的摩爾比、上述甲基丙烯酸甲酯的無(wú)機(jī)性值×上述甲基丙烯酸甲酯的摩爾比和上述苯乙烯的無(wú)機(jī)性值×上述苯乙烯的摩爾比的總合來(lái)確定。
      由于上述甲基丙烯酸具有一個(gè)羧基,上述甲基丙烯酸甲酯具有一個(gè)酯基,上述苯乙烯具有一個(gè)芳香環(huán),所以上述甲基丙烯酸的無(wú)機(jī)性值是150(羧基的無(wú)機(jī)性值)×1(羧基的個(gè)數(shù))=150,上述甲基丙烯酸甲酯的無(wú)機(jī)性值是60(酯基的無(wú)機(jī)性值)×1(酯基的個(gè)數(shù))=60,
      上述苯乙烯的無(wú)機(jī)性值是15(芳香環(huán)的無(wú)機(jī)性值)×1(芳香環(huán)的個(gè)數(shù))=15。
      因此,上述共聚物的無(wú)機(jī)性值通過(guò)計(jì)算下式150×2(甲基丙烯酸的摩爾比)+60×5(甲基丙烯酸甲酯的摩爾比)+15×3(苯乙烯的摩爾比)求得,為645。
      上述共聚物的有機(jī)性值可通過(guò)求出上述甲基丙烯酸的有機(jī)性值×上述甲基丙烯酸的摩爾比、上述甲基丙烯酸甲酯的有機(jī)性值×上述甲基丙烯酸甲酯的摩爾比和上述苯乙烯的有機(jī)性值×上述苯乙烯的摩爾比的總合來(lái)確定。
      由于上述甲基丙烯酸具有4個(gè)碳原子,上述甲基丙烯酸甲酯具有5個(gè)碳原子,上述苯乙烯具有8個(gè)碳原子,所以上述甲基丙烯酸的有機(jī)性值是20(碳原子的有機(jī)性值)×4(碳原子數(shù))=80,上述甲基丙烯酸甲酯的有機(jī)性值是20(碳原子的有機(jī)性值)×5(碳原子數(shù))=100,上述苯乙烯的有機(jī)性值是20(碳原子的有機(jī)性值)×8(碳原子數(shù))=160。
      因此,上述共聚物的有機(jī)性值可通過(guò)計(jì)算下式80×2(上述甲基丙烯酸的摩爾比)+100×5(上述甲基丙烯酸甲酯的摩爾比)+160×3(上述苯乙烯的摩爾比)求得,為1140。
      因此,上述共聚物的I/O值可確定為645(上述共聚物的無(wú)機(jī)性值)/1140(上述共聚物的有機(jī)性值)=0.566。
      當(dāng)上述粘合劑是具有玻璃化轉(zhuǎn)變溫度的物質(zhì)時(shí),作為該玻璃化轉(zhuǎn)變溫度,如果是80℃以上,就沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,但是更優(yōu)選100℃以上,特別優(yōu)選115℃以上。
      上述玻璃化轉(zhuǎn)變溫度如果不足80℃,則有時(shí)上述圖形形成材料的粘性會(huì)增加,有時(shí)上述支撐體的剝離性會(huì)變差,另外,將上述圖形形成材料在室溫下保存時(shí)有時(shí)會(huì)產(chǎn)生熔邊。
      作為上述I/O值為0.300-0.650而且上述玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為80℃以上的上述粘合劑,可列舉如甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)23/8/15/54)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/16/35/20)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸乙酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/25/39/11)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸乙酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/25/45/5)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸乙酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/10/45/20)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環(huán)己酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/70/5)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸環(huán)己酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)23/70/7)、甲基丙烯酸/苯乙烯/丙烯酸甲酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/60/15)、甲基丙烯酸/苯乙烯/丙烯酸甲酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/50/25)、甲基丙烯酸/苯乙烯/丙烯酸甲酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/61/10)、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸乙酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)23/60/17)、甲基丙烯酸/苯乙烯/丙烯酸乙酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/61/10)、甲基丙烯酸/苯乙烯/丙烯酸乙酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/70/5)、甲基丙烯酸/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)20/80)、甲基丙烯酸/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)28/72)、甲基丙烯酸/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)32/68)、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/65/10)、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)30/61/9)、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/60/11)、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/47/24)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/22/40/13)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/15/47/9)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/18/50/3)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/15/40/20)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/15/35/25)、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸環(huán)己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)31/64/5)、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸環(huán)己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/15/60)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/27/46/2)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/15/50/6)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/27/36/12)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/13/38/20)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/5/31/35)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/29/46)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)20/53/27)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/19/52)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)30/13/57)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)28/13/59)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)32/8/60)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/31/40)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/41/34)、和甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)20/56/24)等,其中優(yōu)選甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/16/35/20)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸乙酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/25/39/11)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸乙酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/25/45/5)、甲基丙烯酸/苯乙烯/丙烯酸甲酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/60/15)、甲基丙烯酸/苯乙烯/丙烯酸甲酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/61/10)、甲基丙烯酸/苯乙烯/丙烯酸乙酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/61/10)、甲基丙烯酸/苯乙烯/丙烯酸乙酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/70/5)、甲基丙烯酸/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)20/80)、甲基丙烯酸/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)28/72)、甲基丙烯酸/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)32/68)、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/65/10)、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)30/61/9)、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/60/11)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/22/40/13)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/15/47/9)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/18/50/3)、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸環(huán)己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)31/64/5)、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸環(huán)己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/15/60)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/27/46/2)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/15/50/6)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/27/36/12)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/13/38/20)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/29/46)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)20/53/27)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/19/52)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)30/13/57)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)28/13/59)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)32/8/60)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/31/40)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/41/34),特別優(yōu)選甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/16/35/20)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸乙酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/25/45/5)、甲基丙烯酸/苯乙烯/丙烯酸甲酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/61/10)、甲基丙烯酸/苯乙烯/丙烯酸乙酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/70/5)、甲基丙烯酸/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)32/68)、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)30/61/9)、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/60/11)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/15/47/9)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/18/50/3)、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸環(huán)己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)31/64/5)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/27/46/2)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/15/50/6)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/29/46)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)20/53/27)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/19/52)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)30/13/57)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)28/13/59)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)32/8/60)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/31/40)、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/41/34)。
      上述粘合劑只要上述I/O值和上述玻璃化轉(zhuǎn)變溫度在上述數(shù)值范圍,就沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如,也可以具有酸性基團(tuán)。
      作為上述粘合劑的酸值(酸性基團(tuán)的含量)只要上述I/O值是上述數(shù)值范圍,就沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如,優(yōu)選100-250(mgKOH/g),更優(yōu)選120-220(mgKOH/g),特別優(yōu)選150-220(mgKOH/g)。
      上述酸值如果不足100(mgKOH/g),則有時(shí)顯影性不足,或者分辨率差,不能獲得高精細(xì)布線圖案等永久圖案,而如果超過(guò)250(mgKOH/g),則有時(shí)圖形的耐顯影液性和粘合性中的至少一種會(huì)劣化,不能獲得高精細(xì)布線圖案等永久圖案。
      作為上述酸性基團(tuán),沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,可列舉例如羧基、磺酸基、磷酸基等,其中優(yōu)選羧基。
      作為具有羧基的粘合劑,可列舉例如具有羧基的乙烯基共聚物、聚氨酯樹(shù)脂、聚酰胺樹(shù)脂、改性環(huán)氧樹(shù)脂等,其中,從對(duì)涂布溶劑的溶解性、對(duì)堿性顯影液的溶解性、適于合成性、膜物性的容易調(diào)整等觀點(diǎn)來(lái)看,優(yōu)選具有羧基的乙烯基共聚物。
      上述具有羧基的乙烯基共聚物至少可以通過(guò)(1)具有羧基的乙烯基單體、和(2)與這些可以共聚的單體的共聚獲得。
      作為上述具有羧基的乙烯基單體,可列舉例如(甲基)丙烯酸、乙烯基苯甲酸、馬來(lái)酸、馬來(lái)酸一烷基酯、富馬酸、衣康酸、巴豆酸、肉硅酸、丙烯酸二聚物、具有羥基的單體(例如,(甲基)丙烯酸2-羥乙酯等)和環(huán)狀酸酐(例如,馬來(lái)酸酐或酞酸酐、環(huán)己烷二羧酸酐)的加成產(chǎn)物、ω-羧基-聚己內(nèi)酯一(甲基)丙烯酸酯等。其中,從共聚性和成本、溶解性等觀點(diǎn)來(lái)看,特別優(yōu)選(甲基)丙烯酸。
      另外,作為羧基的前體,也可以使用具有馬來(lái)酸酐、衣康酸酐、檸康酸酐等酸酐的單體。
      作為上述其它可以共聚的單體,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,可列舉例如(甲基)丙烯酸酯類、巴豆酸酯類、乙烯基酯類、馬來(lái)酸二酯類、富馬酸二酯類、衣康酸二酯類、(甲基)丙烯酰胺類、乙烯醚類、乙烯醇的酯類、苯乙烯類(例如苯乙烯、苯乙烯衍生物)、(甲基)丙烯腈、乙烯基取代的雜環(huán)基(例如,乙烯基吡啶、乙烯基吡咯烷酮、乙烯基咔唑等)、N-乙烯基甲酰胺、N-乙烯基乙酰胺、N-乙烯基咪唑、乙烯基己內(nèi)酯、2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸、磷酸-(2-丙烯酰氧基乙基酯)、磷酸-(1-甲基-2-丙烯酰氧基乙基酯)、具有官能團(tuán)(例如,尿烷基、脲基、磺酰胺基、酚基、酰亞胺基)的乙烯基單體等。其中,從可以降低上述粘合劑的上述I/O值,形成高精細(xì)布線圖形等永久圖形的觀點(diǎn),以及可以使上述遮蓋性的觀點(diǎn)來(lái)看,優(yōu)選上述苯乙烯和苯乙烯衍生物。
      作為上述(甲基)丙烯酸酯類,可列舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸環(huán)己酯、(甲基)丙烯酸叔丁基環(huán)己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸叔辛酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸乙酰氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、2-(2-甲氧基乙氧基)乙基(甲基)丙烯酸酯、3-苯氧基-2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸芐酯、二甘醇一甲醚(甲基)丙烯酸酯、二甘醇一乙醚(甲基)丙烯酸酯、二甘醇一苯醚(甲基)丙烯酸酯、三甘醇一甲醚(甲基)丙烯酸酯、三甘醇一乙醚(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇一甲醚(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇一乙醚(甲基)丙烯酸酯、β-苯氧基乙氧基乙基丙烯酸酯、壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、二環(huán)戊基(甲基)丙烯酸酯、二環(huán)戊烯基(甲基)丙烯酸酯、二環(huán)戊烯基氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、八氟戊基(甲基)丙烯酸酯、全氟辛基乙基(甲基)丙烯酸酯、三溴苯基(甲基)丙烯酸酯、三溴苯基氧基乙基(甲基)丙烯酸酯等。
      作為上述巴豆酸酯類,可列舉例如巴豆酸丁酯、巴豆酸己酯等。
      作為上述乙烯酯類,可列舉例如醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、乙烯基甲氧基乙酸酯、苯甲酸乙烯酯等。
      作為上述馬來(lái)酸二酯類,可列舉例如馬來(lái)酸二甲酯、馬來(lái)酸二乙酯、馬來(lái)酸二丁酯等。
      作為上述富馬酸二酯類,可列舉例如富馬酸二甲酯、富馬酸二乙酯、富馬酸二丁酯等。
      作為上述衣康酸二酯類,可列舉例如衣康酸二甲酯、衣康酸二乙酯、衣康酸二丁酯等。
      作為上述(甲基)丙烯酰胺類,可列舉例如(甲基)丙烯酰胺、N-甲基(甲基)丙烯酰胺、N-乙基(甲基)丙烯酰胺、N-丙基(甲基)丙烯酰胺、N-異丙基(甲基)丙烯酰胺、N-正丁基(甲基)丙烯酰胺、N-叔丁基(甲基)丙烯酰胺、N-環(huán)己基(甲基)丙烯酰胺、N-(2-甲氧基乙基)(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N-苯基(甲基)丙烯酰胺、N-芐基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酰基嗎啉、二丙酮丙烯酰胺等。
      作為上述苯乙烯類,可列舉例如上述苯乙烯、上述苯乙烯衍生物(例如,甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、異丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、羥基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、丁氧基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、氯苯乙烯、二氯苯乙烯、氯甲基苯乙烯、溴苯乙烯、被可用酸性物質(zhì)脫保護(hù)的基團(tuán)(例如t-Boc等)保護(hù)的羥基苯乙烯、乙烯基苯甲酸甲酯、α-甲基苯乙烯等)等。
      作為上述乙烯醚類,可列舉例如甲基乙烯醚、丁基乙烯醚、己基乙烯醚、甲氧基乙基乙烯醚等。
      作為將尿烷基或者脲基作為上述官能團(tuán)的乙烯基單體的合成方法,可列舉例如異氰酸酯基和羥基或者氨基的加成反應(yīng),具體,可列舉具有異氰酸酯基的單體和具有一個(gè)羥基的化合物或者具有一個(gè)一級(jí)或者二級(jí)氨基的化合物的加成反應(yīng)、具有羥基的單體或者具有一級(jí)或者二級(jí)氨基的單體和一異氰酸酯的加成反應(yīng)。
      作為上述具有異氰酸酯基的單體,可列舉例如用下述結(jié)構(gòu)式(1)-(3)表示的化合物。

      其中,上述結(jié)構(gòu)式(1)-(3)中,R1表示氫原子或者甲基。
      作為上述一異氰酸酯,可列舉例如異氰酸環(huán)己酯、異氰酸正丁酯、異氰酸甲苯酯、異氰酸芐酯、異氰酸苯酯等。
      作為上述具有羥基的單體,可列舉例如用下述結(jié)構(gòu)式(4)-(12)表示的化合物。

      其中,上述結(jié)構(gòu)式(4)-(12)中,R1表示氫原子或者甲基,n、n1和n2表示1以上的整數(shù)。
      作為上述具有一個(gè)羥基的化合物,可列舉例如醇類(例如,甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、仲丁醇、叔丁醇、正己醇、2-乙基己醇、正癸醇、正十二烷醇、正十八烷醇、環(huán)戊醇、環(huán)己醇、芐醇、苯乙醇等)、酚類(例如,苯酚、甲酚、萘酚等)、以及作為含有取代基的化合物的氟代乙醇、三氟乙醇、甲氧基乙醇、苯氧基乙醇、氯苯酚、二氯苯酚、甲氧基苯酚、乙酰氧基苯酚等。
      作為上述具有一級(jí)或者二級(jí)氨基的單體,可列舉例如乙烯基芐胺等。
      作為上述含有一個(gè)一級(jí)或者二級(jí)氨基的化合物,可列舉例如烷基胺(例如,甲胺、乙胺、正丙胺、異丙胺、正丁胺、仲丁胺、叔丁胺、己胺、2-乙基己胺、癸胺、十二烷胺、十八烷胺、二甲胺、二乙胺、二丁胺、二辛胺)、環(huán)狀烷基胺(環(huán)戊胺、環(huán)己胺等)、芳烷基胺(芐胺、苯乙胺等)、芳基胺(苯胺、甲苯胺、二甲苯胺、萘胺等)、以及這些的組合(N-甲基-N-芐胺等)、以及含有取代基的胺(三氟乙胺、六氟異丙胺、甲氧基苯胺、甲氧基丙胺等)等。
      另外,作為上述以外的上述其它可以共聚的單體,可適當(dāng)列舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等。
      上述其它可以共聚的單體可以單獨(dú)使用一種,也可以二種以上組合使用。
      上述乙烯基共聚物可以通過(guò)公知的方法按照常規(guī)方法使各自相應(yīng)的單體共聚而調(diào)制。例如,可以通過(guò)使上述單體溶解于適當(dāng)?shù)娜軇┲泻笙蚱渲屑尤胱杂苫酆弦l(fā)劑而在溶液中使其共聚的方法(溶液聚合法)進(jìn)行調(diào)制。另外,可以通過(guò)在使上述單體分散于水性介質(zhì)中的狀態(tài)下進(jìn)行所謂的乳液聚合等完成調(diào)制。
      作為用于上述溶液聚合法的適當(dāng)?shù)娜軇?,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)使用的單體和產(chǎn)生的共聚物的溶解性等適當(dāng)選擇??闪信e例如甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、1-甲氧基-2-丙醇、丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮、甲氧基丙基乙酸酯、乳酸乙酯、醋酸乙酯、乙腈、四氫呋喃、二甲基甲酰胺、氯仿、甲苯等。這些溶劑既可以單獨(dú)使用一種,也可以二種以上組合使用。
      作為上述自由基聚合引發(fā)劑,沒(méi)有特別的限制,可列舉例如2,2’-偶氮二(異丁腈)(AIBN)、2,2’-偶氮二-(2,4’-二甲基戊腈)等偶氮化合物;過(guò)氧苯甲酰等過(guò)氧化物;過(guò)硫酸鈉、過(guò)硫酸銨等過(guò)硫酸鹽等。
      作為上述乙烯基共聚物中具有羧基的聚合性化合物的含量,只要上述I/O值在上述數(shù)值范圍內(nèi),就沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如,優(yōu)選5-50摩爾%,更優(yōu)選10-40摩爾%,特別優(yōu)選15-35摩爾%。
      上述含量如果不足5摩爾%,則有時(shí)對(duì)堿性水的顯影性不足,而如果超過(guò)50摩爾%,則有時(shí)固化部分(圖象部分)的耐顯影液性不足。
      作為上述具有羧基的粘合劑的分子量,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如,作為重均分子量,優(yōu)選2000-300000,更優(yōu)選4000-150000。
      上述重均分子量如果不足2000,則有時(shí)膜的強(qiáng)度易于變得不足,另外很難穩(wěn)定地制造,而如果超過(guò)300000,則有時(shí)顯影性會(huì)下降。
      上述具有羧基的粘合劑可以單獨(dú)使用一種,也可以二種以上組合使用。作為將二種以上上述粘合劑組合使用的情況,可列舉如由不同共聚成分組成的二種以上的粘合劑、不同重均分子量的二種以上的粘合劑、不同分散度的二種以上的粘合劑等組合。
      上述具有羧基的粘合劑,其羧基的一部分或者全部也可以被堿性物質(zhì)所中和。另外,上述粘合劑也可以進(jìn)一步組合使用聚酯樹(shù)脂、聚酰胺樹(shù)脂、聚氨酯樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、聚乙烯醇、明膠等結(jié)構(gòu)不同的樹(shù)脂。
      另外,也可以組合使用記載于特許2873889號(hào)等的可溶于堿性溶液中的樹(shù)脂等。當(dāng)組合使用這些樹(shù)脂時(shí),上述粘合劑相對(duì)于上述感光層中含有的粘合劑總量的含量可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如,優(yōu)選50質(zhì)量%以上,更優(yōu)選70質(zhì)量%以上,特別優(yōu)選90質(zhì)量%以上。
      作為上述感光層中的上述粘合劑的含量,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如,優(yōu)選10-90質(zhì)量%以上,更優(yōu)選20-80質(zhì)量%以上,特別優(yōu)選40-80質(zhì)量%以上。
      上述含量如果不足10質(zhì)量%,則有時(shí)堿性顯影性或與印刷電路布線板形成用基板(例如,鍍銅膜層疊板)的粘合性會(huì)下降,而如果超過(guò)90質(zhì)量%,則有時(shí)對(duì)于顯影時(shí)間的穩(wěn)定性和固化膜(遮蓋膜)的強(qiáng)度會(huì)下降。還有,上述含量也可以是上述粘合劑和根據(jù)需要組合使用的高分子結(jié)合劑的總含量。
      —聚合性化合物—作為上述聚合性化合物,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,可適當(dāng)列舉例如具有尿烷基和芳基中的至少一種的單體或者低聚物。另外,這些優(yōu)選具有二種以上聚合性基團(tuán)。
      作為上述聚合性基團(tuán),可列舉例如乙烯性不飽和鍵(例如,(甲基)丙烯?;?、(甲基)丙烯酰胺基、苯乙烯基、乙烯酯或乙烯醚等乙烯基、烯丙基醚或烯丙基酯等烯丙基等)、可以聚合的環(huán)狀醚基(例如,環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁烷基等)等,其中優(yōu)選乙烯性不飽和鍵。
      ——具有尿烷基的單體——作為上述具有尿烷基的單體,只要具有尿烷基,就沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,但是可適當(dāng)列舉例如在特公昭48-41708、特開(kāi)昭51-37193、特公平5-50737、特公平7-7208、特開(kāi)2001-154346、特開(kāi)2001-356476號(hào)公報(bào)等中記載的化合物等,例如,可舉出在分子中具有二個(gè)以上異氰酸酯基的聚異氰酸酯化合物和在分子中具有羥基的乙烯基單體的加成物等。
      作為上述在分子中具有二個(gè)以上異氰酸酯基的聚異氰酸酯化合物,可列舉例如六亞甲基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、苯撐二異氰酸酯、降冰片烯二異氰酸酯、二苯基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、3,3’-二甲基-4,4’-二苯基二異氰酸酯等二異氰酸酯;該二異氰酸酯與兩官能醇的加聚物(此時(shí)兩末端也是異氰酸酯基);該二異氰酸酯的縮二脲體或三聚異氰酸酯等三聚物;該二異氰酸酯或者二異氰酸酯類與三羥甲基丙烷、季戊四醇、甘油等多官能醇、或者這些的環(huán)氧乙烷加成物等其它官能醇的加成物等。
      作為上述在分子中具有羥基的乙烯基單體,可列舉例如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、二甘醇一(甲基)丙烯酸酯、三甘醇一(甲基)丙烯酸酯、四甘醇一(甲基)丙烯酸酯、八甘醇一(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇一(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇一(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇一(甲基)丙烯酸酯、四丙二醇一(甲基)丙烯酸酯、八丙二醇一(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇一(甲基)丙烯酸酯、二丁二醇一(甲基)丙烯酸酯、三丁二醇一(甲基)丙烯酸酯、四丁二醇一(甲基)丙烯酸酯、八丁二醇一(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇一(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等。還可列舉環(huán)氧乙烷和環(huán)氧丙烷的共聚物(無(wú)規(guī)、嵌段等)等具有不同的環(huán)氧烷部分的二醇體的一個(gè)末端(甲基)丙烯酸酯體等。
      另外,作為上述具有尿烷基的單體,可列舉三((甲基)丙烯酰氧基乙基)三聚異氰酸酯、二(甲基)丙烯化三聚異氰酸酯、環(huán)氧乙烷改性三聚異氰酸的三(甲基)丙烯酸酯等具有三聚異氰酸酯環(huán)的化合物。其中,優(yōu)選用下述結(jié)構(gòu)式(13)、或者結(jié)構(gòu)式(14)表示的化合物,從遮蓋性的觀點(diǎn)來(lái)看,特別優(yōu)選至少含有上述用結(jié)構(gòu)式(14)表示的化合物。另外,這些化合物可以單獨(dú)使用一種,也可以二種以上組合使用。
      上述結(jié)構(gòu)式(13)和(14)中,R1-R3分別表示氫原子或者甲基。X1-X3表示環(huán)氧烷基,可以單獨(dú)使用一種,也可以二種以上組合使用。
      作為上述環(huán)氧烷基,可適當(dāng)列舉例如環(huán)氧乙烷基、環(huán)氧丙烷基、環(huán)氧丁烷基、環(huán)氧戊烷基、環(huán)氧己烷基、使這些組合的基團(tuán)(可以是無(wú)規(guī)、嵌段中的任何一種組合)等,其中,優(yōu)選環(huán)氧乙烷基、環(huán)氧丙烷基、環(huán)氧丁烷基、或者組合這些的基團(tuán),更加優(yōu)選環(huán)氧乙烷基、環(huán)氧丙烷基。
      上述結(jié)構(gòu)式(13)和(14)中,m1-m3表示1-60的整數(shù),優(yōu)選2-30,更優(yōu)選4-15。
      上述結(jié)構(gòu)式(13)和(14)中,Y1-Y2表示碳原子數(shù)2-30的二價(jià)有機(jī)基團(tuán),可適當(dāng)列舉例如亞烷基、亞芳基、亞烯基、亞炔基、羰基(-CO-)、氧原子(-O-)、硫原子(-S-)、亞氨基(-NH-)、亞氨基的氫原子被一價(jià)烴基取代的取代亞氨基、磺?;?-SO2-)或者組合這些的基團(tuán)等,其中,優(yōu)選亞烷基、亞芳基、或者組合這些的基團(tuán)。
      上述亞烷基也可以具有支鏈結(jié)構(gòu)或者環(huán)狀結(jié)構(gòu),可適當(dāng)列舉例如亞甲基、亞乙基、亞丙基、異亞丙基、亞丁基、異亞丁基、亞戊基、亞新戊基、亞己基、三甲基亞己基、環(huán)亞己基、亞庚基、亞辛基、2-乙基亞己基、亞壬基、亞癸基、亞十二烷基、亞十八烷基或者下述所示的任何基團(tuán)等。
      作為上述亞芳基,也可以用烴基取代和基團(tuán),可適當(dāng)列舉例如亞苯基、苯亞甲基、二亞苯基、亞萘基或者下述所示的基團(tuán)等。
      作為上述組合這些的基團(tuán),可列舉例如苯二甲基等。
      作為上述亞烷基、亞芳基、或者組合這些的基團(tuán),也可以另外具有取代基,作為該取代基,可列舉例如鹵原子(例如,氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、芳基、烷氧基(例如,甲氧基、乙氧基、2-乙氧基乙氧基)、芳氧基(例如,苯氧基)、酰基(例如,乙酰基、丙酰基)、酰氧基(例如,乙酰氧基、丁酰氧基)、烷氧基羰基(例如,甲氧基羰基、乙氧基羰基)、芳氧基羰基(例如,苯氧基羰基)等。
      上述結(jié)構(gòu)式(13)和(14)中,n表示3-6的整數(shù),從用于合成聚合性單體的原料供給性等觀點(diǎn)來(lái)看,優(yōu)選3、4或者6。
      上述結(jié)構(gòu)式(13)和(14)中,Z表示n價(jià)(3價(jià)-6價(jià))的連接基團(tuán),可列舉例如下述所示的任何基團(tuán)等。
      其中,X4表示環(huán)氧烷。m4表示1-20的整數(shù)。n表示3-6的整數(shù)。A表示n價(jià)(3價(jià)-6價(jià))的有機(jī)基團(tuán)。
      作為上述A,例如優(yōu)選n價(jià)的脂肪族基、n價(jià)的芳香族基、或者將這些與亞烷基、亞芳基、亞烯基、亞炔基、羰基、氧原子、硫原子、亞氨基、亞氨基的氫原子被一價(jià)烴基取代的取代亞氨基或者磺?;M合的基團(tuán),更優(yōu)選n價(jià)的脂肪族基、n價(jià)的芳香族基、或者將這些與亞烷基、亞芳基、氧原子組合的基團(tuán),特別優(yōu)選n價(jià)的脂肪族基、將n價(jià)的脂肪族基與亞烷基、氧原子組合的基團(tuán)。
      作為上述A的碳原子數(shù),例如優(yōu)選1-100的整數(shù),更優(yōu)選1-50的整數(shù),特別優(yōu)選3-30的整數(shù)。
      上述n價(jià)的脂肪族基,也可以具有支鏈結(jié)構(gòu)或者環(huán)狀結(jié)構(gòu)。
      作為上述脂肪族基的碳原子數(shù),例如優(yōu)選1-30的整數(shù),更優(yōu)選1-20的整數(shù),特別優(yōu)選3-10的整數(shù)。
      作為上述芳香族基的碳原子數(shù),例如優(yōu)選6-100的整數(shù),更優(yōu)選6-50的整數(shù),特別優(yōu)選6-30的整數(shù)。
      上述n價(jià)的脂肪族基、或者芳香族基也可以進(jìn)一步具有取代基,作為該取代基,可列舉例如羥基、鹵原子(例如,氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、芳基、烷氧基(例如,甲氧基、乙氧基、2-乙氧基乙氧基)、芳氧基(例如,苯氧基)、?;?例如,乙?;⒈;?、酰氧基(例如,乙酰氧基、丁酰氧基)、烷氧基羰基(例如,甲氧基羰基、乙氧基羰基)、芳氧基羰基(例如,苯氧基羰基)等。
      上述亞烷基,也可以具有支鏈結(jié)構(gòu)或者環(huán)狀結(jié)構(gòu)。
      作為上述亞烷基的碳原子數(shù),例如優(yōu)選1-18的整數(shù),更優(yōu)選1-10的整數(shù)。
      上述亞芳基也可以再用烴基取代。
      作為上述亞芳基的碳原子數(shù),優(yōu)選6-18的整數(shù),更優(yōu)選6-10的整數(shù)。
      作為上述取代亞氨基的1價(jià)烴基的碳原子數(shù),優(yōu)選1-18的整數(shù),更優(yōu)選1-10的整數(shù)。
      上述A的優(yōu)選的例子如下。
      作為上述用結(jié)構(gòu)式(13)和(14)表示的化合物,可列舉例如用下述結(jié)構(gòu)式(15)-(37)表示的化合物等。
      化21
      化22
      化23
      化24
      化25
      化26

      化27
      化28
      化29
      化30
      化31

      化32
      化33
      化34
      化35

      化36
      化37
      化38
      化39

      其中上述結(jié)構(gòu)式(15)-(37)中,n、n1、n2和m意味著1-60,1意味著1-20,R表示氫原子或者甲基。
      ——具有芳基的單體——作為上述具有芳基的單體,只要具有芳基,就沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,但是可列舉例如具有芳基的多元醇化合物、多元胺化合物和多元氨基醇化合物中的至少一種和不飽和羧酸的酯或者酰胺等。
      作為上述具有芳基的多元醇化合物、多元胺化合物和多元氨基醇化合物,可列舉例如聚苯乙烯氧化物、苯二甲基二醇、二-(β-羥基乙氧基)苯、1,5-二羥基-1,2,3,4-四氫化萘、2,2-二苯基-1,3-丙二醇、羥基芐醇、羥乙基間苯二酚、1-苯基-1,2-乙二醇、2,3,5,6-四甲基-對(duì)-二甲苯-α,α’-二醇、1,1,4,4-四苯基-1,4-丁二醇、1,1,4,4-2-丁炔-1,4-二醇、1,1’-聯(lián)-2-萘酚、二羥基萘、1,1’-亞甲基-二-2-萘酚、1,2,4-苯三醇、聯(lián)苯酚、2,2’-雙(4-羥基苯基)丁烷、1,1-雙(4-羥基苯基)環(huán)己烷、雙(羥基苯基)甲烷、鄰苯二酚、4-氯間苯二酚、氫醌、羥基芐醇、甲基氫醌、亞甲基-2,4,6-三羥基苯甲酸酯、氟代間苯二酚、連苯三酚、間苯二酚、α-(1-氨基乙基)-對(duì)-羥基芐醇、α-(1-氨基乙基)-對(duì)-烷基芐醇、3-氨基-4-羥基苯基砜等。另外,除此之外還可列舉苯二甲基雙(甲基)丙烯酰胺、使α,β-不飽和羧酸與酚醛清漆型環(huán)氧樹(shù)脂或雙酚A二縮水甘油醚等縮水甘油基化合物加成得到的化合物、由酞酸或偏苯三酸等在分子中具有羥基的乙烯單體得到的酯化物、酞酸二烯丙酯、偏苯三酸三烯丙酯、苯二磺酸二烯丙酯、作為聚合性單體的陽(yáng)離子聚合性的二乙烯醚類(例如,雙酚A二乙烯醚)、環(huán)氧化合物(例如,酚醛清漆型環(huán)氧樹(shù)脂、雙酚A二縮水甘油醚等)、乙烯酯類(例如,鄰苯二甲酸二乙烯酯、對(duì)苯二甲酸二乙烯酯、二乙烯苯-1,3-二磺酸酯等)、苯乙烯化合物(例如,二乙烯苯、對(duì)烯丙基苯乙烯、對(duì)異丙烯苯乙烯等)。其中優(yōu)選用下述結(jié)構(gòu)式(38)表示的化合物。
      上述結(jié)構(gòu)式(38)中,R4、R5表示氫原子或者烷基。
      上述結(jié)構(gòu)式(38)中,X5和X6表示環(huán)氧烷基,可以單獨(dú)使用一種,也可以二種以上組合使用。作為該環(huán)氧烷基,可適當(dāng)列舉例如環(huán)氧乙烷基、環(huán)氧丙烷基、環(huán)氧丁烷基、環(huán)氧戊烷基、環(huán)氧己烷基、使這些組合的基團(tuán)(也可以用無(wú)規(guī)、嵌段中的任何一種組合)等,其中,優(yōu)選環(huán)氧乙烷基、環(huán)氧丙烷基、環(huán)氧丁烷基、或者這些的組合基團(tuán),更加優(yōu)選環(huán)氧乙烷基、環(huán)氧丙烷基。
      上述結(jié)構(gòu)式(38)中,m5、m6優(yōu)選1-60的整數(shù),更優(yōu)選2-30,特別優(yōu)選4-15。
      上述結(jié)構(gòu)式(38)中,T表示二價(jià)的連接基團(tuán),可列舉例如亞甲基、亞乙基、MeCMe、CF3CCF3、CO、SO2等。
      上述結(jié)構(gòu)式(38)中,Ar1、Ar2表示可以具有取代基的芳基,可列舉例如苯撐、萘撐等。作為上述取代基,可列舉例如烷基、芳基、芳烷基、鹵素基、烷氧基、或者這些的組合等。
      作為上述具有芳基的單體的具體例子,可列舉例如2,2-雙[4-(3-(甲基)丙烯酰氧基-2-羥基丙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-((甲基)丙烯酰氧基乙氧基)苯基]丙烷、被一個(gè)酚性O(shè)H基取代的乙氧基數(shù)為2-20的2,2-雙[4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基]丙烷(例如,2,2-雙[4-((甲基)丙烯酰氧基二乙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-((甲基)丙烯酰氧基四乙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-((甲基)丙烯酰氧基五乙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-((甲基)丙烯酰氧基十乙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-((甲基)丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基]丙烷等)、2,2-雙[4-((甲基)丙烯酰氧基丙氧基)苯基]丙烷、被一個(gè)酚性O(shè)H基取代的乙氧基數(shù)為2-20的2,2-雙[4-((甲基)丙烯酰氧基聚丙氧基)苯基]丙烷(例如,2,2-雙[4-((甲基)丙烯酰氧基二丙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-((甲基)丙烯酰氧基四丙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-((甲基)丙烯酰氧基五丙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-((甲基)丙烯酰氧基十丙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-((甲基)丙烯酰氧基十五丙氧基)苯基]丙烷等)、或者作為這些化合物的聚醚部位在同一分子中含有聚環(huán)氧乙烷骨架和聚環(huán)氧丙烷骨架二者的化合物(例如,在WO01/98832號(hào)公報(bào)中記載的化合物等,或者作為市售品有新中村化學(xué)工業(yè)社制的BPE-200、BPE-500、BPE-1000)、具有雙酚骨架和尿烷基的聚合性化合物等。還有,這些也可以是將來(lái)自雙酚A骨架的部分變?yōu)殡p酚F或者雙酚S等的化合物。
      作為上述具有雙酚骨架和尿烷基的聚合性化合物,可列舉例如雙酚和環(huán)氧乙烷或者環(huán)氧丙烷等的加成物、作為加聚物得到的在末端具有羥基的化合物中具有異氰酸酯基和聚合性基團(tuán)的化合物(例如,2-異氰酸乙酯(甲基)丙烯酸酯、α,α-二甲基-乙烯基芐基異氰酸酯等)等。
      ——其它聚合性單體——本發(fā)明的圖形形成材料中也可以使用除上述具有尿烷基的單體和上述具有芳基的單體以外的聚合性單體。
      作為除了上述具有尿烷基的單體和上述具有芳香環(huán)的單體以外的聚合性單體,可列舉例如不飽和羧酸(例如,丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丁烯酸、異丁烯酸、馬來(lái)酸等)和脂肪族多元醇化合物的酯、不飽和羧酸和多元胺化合物的酰胺等。
      作為上述不飽和羧酸和脂肪族多元醇化合物的酯的單體,例如,作為(甲基)丙烯酸酯,可列舉乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、亞乙基的數(shù)為2-1 8的聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯(例如,二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、壬甘醇二(甲基)丙烯酸酯、十二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、十四甘醇二(甲基)丙烯酸酯等)、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、亞丙基的數(shù)為2-18的聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯(例如,二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、十二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等)、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧乙烷改性新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧丙烷改性新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三((甲基)丙烯酰氧基丙基)醚、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、1,3-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、四亞甲基二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-環(huán)己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,2,4-丁三醇三(甲基)丙烯酸酯、1,5-戊二醇(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇三(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇四(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇五(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇六(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基二環(huán)戊烷二(甲基)丙烯酸酯、三環(huán)癸烷二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改性三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、至少分別具有一個(gè)乙二醇鏈/丙二醇鏈的烷撐二醇鏈的二(甲基)丙烯酸酯(例如,在WO01/98832號(hào)公報(bào)中記載的化合物等)、加成了環(huán)氧乙烷和環(huán)氧丙烷中的至少一個(gè)的三羥甲基丙烷的三(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙三醇二(甲基)丙烯酸酯、丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、二甲苯酚二(甲基)丙烯酸酯等。
      在上述(甲基)丙烯酸酯類中,從其易于獲得等觀點(diǎn)來(lái)看,優(yōu)選乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、至少分別具有一個(gè)乙二醇鏈/丙二醇鏈的烷撐二醇鏈的二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、二丙三醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,2,4-丁三醇三(甲基)丙烯酸酯、1,4-環(huán)己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,5-戊二醇(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、加成了環(huán)氧乙烷的三羥甲基丙烷的三(甲基)丙烯酸酯等。
      作為上述衣康酸和上述脂肪族多元醇化合物的酯(衣康酸酯),可列舉例如乙二醇二衣康酸酯、丙二醇二衣康酸酯、1,3-丁二醇二衣康酸酯、1,4-丁二醇二衣康酸酯、四亞甲基二醇二衣康酸酯、季戊四醇二衣康酸酯和山梨糖醇四衣康酸酯等。
      作為上述丁烯酸和上述脂肪族多元醇化合物的酯(丁烯酸酯),可列舉例如乙二醇二丁烯酸酯、四亞甲基二醇二丁烯酸酯、季戊四醇二丁烯酸酯、山梨糖醇四丁烯酸酯等。
      作為上述異丁烯酸和上述脂肪族多元醇化合物的酯(異丁烯酸酯),可列舉例如乙二醇二異丁烯酸酯、季戊四醇二異丁烯酸酯、山梨糖醇四異丁烯酸酯等。
      作為上述馬來(lái)酸和上述脂肪族多元醇化合物的酯(馬來(lái)酸酯),可列舉例如乙二醇二馬來(lái)酸酯、三甘醇二馬來(lái)酸酯、季戊四醇二馬來(lái)酸酯、山梨糖醇四馬來(lái)酸酯等。
      作為由上述多元胺化合物和上述不飽和羧酸類衍生出的酰胺,可列舉例如亞甲基雙(甲基)丙烯酰胺、亞乙基雙(甲基)丙烯酰胺、1,6-六亞甲基雙(甲基)丙烯酰胺、八亞甲基雙(甲基)丙烯酰胺、二乙撐三胺三(甲基)丙烯酰胺、二乙撐三胺雙(甲基)丙烯酰胺等。
      另外,除了上述以外,作為上述聚合性單體,還可列舉例如使α,β-不飽和羧酸與丁二醇-1,4-二縮水甘油醚、環(huán)己二甲醇縮水甘油醚、乙二醇二縮水甘油醚、二甘醇二縮水甘油醚、二丙二醇二縮水甘油醚、己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、季戊四醇四縮水甘油醚、丙三醇三縮水甘油醚等含有縮水甘油醚基的化合物加成而得到的化合物;如在特開(kāi)昭48-64183號(hào)、特公昭49-43191號(hào)、特公昭52-30490號(hào)各公報(bào)中記載的聚酯丙烯酸酯或聚酯甲基丙烯酸酯低聚物類;使環(huán)氧化合物(例如,丁二醇-1,4-二縮水甘油醚、環(huán)己二甲醇縮水甘油醚、二甘醇二縮水甘油醚、二丙二醇二縮水甘油醚、己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、季戊四醇四縮水甘油醚、丙三醇三縮水甘油醚等)和(甲基)丙烯酸反應(yīng)得到的環(huán)氧丙烯酸酯類等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯;在日本接著協(xié)會(huì)志vol.20、No.7、300-308頁(yè)(1984年)中記載的光固化性單體和低聚物;烯丙酯(例如,酞酸二烯丙酯、己二酸二烯丙酯、丙二酸二烯丙酯、二烯丙基酰胺(例如,二烯丙基乙酰胺等)、陽(yáng)離子聚合性的二乙烯醚類(例如,丁二醇-1,4-二乙烯醚、環(huán)己二甲醇二乙烯醚、乙二醇二乙烯醚、二甘醇二乙烯醚、二丙二醇二乙烯醚、己二醇二乙烯醚、三羥甲基丙烷三乙烯醚、季戊四醇四乙烯醚、丙三醇三乙烯醚等)、環(huán)氧化合物(例如,丁二醇-1,4-二縮水甘油醚、環(huán)己二甲醇縮水甘油醚、乙二醇二縮水甘油醚、二甘醇二縮水甘油醚、二丙二醇二縮水甘油醚、己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、季戊四醇四縮水甘油醚、丙三醇三縮水甘油醚等)、氧雜環(huán)丁烷類(例如,1,4-雙[(3-乙基-3-氧雜環(huán)丁烷基甲氧基)甲基]苯等)、環(huán)氧化合物、氧雜環(huán)丁烷類(例如,在WO01/22165號(hào)公報(bào)中記載的化合物)、N-β-羥基乙基-β-(甲基丙烯酰胺)乙基丙烯酸酯、N,N-雙(β-甲基丙烯酰氧基乙基)丙烯酰胺、甲基丙烯酸烯丙酯等具有二個(gè)以上不同的乙烯性不飽和雙鍵的化合物等。
      作為上述乙烯酯類,可列舉例如琥珀酸二乙烯酯、己二酸二乙烯酯等。
      這些多官能單體或者低聚物可以單獨(dú)使用一種,也可以二種以上組合使用。
      上述聚合性單體也可以根據(jù)需要組合使用在分子內(nèi)含有一個(gè)聚合性基團(tuán)的聚合性化合物(單官能單體)。
      作為上述多官能單體,可列舉例如作為上述粘合劑原料所列舉的化合物、在特開(kāi)平6-236031號(hào)公報(bào)中記載的二元的單((甲基)丙烯酰氧基烷基酯)-(鹵代羥基烷基酯)等單官能單體(例如,γ-氯-β-羥基丙基-β’-甲基丙烯酰氧基乙基-o-酞酸酯等)、在特許2744643號(hào)公報(bào)、WO00/52529號(hào)公報(bào)、特許2548016號(hào)公報(bào)等中記載的化合物。
      作為上述感光層中的聚合性化合物的含量,例如,優(yōu)選5-90質(zhì)量%,更優(yōu)選15-60質(zhì)量%,特別優(yōu)選20-50質(zhì)量%。
      上述含量如果是5質(zhì)量%,則有時(shí)遮蓋膜的強(qiáng)度下降,而如果超過(guò)90質(zhì)量%,則有時(shí)保存時(shí)的熔邊(由滾筒端部開(kāi)始的熔化故障)惡化。
      另外,作為在聚合性化合物中上述具有二個(gè)以上聚合性基團(tuán)的多官能單體的含量,優(yōu)選5-100質(zhì)量%,更優(yōu)選20-100質(zhì)量%,特別優(yōu)選40-100質(zhì)量%。
      ——光聚合引發(fā)劑——作為上述光聚合引發(fā)劑,只要具有能引發(fā)上述聚合性化合物的聚合的能力,就沒(méi)有特別限制,可以適當(dāng)選自公知的光聚合引發(fā)劑,例如優(yōu)選對(duì)紫外線區(qū)域至可見(jiàn)光線具有感光性的物質(zhì),可以是與被光激發(fā)的增感劑發(fā)生某些作用并產(chǎn)生活性自由基的活性劑,也可以是根據(jù)單體種類引發(fā)陽(yáng)離子聚合的引發(fā)劑。
      另外,上述光聚合引發(fā)劑優(yōu)選至少含有一種在約300-800nm(更優(yōu)選330-500nm)的范圍內(nèi)至少具有約50的分子吸光系數(shù)的成分。
      作為上述光聚合引發(fā)劑,可列舉例如鹵化烴衍生物(例如,具有三嗪骨架的物質(zhì)、具有噁二唑骨架的物質(zhì)等)、六芳基聯(lián)二咪唑、肟衍生物、有機(jī)過(guò)氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽、芳環(huán)烯金屬衍生物類等。其中,從感光層的感光度、保存性、和感光層與印刷電路基板形成用基板的粘合性等觀點(diǎn)來(lái)看,優(yōu)選具有三嗪骨架的鹵化烴、肟衍生物、酮化合物、六芳基聯(lián)二咪唑系化合物。
      作為上述六芳基聯(lián)二咪唑,可列舉例如2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基聯(lián)二咪唑、2,2’-雙(鄰-氟苯基)-4,4’,5,5’-四苯基聯(lián)二咪唑、2,2’-雙(2-溴苯基)-4,4’,5,5’-四苯基聯(lián)二咪唑、2,2’-雙(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基聯(lián)二咪唑、2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(3-甲氧基苯基)聯(lián)二咪唑、2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(4-甲氧基苯基)聯(lián)二咪唑、2,2’-雙(4-甲氧基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基聯(lián)二咪唑、2,2’-雙(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基聯(lián)二咪唑、2,2’-雙(2-硝基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基聯(lián)二咪唑、2,2’-雙(2-甲基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基聯(lián)二咪唑、2,2’-雙(2-三氟甲基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基聯(lián)二咪唑、在WO00/52529號(hào)公報(bào)中記載的化合物等。
      上述聯(lián)二咪唑類,可以容易地用例如公開(kāi)于Bull.Chem.Soc.Japan,33,565(1960),和J.Org.Chem,36(16)2262(1971)中的方法合成。
      作為具有三嗪骨架的鹵化烴化合物,可列舉例如若林等著的Bull.Chem.Soc.Japan,42,2924(1969)記載的化合物;英國(guó)專利1388492號(hào)說(shuō)明書記載的化合物;特開(kāi)昭53-133428號(hào)公報(bào)記載的化合物;德國(guó)專利3337024號(hào)說(shuō)明書記載的化合物;根據(jù)F.C.Schaefer等的J.Org.Chem.;29,1527(1964)記載的化合物;特開(kāi)昭62-58241號(hào)公報(bào)記載的化合物;特開(kāi)平5-281728號(hào)公報(bào)記載的化合物;特開(kāi)平5-34920號(hào)公報(bào)記載的化合物;美國(guó)專利第4212976號(hào)說(shuō)明書中記載的化合物等。
      作為上述若林等著的Bull.Chem.Soc.Japan,42,2924(1969)記載的化合物,可列舉例如2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-氯苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(2,4-二氯苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2,4,6-三(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-甲基-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-正壬基-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪和2-(α,α,β-三氯乙基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪等。
      作為上述英國(guó)專利1388492號(hào)說(shuō)明書記載的化合物,可列舉例如2-苯乙烯基-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-甲基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-甲氧基苯乙烯基)-4-氨基-6-三氯甲基-1,3,5-三嗪等。
      作為上述特開(kāi)昭53-133428號(hào)公報(bào)記載的化合物,可列舉例如2-(4-甲氧基-萘并-1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-乙氧基-萘并-1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘并-1-基]-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4,7-二甲氧基-萘并-1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪和2-(苊并-5-基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪等。
      作為上述德國(guó)專利3337024號(hào)說(shuō)明書記載的化合物,可列舉例如2-(4-苯乙烯基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-(4-甲氧基苯乙烯基)苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(1-萘基乙烯撐苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-氯苯乙烯基苯基-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-噻吩-2-乙烯撐苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-噻吩-3-乙烯撐苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-呋喃-2-乙烯撐苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪和2-(4-苯并呋喃-2-乙烯撐苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪等。
      作為上述根據(jù)F.C.Schaefer等的J.Org.Chem.;29,1527(1964)記載的化合物,可列舉例如2-甲基-4,6-雙(三溴甲基)-1,3,5-三嗪、2,4,6-三(三溴甲基)-1,3,5-三嗪、2,4,6-三(二溴甲基)-1,3,5-三嗪、2-氨基-4-甲基-6-三(溴甲基)-1,3,5-三嗪和2-甲氧基-4-甲基-6-三氯甲基-1,3,5-三嗪等。
      作為上述特開(kāi)昭62-58241號(hào)公報(bào)記載化合物,可列舉例如2-(4-苯基乙炔基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-萘基-1-乙炔基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-(4-甲苯基乙炔基)苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-(4-甲氧基苯基)乙炔基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-(4-異丙基苯基乙炔基)苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-(4-乙基苯基乙炔基)苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪等。
      作為上述特開(kāi)平5-281728號(hào)公報(bào)記載的化合物,可列舉例如2-(4-三氟甲基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(2,6-二氟苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(2,6-二氯苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(2,6-二溴苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪等。
      作為上述特開(kāi)平5-34920號(hào)公報(bào)記載的化合物,可列舉例如2,4-雙(三氯甲基)-6-[4-(N,N-二乙氧基羰基甲基氨基)-3-溴苯基]-1,3,5-三嗪、在美國(guó)專利第4239850號(hào)說(shuō)明書中記載的三鹵代甲基-s-三嗪化合物、以及2,4,6-三(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-氯苯基)-4,6-雙(三溴甲基)-s-三嗪等。
      作為上述在美國(guó)專利第4212976號(hào)說(shuō)明書中記載的化合物,可列舉例如具有噁二唑骨架的化合物(例如,2-三氯甲基-5-苯基-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-氯苯基)-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(1-萘基)-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(2-萘基)-1,3,4-噁二唑、2-三溴甲基-5-苯基-1,3,4-噁二唑、2-三溴甲基-5-(2-萘基)-1,3,4-噁二唑;2-三氯甲基-5-苯乙烯基-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-氯苯乙烯基)-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(1-萘基)-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-n-丁氧基苯乙烯基)-1,3,4-噁二唑、2-三溴甲基-5-苯乙烯基-1,3,4-噁二唑等)等。
      作為本發(fā)明中適于使用的肟衍生物,可列舉例如用下述結(jié)構(gòu)式(39)-(72)表示的化合物。
      化43

      化44

      化45






      作為上述酮化合物,可列舉例如二苯甲酮、2-甲基二苯甲酮、3-甲基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、4-甲氧基二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4-氯二苯甲酮、4-溴二苯甲酮、2-羧基二苯甲酮、2-乙氧基羰基二苯甲酮、二苯甲酮四羧酸或者其四甲酯、4,4’-雙(二烷基氨基)二苯甲酮類(例如,4,4’-雙(二甲基氨基)二苯甲酮、4,4’-雙二環(huán)己基氨基)二苯甲酮、4,4’-雙(二乙基氨基)二苯甲酮、4,4’-雙(二羥基乙基氨基)二苯甲酮、4-甲氧基-4’-二甲基氨基二苯甲酮、4,4’-二甲氧基二苯甲酮、4-二甲基氨基二苯甲酮、4-二甲基氨基苯乙酮、二苯基乙二酮、蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-甲基蒽醌、菲醌、氧雜蒽酮、噻噸酮、2-氯-噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、芴酮、2-芐基-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代-1-丙酮、2-羥基-2-甲基-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙醇低聚物、苯偶姻、苯偶姻醚類(例如,苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻丙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻苯醚、芐基二甲基縮酮)、吖啶酮、氯代吖啶酮、N-甲基吖啶酮、N-丁基吖啶酮、N-丁基-氯吖啶酮等。
      作為上述芳環(huán)烯金屬衍生物類,可列舉例如雙(η5-2,4-環(huán)戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦、η5-環(huán)戊二烯基-η6-枯烯基-鐵(1+)-六氟磷酸酯(1-)、在特開(kāi)昭53-133428號(hào)公報(bào)、特公昭57-1819號(hào)公報(bào)、特公昭57-6096號(hào)公報(bào)和美國(guó)專利第3615455號(hào)說(shuō)明書中記載的化合物等。
      另外,作為上述以外的光聚合引發(fā)劑,可列舉吖啶衍生物(例如,9-苯基吖啶、1,7-雙(9,9’-吖啶基)庚烷等)、N-苯基氨基乙酸等、多鹵化物(例如,四溴化碳、苯基三溴甲基砜、苯基三氯甲基酮等)、香豆素類(例如,3-(2-苯并呋喃甲?;?-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-苯并呋喃甲?;?-7-(1-吡咯烷基)香豆素、3-苯甲酰-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-甲氧基苯甲酰)-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二甲基氨基苯甲酰)-7-二乙基氨基香豆素、3,3’-羰基雙(5,7-二-n-丙氧基香豆素)、3,3’-羰基雙(7-二乙基氨基香豆素)、3-苯甲酰-7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃甲?;?-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二乙基氨基肉桂?;?-7-二乙基氨基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶基羰基)香豆素、3-苯甲酰-5,7-二丙氧基香豆素、7-苯并三唑-2-基香豆素、以及在特開(kāi)平5-19475號(hào)、特開(kāi)平7-271028號(hào)、特開(kāi)2002-363206號(hào)、特開(kāi)2002-363207號(hào)、特開(kāi)2002-363208號(hào)、特開(kāi)2002-363209號(hào)公報(bào)等中記載的香豆素化合物等)、胺類(例如,4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸正丁酯、4-二甲基氨基苯甲酸苯乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸2-酞酰亞氨基乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯、五亞甲基雙(4-二甲基氨基苯甲酸酯)、3-二甲基氨基苯甲酸的苯乙基、五亞甲基酯、4-二甲基氨基苯甲醛、2-氯-4-二甲基氨基苯甲醛、4-二甲基氨基芐醇、乙基(4-二甲基氨基苯甲酰)乙酸酯、4-哌啶基苯乙酮、4-二甲基氨基苯偶姻、N,N-二甲基-4-甲苯胺、N,N-二乙基-3-氨基苯乙醚、三芐胺、二芐基苯基胺、N-甲基-N-苯基芐胺、4-溴-N,N-二甲基苯胺、三十二烷基胺、氨基熒烴類(ODB,ODBII等)、龍膽紫內(nèi)酯、白色龍膽紫等)、?;趸㈩?例如,雙(2,4,6-三甲基苯甲酰)-苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲酰)-2,4,4-三甲基-戊基苯基氧化膦、LucirinTPO等)等。
      此外,可列舉在美國(guó)專利第2367660號(hào)說(shuō)明書中記載的連聚縮酮醛基化合物、美國(guó)專利第2448828號(hào)說(shuō)明書中記載的偶姻醚化合物、美國(guó)專利第2722512號(hào)說(shuō)明書中記載的用α-烴基取代的芳香族偶姻化合物、美國(guó)專利第3046127號(hào)說(shuō)明書和第2951758號(hào)說(shuō)明書中記載的多核醌化合物、在特開(kāi)2002-229194號(hào)公報(bào)中記載的有機(jī)硼化合物、自由基產(chǎn)生劑、三芳基锍鹽(例如,六氟銻或六氟磷酸酯的鹽)、鏻鹽化合物(例如,(苯基硫代苯基)二苯基鏻鹽等)(適于作為陽(yáng)離子聚合引發(fā)劑)、在WO01/71428號(hào)公報(bào)記載的鎓鹽化合物等。
      上述光聚合引發(fā)劑可以單獨(dú)使用一種,也可以二種以上組合使用。作為二種以上的組合,可列舉例如在美國(guó)專利第3549367號(hào)說(shuō)明書中記載的六芳基聯(lián)二咪唑和4-氨基酮類的組合、在特公昭51-48516號(hào)公報(bào)中記載的苯并噻唑化合物和三鹵代甲基-s-三嗪化合物的組合、以及芳香族酮化合物(例如,噻噸酮等)和氫供體(例如,含二烷基氨基的化合物、酚化合物等)的組合、六芳基聯(lián)二咪唑和二茂鐵的組合、香豆素類和二茂鐵和苯基氨基乙酸類的組合等。
      作為上述感光層中的光聚合引發(fā)劑的含量,優(yōu)選為0.1-30質(zhì)量%,更優(yōu)選0.5-20質(zhì)量%,特別優(yōu)選0.5-15質(zhì)量%。
      —其它成分—作為上述其它成分,可列舉例如增感劑、熱聚合抑制劑、增塑劑、顯色劑、著色劑等,另外也可以組合使用對(duì)基體表面的粘合促進(jìn)劑和其它的助劑類(例如,顏料、導(dǎo)電性粒子、填充劑、消泡劑、阻燃劑、涂平劑、剝離促進(jìn)劑、抗氧化劑、香料、熱交聯(lián)劑、表面張力調(diào)整劑、鏈轉(zhuǎn)移劑等)。通過(guò)使其適當(dāng)含有這些成分,可以調(diào)整作為目標(biāo)的圖形形成材料的穩(wěn)定性、攝影性、烘干性、膜物性等性質(zhì)。
      ——增感劑——上述增感劑可以根據(jù)后述的作為光照射機(jī)構(gòu)的可見(jiàn)光線和紫外光-可見(jiàn)光激光等適當(dāng)選擇。
      上述增感劑經(jīng)活性能量線的作用后處于激發(fā)狀態(tài),通過(guò)與其它物質(zhì)(例如,自由基產(chǎn)生劑、酸產(chǎn)生劑等)相互作用(例如,能量移動(dòng)、電子移動(dòng)等),產(chǎn)生自由基或酸等有用的基團(tuán)。
      作為上述增感劑,沒(méi)有特別限制,可以適當(dāng)選自公知的增感劑,可列舉例如公知的多核芳香族類(例如,芘、苝、三鄰亞苯)、氧雜蒽類(例如,熒光素、曙紅、赤鮮紅、羅丹明B、二碘曙紅)、花青類(例如,印度羰花青、硫雜羰花青、氧雜羰花青)、部花青類(例如,部花青、羰部花青)、噻嗪類(例如,硫堇、亞甲藍(lán)、甲苯胺藍(lán))、吖啶類(例如,吖啶橙、氯黃素、吖啶黃)、蒽醌類(例如,蒽醌)、squalirium類(例如,squalirium)、吖啶酮類(例如,吖啶酮、氯代吖啶酮、N-甲基吖啶酮、N-丁基吖啶酮、N-丁基-氯吖啶酮等)、香豆素類(例如,3-(2-苯并呋喃甲酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-苯并呋喃甲酰基)-7-(1-吡咯烷基)香豆素、3-苯甲酰-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-甲氧基苯甲酰)-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二甲基氨基苯甲酰)-7-二乙基氨基香豆素、3,3’-羰基雙(5,7-二-n-丙氧基香豆素)、3,3’-羰基雙(7-二乙基氨基香豆素)、3-苯甲酰-7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃甲?;?-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二乙基氨基肉桂酰)-7-二乙基氨基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶基羰基)香豆素、3-苯甲酰-5,7-二丙氧基香豆素等、以及在特開(kāi)平5-19475號(hào)、特開(kāi)平7-271028號(hào)、特開(kāi)2002-363206號(hào)、特開(kāi)2002-363207號(hào)、特開(kāi)2002-363208號(hào)、特開(kāi)2002-363209號(hào)等各公報(bào)中記載的香豆素化合物等)。
      作為上述光聚合引發(fā)劑和上述增感劑的組合,可列舉例如在特開(kāi)2001-305734號(hào)公報(bào)中記載的電子移動(dòng)型引發(fā)體系[(1)電子給與型引發(fā)劑和增感色素、(2)電子接受型引發(fā)劑和增感色素、(3)電子給與型引發(fā)劑、增感色素和電子接受型引發(fā)劑(三元引發(fā)體系)]等組合。
      作為上述增感劑的含量,相對(duì)于感光性樹(shù)脂組合物的所有成分,優(yōu)選0.05-30質(zhì)量%,更優(yōu)選0.1-20質(zhì)量%,特別優(yōu)選0.2-10質(zhì)量%。
      上述含量如果不足0.05質(zhì)量%,則有時(shí)對(duì)活性能量線的感光度下降,在曝光工藝中花費(fèi)時(shí)間,生產(chǎn)效率下降,而如果超過(guò)30質(zhì)量%,則有時(shí)保存時(shí)會(huì)從上述感光層中析出。
      ——熱聚合抑制劑——上述熱聚合抑制劑也可以為了防止在上述感光層中上述聚合性化合物熱聚合或者時(shí)效聚合(隨時(shí)間的推移發(fā)生的聚合)而加入。
      作為上述熱聚合抑制劑,可列舉例如4-甲氧基苯酚、氫醌、烷基或者芳基取代氫醌、叔丁基鄰苯二酚、連苯三酚、2-羥基二苯甲酮、4-甲氧基-2-羥基二苯甲酮、氯化亞銅、吩噻嗪、氯醌、萘胺、β-萘酚、2,6-二叔丁基-4-甲酚、2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、吡啶、硝基苯、二硝基苯、苦味酸、4-甲苯胺、亞甲藍(lán)、銅和有機(jī)螯合劑反應(yīng)物、水楊酸甲酯、吩噻嗪、亞硝基化合物、亞硝基化合物和A1的螯合物等。
      作為上述熱聚合抑制劑的含量,相對(duì)于上述感光層的上述聚合性化合物優(yōu)選0.001-5質(zhì)量%,更優(yōu)選0.005-2質(zhì)量%,特別優(yōu)選0.01-1質(zhì)量%。
      上述含量如果不足0.001質(zhì)量%,則有時(shí)保存時(shí)的穩(wěn)定性下降,而如果超過(guò)5質(zhì)量%,則有時(shí)對(duì)于活性能量線的感光度下降。
      ——增塑劑——上述增塑劑也可以為了控制上述感光層的膜物性(撓性)而加入。
      作為上述增塑劑,可列舉例如酞酸二甲酯、酞酸二丁酯、酞酸二異丁酯、酞酸二庚酯、酞酸二辛酯、酞酸二環(huán)己酯、酞酸二(十三烷基)酯、酞酸丁基芐酯、酞酸二異癸酯、酞酸二苯酯、酞酸二烯丙酯、酞酸辛基辛?;サ忍狨ヮ?;三甘醇二乙酸酯、四乙二醇二乙酸酯、二甲基葡萄糖酞酸酯、乙基酞酰乙基乙醇酸酯、甲基酞酰乙基乙醇酸酯、丁基酞酰丁基乙醇酸酯、三甘醇二辛酸酯等乙醇酸酯類;三甲苯基磷酸酯、三苯基磷酸酯等磷酸酯類;4-甲苯磺酰胺、苯磺酰胺、N-正丁基苯磺酰胺、N-正丁基乙酰胺等酰胺類;己二酸二異丁酯、己二酸二辛酯、癸二酸二甲酯、癸二酸二丁酯、癸二酸二辛酯、壬二酸二辛酯、馬來(lái)酸二丁酯等脂肪族二元酸酯類;檸檬酸三乙酯、檸檬酸三丁酯、丙三醇三乙酰酯、月硅酸丁酯、4,5-二乙氧基環(huán)己烷-1,2-二羧酸二辛酯等、聚乙二醇、聚丙二醇等二元醇類。
      作為上述增塑劑的含量,相對(duì)于上述感光層的所有成分優(yōu)選0.1-50質(zhì)量%,更優(yōu)選0.5-40質(zhì)量%,特別優(yōu)選1-30質(zhì)量%。
      ——顯色劑——上述顯色劑也可以為了曝光后向上述感光層賦予可視圖形(烘干性能)而加入。
      作為上述顯色劑,可列舉例如三(4-二甲基氨基苯基)甲烷(白色龍膽紫)、三(4-二乙基氨基苯基)甲烷、三(4-二甲基氨基-2-甲基苯基)甲烷、三(4-二乙基氨基-2-甲基苯基)甲烷、雙(4-二丁基氨基苯基)-[4-(2-氰基乙基)甲基氨基苯基]甲烷、雙(4-二甲基氨基苯基)-2-喹啉基甲烷、三(4-二丙基氨基苯基)甲烷等氨基三芳基甲烷類;3,6-雙(二甲基氨基)-9-苯基黃嘌呤、3-氨基-6-二甲基氨基-2-甲基-9-(2-氯苯基)黃嘌呤等氨基黃嘌呤類;3,6-雙(二乙基氨基)-9-(2-乙氧基羰基苯基)噻噸、3,6-雙(二甲基氨基)噻噸等氨基噻噸類;3,6-雙(二乙基氨基)-9,10-二氫-9-苯基吖啶、3,6-雙(芐基氨基)-9,10-二氫-9-甲基吖啶等氨基-9,10-二氫吖啶類;3,7-雙(二乙基氨基)吩噁嗪等氨基吩噁嗪類;3,7-雙(乙基氨基)吩噻嗪酮等氨基吩噻嗪酮類;3,7-雙(乙基氨基)-5-己基-5,10-二氫吩嗪等氨基二氫吩嗪類;雙(4-二甲基氨基苯基)苯胺基甲烷等氨基苯基甲烷類;4-氨基-4’-二甲基氨基二苯基胺、4-氨基-α,β-二氰基氫化肉桂酸甲酯等氨基氫化肉桂酸類;1-(2-萘基)-2-苯肼等肼類;1,4-雙(乙基氨基)-2,3-二氫蒽醌類的氨基-2,3-二氫蒽醌類;N,N-二乙基-4-苯乙基苯胺等苯乙基苯胺類;10-乙?;?3,7-雙(二甲基氨基)吩噻嗪等含堿性NH的白色色素的?;苌?;三(4-二乙基氨基-2-甲苯基)乙氧基羰基孟烷等不具有可以氧化的氫但可以氧化為顯色化合物的白色樣化合物;白色靛色素;如在美國(guó)專利3042515號(hào)和美國(guó)專利第3042517號(hào)中記載的可以氧化為顯色形式的有機(jī)胺類(例如,4,4’-乙二胺、二苯基胺、N,N-二甲基苯胺、4,4’-亞甲基二胺三苯基胺、N-乙烯基咔唑),其中,優(yōu)選白色龍膽紫等三芳基甲烷系化合物。
      另外,通常將上述顯色劑與鹵素化合物組合使用,以便使上述白色體顯色。
      作為上述鹵素化合物,可列舉例如鹵化烴(例如,四溴化碳、碘仿、溴化乙烯、甲叉二溴、戊基溴、異戊基溴、戊基碘、溴化異丁烯、丁基碘、二苯基甲基溴、六氯乙烷、1,2-二溴乙烷、1,1,2,2-四溴乙烷、1,2-二溴-1,1,2-三氯乙烷、1,2,3-三溴丙烷、1-溴-4-氯丁烷、1,2,3,4-四溴丁烷、四氯環(huán)丙烯、六氯環(huán)戊二烯、二溴環(huán)己烷、1,1,1-三氯-2,2-雙(4-氯苯基)乙烷等);鹵化醇化合物(例如,2,2,2-三氯乙醇、三溴乙醇、1,3-二氯-2-丙醇、1,1,1-三氯-2-丙醇、二(碘代六亞甲基)氨基異丙醇、三溴叔丁醇、2,2,3-三氯丁烷-1,4-二醇等);鹵化羰基化合物(例如1,1-二氯丙酮、1,3-二氯丙酮、六氯丙酮、六溴丙酮、1,1,3,3-四氯丙酮、1,1,1-三氯丙酮、3,4-二溴-2-丁酮、1,4-二氯-2-丁酮-二溴環(huán)己酮等);鹵化醚化合物(例如2-溴乙基甲基醚、2-溴乙基乙基醚、二(2-溴乙基)醚、1,2-二氯乙基乙基醚等);鹵化酯化合物(例如,醋酸溴乙酯、三氯乙酸乙酯、三氯乙酸三氯乙酯、2,3-二溴丙基丙烯酸酯的均聚物和共聚物、二溴丙酸三氯乙酯、α,β-二氯丙烯酸乙酯等);鹵化酰胺化合物(例如,氯乙酰胺、溴乙酰胺、二氯乙酰胺、三氯乙酰胺、三溴乙酰胺、三氯乙基三氯乙酰胺、2-溴異丙酰胺、2,2,2-三氯丙酰胺、N-氯琥珀酰亞胺、N-溴琥珀酰亞胺等);具有硫和磷的化合物(例如,三溴甲基苯基砜、4-硝基苯基三溴甲基砜、4-氯苯基三溴甲基砜、三(2,3-二溴丙基)磷酸酯等)、2,4-雙(三氯甲基)-6-苯基三唑等。就有機(jī)鹵化物來(lái)說(shuō),優(yōu)選具有在同一碳原子中結(jié)合的兩個(gè)以上鹵原子的鹵化物,更優(yōu)選在一個(gè)碳原子中具有三個(gè)以上鹵原子的鹵化物。上述有機(jī)鹵化物可以單獨(dú)使用一種,也可以二種以上組合使用。其中,優(yōu)選三溴甲基苯基砜、2,4-雙(三氯甲基)-6-苯基三唑。
      作為上述顯色劑的含量,相對(duì)于上述感光層的所有成分優(yōu)選為0.01-20質(zhì)量%,更優(yōu)選0.05-10質(zhì)量%,特別優(yōu)選0.1-5質(zhì)量%。另外,作為上述鹵化物的含量,相對(duì)于上述感光層的所有成分優(yōu)選為0.001-5質(zhì)量%,更優(yōu)選0.005-1質(zhì)量%。
      ——著色劑——作為上述著色劑,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,但是可列舉例如紅色、綠色、藍(lán)色、黃色、紫色、品紅色、青色、黑色等公知的顏料或者染料,具體地,可列舉維多利亞·純藍(lán)BO(C.I.42595)、鹽基黃(C.I.41000)、可溶性·黑HB(C.I.26150)、モノライト·黃GT(C.I.顏料·黃12)、永久·黃GR(C.I.顏料·黃17)、永久·黃HR(C.I.顏料·黃83)、永久·胭脂紅FBB(C.I.顏料·紅146)、ホスタ—バ—ム紅ESB(C.I.顏料·紫羅蘭19)、永久·深紅色FBH(C.I.顏料·紅11)、フアステル·粉紅色Bスプラ(C.I.顏料·紅81)、モナストラル·第一·藍(lán)(C.I.顏料·藍(lán)15)、モノライト·第一·黑B(C.I.顏料·黑1)、碳黑。
      另外,作為適于濾色器制作的上述著色劑,可列舉例如C.I.顏料·紅97、C.I.顏料·紅122、C.I.顏料·紅149、C.I.顏料·紅168、C.I.顏料·紅177、C.I.顏料·紅180、C.I.顏料·紅192、C.I.顏料·紅215、C.I.顏料·綠7、C.I.顏料·綠36、C.I.顏料·藍(lán)15:1、C.I.顏料·藍(lán)15:4、C.I.顏料·藍(lán)15:6、C.I.顏料·藍(lán)22、C.I.顏料·藍(lán)60、C.I.顏料·藍(lán)64、C.I.顏料·黃139、C.I.顏料·黃83、C.I.顏料·紫羅蘭23、在特開(kāi)2002-162752號(hào)公報(bào)的(0138)-(0141)中記載的著色劑等。作為上述著色劑的平均粒徑,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如,優(yōu)選5μm以下,更優(yōu)選1μm以下。另外,制作濾色器時(shí),作為上述平均粒徑,優(yōu)選0.5μm以下。
      ——染料——在上述感光層中可以使用染料,以便使感光性樹(shù)脂組合物著色而改善操作性,或者附加保存穩(wěn)定性。
      作為上述染料,可以舉例為亮綠(例如,其硫酸鹽)、曙紅、乙基紫、赤鮮紅B、甲基綠、龍膽紫、堿性品紅、酚酞、1,3-二苯基三嗪、茜素紅S、百里酚酞、甲基紫2B、喹哪啶紅、二碘曙紅、酸性間苯胺黃、麝香草腦砜酞、二甲苯酚藍(lán)、甲基橙、橙IV、ジフエニルチロカルバゾン、2,7-二氯熒光素、副甲基紅、剛果紅、苯并紅紫4B、α-萘基紅、尼羅藍(lán)A、フエナセタリン、甲基紫、孔雀石綠、副品紅、油藍(lán)#603(オリエント化學(xué)工業(yè)社制)、羅丹明B、羅丹明6G、維多利亞·純藍(lán)BOH等,其中優(yōu)選陽(yáng)離子染料(例如,孔雀石綠草酸鹽、孔雀石綠硫酸鹽等)。作為該陽(yáng)離子染料的平衡陰離子,可以是有機(jī)酸或者無(wú)機(jī)酸的殘基,可列舉例如溴酸、碘酸、硫酸、磷酸、草酸、甲磺酸、甲苯磺酸等的殘基(陰離子)等。
      作為上述染料的含量,相對(duì)于上述感光層的所有成分優(yōu)選為0.001-10質(zhì)量%,更優(yōu)選0.01-5質(zhì)量%,特別優(yōu)選0.1-2質(zhì)量%。
      ——粘合促進(jìn)劑——為了改善各層間的粘合性、或者圖形形成材料和基體間的粘合性,可以在各層中使用公知的粘合促進(jìn)劑。
      作為上述粘合促進(jìn)劑,可適當(dāng)列舉例如在特開(kāi)平5-11439號(hào)公報(bào)、特開(kāi)平5-341532號(hào)公報(bào)和特開(kāi)平6-43638號(hào)公報(bào)等中記載的粘合促進(jìn)劑。具體地講,可列舉苯并咪唑、苯并噁唑、苯并噻唑、2-巰基苯并咪唑、2-巰基苯并噁唑、2-巰基苯并噻唑、3-嗎啉代甲基-1-苯基-三唑-2-硫羰、3-嗎啉代甲基-5-苯基-噁二唑-2-硫羰、5-氨基-3-嗎啉代甲基-噻二唑-2-硫羰、和2-嗎啉代-5-甲基硫-噻二唑、三唑、四唑、苯并三唑、羧基苯并三唑、含氨基的苯并三唑、硅烷偶合劑等。
      作為粘合促進(jìn)劑的含量,相對(duì)于上述感光層的所有成分優(yōu)選為0.001-20質(zhì)量%,更優(yōu)選0.01-10質(zhì)量%,特別優(yōu)選0.1-5質(zhì)量%。
      上述感光層也可以含有例如如J.コ—サ—著的“ライトセンシテイブシステムズ”第5章中記載的有機(jī)硫化合物、過(guò)氧化物、氧化還原化合物、偶氮或者重氮化合物、光還原性色素、有機(jī)鹵化物等。
      作為上述有機(jī)硫化合物,可列舉例如二正丁基二硫化物、二芐基二二硫化物、2-巰基苯并噻唑、2-巰基苯并噁唑、苯硫酚、乙基三氯甲烷磺酸鹽、2-巰基苯并咪唑等。
      作為上述過(guò)氧化物,可以舉例為例如二叔丁基過(guò)氧化物、過(guò)氧化苯甲酰、甲乙酮過(guò)氧化物。
      上述氧化還原化合物是由過(guò)氧化物和還原劑的組合組成的化合物,可以舉例為二價(jià)鐵離子和過(guò)硫酸離子、三價(jià)鐵離子和過(guò)氧化物等。
      作為上述偶氮和重氮化合物,可列舉例如α,α’-偶氮二異丁腈、2-偶氮-2-甲基丁腈、4-氨基二苯胺的重氮鎓類。
      作為上述光還原性色素,可列舉例如二碘曙紅、赤鮮紅、曙紅、吖啶黃、核黃素(リポフラビン)、硫堇。
      ——表面活性劑——為了改善在制造本發(fā)明的上述圖形形成材料時(shí)產(chǎn)生的表面形狀的不均勻,可以組合使用公知的表面活性劑。
      作為上述表面活性劑,例如可以適當(dāng)選自陰離子系表面活性劑、陽(yáng)離子系表面活性劑、非離子系表面活性劑、兩性表面活性劑、含氟的表面活性劑等。
      作為上述表面活性劑的含量,相對(duì)于感光性樹(shù)脂組合物的固體成分,優(yōu)選0.001-10質(zhì)量%。
      上述含量如果不足0.001質(zhì)量%,則有時(shí)不能獲得改善表面形狀的效果,而如果超過(guò)10質(zhì)量%,則有時(shí)粘合性下降。
      作為上述感光層的厚度,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如優(yōu)選1-100μm,更優(yōu)選2-50μm,特別優(yōu)選4-30μm。
      &lt;支撐體和保護(hù)薄膜&gt;
      作為上述支撐體,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,優(yōu)選可以剝離上述感光層而且光透過(guò)性好的材料,另外更優(yōu)選表面平滑性好的材料。
      上述支撐體優(yōu)選為合成樹(shù)脂制的材料,而且是透明的,可列舉例如聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚丙烯、聚乙烯、三醋酸纖維素、二醋酸纖維素、聚(甲基)丙烯酸烷基酯、聚(甲基)丙烯酸酯共聚物、聚氯乙稀、聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚苯乙烯、玻璃紙、聚偏氯乙烯共聚物、聚酰胺、聚酰亞胺、氯乙烯·醋酸乙烯酯共聚物、聚四氟乙烯、聚三氟乙烯、纖維素系薄膜、尼龍薄膜等各種塑料薄膜,其中,特別優(yōu)選聚對(duì)苯二甲酸乙二酯。這些可以單獨(dú)使用一種,也可以二種以上組合使用。
      作為上述支撐體的厚度,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如優(yōu)選2-150μm,更優(yōu)選5-100μm,特別優(yōu)選8-50μm。
      作為上述支撐體的形狀,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,優(yōu)選長(zhǎng)條狀。作為上述長(zhǎng)條狀支撐體的長(zhǎng)度,沒(méi)有特別的限制,可列舉例如10m-20000m長(zhǎng)的支撐體。
      上述圖形形成材料中,也可以在上述感光層上形成保護(hù)薄膜。
      作為上述保護(hù)薄膜,可列舉例如用于上述支撐體的膜、紙、層疊了聚乙烯、聚丙烯的紙等,其中,優(yōu)選聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜。
      作為上述保護(hù)薄膜的厚度,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如優(yōu)選5-100μm,更優(yōu)選8-50μm,特別優(yōu)選10-30μm。
      作為上述支撐體和保護(hù)薄膜的組合(支撐體/保護(hù)薄膜),可列舉例如聚對(duì)苯二甲酸乙二酯/聚丙烯、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯/聚乙烯、聚氯乙稀/玻璃紙、聚酰亞胺/聚丙烯、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯/聚對(duì)苯二甲酸乙二酯等。另外,通過(guò)對(duì)支撐體和保護(hù)薄膜中的至少一種進(jìn)行表面處理,可以滿足如上所述粘合力的關(guān)系。上述支撐體的表面處理也可以用于提高與上述感光層的粘合力,可以舉例為例如底涂層的涂布設(shè)置、電暈放電處理、火焰處理、紫外線照射處理、高頻照射處理、輝光放電照射處理、活性等離子體照射處理、激光光線照射處理等。
      另外,作為上述支撐體和上述保護(hù)薄膜的靜摩擦系數(shù),優(yōu)選0.3-1.4,更優(yōu)選0.5-1.2。
      上述靜摩擦系數(shù)如果不足0.3,則有時(shí)由于過(guò)滑,卷成輥狀時(shí)會(huì)發(fā)生錯(cuò)位,而如果超過(guò)1.4,則有時(shí)難以卷成良好的輥狀。
      上述圖形形成材料,例如優(yōu)選卷繞在圓筒狀的卷芯上,以將長(zhǎng)條狀卷為輥狀的形式進(jìn)行保管。作為上述長(zhǎng)條狀圖形形成材料的長(zhǎng)度,沒(méi)有特別的限制,例如可以適當(dāng)選自10m-20000m的范圍。另外,也可以進(jìn)行切割加工,將100m-1000m范圍的長(zhǎng)條狀體卷為輥狀,以便用戶易于使用。還有,在這中情況下優(yōu)選卷成上述支撐體位于最外側(cè)。另外,也可以將上述輥狀的圖形形成材料切割為片狀。保管時(shí),從保護(hù)端面、防止熔邊的觀點(diǎn)來(lái)看,優(yōu)選在端面設(shè)置隔片(特別是防濕性的隔片、加入了干燥劑的隔片),另外捆裝時(shí)也優(yōu)選使用透濕性低的材料。
      為了調(diào)整上述保護(hù)薄膜和上述感光層的粘合性,也可以對(duì)上述保護(hù)薄膜進(jìn)行表面處理。作為上述表面處理,例如可舉出在上述保護(hù)薄膜的表面上形成由聚有機(jī)硅氧烷、氟化聚烯烴、聚氟乙烯、聚乙烯醇等聚合物組成的底涂層的方法。該底涂層可以通過(guò)在上述保護(hù)薄膜的表面上涂布上述聚合物的涂布液后在30-150℃(特別是50-120℃)下干燥1-30分鐘而形成。
      &lt;其它的層&gt;
      作為上述其它的層,沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,可列舉例如緩沖層、阻擋層、剝離層、粘接層、光吸收層、表面保護(hù)層等層。上述圖形形成材料可以單獨(dú)具有一種這些層,也可以具有二種以上,另外,也可以具有二層以上同種層。
      上述本發(fā)明的圖形形成材料中的上述感光層,優(yōu)選用具有n個(gè)接收來(lái)自光照射機(jī)構(gòu)的光并射出的描素部的光調(diào)制機(jī)構(gòu),調(diào)制來(lái)自上述光照射機(jī)構(gòu)的光之后,用通過(guò)了排列有微透鏡的微透鏡陣列的光,進(jìn)行曝光,其中所述微透鏡具有可以校正由上述描素部中的射出面的變形產(chǎn)生的像差的非球面。對(duì)上述光照射機(jī)構(gòu)、上述描素部、上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)、上述非球面、上述微透鏡、和上述微透鏡陣列的詳細(xì)內(nèi)容請(qǐng)見(jiàn)后述。
      上述圖形形成材料例如可以通過(guò)以下方法進(jìn)行制造。
      首先,使上述感光層和其它層中含有的材料溶解、乳化或者分散于水或者溶劑中,調(diào)制涂布液。
      作為上述涂布液的溶劑,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,可列舉例如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、仲丁醇、正己醇等醇類;丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮、二異丁酮等酮類;醋酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸正戊酯、硫酸甲酯、丙酸乙酯、酞酸二甲酯、苯甲酸乙酯、和甲氧基丙基乙酸酯等酯類;甲苯、二甲苯、苯、乙苯等芳香族烴類;四氯化碳、三氯乙烯、氯仿、1,1,1-三氯乙烷、二氯甲烷、一氯苯等鹵化烴類;四氫呋喃、二乙醚、乙二醇一甲醚、乙二醇一乙醚、1-甲氧基-2-丙醇等醚類;二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基亞砜、環(huán)丁砜等。這些可以單獨(dú)使用一種,也可以二種以上組合使用。另外,也可以加入公知的表面活性劑。
      接著,可以通過(guò)在上述支撐體上涂布上述涂布液,使其干燥形成各層,制造圖形形成材料。例如,可以通過(guò)將使上述感光層的成分溶解、乳化或者分散的感光性樹(shù)脂組合物溶液涂布于支撐體上,使其干燥,形成感光層,在其上形成保護(hù)薄膜,并由此制造圖形形成材料。
      作為上述涂布液的涂布方法,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,但是可列舉例如噴涂法、輥涂法、旋涂法、狹縫涂布法、擠壓涂布法、幕式涂布法、模具涂布法、照相凹版式涂布法、拉絲錠涂布法、刮涂法等各種涂布方法。
      作為上述干燥條件,也隨各成分、溶劑的種類、使用比例的不同而不同,但是通常在60-110℃的溫度下干燥約30秒-15分鐘。
      本發(fā)明的圖形形成材料由于分辨率和遮蓋性優(yōu)良且顯影性優(yōu)異,而且可抑制熔邊的產(chǎn)生,可以適用于各種圖形的形成、布線圖形等永久圖形的形成、濾色器、柱材、帶筋型材、隔板、隔膜等液晶結(jié)構(gòu)元件的制造、全息照相、微型電機(jī)、校樣(proof)等的圖形的形成等,特別適合用于高精細(xì)的布線圖形的形成。另外,可以適用于本發(fā)明的圖形形成方法和圖形形成裝置。
      (圖形形成裝置和圖形形成方法)本發(fā)明的圖形形成裝置具備本發(fā)明的上述圖形形成材料,至少具有光照射機(jī)構(gòu)和光調(diào)制機(jī)構(gòu)。
      本發(fā)明的圖形形成方法至少包含曝光工序,并包含適當(dāng)選擇的其它工序。
      另外,通過(guò)對(duì)本發(fā)明的上述圖形形成方法的說(shuō)明,可以更清楚地了解本發(fā)明的上述圖形形成裝置。
      上述曝光工序是對(duì)本發(fā)明的圖形形成材料中的感光層進(jìn)行曝光的工序。關(guān)于本發(fā)明的上述圖形形成材料如上所述。
      作為上述曝光的對(duì)象,只要是上述圖形形成材料中的感光層,就沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如優(yōu)選對(duì)在基體上形成有上述圖形形成材料的層疊體進(jìn)行曝光。
      作為上述基體,沒(méi)有特別限制,可以由公知的材料中從表面平滑性高的一直到具有凹凸表面的材料中適當(dāng)選擇,優(yōu)選板狀的基體(基板),具體地講,可列舉公知的印刷電路布線板形成用基板(例如,銅鍍膜層疊板)、玻璃板(例如,鈉鈣玻璃板等)、合成樹(shù)脂性的薄膜、紙、金屬板等,其中,從對(duì)含銅材料的粘合性優(yōu)良的觀點(diǎn)來(lái)看,優(yōu)選上述銅鍍膜層疊板。
      作為上述層疊板的形成方法,沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,優(yōu)選一邊在上述基體上對(duì)上述圖形形成材料進(jìn)行加熱和加壓中的至少一種,一邊進(jìn)行層疊。
      作為上述加熱溫度,沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如優(yōu)選15-180℃,更優(yōu)選60-140℃。
      作為上述加壓的壓力,沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如優(yōu)選0.1-1.0MPa,更優(yōu)選0.2-0.8MPa。
      作為進(jìn)行上述加熱和加壓中的至少一種的裝置,沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,可適當(dāng)列舉例如層疊裝置、真空層疊裝置。
      作為進(jìn)行上述加熱和加壓中的至少一種的裝置,沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,可適當(dāng)列舉例如層疊裝置(例如,大成ラミネ—タ社制,VP-II)等。
      作為上述曝光,沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,可列舉數(shù)字曝光、模擬曝光等,其中優(yōu)選數(shù)字曝光。
      作為上述數(shù)字曝光,沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如優(yōu)選使用根據(jù)形成的圖形形成信息產(chǎn)生控制信號(hào)后按照該控制信號(hào)調(diào)制的光進(jìn)行。
      作為上述數(shù)字曝光的機(jī)構(gòu),沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,可列舉例如照射光的光照射機(jī)構(gòu)、根據(jù)形成的圖形形成信息調(diào)制來(lái)自該光照射機(jī)構(gòu)的光的光調(diào)制機(jī)構(gòu)等。
      &lt;光調(diào)制機(jī)構(gòu)&gt;
      作為上述光調(diào)制機(jī)構(gòu),只要可以調(diào)制光,就沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如優(yōu)選具有n個(gè)描素部。
      作為上述具有n個(gè)描素部的光調(diào)制機(jī)構(gòu),沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如優(yōu)選空間光調(diào)制元件。
      作為上述空間光調(diào)制元件,可適當(dāng)列舉例如數(shù)字·微型反射鏡·裝置(DMD)、MEMS(Miro Electro Mechanical Systems)型空間光調(diào)制元件(SLM;Special Light Modulator)、通過(guò)電光學(xué)效果調(diào)制透射光的光學(xué)元件(PLZT元件)、液晶光柵(FLC)等,其中優(yōu)選DMD。
      另外,上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)優(yōu)選具有根據(jù)形成的圖形信息產(chǎn)生控制信號(hào)的圖形信號(hào)產(chǎn)生機(jī)構(gòu)。這時(shí),上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)根據(jù)由上述圖形信息產(chǎn)生機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的控制信號(hào)調(diào)制光。
      作為上述控制信號(hào),沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,可適當(dāng)列舉例如數(shù)字信號(hào)。
      下面,參照附圖對(duì)上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)的一個(gè)例子進(jìn)行說(shuō)明。
      DMD50如圖1中所示,是在SRAM單元(存儲(chǔ)單元)60上,構(gòu)成各個(gè)描素(像素)的多個(gè)(例如,1024個(gè)×768個(gè))微小反射鏡(微型反射鏡)62按照格子狀排列而形成的反射鏡裝置。在各個(gè)像素中,在最上部設(shè)置了用支柱支撐的微型反射鏡62,在微型反射鏡62的表面上蒸鍍有鋁等反射率高的材料。還有,微型反射鏡62的反射率是90%以上,其排列間距在縱向、橫向作為一個(gè)例子都是13.7μm。另外,在微型反射鏡62的正下方,通過(guò)介入含鉸鏈和軛鐵(yoke)的支柱排列有由普通的半導(dǎo)體存儲(chǔ)器制造線制造的硅柵的CMOS的SRAM單元60,整體由單片構(gòu)成。
      如果在DMD50的SRAM單元60上寫入數(shù)字信號(hào),則被支柱支撐的微型反射鏡62以對(duì)角線為中心相對(duì)于排列有DMD50的基板側(cè)傾斜±α度(例如±12度)的范圍。圖2(A)表示微型反射鏡62導(dǎo)通狀態(tài)下傾斜+α度的狀態(tài),圖2(B)表示微型反射鏡62斷開(kāi)狀態(tài)下傾斜-α度的狀態(tài)。因此,通過(guò)如圖1所示根據(jù)圖形信息來(lái)控制DMD50各像素中的微型反射鏡62的斜度,可使向DMD50入射的激光B向各微型反射鏡62的傾斜方向反射。
      還有,圖1表示將DMD50的局部放大并將微型反射鏡62控制為+α度或者-α度狀態(tài)的一個(gè)例子。各微型反射鏡62的開(kāi)關(guān)控制用與DMD50連接的控制器302(參考圖12)來(lái)進(jìn)行。另外,在用斷開(kāi)狀態(tài)的微型反射鏡62反射的激光B前進(jìn)的方向上設(shè)置有光吸收體(未示出)。
      另外,優(yōu)選將DMD50稍微傾斜設(shè)置,以便其短邊與副掃描方向形成規(guī)定角度θ(例如,0.1°~5°)。圖3(A)表示不使DMD50傾斜時(shí)由各微型反射鏡產(chǎn)生的反射光像(曝光光束)53的掃描軌跡,圖3(B)表示使DMD50傾斜時(shí)曝光光束53的掃描軌跡。
      在DMD50中,縱向排列有多個(gè)(例如,1024個(gè))微型反射鏡的微型反射鏡列在橫向排列有多個(gè)組(例如,756組),如圖3(B)中所示,通過(guò)使DMD50傾斜,由各微型反射鏡產(chǎn)生的曝光光束53的掃描軌跡(掃描線)的間距P2比不使DMD50傾斜時(shí)掃描線的間距P1窄,從而可以大幅度地改善分辨率。另一方面,由于DMD50的傾斜角細(xì)小,所以使DMD50傾斜時(shí)的掃描寬度W2和不使DMD50傾斜時(shí)的掃描寬度W1大致相同。
      下面,對(duì)加快上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)中的調(diào)制速度的方法(以下稱為“高速調(diào)制”)進(jìn)行說(shuō)明。
      上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)優(yōu)選可以根據(jù)圖形信息控制上述n個(gè)圖形中連續(xù)配置的任意不足n個(gè)的上述圖象部分。上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)的數(shù)據(jù)處理速度有一定的極限值,且每一個(gè)線的調(diào)制速度與使用的描素?cái)?shù)成比例,所以通過(guò)僅僅使用連續(xù)排列的任意不足n個(gè)的描素部就可加快每一個(gè)線的調(diào)制速度。
      下面,參考附圖進(jìn)一步說(shuō)明上述高速調(diào)制。
      如果由纖維陣列光源66向DMD50照射激光B,則當(dāng)DMD50的微型反射鏡處于導(dǎo)通狀態(tài)時(shí)反射的激光通過(guò)透鏡體系54、58在圖形形成材料150上成像。這樣一來(lái),由纖維陣列光源66射出的激光在每個(gè)像素上被開(kāi)或關(guān),圖形形成材料150在與DMD50的使用描素?cái)?shù)大致相同數(shù)量的描素單元(曝光區(qū)168)進(jìn)行曝光。另外,通過(guò)使圖形形成材料150與平臺(tái)152一起以一定速度進(jìn)行移動(dòng),掃描器162在與平臺(tái)移動(dòng)方向相反的方向上對(duì)圖形形成材料150進(jìn)行副掃描,針對(duì)每個(gè)曝光頭166形成帶狀的曝光完成區(qū)域170。
      還有在本例中,如圖4(A)和(B)中所示,在DMD50中,在主掃描方向上排列有1024個(gè)微型反射鏡的微型反射鏡列在副掃描方向排列有768組,但是在本例中,通過(guò)用上述控制器302(參考圖12)進(jìn)行控制,可以只驅(qū)動(dòng)一部分微型反射鏡列(例如,1024個(gè)×256列)。
      這時(shí),如圖4(A)中所示,可以使用在DMD50的中央部分設(shè)置的微型反射鏡列,也可以如圖4(B)中所示使用在DMD50的端部設(shè)置的微型反射鏡列。另外,可以根據(jù)情況適當(dāng)改變使用的微型反射鏡列,例如當(dāng)在一部分微型反射鏡上產(chǎn)生缺陷時(shí),可以使用未產(chǎn)生缺陷的微型反射鏡列等。
      DM50的數(shù)據(jù)處理速度有一定極限,且每一個(gè)線的調(diào)制速度與使用的描素?cái)?shù)成比例,所以僅僅使用一部分微型反射鏡列就可使每一個(gè)管線的調(diào)制速度提高。另一方面,在采用連續(xù)地使曝光頭相對(duì)于曝光面相對(duì)移動(dòng)的曝光方式的情況下,沒(méi)有必要使用全部的副掃描方向的描素。
      利用掃描器162結(jié)束對(duì)圖形形成材料150的副掃描并用傳感器164檢測(cè)出圖形形成材料150的后端之后,平臺(tái)152被平臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置304沿導(dǎo)桿158復(fù)原到位于門(gate)160最上游側(cè)的原點(diǎn),再次沿導(dǎo)桿158由門160的上游側(cè)向下游側(cè)以一定速度移動(dòng)。
      例如,當(dāng)僅僅使用768組微型反射鏡列中的384組時(shí),與768組全部使用的情況相比,每個(gè)線可以以二倍速度進(jìn)行調(diào)制。另外,當(dāng)僅僅使用768組微型反射鏡列中的256組時(shí),與768組全部使用的情況相比,每個(gè)線可以以三倍速度進(jìn)行調(diào)制。
      如上所述,根據(jù)本發(fā)明的圖形形成方法,具有在主掃描方向上排列有1024個(gè)微型反射鏡的微型反射鏡列在副掃描方向上排列有768組的DMD,但通過(guò)用控制器進(jìn)行控制,僅僅驅(qū)動(dòng)一部分微型反射鏡列,與驅(qū)動(dòng)全部的微型反射鏡列的情況相比,可以提高每個(gè)線的調(diào)制速度。
      此外,上面對(duì)局部驅(qū)動(dòng)DMD的微型反射鏡的例子進(jìn)行了說(shuō)明,但是使用下述的DMD時(shí)由于控制反射面角度的微型反射鏡的個(gè)數(shù)變少,同樣可以提高調(diào)制速度,所述DMD為在對(duì)應(yīng)于規(guī)定方向的方向的長(zhǎng)度比與上述規(guī)定方向交叉的方向的長(zhǎng)度長(zhǎng)的基板上,根據(jù)各個(gè)控制信號(hào)可以改變反射面角度的多個(gè)微型反射鏡二維排列的細(xì)長(zhǎng)的DMD。
      另外,作為上述曝光方法,優(yōu)選一邊使曝光光和上述感光層相對(duì)移動(dòng)一邊進(jìn)行曝光,這時(shí),優(yōu)選與上述高速調(diào)制組合使用。由此,可以在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行高速的曝光。
      另外,如圖5中所示,既可以在用掃描器162進(jìn)行的X方向的一次掃描中使圖形形成材料150的整個(gè)表面曝光,也可以如圖6(A)和(B)中所示,用掃描器162對(duì)圖形形成材料150向X方向進(jìn)行掃描后,將掃描器162沿Y方向移動(dòng)一個(gè)間隔,向X方向進(jìn)行掃描,通過(guò)這樣重復(fù)掃描和移動(dòng),通過(guò)多次掃描使圖形形成材料150的整個(gè)表面曝光。還有,在該例中,掃描器162具有18個(gè)曝光頭166。還有,曝光頭至少具有上述光照射機(jī)構(gòu)和上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)。
      上述曝光中對(duì)上述感光層的局部區(qū)域進(jìn)行,從而使該局部區(qū)域固化,在后述的顯影工序中,除去上述固化的局部區(qū)域以外的未固化區(qū)域,并由此形成圖形。
      下面,對(duì)含上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)的圖形形成裝置的一個(gè)例子一邊參考附圖一邊進(jìn)行說(shuō)明。
      上述含光調(diào)制機(jī)構(gòu)的圖形形成裝置如圖7所示,具有在表面上吸附并保持片狀的圖形形成材料150的平板狀的平臺(tái)152。
      在用四根支架154支撐的厚板狀的安裝臺(tái)156的上面,設(shè)置有沿平臺(tái)移動(dòng)方向延伸的兩根導(dǎo)桿158。平臺(tái)152被配置成其縱向朝向平臺(tái)移動(dòng)方向,同時(shí)被導(dǎo)桿158支撐為可以來(lái)回移動(dòng)。還有,在上述圖形形成裝置中,具有用于沿導(dǎo)桿158驅(qū)動(dòng)平臺(tái)152的未圖示的驅(qū)動(dòng)裝置。
      在安裝臺(tái)156的中央部分,設(shè)有コ字狀的門160,以便跨過(guò)平臺(tái)152的移動(dòng)路線。將コ字狀的門160的每個(gè)端部固定在安裝臺(tái)156的兩側(cè)。夾著該門160在一側(cè)設(shè)置有掃描器162,在另一側(cè)設(shè)置有檢測(cè)圖形形成材料150前端和后端的多個(gè)(例如2個(gè))檢測(cè)傳感器164。掃描器162和檢測(cè)傳感器164分別安裝在門160上,并固定設(shè)置在平臺(tái)152的移動(dòng)路線的上方。還有,掃描器162和檢測(cè)傳感器164與控制這些的未圖示的控制器相連接。
      如圖8和圖9(B)中所示,掃描器162具有排列為m行n列(例如,3行5列)的大致矩陣狀的多個(gè)(例如,14個(gè))曝光頭166。在該例中,考慮與圖形形成材料150的寬度的關(guān)系,在第3行設(shè)置了4個(gè)曝光頭166。還有,當(dāng)表示排列在第m行的第n列的每個(gè)曝光頭時(shí),可表示為曝光頭166mn。
      由曝光頭166形成的曝光區(qū)168是把副掃描方向作為短邊的矩陣狀。因此,隨著平臺(tái)152的移動(dòng),在圖形形成材料150上由每個(gè)曝光頭166形成帶狀的曝光完成區(qū)域170。還有,當(dāng)表示由排列在第m行的第n列的每個(gè)曝光頭產(chǎn)生的曝光區(qū)時(shí),可表示為曝光區(qū)168mn。
      另外,如圖9(A)和圖9(B)中所示,為了使帶狀的曝光完成區(qū)域170沿與副掃描方向正交的方向無(wú)間隙地排列,將排列為線狀的各行的曝光頭分別在排列方向上錯(cuò)開(kāi)規(guī)定間隔(曝光區(qū)長(zhǎng)邊的整數(shù)倍,在本例中是2倍)進(jìn)行設(shè)置。因此,第一行的曝光區(qū)16811和曝光區(qū)16812之間不能曝光的部分可以通過(guò)第二行的曝光區(qū)16821和第三行的曝光區(qū)16831進(jìn)行曝光。
      如圖10和圖11所示,曝光頭16811~168mn分別具有把入射的光束根據(jù)圖形信息調(diào)制的作為上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)(對(duì)每個(gè)圖形進(jìn)行調(diào)制的空間光調(diào)制元件)的美國(guó)テキサス·インスツルメンツ社制的數(shù)字·微型反射鏡·裝置(DMD)50。DMD50與具有數(shù)據(jù)處理部分和反射鏡驅(qū)動(dòng)控制部分的上述控制器302(參考圖12)連接。在該控制器302的數(shù)據(jù)處理部分,根據(jù)輸入的圖形信息,產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)并控制每個(gè)曝光頭166中DMD50應(yīng)該控制的區(qū)域內(nèi)的各微型反射鏡的控制信號(hào)。還有,對(duì)于應(yīng)該控制的區(qū)域進(jìn)行后述。另外,在反射鏡驅(qū)動(dòng)控制部分,根據(jù)由圖形信息處理部分產(chǎn)生的控制信號(hào),控制各曝光頭166中DMD50的各個(gè)微型反射鏡的反射面角度。還有,對(duì)反射面角度的控制進(jìn)行后述。
      在DMD50的光入射側(cè)依次設(shè)有具有光纖的射出端部(發(fā)光點(diǎn))沿與曝光區(qū)168長(zhǎng)邊方向?qū)?yīng)的方向排列為一列的激光射出部分的纖維陣列光源66、校正由纖維陣列光源66射出的激光并使其聚光在DMD上的透鏡體系67、將透過(guò)了透鏡體系67的激光向DMD50反射的反射鏡69。還有,在圖10中,大致示出了透鏡體系67。
      透鏡體系67如在圖11中詳細(xì)表示,由將作為從纖維陣列光源66射出的照明光的激光B聚光的聚光透鏡71、插入在通過(guò)了聚光透鏡71的光的光路上的棒狀光學(xué)積分器(以下有時(shí)稱為棒形積分器)72、和設(shè)置在棒形積分器72的前方即反射鏡69側(cè)的成像透鏡74組成。聚光透鏡71、棒形積分器72和成像透鏡74使從纖維陣列光源66射出的激光作為接近平行光而且光束截面內(nèi)強(qiáng)度均勻化的光束射入DMD50中。對(duì)于該棒形積分器72的形狀和作用以后進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
      由透鏡體系67射出的激光B在反射鏡69進(jìn)行反射,通過(guò)TIR(全反射)棱鏡70照射在DMD50上。還有,在圖10中,省略了該TIR棱鏡70。
      另外,在DMD50的光反射側(cè),設(shè)置有使由DMD50反射的激光B在圖形形成材料150上進(jìn)行成像的成像光學(xué)體系51。在圖10中大致示出了該成像光學(xué)體系51,如在圖11中所示,其具體由由透鏡體系52、54組成的第一成像光學(xué)體系、由透鏡體系57,58組成的第二成像光學(xué)體系、插入在這些成像光學(xué)體系之間的微透鏡陣列55和開(kāi)口陣列59組成。
      微透鏡陣列55是將相應(yīng)于DMD50各描素的多個(gè)微透鏡55a排列為二維形狀而形成的。在本例中,如下所述,由于在DMD50的1024個(gè)×768列的微透鏡中僅僅驅(qū)動(dòng)1024個(gè)×256列,所以與其相應(yīng)地設(shè)置1024個(gè)×256列微透鏡55a。另外微透鏡55a的設(shè)置間距在縱向、橫向都是41μm。作為一個(gè)例子,該微透鏡55a的焦距為0.19mm,NA(數(shù)值孔徑)是0.11,由光學(xué)玻璃BK7形成。還有對(duì)于微透鏡55a的形狀,以后進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
      于是,在各微透鏡55a的位置中的激光B的光束直徑是41μm。
      另外,開(kāi)口陣列59是通過(guò)形成與微透鏡陣列55的各微透鏡55a對(duì)應(yīng)的多個(gè)開(kāi)口59a形成的。開(kāi)口59a的直徑是例如10μm。
      上述第一成像光學(xué)體系將由DMD50產(chǎn)生的圖形放大3倍而成像在微透鏡陣列55上。然后,上述第二成像光學(xué)體系將經(jīng)過(guò)微透鏡陣列55的圖形放大1.6倍而成像、投影在圖形形成材料150上。因此就整體來(lái)說(shuō),等于把由DMD50產(chǎn)生的圖形放大4.8倍而成像、投影在圖形形成材料150上。
      還有,在上述第二成像光學(xué)體系和圖形形成材料150之間設(shè)有一對(duì)棱鏡73,通過(guò)使該一對(duì)棱鏡73在圖11中沿上下方向移動(dòng),可以調(diào)節(jié)在圖形形成材料150上的圖形的中心。而且在該圖中,圖形形成材料150沿箭頭方向進(jìn)行副掃描。
      作為上述描素部,只要可以接受并射出來(lái)自上述光照射機(jī)構(gòu)的光,就沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如,在由本發(fā)明的圖形形成方法形成的圖形是圖像圖形時(shí)是像素,在上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)含有DMD時(shí)是微型反射鏡。
      作為所述光調(diào)制元件具有的描素部的個(gè)數(shù)(所述n)沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇。
      作為上述光調(diào)制元件中描素部的排列沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如,優(yōu)選排列為二維形狀,更優(yōu)選排列為格子狀。
      &lt;光照射機(jī)構(gòu)&gt;
      作為上述光照射機(jī)構(gòu),沒(méi)有特別限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,可列舉例如(超)高壓汞燈、氙燈、碳弧燈、鹵燈、復(fù)印機(jī)用等螢光管、LED、半導(dǎo)體激光等公知光源、或者合成二種以上的光而可以照射的機(jī)構(gòu),其中優(yōu)選合成二種以上的光而可以照射的機(jī)構(gòu)。
      作為由上述光照射機(jī)構(gòu)照射的光,例如,在通過(guò)支撐體進(jìn)行光照射時(shí),可列舉透過(guò)該支撐體而且使所用的光聚合引發(fā)劑和增感劑活性化的電磁波、由紫外至可見(jiàn)光線、電子射線、X射線、激光等,其中優(yōu)選激光,更優(yōu)選合成二種以上光的激光(以下有時(shí)稱為“復(fù)合波激光”)。另外即使在剝離支撐體之后進(jìn)行光照射的情況下,也可以使用同樣的光。
      作為上述紫外至可見(jiàn)光線的波長(zhǎng),例如,優(yōu)選300-1500nm,更優(yōu)選320-800nm,特別優(yōu)選330nm-650nm。
      作為上述激光的波長(zhǎng),例如,優(yōu)選200-1500nm,更優(yōu)選300-800nm,進(jìn)一步優(yōu)選330nm-500nm,特別優(yōu)選400nm-450nm。
      作為上述可以照射復(fù)合波激光的機(jī)構(gòu),例如,優(yōu)選具有多個(gè)激光器、多模光纖和將由該多個(gè)激光器分別照射的激光聚光而使其結(jié)合于上述多模光纖的集合光學(xué)體系的機(jī)構(gòu)。
      下面,對(duì)可以照射上述復(fù)合波激光的機(jī)構(gòu)(纖維陣列光源)一邊參考圖一邊進(jìn)行說(shuō)明。
      如在圖27a中所示,纖維陣列光源66具有多個(gè)(例如,14個(gè))激光模塊64,各激光模塊64上結(jié)合有多模光纖30的一端。在多模光纖30的另一端,結(jié)合有芯徑與多模光纖30相同而且包層直徑小于多模光纖30的光纖31。如在圖27b中所詳示,多模光纖31的與光纖30相反側(cè)的端部沿與副掃描方向正交的主掃描方向并列排列7個(gè),通過(guò)將其排列為2列構(gòu)成激光射出部分68。
      由多模光纖31的端部構(gòu)成的激光射出部分68如在圖27b中所示,被兩塊表面平坦的支撐板65夾持固定。另外,在多模光纖31的光射出端面,最好設(shè)置玻璃等透明的保護(hù)板,以便保護(hù)它。多模光纖31的光射出端面雖然由于光密度高而易于吸塵、劣化,但是通過(guò)設(shè)置如上所述的保護(hù)板,可以防止端面吸附塵埃,還可以延遲劣化。
      在該例中,為了將包層直徑小的光纖31的射出端無(wú)間隙地排列為一列,如下所述地進(jìn)行排列,在包層直徑大的部分相鄰的兩根多模光纖30之間累積多模光纖30,并使結(jié)合于累積的多模光纖30的光纖31的射出端夾持于在包層直徑大的部分相鄰的兩根多模光纖30上連接的光纖31的兩個(gè)射出端之間。
      例如,如在圖28中所示,這樣的光纖可以通過(guò)在包層直徑大的多模光纖30的激光射出側(cè)的前端部分,同軸結(jié)合長(zhǎng)1-30cm的包層直徑小的光纖31而獲得。兩根光纖融著結(jié)合成光纖31的入射端面在多模光纖30的射出端面且兩光纖的中心軸一致。如上所述,光纖31的芯31a的直徑與多模光纖30的芯30a的直徑具有相同大小。
      另外,也可以將在長(zhǎng)度短且包層直徑大的光纖上融著了包層直徑小的光纖而得到的短尺寸光纖通過(guò)套圈和光連接器與多模光纖30的射出端連接。由于使用連接器可以離合地進(jìn)行連接,所以在包層直徑小的光纖破損等情況下前端部分的更換變得容易,可以降低曝光頭維修所需要的成本。還有,下面有時(shí)把光纖31稱為多模光纖30的射出端部分。
      作為多模光纖30和光纖31,也可以是階梯折射率型光纖、折射率漸變型光纖和復(fù)合型光纖中的任何一種。例如,可以使用三菱電線工業(yè)株式會(huì)社制的階梯折射率型光纖。在本實(shí)施方式中,多模光纖30和光纖31是階梯折射率型光纖,多模光纖30的包層直徑=125μm,芯徑=25μm,NA=0.2,入射端面涂層的透射比=99.5%以上,光纖31的包層直徑=60μm,芯徑=25μm,NA=0.2。
      一般地,就紅外區(qū)域的激光來(lái)說(shuō),如果使光纖的包層直徑變小,則傳播損失會(huì)增加。因此,根據(jù)激光的波長(zhǎng)區(qū)域決定適當(dāng)?shù)陌鼘又睆?。但是,波長(zhǎng)越短傳播損失變得越少,就由GaN系半導(dǎo)體激光器射出的波長(zhǎng)405nm的激光來(lái)說(shuō),即使使包層直徑的厚度{(包層直徑—芯徑)/2}變?yōu)閭鞑?00nm波長(zhǎng)區(qū)域的紅外光時(shí)的約1/2、傳播通信用的1.5μm波長(zhǎng)區(qū)域的紅外光時(shí)的約1/4,傳播損失也幾乎不會(huì)增加。因此,可以使包層直徑縮小至60μm。
      但是,光纖31的包層直徑并不限于60μm。以往用于纖維陣列光源的光纖的包層直徑是125μm,但是由于包層直徑變得越小焦深變得越深,多模光纖的包層直徑優(yōu)選80μm以下,更優(yōu)選60μm以下,進(jìn)一步優(yōu)選為40μm以下。另一方面,芯徑需要至少3-4μm,所以光纖31的包層直徑優(yōu)選10μm以上。
      激光模塊64由示于圖29中的復(fù)合波激光光源(纖維陣列光源)構(gòu)成。該復(fù)合波激光光源由在加熱塊10上排列固定的多個(gè)(例如7個(gè))芯片狀橫向多模或者單模的GaN系半導(dǎo)體激光器LD1、LD2、LD3、LD4、LD5、LD6以及LD7;分別對(duì)應(yīng)于GaN系半導(dǎo)體激光器LD1-LD7設(shè)置的準(zhǔn)直透鏡11、12、13、14、15、16以及17;一個(gè)聚光透鏡20和一束多模光纖30構(gòu)成。還有,半導(dǎo)體激光器的個(gè)數(shù)并不限于7個(gè)。例如,在包層直徑=60μm、芯徑=50μm、NA=0.2的多模光纖中,也可以入射20束半導(dǎo)體激光,實(shí)現(xiàn)曝光頭的必要光量,可以進(jìn)一步地減少光纖根數(shù)。
      GaN系半導(dǎo)體激光器LD1-LD7振蕩波長(zhǎng)全部是共同的(例如,405nm),最大功率也全部是共同的(例如,就多模激光器來(lái)說(shuō)是100mW,就單模激光器來(lái)說(shuō)是30mW)。還有,作為GaN系半導(dǎo)體激光器LD1-LD7,也可以使用在350nm-450nm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)具有上述405nm以外的振蕩波長(zhǎng)的激光器。
      上述復(fù)合波激光光源如在圖30和圖31中所示,與其它的光學(xué)元件一起,被收集在上方開(kāi)口的箱狀的封裝(package)40內(nèi)。封裝40具有做成封閉其開(kāi)口的封裝蓋41,在抽氣處理后導(dǎo)入密封氣體,并用封裝蓋41封閉封裝40的開(kāi)口,由此在由封裝40和封裝蓋41形成的密閉空間(封閉空間)內(nèi)將上述復(fù)合波激光光源氣體密封。
      在封裝40的底面固定有基板42,在該基板42的上面安裝有上述加熱塊10、保持聚光透鏡20的聚光透鏡夾持器45和保持多模光纖30的入射端部分的光纖夾持器46。多模光纖30的射出端部分由形成在封裝40的壁面的開(kāi)口引出到封裝外。
      另外,在加熱塊10的側(cè)面安裝有準(zhǔn)直透鏡夾持器44,保持準(zhǔn)直透鏡11-17。在封裝40的橫壁面形成有開(kāi)口,通過(guò)該開(kāi)口將向GaN系半導(dǎo)體激光器LD1-LD7供給驅(qū)動(dòng)電流的布線引出到封裝外。
      還有,在圖31中,為了避免圖的復(fù)雜化,在多個(gè)GaN系半導(dǎo)體激光器之中只對(duì)GaN系半導(dǎo)體激光器LD7附加了符號(hào),在多個(gè)準(zhǔn)直透鏡中只對(duì)準(zhǔn)直透鏡17附加了符號(hào)。
      圖32表示上述準(zhǔn)直透鏡11-17的安裝部分的正面形狀。準(zhǔn)直透鏡11-17分別形成為以平行的平面細(xì)長(zhǎng)地切割含有具有非球面的圓形透鏡的光軸的區(qū)域的形狀。該細(xì)長(zhǎng)形狀的準(zhǔn)直透鏡可以通過(guò)將例如樹(shù)脂或者光學(xué)玻璃的模塑成形來(lái)形成。準(zhǔn)直透鏡11-17在發(fā)光點(diǎn)的排列方向密接設(shè)置,以便長(zhǎng)度方向與GaN系半導(dǎo)體激光器LD1-LD7的上述發(fā)光點(diǎn)的排列方向(圖32的左右方向)正交。
      另一方面,作為GaN系半導(dǎo)體激光器LD1-LD7,使用的是具有發(fā)光寬度為2μm的活性層且在與活性層平行方向、正交方向的擴(kuò)展角分別為10°、30°的狀態(tài)下發(fā)散各激光B1-B7的激光器。這些GaN系半導(dǎo)體激光器LD1-LD7被設(shè)置成發(fā)光點(diǎn)在與活性層平行的方向排成一列。
      因此,由各發(fā)光點(diǎn)發(fā)出的激光B1-B7相對(duì)于如上所述細(xì)長(zhǎng)形狀的各準(zhǔn)直透鏡11-17,在擴(kuò)展角度大的方向與長(zhǎng)度方向一致且擴(kuò)展角度小的方向與寬度方向(與長(zhǎng)度方向正交的方向)一致的狀態(tài)下入射。即,各準(zhǔn)直透鏡11-17的寬度為1.1mm、長(zhǎng)度為4.6mm,入射至其中的激光B1-B7的水平方向、垂直方向的光束直徑分別是0.9mm、2.6mm。另外,準(zhǔn)直透鏡11-17各焦點(diǎn)距離f1=3mm、NA=0.6、透鏡設(shè)置間距=1.25mm。
      聚光透鏡20通過(guò)以平行的平面細(xì)長(zhǎng)地切割含有具有非球面的圓形透鏡的光軸的區(qū)域的形狀,形成準(zhǔn)直透鏡11-17的排列方向、即水平方向長(zhǎng)、與其正交的方向短的形狀。該聚光透鏡20的焦點(diǎn)距離f2=23mm,NA=0.2。該聚光透鏡20也通過(guò)將例如樹(shù)脂或者光學(xué)玻璃模塑成形來(lái)形成。
      另外,在照明DMD的光照射機(jī)構(gòu)中,由于使用將復(fù)合波激光光源的光纖的射出端部排列為陣列狀的高亮度的纖維陣列光源,所以可以實(shí)現(xiàn)具有高功率而且深的焦深的圖形形成裝置。另外,由于各纖維陣列光源的功率變大,用于獲得所需功率的纖維陣列光源數(shù)變少,使得圖形形成裝置低成本化。
      另外,由于使光纖射出端的包層直徑小于入射端的包層直徑,所以發(fā)光部分直徑變得更小,使得纖維陣列光源高亮度化。因此,可以實(shí)現(xiàn)具有更深焦深的圖形形成裝置。例如,即使在光束直徑1μm以下、分辨率在0.1μm以下的超高分辨率曝光的情況下,也可以獲得深的焦深,可以進(jìn)行高速而且高精細(xì)的曝光。因此,可適用于需要高分辨率的薄膜晶體管(TFT)的曝光工序。
      另外,作為上述光照射機(jī)構(gòu),并不限于上述具有多個(gè)復(fù)合波激光光源的纖維陣列光源,例如,可以使用將具有一根光纖的纖維光源陣列化的纖維陣列光源,所述光纖可射出由具有一個(gè)發(fā)光點(diǎn)的單一半導(dǎo)體激光器入射的激光。
      另外,作為具有多個(gè)發(fā)光點(diǎn)的光照射機(jī)構(gòu),例如,如在圖33中所示,可以使用在加熱塊100上排列多個(gè)(例如,7個(gè))芯片狀的半導(dǎo)體激光器LD1-LD7的激光陣列。還已知在圖34(A)中所示的多個(gè)(例如,5個(gè))發(fā)光點(diǎn)110a按規(guī)定方向排列的芯片狀的多模穴激光器110。多模穴激光器110與排列芯片狀的半導(dǎo)體激光器的情況相比,由于可以位置精度良好地排列發(fā)光點(diǎn),所以由各發(fā)光點(diǎn)射出的激光易于形成復(fù)合波。但是,如果發(fā)光點(diǎn)變多,則由于在制造激光器時(shí)多模穴激光器110易于產(chǎn)生彎曲,所以優(yōu)選發(fā)光點(diǎn)110a的個(gè)數(shù)為5個(gè)以下。
      作為上述光照射機(jī)構(gòu),可以將多模穴激光器110或圖34(B)中所示的在加熱塊100上多個(gè)多模穴激光器110在與各芯片發(fā)光點(diǎn)110a的排列方向相同方向排列的多模穴激光陣列用作激光光源。
      另外,復(fù)合波激光光源并不限于使由多個(gè)芯片狀的半導(dǎo)體激光器射出的激光形成復(fù)合波的光源。例如,如在圖21中所示,可以使用具備具有多個(gè)(例如,3個(gè))發(fā)光點(diǎn)110a的芯片狀多模穴激光器110的復(fù)合波激光光源。該復(fù)合波激光光源具有多模穴激光器110、一根多模光纖130和聚光透鏡120。多模穴激光器110可以由例如振蕩波長(zhǎng)為405nm的GaN系激光二極管構(gòu)成。
      在上述結(jié)構(gòu)中,由多模穴激光器110的多個(gè)發(fā)光點(diǎn)110a分別射出的激光B分別被聚光透鏡120聚光,射入多模光纖130的芯部130a。射入芯部130a的激光在光纖內(nèi)傳播,形成一束復(fù)合波射出。
      在與上述多模光纖130的芯徑大致相等的寬度內(nèi)并列設(shè)置多模穴激光器110的多個(gè)發(fā)光點(diǎn)110a,同時(shí)使用焦點(diǎn)距離與多模光纖130的芯徑大致相等的凸透鏡或?qū)?lái)自多模穴激光器110的射出光束只在垂直于該活性層的面內(nèi)校準(zhǔn)的棒形透鏡作為聚光透鏡120,可以提高激光B向多模光纖130的結(jié)合效率。
      另外,如在圖35中所示,可以使用具有在加熱塊111上多個(gè)(例如,9個(gè))多模穴激光器110互相以等間隔排列的激光陣列140的復(fù)合波激光光源,該多模穴激光器110具有多個(gè)(例如,3個(gè))發(fā)光點(diǎn)。多個(gè)多模穴激光器110在與各芯片發(fā)光點(diǎn)110a排列方向相同方向上被排列固定。
      該復(fù)合波激光光源具有激光陣列140、與各多模穴激光器110對(duì)應(yīng)設(shè)置的多個(gè)透鏡陣列114、在激光陣列140和多個(gè)透鏡陣列114之間設(shè)置的一個(gè)棒形透鏡113、一根多模光纖130和聚光透鏡120。透鏡陣列114具有對(duì)應(yīng)于多模穴激光器110的發(fā)光點(diǎn)的多個(gè)微透鏡。
      在上述結(jié)構(gòu)中,由多個(gè)多模穴激光器110的多個(gè)發(fā)光點(diǎn)10a各自射出的激光B分別通過(guò)棒形透鏡113在規(guī)定方向進(jìn)行聚光,然后,通過(guò)透鏡陣列114的各微透鏡進(jìn)行平行光化。經(jīng)平行光化的激光L通過(guò)聚光透鏡120進(jìn)行聚光,射入多模光纖130的芯部130a。射入芯部130a的激光在光纖內(nèi)傳播,形成一束復(fù)合波射出。
      還示出了其它復(fù)合波激光光源的例子。該復(fù)合波激光光源如在圖36(A)和(B)中所示,在大致矩形形狀的加熱塊180上裝載光軸方向的截面為L(zhǎng)字狀的加熱塊182,在兩個(gè)加熱塊間形成有接收空間。在L字狀的加熱塊182的上面,多個(gè)發(fā)光點(diǎn)(例如,5個(gè))排列為陣列狀的多個(gè)(例如,2個(gè))多模穴激光器110在與各芯片發(fā)光點(diǎn)110a排列方向相同方向上以等間隔被排列固定。
      在大致矩形形狀的加熱塊180上形成有凹陷部分,在加熱塊180的空間側(cè)上面,設(shè)置有多個(gè)發(fā)光點(diǎn)(例如,5個(gè))排列為陣列狀的多個(gè)(例如,2個(gè))多模穴激光器110,其中該發(fā)光點(diǎn)與設(shè)置在加熱塊182上面的激光芯片的發(fā)光點(diǎn)位于同一垂直面上。
      在多模穴激光器110的激光射出側(cè),配置有與各芯片的發(fā)光點(diǎn)110a對(duì)應(yīng)排列的準(zhǔn)直透鏡的準(zhǔn)直透鏡陣列184。該準(zhǔn)直透鏡陣列184被設(shè)置為,各準(zhǔn)直透鏡的長(zhǎng)度方向和激光擴(kuò)展角大的方向(快軸方向)一致,各準(zhǔn)直透鏡的寬度方向和激光擴(kuò)展角小的方向(慢軸方向)一致。這樣一來(lái),通過(guò)將準(zhǔn)直透鏡陣列化而進(jìn)行一體化,提高了激光的空間利用效率,使復(fù)合波激光光源高功率化,同時(shí)可以減少元件個(gè)數(shù),達(dá)到低成本化。
      另外,在準(zhǔn)直透鏡陣列184的激光射出側(cè),設(shè)置有一根多模光纖130和使激光在該多模光纖130的入射端聚光并結(jié)合的聚光透鏡120。
      在上述結(jié)構(gòu)中,由設(shè)置在激光模塊180、182上的多個(gè)多模穴激光器110的多個(gè)發(fā)光點(diǎn)10a分別射出的激光B分別通過(guò)準(zhǔn)直透鏡陣列184平行光化,通過(guò)聚光透鏡120進(jìn)行聚光,射入多模光纖130的芯部130a。射入芯部130a的激光在光纖內(nèi)傳播,形成一束復(fù)合波射出。
      上述復(fù)合波激光光源如上所述,通過(guò)多模穴激光器的多級(jí)配置和準(zhǔn)直透鏡的陣列化,可以達(dá)到高功率化。通過(guò)使用該復(fù)合波激光光源,可以構(gòu)成更高亮度的纖維陣列光源或纖維束(bundle fiber)光源,所以特別適合作為構(gòu)成本發(fā)明圖形形成裝置的激光光源的纖維光源。
      還有,可以將上述各復(fù)合波激光光源收集在箱內(nèi),構(gòu)成由該箱引出多模光纖130的射出端部分的激光模塊。
      還對(duì)于在復(fù)合波激光光源的多模光纖的射出端通過(guò)結(jié)合芯部直徑與多模光纖相同而且包層直徑小于多模光纖的其它光纖使得纖維陣列光源高亮度化的例子進(jìn)行了說(shuō)明,但是也可以在射出端不結(jié)合其它光纖而使用包層直徑為125μm、80μm、60μm的多模光纖。
      在這里,對(duì)本發(fā)明的上述圖形形成方法進(jìn)行進(jìn)一步說(shuō)明。
      在掃描器162的各曝光頭166中,由構(gòu)成纖維陣列光源66的復(fù)合波激光光源的GaN系半導(dǎo)體激光器LD1-LD7分別在發(fā)散狀態(tài)下射出的激光B1、B2、B3、B4、B5、B6和B7分別通過(guò)對(duì)應(yīng)的準(zhǔn)直透鏡11-17平行光化。平行光化的激光B1-B7通過(guò)聚光透鏡20聚光,收斂于多模光纖30的芯部30a的入射端面。
      在本例中,由準(zhǔn)直透鏡11-17和聚光透鏡20構(gòu)成聚光光學(xué)體系,由該聚光光學(xué)體系和多模光纖30構(gòu)成復(fù)合波光學(xué)體系。即,由聚光透鏡如上所述地聚光的激光B1-B7射入該多模光纖30的芯部30a而在光纖內(nèi)傳播,通過(guò)復(fù)合為一束激光B由結(jié)合在多模光纖30的射出端部分的光纖31射出。
      在各激光模塊中,在激光B1-B7向多模光纖30的結(jié)合效率為0.85、GaN系半導(dǎo)體激光器LD1-LD7各功率為30mW的情況下,對(duì)于各個(gè)排列為陣列狀的光纖31,可以獲得功率180mW(=30mW×0.85×7)的復(fù)合波激光B。因此,6束光纖31在排列為陣列狀的激光射出端部68的功率為約1W(=180mW×6)。
      在纖維陣列光源66的激光射出端部68上,如此高亮度的發(fā)光點(diǎn)沿主掃描方向排列為一列。由于使來(lái)自單個(gè)半導(dǎo)體激光器的激光結(jié)合為一根光纖的以往纖維光源功率低,所以如果不排列為多個(gè)數(shù)列就不能獲得所希望的功率,但是由于上述復(fù)合波激光光源功率高,所以即使數(shù)列少,例如1列也可以獲得所希望的功率。
      例如,就使半導(dǎo)體激光器和光纖1對(duì)1結(jié)合的以往的光纖光源來(lái)說(shuō),由于作為半導(dǎo)體激光器通常使用功率約30mW(毫瓦)的激光器,作為光纖使用芯部直徑50μm、包層直徑125μm、NA(數(shù)值孔徑)0.2的多模光纖,所以如果要想獲得約1W(瓦)的功率,就必須捆扎48根(8×6)多模光纖,由于發(fā)光區(qū)域的面積是0.62mm2(0.675mm×0.925mm),所以在激光射出部分68的亮度是1.6×106(W/m2),每一根光纖的亮度是3.2×106(W/m2)。
      與此相反,當(dāng)上述光照射機(jī)構(gòu)是可以照射復(fù)合波激光的機(jī)構(gòu)時(shí),可以用6束多模光纖獲得約1W的功率,在激光射出部分68的發(fā)光區(qū)域的面積是0.0081mm2(0.325mm×0.025mm),所以在激光射出部分68的亮度是123×106(W/m2),可以將亮度比以往提高約80倍。另外,每一束光纖的亮度是90×106(W/m2),可以將亮度比以往提高約28倍。
      在這里,參考圖37(A)和(B),對(duì)以往曝光頭和本實(shí)施方式曝光頭的焦深的不同進(jìn)行說(shuō)明。以往曝光頭的束狀光纖光源的發(fā)光區(qū)域的副掃描方向的直徑是0.675mm,曝光頭的纖維陣列光源的發(fā)光區(qū)域的副掃描方向的直徑是0.025mm。如圖37(A)中所示,就以往曝光頭來(lái)說(shuō),由于光照射機(jī)構(gòu)(束狀光纖光源)1的發(fā)光區(qū)域大,所以向DMD3入射的光束的角度變大,結(jié)果向掃描面5入射的光束的角度變大。因此,光束直徑容易相對(duì)于聚光方向(焦點(diǎn)方向的偏移)變粗。
      另一方面,如圖37(B)中所示,就本發(fā)明圖形形成裝置中的曝光頭來(lái)說(shuō),由于纖維陣列光源66的發(fā)光區(qū)域的副掃描方向的直徑小,所以通過(guò)透鏡體系67向DMD50入射的光束的角度變小,結(jié)果向掃描面56入射的光束的角度變小。即,焦深變深。在該例中,發(fā)光區(qū)域的副掃描方向的直徑是以往的約30倍,可以獲得大致相當(dāng)于衍射極限的焦深。因此,適合于微小部位的曝光。對(duì)該焦深的效果,曝光頭的必要光量越大越顯著,越有效。在該例中,投影于曝光面的1描素的尺寸是10μm×10μm。還有,雖然DMD是反射型的空間光調(diào)制元件,但是為了說(shuō)明光學(xué)關(guān)系,圖37(A)和(B)中表示的是展開(kāi)圖。
      將對(duì)應(yīng)于曝光圖形的圖形信息輸入至與DMD50連接的未圖示的控制器,先存儲(chǔ)在控制器內(nèi)的幀(frame)存儲(chǔ)器中。該圖形信息是用2進(jìn)值(圓點(diǎn)記錄的有無(wú))表示了構(gòu)成圖像的各描素濃度的數(shù)據(jù)。
      在表面吸附有圖形形成材料150的平臺(tái)152通過(guò)未圖示的驅(qū)動(dòng)裝置,沿導(dǎo)桿158由門160的上游側(cè)向下游側(cè)以一定速度移動(dòng)。當(dāng)平臺(tái)152通過(guò)門160時(shí),如果用安裝在門160上的檢測(cè)傳感器164檢測(cè)出圖形形成材料150的前端,則存儲(chǔ)在幀存儲(chǔ)器中的圖形信息以多個(gè)線為單位依次被讀出,并根據(jù)在數(shù)據(jù)處理部分讀出的圖形信息產(chǎn)生控制各個(gè)曝光頭166的信號(hào)。然后,通過(guò)反射鏡驅(qū)動(dòng)控制部分,根據(jù)產(chǎn)生的控制信號(hào)在每個(gè)曝光頭166中對(duì)各個(gè)DMD50的微型反射鏡進(jìn)行開(kāi)關(guān)控制。
      如果由纖維陣列光源66向DMD50照射激光,則DMD50的微型反射鏡處于斷開(kāi)狀態(tài)時(shí)反射的激光通過(guò)透鏡體系54、58成像在圖形形成材料150的被曝光面56上。這樣一來(lái),由纖維陣列光源66射出的激光在每個(gè)像素被開(kāi)或關(guān),圖形形成材料150在與DMD50的使用描素?cái)?shù)大致相同數(shù)量的描素單元(曝光區(qū)168)上被予以曝光。另外,通過(guò)使圖形形成材料150與平臺(tái)152一起按照一定速度移動(dòng),用掃描器162沿與平臺(tái)移動(dòng)方向相反的方向?qū)D形形成材料150進(jìn)行副掃描,針對(duì)于每個(gè)曝光頭166形成帶狀的曝光完成區(qū)域170。
      &lt;微透鏡陣列&gt;
      上述曝光優(yōu)選使上述經(jīng)調(diào)制的光通過(guò)微透鏡陣列來(lái)進(jìn)行,另外也可以通過(guò)開(kāi)口陣列、成像光學(xué)體系等進(jìn)行。
      作為上述微透鏡陣列,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,但是可適當(dāng)?shù)嘏e出例如將微透鏡進(jìn)行排列所形成的微透鏡陣列,上述微透鏡具有可以校正由上述描素部的射出面的變形產(chǎn)生的像差的非球面。
      作為上述非球面,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如優(yōu)選復(fù)曲面。
      下面,對(duì)上述微透鏡陣列、上述開(kāi)口陣列和上述成像光學(xué)體系等一邊參考附圖一邊進(jìn)行說(shuō)明。
      圖13(A)表示由DMD50,向DMD50照射激光的光照射機(jī)構(gòu)144,將由DMD50反射的激光放大并成像的透鏡體系(成像光學(xué)體系)454、458,相應(yīng)于DMD50的各描素部分而設(shè)置了多個(gè)微透鏡474的微透鏡陣列472,相應(yīng)于微透鏡陣列472的各微透鏡而設(shè)置了多個(gè)開(kāi)口478的開(kāi)口陣列(aperture array)476,使通過(guò)了開(kāi)口的激光成像在被曝光面56上的透鏡體系(成像光學(xué)體系)480、482構(gòu)成的曝光頭。
      其中在圖14中,示出了測(cè)量構(gòu)成DMD50的微型反射鏡62反射面平面度的結(jié)果。在該圖中,用等高線連接并表示反射面的高度相同的位置,等高線的間距是5nm。而且在該圖中示出的x方向和y方向是微型反射鏡62的兩個(gè)對(duì)角線方向,使微型反射鏡62以向y方向延伸的旋轉(zhuǎn)軸為中心如上所述地進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。另外,圖15的(A)和(B)分別表示沿上述x方向、y方向的微型反射鏡62的反射面的高度位置的位移。
      如在圖14和圖15中所示,在微型反射鏡62的反射面上存在變形,而且特別是在反射鏡中央部分,一個(gè)對(duì)角線方向(y方向)的變形大于另一個(gè)對(duì)角線方向(x方向)的變形。因此,會(huì)產(chǎn)生用微透鏡陣列55的微透鏡55a聚光的激光B在聚光位置的形狀變形的問(wèn)題。
      在本發(fā)明的圖形形成方法中為了防止上述問(wèn)題,而使微透鏡陣列55的微透鏡55a形成為不同于以往的特殊形狀。下面,對(duì)此進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
      圖16(A)和(B)分別詳細(xì)地表示微透鏡陣列55整體的正面形狀和側(cè)面形狀。在這些圖中也記入了微透鏡陣列55各部分的尺寸,其單位是mm。在本發(fā)明的圖形形成方法中,如上面參考圖4進(jìn)行的說(shuō)明,驅(qū)動(dòng)DMD50的1024個(gè)×256列的微型反射鏡62,與此相應(yīng)地,微透鏡陣列55構(gòu)成為橫向排列有1024個(gè)微透鏡55a的列在縱向并列設(shè)置256列的結(jié)構(gòu)。還有,在該圖(A)中,將微透鏡陣列55排列順序在橫向用j表示,縱向用k表示。
      另外,圖17(A)和(B)分別表示在微透鏡陣列55中一個(gè)微透鏡55a的正面形狀和側(cè)面形狀。而且該圖(A)中還同時(shí)表示了微透鏡55a的等高線。各微透鏡55a光射出側(cè)的端面形成為可校正由微型反射鏡62反射面的變形產(chǎn)生的像差的非球面形狀。更加具體地講,微透鏡55a為復(fù)曲透鏡,與上述x方向光學(xué)對(duì)應(yīng)的方向的曲率半徑Rx=-0.125mm,與上述y方向?qū)?yīng)的方向的曲率半徑Ry=-0.1mm。
      因此,在與上述x方向和y方向平行的截面內(nèi)激光B的聚光狀態(tài)大致如分別在圖18(A)和(B)中所示。即,如果比較與x方向平行的截面內(nèi)和與y方向平行的截面內(nèi)時(shí),后者截面內(nèi)微透鏡55a的曲率半徑更小,焦點(diǎn)距離變得更短。
      用計(jì)算機(jī)模擬使微透鏡55a成為上述形狀時(shí)的、該微透鏡55a的聚光位置(焦點(diǎn)位置)附近的光束直徑的結(jié)果示于圖19a、b、c和d中。另外為了比較,對(duì)于微透鏡55a為曲率半徑Rx=Ry=-0.1mm的球面形狀的情況,在圖20a、b、c和d中示出了進(jìn)行同樣模擬的結(jié)果。還有,各圖中的z值是用離微透鏡55a的光束射出面的距離表示的微透鏡55a的焦點(diǎn)方向的評(píng)價(jià)位置。
      另外,上述用于模擬的微透鏡55a的面形狀可用下述計(jì)算式計(jì)算。
      Z=Cx2X2+Cy2Y21+SQRT(1-Cx2X2-Cy2Y2)]]>其中,在上述計(jì)算式中,Cx意味著x方向的曲率(=1/Rx),Cy意味著y方向的曲率(=1/Ry),X意味著在x方向上離透鏡光軸的距離,Y意味著在y方向上離透鏡光軸的距離。
      比較圖19a-d和圖20a-d就可知,在本發(fā)明的圖形形成方法中通過(guò)把微透鏡55a設(shè)為與y方向平行的截面內(nèi)的焦點(diǎn)距離小于與x方向平行的截面內(nèi)的焦點(diǎn)距離的復(fù)曲透鏡,可抑制其聚光位置附近的光束形狀變形。如果這樣,就可以在圖形形成材料150上曝光沒(méi)有變形的更加高精細(xì)的圖像。另外,可知示于圖21a-d中的本實(shí)施方式的光束直徑小的區(qū)域更廣,即焦深更大。
      還有,當(dāng)微型反射鏡62的x方向和y方向上的中央部分變形的大小關(guān)系與上述相反時(shí),如果由與x方向平行的截面內(nèi)的焦點(diǎn)距離小于與y方向平行的截面內(nèi)的焦點(diǎn)距離的復(fù)曲透鏡構(gòu)成微透鏡,則同樣地可以在圖形形成材料150上曝光沒(méi)有變形的更加高精細(xì)的圖像。
      另外,設(shè)置在微透鏡陣列55的聚光位置附近的開(kāi)口陣列59,被設(shè)為向其各開(kāi)口59a中只射入經(jīng)過(guò)了與其對(duì)應(yīng)的微透鏡55a的光。即,通過(guò)設(shè)置該開(kāi)口陣列59,可防止向各開(kāi)口59a中射入來(lái)自不與其對(duì)應(yīng)的相鄰微透鏡55a的光,從而可提高消光比。
      原來(lái),如果使為了上述目的設(shè)置的開(kāi)口陣列59的開(kāi)口59a的直徑減小一定程度,則也可以獲得抑制微透鏡55a聚光位置的光束形狀變形的效果。但是當(dāng)實(shí)際實(shí)施時(shí),被開(kāi)口陣列59遮斷的光量變得更多,光利用效率下降。與此相反,當(dāng)把微透鏡55a作為非球面形狀時(shí),由于沒(méi)有遮斷光,所以也較高地保持了光利用效率。
      另外,在本發(fā)明的圖形形成方法中,微透鏡55a既可以是二次的非球面形狀,也可以是更高次(四次、六次……)的非球面形狀。通過(guò)采用上述高次的非球面形狀,可以使光束形狀變得更加精細(xì)。
      另外,雖然在以上說(shuō)明的實(shí)施方式中,微透鏡55a的光射出側(cè)的端面為非球面(復(fù)曲面),但是由使兩個(gè)光通過(guò)端面的一方為球面而另一方為圓柱形的面的微透鏡構(gòu)成微透鏡陣列,也可以獲得與上述實(shí)施方式相同的效果。
      另外,在以上說(shuō)明的實(shí)施方式中,雖然微透鏡陣列55的微透鏡55a為可以校正由微型反射鏡62反射面的變形產(chǎn)生的像差的非球面形狀,但是使構(gòu)成微透鏡陣列的各微透鏡具有可以校正由微型反射鏡62反射面的變形產(chǎn)生的像差的折射率分布來(lái)代替采用這樣的非球面形狀,也可以獲得同樣的效果。
      這樣的微透鏡155a的一個(gè)例子示于圖22中。該圖的(A)和(B)分別表示該微透鏡155a的正面形狀和側(cè)面形狀,如圖所示,該微透鏡155a的外形形狀是平行平板狀。還有,在該圖中x、y方向如上所述。
      另外,圖23的(A)和(B)大致表示由微透鏡155a形成的與上述x方向和y方向平行的截面內(nèi)激光B的聚光狀態(tài)。該微透鏡155a具有由光軸O向外逐漸增大的折射率分布,在該圖中,示于微透鏡155a內(nèi)的虛線表示其折射率由光軸O以規(guī)定的等間距變化的位置。如圖所示,如果比較與x方向平行的截面內(nèi)和與y方向平行的截面內(nèi),則后者截面內(nèi)微透鏡155a的折射率變化的比例更大,焦點(diǎn)距離變得更短。使用由這種折射率分布型透鏡構(gòu)成的微透鏡陣列,也可以獲得與使用上述微透鏡陣列55時(shí)同樣的效果。
      還有,如上述圖17和圖18中所示的微透鏡55a,使面形狀成為非球面的微透鏡中,通過(guò)同時(shí)給予如上所述的折射率分布,利用面形狀和折射率分布著兩者,可以校正由微型反射鏡62反射面的變形產(chǎn)生的像差。
      另外,在上述的實(shí)施方式中,可以校正由構(gòu)成DMD50的微型反射鏡62反射面的變形產(chǎn)生的像差,但是即使在使用DMD以外的空間光調(diào)制元件的本發(fā)明的圖形形成方法中,當(dāng)該空間光調(diào)制元件的描素部的表面上存在變形時(shí),通過(guò)適用本發(fā)明也可以校正由其變形產(chǎn)生的像差,防止光束形狀產(chǎn)生變形。
      下面,對(duì)上述成像光學(xué)體系進(jìn)一步進(jìn)行說(shuō)明。
      在上述曝光頭中,如果由光照射機(jī)構(gòu)144照射激光,則被DMD50沿導(dǎo)通方向反射的光束線的截面面積通過(guò)透鏡體系454、458放大為數(shù)倍(例如,2倍)。放大的激光通過(guò)微透鏡陣列472的各個(gè)微透鏡而相應(yīng)于DMD50的各描素部分進(jìn)行聚光,通過(guò)對(duì)應(yīng)于開(kāi)口陣列476的開(kāi)口。通過(guò)開(kāi)口的激光由透鏡體系480、482成像在被曝光面56上。
      在該成像光學(xué)體系中,由于由DMD50反射的激光通過(guò)放大透鏡454、458放大為數(shù)倍而投影在被曝光面56上,所以整個(gè)圖形區(qū)域變大。這時(shí),如果不設(shè)置微透鏡陣列472和開(kāi)口陣列476,則如在圖13(B)中所示,投影在被曝光面56上的各光束點(diǎn)BS的1描素尺寸(光點(diǎn)直徑)相對(duì)于曝光區(qū)468的尺寸較大,表示曝光區(qū)468的清晰度的MTF(ModulationTrandfer Function)特性下降。
      另一方面,設(shè)置有微透鏡陣列472和開(kāi)口陣列476時(shí),由DMD50反射的激光通過(guò)微透鏡陣列472的各個(gè)微透鏡,對(duì)應(yīng)于DMD50的各描素部進(jìn)行聚光。由此,如在圖13(C)中所示,即使在曝光區(qū)被放大的情況下,也可以使各光束點(diǎn)BS的光點(diǎn)直徑縮小為所希望的大小(例如,10μm×10μm),可以防止MTF特性下降而進(jìn)行高精細(xì)的曝光。還有,曝光區(qū)468傾斜是為了消除描素間間隙而傾斜設(shè)置DMD的緣故。
      另外,即使有時(shí)由微透鏡的像差產(chǎn)生的光束較粗,也可以通過(guò)開(kāi)口陣列調(diào)整光束,以便被曝光面56上的光點(diǎn)尺寸變?yōu)橐?guī)定的大小,同時(shí)通過(guò)使其經(jīng)過(guò)對(duì)應(yīng)于各描素設(shè)置的開(kāi)口陣列,可以防止相鄰的圖形間的交調(diào)失真。
      另外,由于在光照射機(jī)構(gòu)144中使用后述的高亮度光源,由透鏡458向微透鏡陣列472的各個(gè)微透鏡射入的光束角度變小,所以可以防止入射一部分相鄰描素的光束。即,可以實(shí)現(xiàn)高消光比。
      &lt;其它光學(xué)體系&gt;
      在本發(fā)明的圖形形成方法中,也可以同時(shí)使用適當(dāng)選自公知的光學(xué)體系中的其它的光學(xué)體系,可列舉例如由一對(duì)組合透鏡組成的光量分布校正光學(xué)體系。
      上述光量分布校正光學(xué)體系中,通過(guò)改變各射出位置的光束寬度,使相對(duì)于接近光軸中心部分的光束寬的周邊部分的光束寬的比值,在射出側(cè)小于入射側(cè),向DMD照射來(lái)自光照射機(jī)構(gòu)的平行光束時(shí),校正為被照射面的光量分布大致均勻。下面,對(duì)上述光量分布校正光學(xué)體系一邊參考附圖一邊進(jìn)行說(shuō)明。
      首先,如在圖23(A)中所示,對(duì)于在入射光束和射出光束中其整體的光束寬(全光束寬)H0、H1相同的情況進(jìn)行說(shuō)明。還有,在圖23(A)中,用符號(hào)51、52表示的部分是虛擬地表示上述光量分布校正光學(xué)體系中入射面和射出面的部分。
      在上述光量分布校正光學(xué)體系中,向接近光軸Z1的中心部分射入的光束和向周邊部分射入的光束的各自的光束寬h0、h1相同(h0=h1)。上述光量分布校正光學(xué)體系中,對(duì)于在入射側(cè)相同光束寬h0,h1的光,對(duì)中心部分的入射光束,實(shí)施使該光束寬h0放大的作用,相反,對(duì)周邊部分的入射光束進(jìn)行使該光束寬h1縮小的作用。即,對(duì)于中心部分的射出光束寬h10和周邊部分的射出光束寬h11,設(shè)法使h11<h10。如果用光束寬的比率表示,則射出側(cè)的周邊部分的光束寬對(duì)中心部分的光束寬的比“h11/h10”與入射側(cè)的比(h1/h0=1)相比有所減小((h11/h10)<1)。
      通過(guò)這樣改變光束寬,通常可以使光量分布變大的中央部分的光束有效利用于光量不足的周邊部分,從而可以在避免整體的光的利用效率下降的條件下,將被照射面的光量分布大致均一化。均一化的程度例如可設(shè)為有效區(qū)域內(nèi)的光量不均在30%以內(nèi),優(yōu)選20%以內(nèi)。
      根據(jù)上述光量分布校正光學(xué)體系的作用、效果,在入射側(cè)和射出側(cè),即使在改變整體的光束寬的情況(圖24(B),(C))下也是相同的。
      圖24(B)表示將入射側(cè)整體的光束寬H0縮小為寬H2射出的情況(H0>H2)。即使在這樣的情況下,上述光量分布校正光學(xué)體系也可以將在入射側(cè)相同光束寬h0、h1的光在射出側(cè)使中央部分的光束寬h10大于周邊部分,相反,周邊部分的光束寬h11小于中心部分。如果考慮用光束的縮小率表示,則使相對(duì)于中心部分入射光束的縮小率小于周邊部分,相對(duì)于周邊部分入射光束的縮小率大于中心部分。即使在這種情況下,周邊部分的光束寬對(duì)中心部分的光束寬的比“H11/H10”也比入射側(cè)的比(h1/h0=1)小((h11/h10)<1)。
      圖24(C)表示使入射側(cè)整體的光束寬H0放大為寬H3而射出的情況(H0<H3=。即使在這樣的情況下,上述光量分布校正光學(xué)體系也可以將在入射側(cè)相同光束寬h0、h1的光在射出側(cè)使中央部分的光束寬h10大于周邊部分,相反,周邊部分的光束寬h11小于中心部分。如果考慮用光束的放大率表示,則使相對(duì)于中心部分入射光束的放大率大于周邊部分,相對(duì)于周邊部分入射光束的放大率小于中心部分。即使在該情況下,周邊部分的光束寬對(duì)中心部分的光束寬的比“H11/H10”也比入射側(cè)的比(h1/h0=1)小((h11/h10)<1)。
      如上所述,由于上述光量分布校正光學(xué)體系改變了各射出位置的光束寬,使周邊部分的光束寬對(duì)接近光軸Z1的中心部分的光束寬的比在射出側(cè)變得比入射側(cè)小,所以在入射側(cè)相同光束寬的光,在射出側(cè),中央部分的光束寬大于周邊部分,周邊部分的光束寬小于中心部分。由此,可以將中央部分的光束有效利用于周邊部分,在可避免作為光學(xué)體系整體的光的利用效率下降的條件下,能夠形成光量分布大致均一化的光束截面。
      下面,表示用作上述光量分布校正光學(xué)體系的一對(duì)組合透鏡的具體的透鏡數(shù)據(jù)。在該例中,如同上述光照射機(jī)構(gòu)為激光陣列光源的情況,表示射出光束截面的光量分布為高斯分布時(shí)的透鏡數(shù)據(jù)。還有,當(dāng)單模光纖的入射端連接一個(gè)半導(dǎo)體激光器時(shí),來(lái)自光纖的射出光束的光量分布是高斯分布。就本發(fā)明的圖形形成方法來(lái)說(shuō),這種情況也可以適用。另外,也可以適用通過(guò)使多模光纖的芯部直徑變小而接近于單模光纖的結(jié)構(gòu)使接近光軸的中心部分的光量大于周邊部分的光量的情況。
      在下述表1中表示基本透鏡數(shù)據(jù)。


      由表1可知,一對(duì)組合透鏡由旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的兩個(gè)非球面透鏡組成。如果把設(shè)置在光入射側(cè)的第1透鏡的光入射側(cè)的面作為第1面,把光射出側(cè)的面作為第2面,則第1面是非球面形狀。另外,如果把設(shè)置在光射出側(cè)的第2透鏡的光入射側(cè)的面作為第3面,把光射出側(cè)的面作為第4面,則第4面是非球面形狀。
      在表1中,面序號(hào)Si表示第i號(hào)(i=1-4)的面的序號(hào),曲率半徑ri表示第i號(hào)的面的曲率半徑,面間隔di表示第i號(hào)面和第i+1號(hào)面在光軸上的面間隔。面間隔di的單位是毫米(mm)。折射率Ni表示具有第i號(hào)面的光學(xué)元件對(duì)波長(zhǎng)405nm的折射率值。
      在下述表2中,表示了第1面和第4面的非球面數(shù)據(jù)。


      上述的非球面數(shù)據(jù)是用表示非球面形狀的下述式(A)中的系數(shù)表示的。
      Z=C&CenterDot;&rho;21+1-K&CenterDot;(C&CenterDot;&rho;)2+&Sigma;i=310ai&CenterDot;&rho;i&CenterDot;&CenterDot;&CenterDot;&CenterDot;&CenterDot;(A)]]>在上述式(A)中如下定義各系數(shù)。
      Z由位于離光軸高ρ的位置的非球面上的點(diǎn)到非球面的頂點(diǎn)的節(jié)平面(垂直于光軸的平面)的垂直線長(zhǎng)度(mm)ρ離光軸的距離(mm)K圓錐系數(shù)C近軸曲率(1/r、r近軸曲率半徑)ai第i次(i=3-10)的非球面系數(shù)在表2中示出的數(shù)值中,符號(hào)“E”表示與其后面連著的數(shù)值是以10為底的“指數(shù)”,用把該10作為底的指數(shù)函數(shù)表示的數(shù)值表示與“E”前的數(shù)值相乘得到的數(shù)值。例如,如果是“1.0E-02”,則表示“1.0×10-2”。
      圖26表示由示于上述表1和表2中的一對(duì)組合透鏡得到的照明光的光量分布。橫軸表示由光軸開(kāi)始的座標(biāo),縱軸表示光量比(%)。還有,為了比較,在圖25中,示出了未進(jìn)行校正時(shí)的照明光的光量分布(高斯分布)。由圖25和圖26可知,通過(guò)用光量分布校正光學(xué)體系進(jìn)行校正,與不進(jìn)行校正的情況相比,可獲得大致均一化的光量分布。由此,可以不使光的利用效率下降的條件下,用均一的激光進(jìn)行均勻曝光。
      作為上述其它工序,沒(méi)有特別限制,可列舉適當(dāng)選自公知的圖形形成中的工序,例如可舉出顯影工序、蝕刻工序、鍍覆工序等。這些可以單獨(dú)使用一種,也可以二種以上組合使用。
      上述顯影工序是經(jīng)上述曝光工序?qū)ι鲜鰣D形形成材料中的感光層進(jìn)行曝光,使該感光層曝光的區(qū)域固化后,通過(guò)除去未固化區(qū)域而進(jìn)行顯影,從而形成圖形的工序。
      上述顯影工序例如可以用顯影機(jī)構(gòu)適當(dāng)進(jìn)行。
      作為上述顯影機(jī)構(gòu),只要能使用顯影液進(jìn)行顯影就沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,可列舉例如噴灑上述顯影液的機(jī)構(gòu)、涂布上述顯影液的機(jī)構(gòu)、使其浸漬于上述顯影液中的機(jī)構(gòu)等。這些可以單獨(dú)使用一種,也可以二種以上組合使用。
      另外,上述顯影機(jī)構(gòu)也可以具有替換上述顯影液的顯影液替換機(jī)構(gòu)、供給上述顯影液的顯影液供給機(jī)構(gòu)等。
      作為上述顯影液,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,可列舉如堿性液、水系顯影液、有機(jī)溶劑等,其中優(yōu)選弱堿性的水溶液。作為該弱堿性液的堿成分,可列舉例如氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鋰、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸氫鋰、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、磷酸鈉、磷酸鉀、焦磷酸鈉、焦磷酸鉀、硼砂等。
      作為上述弱堿性的水溶液的pH,例如,優(yōu)選約8-12,更優(yōu)選約9-11。作為上述弱堿性的水溶液,可列舉例如0.1-5質(zhì)量%的碳酸鈉水溶液或者碳酸鉀水溶液等。
      作為上述顯影液的溫度,可以結(jié)合上述感光層的顯影性適當(dāng)選擇,例如,優(yōu)選約25-40℃。
      上述顯影液也可以與表面活性劑、滅泡劑、有機(jī)堿(例如,乙二胺、乙醇胺、氫氧化四甲基銨、二乙撐三胺、三乙撐戊胺、嗎啉、三乙醇胺等)和用于促進(jìn)顯影的有機(jī)溶劑(例如,醇類、酮類、酯類、醚類、酰胺類、內(nèi)酯類等)等組合使用。另外,上述顯影液可以是混合了水或者堿性水溶液和有機(jī)溶劑的水系顯影液,也可以是單獨(dú)的有機(jī)溶劑。
      作為上述蝕刻工序,可以用適當(dāng)選自公知的蝕刻處理方法中的方法進(jìn)行。
      作為用于上述蝕刻處理的蝕刻溶液,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如,在上述金屬層由銅形成時(shí),可列舉氯化銅溶液、氯化鐵溶液、堿性蝕刻溶液、過(guò)氧化氫系蝕刻溶液等,其中,從蝕刻要素的觀點(diǎn)來(lái)看,優(yōu)選氯化鐵溶液。
      通過(guò)在由上述蝕刻工序進(jìn)行蝕刻處理后除去上述圖形,可以在上述基體的表面形成永久圖形。
      作為上述永久圖形,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,但是可適當(dāng)列舉例如布線圖形等。
      作為上述鍍覆工序,可以用適當(dāng)選自公知的鍍覆處理中的方法進(jìn)行。
      作為上述鍍覆處理,可列舉例如硫酸銅鍍覆、焦磷酸銅鍍覆等銅鍍覆;ハイスロ—焊錫鍍覆等焊錫鍍覆;瓦特浴(硫酸鎳—氯化鎳)鍍覆、氨基磺酸鎳等鎳鍍覆;硬金鍍覆、軟金鍍覆等金鍍覆等處理。
      通過(guò)在由上述鍍覆工序?qū)嵤╁兏蔡幚砗蟪ド鲜鰣D形,再進(jìn)一步根據(jù)需要經(jīng)蝕刻處理等除去不需要部分,可以在上述基體的表面形成永久圖形。
      本發(fā)明的上述圖形形成方法可以適用于印刷電路布線板的制造、特別是具有通孔或者(via hole)等孔部分的印刷電路布線板的制造和濾色器的制造。下面,對(duì)使用了本發(fā)明的圖形形成方法的印刷電路布線板的制造方法和濾色器的制造方法的一個(gè)例子進(jìn)行說(shuō)明。
      —印刷電路布線板的制造方法—特別是,作為具有通孔或者輔助孔等孔部分的印刷電路布線板的制造方法,可以通過(guò)(1)在作為上述基體的有孔部分的印刷電路布線板形成用基板上,以該感光層位于上述基體側(cè)的位置關(guān)系層疊上述圖形形成材料而形成層疊體,(2)從與上述層疊體的上述基體的相反側(cè),在所希望的區(qū)域進(jìn)行光照射使感光層固化,(3)從上述層疊體中除去上述圖形形成材料中的支撐體、緩沖層和阻擋層,(4)使上述層疊體中的感光層顯影,除去該層疊體中的未固化部分,從而可以形成圖形。
      還有,上述(3)中上述支撐體的除去也可以在上述(1)和上述(2)之間進(jìn)行,來(lái)代替在上述(2)和上述(4)之間進(jìn)行的方式。
      然后,若要獲得印刷電路布線板,則使用上述形成的圖形,通過(guò)對(duì)上述印刷電路布線板形成用基板進(jìn)行蝕刻處理或者鍍覆處理的方法(例如,公知的減法或者加法(例如,半加法、全加法))進(jìn)行處理即可。其中,優(yōu)選上述減法,以便用有利于工業(yè)的遮蓋法(tenting)形成印刷電路布線板。經(jīng)上述處理后,剝離在印刷電路布線板形成用基板上殘存的固化樹(shù)脂,另外,上述半加法的情況下,可以通過(guò)剝離后再對(duì)銅薄膜部分進(jìn)行蝕刻的方法,制造所希望的印刷電路布線板。另外,多層印刷電路布線板也可以按照與上述印刷電路布線板的制造方法相同的方法制造。
      下面,對(duì)使用了上述圖形形成材料的具有通孔的印刷電路布線板的制造方法進(jìn)行進(jìn)一步說(shuō)明。
      首先準(zhǔn)備具有通孔且表面用金屬鍍覆層覆蓋的印刷電路布線板形成用基板。作為上述印刷電路布線板形成用基板,可以使用例如鍍銅的層疊基板和在玻璃—環(huán)氧等絕緣材料上形成了銅鍍覆層的基板、或者在這些基板上層疊層間絕緣膜后形成了銅鍍覆層的基板(層疊基板)。
      接著,在上述圖形形成材料上具有保護(hù)薄膜的情況下,剝離該保護(hù)薄膜,使用加壓輥進(jìn)行壓接,使上述圖形形成材料中的感光層與上述印刷電路布線板形成用基板的表面接觸(層疊工序)。由此,獲得了依次具有上述印刷電路布線板形成用基板和上述層疊體的層疊體。
      作為上述圖形形成材料的層疊溫度,沒(méi)有特別限制,可列舉例如室溫(15-30℃)、或者加熱條件(30-180℃),其中優(yōu)選加熱條件(60-140℃)。
      作為上述壓接輥的輥壓,沒(méi)有特別限制,例如,優(yōu)選0.1-1MPa。
      作為上述壓接的速度,沒(méi)有特別限制,優(yōu)選1-3m/分鐘。
      另外,可以將上述印刷電路布線板形成用基板預(yù)先加熱,也可以在減壓下進(jìn)行層疊。
      形成上述層疊體時(shí),可以在上述印刷電路布線板形成用基板上層疊上述圖形形成材料,也可以將上述圖形形成材料制造用的感光性樹(shù)脂組合物溶液等直接涂布在上述印刷電路布線板形成用基板的表面上,通過(guò)使其干燥在上述印刷電路布線板形成用基板上層疊感光層、阻擋層、緩沖層和支撐體。
      然后,通過(guò)從與上述層疊體的基體相反側(cè)的表面,照射光使感光層固化。而且此時(shí),也可以根據(jù)需要(例如,在支撐體的光透過(guò)性不足的情況下)剝離上述支撐體、緩沖層和阻擋層之后進(jìn)行曝光。
      這時(shí),在還未剝離上述支撐體、緩沖層和阻擋層時(shí),將上述支撐體、緩沖層和阻擋層從上述層疊體剝離(剝離工序)。
      接著,通過(guò)將上述印刷電路布線板形成用基板上的感光層的未固化區(qū)域用適當(dāng)?shù)娘@影液溶解除去,形成布線圖形形成用的固化層和通孔的金屬層保護(hù)用固化層的圖形,使上述印刷電路布線板形成用基板的表面露出金屬層(顯影工序)。
      另外,也可以在顯影后根據(jù)需要通過(guò)后加熱處理和后曝光處理,進(jìn)行進(jìn)一步促進(jìn)固化部分的固化反應(yīng)的處理。顯影可以是如上所述的濕式顯影法,也可以是干式顯影法。
      接著,將在上述印刷電路布線板形成用基板的表面上露出的金屬層用蝕刻液溶解除去(蝕刻工序)。由于用固化樹(shù)脂組合物(遮蓋膜)覆蓋通孔的開(kāi)口部分,所以蝕刻液不會(huì)進(jìn)入通孔內(nèi)而腐蝕通孔內(nèi)的金屬鍍覆層,可按照規(guī)定的形狀保留通孔的金屬鍍覆層。由此,可在上述印刷電路布線板形成用基板上形成布線圖形。
      作為上述蝕刻溶液,沒(méi)有特別的限制,可以根據(jù)目的適當(dāng)選擇,例如,在用銅形成上述金屬層時(shí),可列舉氯化銅溶液、氯化鐵溶液、堿性蝕刻溶液、過(guò)氧化氫系蝕刻溶液等,其中,從蝕刻要素的觀點(diǎn)來(lái)看,優(yōu)選氯化鐵溶液。
      接著,用強(qiáng)堿性水溶液等,把上述固化層作為剝離片從上述印刷電路布線板形成用基板上除去(固化物除去工序)。
      作為上述強(qiáng)堿性水溶液中的堿成分,沒(méi)有特別限制,可列舉例如氫氧化鈉、氫氧化鉀等。
      作為上述強(qiáng)堿性水溶液的pH,例如,優(yōu)選約12-14,更優(yōu)選約13-14。
      作為上述強(qiáng)堿性水溶液,沒(méi)有特別限制,可列舉例如1-10質(zhì)量%的氫氧化鈉水溶液或者氫氧化鉀水溶液等。
      另外,印刷電路布線板也可以是多層結(jié)構(gòu)的印刷電路布線板。
      還有,上述圖形形成材料并不僅用于上述的蝕刻工藝,也可以用于鍍覆工藝。作為上述鍍覆法,可列舉例如硫酸銅鍍覆、焦磷酸銅鍍覆等銅鍍覆;ハイスロ—焊錫鍍覆等焊錫鍍覆;瓦特浴(硫酸鎳—氯化鎳)鍍覆、氨基磺酸鎳等鎳鍍覆;硬金鍍覆、軟金鍍覆等金鍍覆等。
      —濾色器的制造方法—在玻璃基板等基體上粘合本發(fā)明上述圖形形成材料中的感光層,并將支撐體、緩沖層和阻擋層從該圖形形成材料剝離時(shí),有時(shí)帶電的上述支撐體(薄膜)和人體會(huì)發(fā)生不愉快的電擊,或者使帶電的支撐體附著塵土等。因此,優(yōu)選在上述支撐體上設(shè)置導(dǎo)電層,或者向上述支撐體本身進(jìn)行附加導(dǎo)電性的處理。另外,當(dāng)在與緩沖層相反側(cè)的上述支撐體上設(shè)置上述導(dǎo)電層時(shí),優(yōu)選設(shè)置用于改善耐傷性的疏水性聚合物層。
      接著,調(diào)制將上述感光層分別著色為紅、綠、藍(lán)、黑的具有紅色感光層的圖形形成材料、具有綠色感光層的圖形形成材料、具有藍(lán)色感光層的圖形形成材料、和具有黑色感光層的圖形形成材料。使用具有紅色像素用的上述紅色感光層的圖形形成材料,在上述基體表面上層疊紅色感光層而形成層疊體,然后經(jīng)曝光、顯影形成為圖形狀,從而形成紅色像素。形成紅色像素后,通過(guò)加熱上述層疊體使未固化部分固化。即使對(duì)于綠色、藍(lán)色的像素也可以同樣地進(jìn)行上述操作,形成各像素。
      形成上述層疊體時(shí),可以在上述玻璃基板上層疊上述圖形形成材料,也可以將上述圖形形成材料制造用的感光性樹(shù)脂組合物溶液等直接涂布在上述玻璃基板的表面上,通過(guò)使其干燥在上述玻璃基板上層疊感光層、阻擋層、緩沖層和支撐體。另外,當(dāng)配置紅、綠、藍(lán)三種像素時(shí),也可以是嵌鑲型、三角型、四像素配置型等中的任一種方式。
      在形成上述像素的表面上層疊具有上述黑色感光層的圖形形成材料,由未形成像素側(cè)進(jìn)行背面曝光、顯影而形成黑底(black matrix)。通過(guò)加熱形成有該黑底的層疊體,使未固化部分固化,可以制造濾色器。
      本發(fā)明的上述圖形形成方法由于使用了本發(fā)明的上述圖形形成材料,可以適用于各種圖形的形成、布線圖形等永久圖形的形成、濾色器、柱材、帶筋型材、隔板、隔膜等液晶結(jié)構(gòu)元件的制造、全息照相、微型電機(jī)、校樣等的制造,特別適合用于高精細(xì)的布線圖形的形成。本發(fā)明的圖形形成裝置由于具有本發(fā)明的上述圖形形成材料,可以適用于各種圖形的形成、布線圖形等永久圖形的形成、濾色器、柱材、帶筋型材、隔板、隔膜等液晶結(jié)構(gòu)元件的制造、全息照相、微型電機(jī)、校樣等的制造,特別適合用于高精細(xì)的布線圖形的形成。
      實(shí)施例下面,通過(guò)實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更加具體的說(shuō)明,但是本發(fā)明并不限于這些。
      (實(shí)施例1)在作為上述支撐體的20μm厚的聚對(duì)苯二甲酸乙二酯薄膜上,涂布由下述組成組成的感光性樹(shù)脂組合物溶液并使其干燥,形成15μm厚的感光層,從而制造上述圖形形成材料。
      ·甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37,重均分子量68800,Tg105℃)15質(zhì)量份·用下述結(jié)構(gòu)式(73)表示的聚合性單體 7.0質(zhì)量份·六亞甲基二異氰酸酯和四環(huán)氧乙烷一甲基丙烯酸酯的1/2摩爾比加成物 7.0質(zhì)量份·N-甲基吖啶酮 0.11質(zhì)量份·2,2-雙(鄰氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基聯(lián)二咪唑2.17質(zhì)量份·2-巰基苯并咪唑 0.23質(zhì)量份·孔雀石綠草酸鹽 0.02質(zhì)量份
      ·白色龍膽紫 0.26質(zhì)量份·甲乙酮 40質(zhì)量份·1-甲氧基-2-丙醇20質(zhì)量份還有,作為上述粘合劑的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.554。
      結(jié)構(gòu)式(73)其中,結(jié)構(gòu)式(73)中,m+n表示10。還有,結(jié)構(gòu)式(73)是用上述結(jié)構(gòu)式(38)表示的化合物的一個(gè)例子。
      在上述圖形形成材料的感光層上層疊20μm厚的聚乙烯薄膜作為上述保護(hù)薄膜。接著,作為上述基體,在對(duì)表面進(jìn)行研磨、水洗、干燥的鍍銅膜層疊板(沒(méi)有通孔,銅厚12μm)的表面上,邊剝掉上述圖形形成材料的保護(hù)薄膜,邊使用層疊裝置(MODEL8B-720-PH,大成ラミネ—タ—(株)制)進(jìn)行壓接,使該圖形形成材料的感光層與上述鍍銅膜層疊板接觸,從而調(diào)制依次層疊有上述鍍銅膜層疊板、上述感光層和上述聚對(duì)苯二甲酸乙二酯薄膜(支撐體)的層疊體。
      壓接條件是壓接輥溫度為105℃,壓接輥壓力為0.3MPa,層疊速度為1m/min。
      對(duì)上述所制造的上述層疊體,進(jìn)行顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性和曝光速度的評(píng)價(jià)。另外,對(duì)上述圖形形成材料,評(píng)價(jià)有無(wú)熔邊產(chǎn)生。結(jié)果示于表3中。
      &lt;顯影性&gt;
      從上述層疊體剝離聚對(duì)苯二甲酸乙二酯薄膜(支撐體),向鍍銅膜層疊板上的上述感光層的整個(gè)面上,在0.15MPa的壓力下噴灑30℃的1質(zhì)量%碳酸鈉水溶液,測(cè)量從噴灑碳酸鈉水溶液開(kāi)始至溶解除去鍍銅膜層疊板上的感光層所需要的時(shí)間,把該時(shí)間作為最短顯影時(shí)間。該最短顯影時(shí)間越短,顯影性越好。
      其結(jié)果,上述最短顯影時(shí)間是10秒。
      &lt;分辨率&gt;
      (1)感光度的測(cè)量對(duì)上述層疊體中的圖形形成材料的感光層,從聚對(duì)苯二甲酸乙二酯薄膜(支撐體)側(cè),使用具有作為上述光照射機(jī)構(gòu)的405nm的激光光源的圖形形成裝置,照射0.1mJ/cm2至100mJ/cm2的21/2倍間隔的光能量的不同的光進(jìn)行曝光,使上述感光層的一部分區(qū)域固化。在室溫下靜置10分鐘,然后將聚對(duì)苯二甲酸乙二酯薄膜(支撐體)剝離上述層疊體,之后向鍍銅膜層疊板上的感光層的整個(gè)面上以0.15Mpa的噴灑壓力,在由上述顯影性評(píng)價(jià)中求出的最短顯影時(shí)間的2倍的時(shí)間內(nèi),噴灑碳酸鈉水溶液(30℃,1質(zhì)量%),溶解除去未固化的區(qū)域,并測(cè)量殘留的固化區(qū)域的厚度。接著,根據(jù)光照射量和固化層厚度的關(guān)系進(jìn)行作圖而獲得感光度曲線。由上得到的感光度曲線中,把固化區(qū)域的厚度達(dá)到15μm時(shí)的光能量視為使感光層固化所需要的光能量。其結(jié)果,使上述感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。還有,上述圖形形成裝置具有由上述DMD組成的光調(diào)制機(jī)構(gòu),并具備上述圖形形成材料。
      (2)分辨率的測(cè)量在與上述顯影性的評(píng)價(jià)相同方法和條件下制作上述層疊體,在室溫(23℃,55%RH)下靜置10分鐘。從得到的層疊體的聚對(duì)苯二甲酸乙二酯薄膜(支撐體)側(cè),使用上述圖形形成裝置在行/間隔(line/space)=1/1的條件下,以1μm為間隔從行寬5μm-20μm進(jìn)行各線寬的曝光,之后以5μm為間隔從行寬20μm-50μm進(jìn)行各線寬的曝光。此時(shí)的曝光量是用于使上述(2)中測(cè)量的固化上述圖形形成材料的感光層所需要的光能量。在室溫下靜置10分鐘,然后將聚對(duì)苯二甲酸乙二酯薄膜(支撐體)剝離上述層疊體。向鍍銅膜層疊板上的感光層的整個(gè)面上以0.15Mpa的噴灑壓力,在由上述(1)求出的最短顯影時(shí)間的2倍的時(shí)間內(nèi),噴灑作為上述顯影液的碳酸鈉水溶液(30℃,1質(zhì)量%),溶解除去未固化的區(qū)域。用光學(xué)顯微鏡觀察經(jīng)過(guò)以上得到的帶有固化樹(shù)脂圖形的鍍銅膜層疊板的表面,對(duì)固化樹(shù)脂圖形的行測(cè)量沒(méi)有阻塞、卷曲等異常的最小的行寬,并把它作為分辨率。該分辨率數(shù)值越小越好。
      &lt;蝕刻性&gt;
      使用具有在上述分辨率的測(cè)量中形成的圖形的層疊體,向該層疊體中露出的鍍銅膜層疊板的表面上,在0.25MPa下噴灑氯化鐵エツチヤント(含有氯化鐵的蝕刻溶液,40°波美,液溫40℃)36秒,溶解除去未被固化層覆蓋的露出區(qū)域的銅層,進(jìn)行蝕刻處理。接著,通過(guò)噴灑2質(zhì)量%的氫氧化鈉水溶液,除去上述形成的圖形,從而調(diào)制在表面上作為上述永久圖形具有銅層布線圖形的印刷電路布線板。用光學(xué)顯微鏡觀察該印刷電路布線板上的布線圖形,測(cè)量該布線圖形的最小行寬。該最小行寬越小越可以獲得高精細(xì)的布線圖形,意味著蝕刻性優(yōu)異。
      &lt;遮蓋性&gt;
      除了將上述層疊體中的鍍銅膜層疊板代替為具有200個(gè)直徑2mm的通孔的鍍銅膜層疊板以外,與上述層疊體相同地調(diào)制遮蓋性評(píng)價(jià)用層疊體,在室溫(23℃,相對(duì)濕度55%)的條件下靜置10分鐘。接著,由上述調(diào)制的層疊體的聚對(duì)苯二甲酸乙二酯薄膜(支撐體)側(cè),使用上述圖形形成裝置,對(duì)該層疊體中感光層的整個(gè)面進(jìn)行曝光。此時(shí)的曝光量是上述分辨率的評(píng)價(jià)中的(2)中測(cè)量的固化上述圖形形成材料的感光層所需要的光能量。在室溫下靜置10分鐘,然后將聚對(duì)苯二甲酸乙二酯薄膜(支撐體)剝離上述層疊體。向上述鍍銅膜層疊板上的感光層的整個(gè)面上以0.15Mpa的噴灑壓力,在由上述分辨率評(píng)價(jià)中的(1)求出的最短顯影時(shí)間的2倍的時(shí)間內(nèi),噴灑作為上述顯影液的碳酸鈉水溶液(30℃,1質(zhì)量%)。用顯微鏡觀察通過(guò)以上得到的上述鍍銅膜層疊板中通孔開(kāi)口部分上形成的固化層(遮蓋膜)有無(wú)剝落和破裂等缺陷,計(jì)算缺陷的發(fā)生率。
      &lt;曝光速度&gt;
      使用上述圖形形成裝置,改變使曝光光和上述感光層相對(duì)移動(dòng)的速度,求出形成一般的布線圖形的速度。曝光時(shí),對(duì)上述調(diào)制的層疊體中的圖形形成材料的感光層,從聚對(duì)苯二甲酸乙二酯薄膜(支撐體)側(cè)進(jìn)行。還有,該設(shè)定速度快的一方可以有效地形成圖形。
      &lt;熔邊&gt;
      將上述圖形形成材料切割為510mm寬,以16kg/m的拉力在外形83mmφ、長(zhǎng)550mm的ABS樹(shù)脂制的卷芯上卷繞90m,以使上述圖形形成材料大致成為中心。將通過(guò)以上被卷成輥狀的上述圖形形成材料,在遮光下、溫度25℃、濕度65%的環(huán)境下保管。
      觀察因由輥端面滲出的感光層成分產(chǎn)生的光澤,按照以下的評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行評(píng)價(jià)。
      —評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)—○…經(jīng)過(guò)60天后,沒(méi)有光澤(60天,沒(méi)有產(chǎn)生熔邊)△…經(jīng)過(guò)30天后,沒(méi)有光澤(30天,沒(méi)有產(chǎn)生熔邊)×…經(jīng)過(guò)30天后,有光澤(30天時(shí),產(chǎn)生熔邊)(實(shí)施例2)除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/15/40/20,重均分子量130000,Tg93℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料和層疊體。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/15/40/20)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.520,最短顯影時(shí)間是10秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (實(shí)施例3)除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/29/46,重均分子量43000,Tg127℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/29/46)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.550,最短顯影時(shí)間是10秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (實(shí)施例4)除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)20/56/24,重均分子量75000,Tg123℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)20/56/24)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.645,最短顯影時(shí)間是10秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (實(shí)施例5)除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)28/72,重均分子量53100,Tg129℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料和層疊體。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)28/72)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.433,最短顯影時(shí)間是13秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (實(shí)施例6)
      除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)20/80,重均分子量43700,Tg120℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料和層疊體。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)20/80)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.328,最短顯影時(shí)間是20秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (實(shí)施例7)除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/22/40/13,重均分子量55000,Tg105℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料和層疊體。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/22/40/13)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.543,最短顯影時(shí)間是10秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (實(shí)施例8)除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/19/52,重均分子量49900,Tg131℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料和層疊體。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/19/52)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.552,最短顯影時(shí)間是10秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (實(shí)施例9)除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/31/40,重均分子量60500,Tg132℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料和層疊體。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/31/40)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.627,最短顯影時(shí)間是9秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (實(shí)施例10)除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/41/34,重均分子量58500,Tg128℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料和層疊體。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/41/34)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.627,最短顯影時(shí)間是9秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (實(shí)施例11)
      除了在實(shí)施例3中,使用下述說(shuō)明的圖形形成裝置代替上述圖形形成裝置以外,使用與實(shí)施例3相同地制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/29/46)的I/O值如實(shí)施例3中所示,是0.550,最短顯影時(shí)間是10秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      《圖形形成裝置》使用了具有作為上述光照射機(jī)構(gòu)的示于圖27-32中的復(fù)合波激光光源;作為上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)的示于圖4中的微型反射鏡沿主掃描方向排列1024個(gè)的微型反射鏡列在副掃描方向排列的768組中,只驅(qū)動(dòng)控制1024個(gè)×256列的DMD50;將示于圖13中的一個(gè)面為復(fù)曲面的微透鏡474排列為陣列狀的微透鏡陣列472和將通過(guò)了該微透鏡陣列的光成像在上述圖形形成材料上的光學(xué)體系480、482;和上述圖形形成材料的圖形形成裝置。DMD50與示于圖12中的具有數(shù)據(jù)處理部分和反射鏡驅(qū)動(dòng)控制部分的控制器302連接。在控制器302的數(shù)據(jù)處理部分,可以根據(jù)輸入的圖形信息,產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)控制針對(duì)每個(gè)曝光頭166中DMD50的應(yīng)控制的區(qū)域內(nèi)的各微型反射鏡的控制信號(hào),另外,在上述反射鏡驅(qū)動(dòng)控制部分,可以根據(jù)由圖形信息處理部分產(chǎn)生的控制信號(hào),針對(duì)每個(gè)曝光頭166的DMD50的各個(gè)微型反射鏡控制反射面角度。
      還有,上述圖形形成裝置中的曝光是在使曝光光和上述圖形形成材料中的感光層相對(duì)移動(dòng)的條件下進(jìn)行的。
      另外,上述微透鏡中的復(fù)曲面使用以下說(shuō)明的。
      首先,為了校正作為DMD50的上述描素部分的微透鏡474在射出面的變形,而測(cè)量該射出面的變形。結(jié)果示于圖14中。在圖14中,用等高線連接并表示反射面的相同的高度的位置,等高線的間距是5nm。而且示于該圖中的x方向和y方向是微型反射鏡62的兩個(gè)對(duì)角線方向,微型反射鏡62把向y方向延伸的旋轉(zhuǎn)軸作為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。另外,在圖15的(A)和(B)分別表示沿上述x方向、y方向的微型反射鏡62反射面高度位置的位移。
      如圖14和圖15中所示,微型反射鏡62的反射面上存在變形,而且特別是在反射鏡中央部分,可判斷出一個(gè)對(duì)角線方向(y方向)的變形大于另一個(gè)對(duì)角線方向(x方向)的變形。因此,照這樣可判斷用微透鏡陣列55的微透鏡55a聚光的激光B在聚光位置的形狀會(huì)發(fā)生變形。
      圖16(A)和(B)分別詳細(xì)地表示微透鏡陣列55整體的正面形狀和側(cè)面形狀。在這些圖中也記入了微透鏡陣列55各部分的尺寸,其單位是mm。如上述參考圖4進(jìn)行的說(shuō)明,驅(qū)動(dòng)了DMD50的1024個(gè)×256列的微型反射鏡62,與此相應(yīng)地,微透鏡陣列55通過(guò)將在橫向排列1024個(gè)微透鏡55a的列在縱向并列設(shè)置256列來(lái)構(gòu)成。還有,在該圖(A)中,將微透鏡陣列55排列順序在橫向用j表示,縱向用k表示。
      另外,圖17(A)和(B)分別表示在微透鏡陣列55中一個(gè)微透鏡55a的正面形狀和側(cè)面形狀。還有,在該圖(A)中,同時(shí)表示了微透鏡55a的等高線。各微透鏡55a光射出側(cè)的端面形成為可校正由微型反射鏡62反射面的變形產(chǎn)生的像差的非球面形狀。更加具體地講,微透鏡55a為復(fù)曲透鏡,與上述x方向光學(xué)對(duì)應(yīng)的方向的曲率半徑Rx=-0.125mm,與上述y方向?qū)?yīng)的方向的曲率半徑Ry=-0.1mm。
      因此,在與上述x方向和y方向平行的截面內(nèi)激光B的聚光狀態(tài)大致如分別在圖18(A)和(B)中所示。即,如果比較與x方向平行的截面內(nèi)和與y方向平行的截面,則可判斷出后者截面內(nèi)微透鏡55a的曲率半徑更小,焦點(diǎn)距離變得更短。
      還有,用計(jì)算機(jī)模擬使微透鏡55a成為上述形狀時(shí)的、在該微透鏡55a的聚光位置(焦點(diǎn)位置)附近的光束直徑的結(jié)果示于圖19a、b、c和d中。另外為了比較,對(duì)于微透鏡55a為曲率半徑Rx=Ry=-0.1mm的球面形狀的情況,在圖20a、b、c和d中示出了進(jìn)行同樣模擬的結(jié)果。還有,各圖中的z值用離微透鏡55a的光束射出面的距離表示微透鏡55a的焦點(diǎn)方向的評(píng)價(jià)位置。
      另外,上述用于模擬的微透鏡55a的面形狀可用下述計(jì)算式計(jì)算。
      Z=Cx2X2+Cy2Y21+SQRT(1-Cx2X2-Cy2Y2)]]>其中,在上述計(jì)算式中,Cx意味著x方向的曲率(=1/Rx),Cy意味著y方向的曲率(=1/Ry),X意味著x方向上的離透鏡光軸的距離,Y意味著y方向上的離透鏡光軸的距離。
      比較圖19a-d和圖20a-d可知,通過(guò)把微透鏡55a設(shè)為與y方向平行的截面內(nèi)的焦點(diǎn)距離小于與x方向平行的截面內(nèi)的焦點(diǎn)距離的復(fù)曲透鏡,可抑制其聚光位置附近的光束形狀的變形。其結(jié)果,可以在圖形形成材料150上曝光沒(méi)有變形、更加高精細(xì)的圖形。另外,可判斷示于圖20a-d中的本實(shí)施方式的光束直徑小的區(qū)域更廣,即焦深更大。
      另外,設(shè)置在微透鏡陣列55的聚光位置附近的開(kāi)口陣列59被設(shè)為,向其各開(kāi)口59a中只射入經(jīng)過(guò)了與其對(duì)應(yīng)的微透鏡55a的光。即,通過(guò)設(shè)置該開(kāi)口陣列59,可防止向各開(kāi)口59a中射入來(lái)自不與其對(duì)應(yīng)的相鄰微透鏡55a的光,從而可提高消光比。
      (實(shí)施例12)除了在實(shí)施例8中,將上述圖形形成裝置代替為在實(shí)施例11中使用的圖形形成裝置以外,使用與實(shí)施例8相同地制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/19/52)的I/O值如實(shí)施例8中所示,是0.552,最短顯影時(shí)間是10秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (實(shí)施例13)除了在實(shí)施例9中,將上述圖形形成裝置代替為在實(shí)施例11中使用的圖形形成裝置以外,使用與實(shí)施例9相同地制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)29/31/40)的I/O值如實(shí)施例9中所示,是0.627,最短顯影時(shí)間是9秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (實(shí)施例14)除了在實(shí)施例10中,將上述圖形形成裝置代替為在實(shí)施例11中使用的圖形形成裝置以外,使用與實(shí)施例10相同地制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/41/34)的I/O值如實(shí)施例3中所示,是0.627,最短顯影時(shí)間是9秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (比較例1)除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸2-乙基己酯/丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)19/61/10/10,重均分子量17000,Tg72℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸2-乙基己酯/丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)19/61/10/10)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.765,最短顯影時(shí)間是10秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (比較例2)除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/55/20,重均分子量110000,Tg76℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/55/20)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.859,最短顯影時(shí)間是10秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (比較例3)除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/甲基丙烯酸叔丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/55/20,重均分子量49000,Tg102℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸叔丁酯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/55/20)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.717,最短顯影時(shí)間是10秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (比較例4)除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)17/83,重均分子量42300,Tg117℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)17/83)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.290,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。另外,最短顯影時(shí)間是超過(guò)60秒的值,可判斷顯影性差,不適于應(yīng)用。
      (比較例5)除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/45/30,重均分子量55000,Tg128℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/45/30)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.655,最短顯影時(shí)間是10秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (比較例6)除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/25/20/30,重均分子量52900,Tg79℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料和層疊體。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/25/20/30)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.612,最短顯影時(shí)間是10秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。
      (比較例7)除了在實(shí)施例1中,將作為上述粘合劑的上述感光性樹(shù)脂組合物溶液中的甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸芐酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)25/8/30/37)代替為甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸2-乙基己酯/丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)19/61/10/10,重均分子量60700,Tg72℃)以外,與實(shí)施例1相同地制造圖形形成材料和層疊體。
      使用制造的圖形形成材料和層疊體對(duì)顯影性、分辨率、蝕刻性、遮蓋性、曝光速度和有無(wú)熔邊產(chǎn)生進(jìn)行評(píng)價(jià)。結(jié)果示于表3中。
      還有,作為上述粘合劑的上述甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸2-乙基己酯/丙烯酸丁酯共聚物(共聚物組成(質(zhì)量比)19/61/10/10)25/25/20/30)的I/O值如果如上所述地進(jìn)行計(jì)算,則是0.765,最短顯影時(shí)間是15秒,使感光層固化所需要的光能量是3mJ/cm2。


      表3中,※1表示超過(guò)60秒的值,比較例4中的分辨率、蝕刻性、遮蓋性和曝光速度由于分辨率不好,不能測(cè)量。
      由表3的結(jié)果可判斷,實(shí)施例1-14的圖形形成材料由于上述粘合劑的I/O值在0.300-0.650的范圍內(nèi),而且上述玻璃化轉(zhuǎn)變溫度是80℃以上,所以分辨率、蝕刻性和遮蓋性優(yōu)異,而且最短顯影時(shí)間短,顯影性優(yōu)良,還可抑制熔邊的產(chǎn)生。在使用具有復(fù)曲面的圖形形成裝置的實(shí)施例11-14中,可判斷在分辨率和蝕刻性方面比實(shí)施例3和8-10更好,而且曝光速度快。
      本發(fā)明的圖形形成材料中,上述感光層中含有的粘合劑的I/O值和玻璃化轉(zhuǎn)變溫度都在一定的數(shù)值范圍內(nèi),因此分辨率和遮蓋性優(yōu)良,而且顯影性也優(yōu)良,而且可抑制熔邊的產(chǎn)生,所以可以適用于各種圖形的形成、布線圖形等永久圖形的形成、濾色器、柱材、帶筋型材、隔板、隔膜等液晶結(jié)構(gòu)元件的制造、全息照相、微型電機(jī)、校樣等的制造,特別適合用于高精細(xì)的布線圖形的形成。本發(fā)明的圖形形成裝置由于具有本發(fā)明的上述圖形形成材料,可以適用于各種圖形的形成、布線圖形等永久圖形的形成、濾色器、柱材、帶筋型材、隔板、隔膜等液晶結(jié)構(gòu)元件的制造、全息照相、微型電機(jī)、校樣等的制造,特別適合用于高精細(xì)的布線圖形的形成。本發(fā)明的圖形形成方法由于使用本發(fā)明的上述圖形形成材料,可以適用于各種圖形的形成、布線圖形等永久圖形的形成、濾色器、柱材、帶筋型材、隔板、隔膜等液晶結(jié)構(gòu)元件的制造、全息照相、微型電機(jī)、校樣等的制造,特別適合用于高精細(xì)的布線圖形的形成。
      權(quán)利要求
      1.一種圖形形成材料,其特征在于在支撐體上至少具有感光層,該感光層含有粘合劑、聚合性化合物和光聚合引發(fā)劑,該粘合劑的I/O值為0.300-0.650,而且玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg為80℃以上。
      2.如權(quán)利要求1所述的圖形形成材料,其中粘合劑的I/O值為0.350-0.630。
      3.如權(quán)利要求1或2所述的圖形形成材料,其中粘合劑的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為100℃以上。
      4.如權(quán)利要求1-3中任何一項(xiàng)所述的圖形形成材料,其中粘合劑的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為115℃以上。
      5.如權(quán)利要求1-4中任何一項(xiàng)所述的圖形形成材料,其中粘合劑含有共聚物,該共聚物具有來(lái)自苯乙烯和苯乙烯衍生物中的至少一種的結(jié)構(gòu)單元。
      6.如權(quán)利要求1-5中任何一項(xiàng)所述的圖形形成材料,其中聚合性化合物含有具有尿烷基和芳基中的至少一種的單體。
      7.如權(quán)利要求1-6中任何一項(xiàng)所述的圖形形成材料,其中光聚合引發(fā)劑含有選自鹵化烴衍生物、六芳基聯(lián)二咪唑、肟衍生物、有機(jī)過(guò)氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽和芳環(huán)烯金屬衍生物類中的至少一種。
      8.一種圖形形成裝置,其特征在于具備權(quán)利要求1-7中任何一項(xiàng)所述的圖形形成材料,并且至少具有可以照射光的光照射機(jī)構(gòu),和調(diào)制來(lái)自該光照射機(jī)構(gòu)的光對(duì)上述圖形形成材料中的感光層進(jìn)行曝光的光調(diào)制機(jī)構(gòu)。
      9.一種圖形形成方法,其特征在于至少包含對(duì)權(quán)利要求1-7中任何一項(xiàng)所述的圖形形成材料中的該感光層進(jìn)行曝光的步驟。
      10.如權(quán)利要求9所述的圖形形成方法,其中用具有n個(gè)接收來(lái)自光照射機(jī)構(gòu)的光并射出的描素部的光調(diào)制機(jī)構(gòu),調(diào)制來(lái)自上述光照射機(jī)構(gòu)的光,然后用通過(guò)了排列有微透鏡的微透鏡陣列的光對(duì)感光層進(jìn)行曝光,其中上述微透鏡具有可以校正由描素部的射出面的變形產(chǎn)生的像差的非球面。
      11.如權(quán)利要求9或10所述的圖形形成方法,其中使用根據(jù)所形成的圖形信息產(chǎn)生控制信號(hào)后按照該控制信號(hào)調(diào)制的光進(jìn)行曝光。
      12.如權(quán)利要求9-11中任何一項(xiàng)所述的圖形形成方法,其中用光調(diào)制機(jī)構(gòu)調(diào)制光之后,通過(guò)排列有微透鏡的微透鏡陣列進(jìn)行曝光,其中上述微透鏡具有可以校正由上述光調(diào)制機(jī)構(gòu)中描素部的射出面的變形產(chǎn)生的像差的非球面。
      13.如權(quán)利要求12所述的圖形形成方法,其中非球面是復(fù)曲面。
      14.如權(quán)利要求9-13中任何一項(xiàng)所述的圖形形成方法,其中進(jìn)行曝光后,對(duì)感光層進(jìn)行顯影。
      15.如權(quán)利要求14所述的圖形形成方法,其中進(jìn)行顯影后,形成永久圖形。
      全文摘要
      一種圖形形成材料,其特征在于在支撐體上至少具有感光層,該感光層含有粘合劑、聚合性化合物和光聚合引發(fā)劑,該粘合劑的I/O值為0.300-0.650,而且玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)為80℃以上。上述粘合劑含有共聚物,該共聚物優(yōu)選具有來(lái)自苯乙烯和苯乙烯衍生物中的至少一種的結(jié)構(gòu)單元。本發(fā)明還涉及具有上述圖形形成材料的圖形形成裝置和使用上述圖形形成材料的圖形形成方法。在本發(fā)明中,通過(guò)使在感光層中含有的粘合劑的I/O值和玻璃化轉(zhuǎn)變溫度都在一定的數(shù)值范圍內(nèi),可以提供分辨率和遮蓋性優(yōu)良且顯影性也優(yōu)良、而且可抑制熔邊產(chǎn)生的圖形形成材料、以及具有該圖形形成材料的圖形形成裝置和使用該圖形形成材料的圖形形成方法。
      文檔編號(hào)G03F7/20GK1673863SQ200510059449
      公開(kāi)日2005年9月28日 申請(qǐng)日期2005年3月22日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月22日
      發(fā)明者高橋秀知, 若田裕一 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社
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