專利名稱：棱鏡的制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種棱鏡的制造方法。
背景技術：
作為以光拾取裝置為代表的光學系統(tǒng)的構成部件，例如具有偏振光分光器。偏振光分光器為將從光源出射的激光分離成反射光和透射光的光學元件，反射光和透射光中的任一方的光射向光盤，另一方的光射向用于檢測激光強度的APC(自動功率控制)受光元件。偏振光分光器反射的反射光一般以90°角反射，所以，構成偏振光分光器的偏振光分離膜相對光軸成45°角地配置。因此，作為偏振光分光器，使用立方體形狀的棱鏡，偏振光分離膜相對光軸按45°角形成于棱鏡。
制造按預定角度形成偏振光分離膜的光學器件(棱鏡)的方法例如公開于專利文獻1。在專利文獻1中，準備多個相同的平板玻璃，以臺階狀層疊這些平板玻璃而獲得疊層體后，切斷疊層體，形成分割疊層體，反復進行分割疊層體的層疊·切斷，獲得最終的棱鏡。此時，為了獲得在棱鏡內部按預定角度形成偏振光分離膜的光學器件，沿具有與偏振光分離膜的傾斜角對應的角度的傾斜側壁按臺階狀排列已切斷了疊層體的分割疊層體。
日本特開2000-199810號公報可是，形成于最終制造的棱鏡的電介質多層膜(在專利文獻1中為偏振光分離膜)必須相對光的入射面按極高的角度精度形成。因此，當制造棱鏡時，必須按極高的角度精度形成電介質多層膜。然而，在所述專利文獻1的發(fā)明中，難以滿足棱鏡要求的高角度精度。
即，在專利文獻1的發(fā)明中，當層疊多個平板玻璃和分割疊層體時，在各個平板玻璃間涂覆粘接劑進行粘合。此時，由各層的粘接劑產生厚度的誤差。粘接劑疊層多層，所以，各層的粘接劑的厚度誤差累積。另外，由于反復進行平板玻璃和分割疊層體的層疊·切斷，所以，所述累積誤差進一步累積，另外，切斷時也產生切斷誤差，所以，最終制造的棱鏡包含極大的誤差。另外，雖然平板玻璃和疊層分割體沿傾斜壁排列成臺階狀，但層疊時或切斷時產生切斷誤差，另外還存在傾斜側壁本身產生誤差的可能性。
以上那樣的誤差產生影響，可能在形成于最終制造的棱鏡內部的膜的傾斜角產生極大的誤差。因此，不能保證高精度的角度精度，為此，在專利文獻1的發(fā)明中，按高角度精度在棱鏡形成電介質多層膜極為困難。

發(fā)明內容
因此，本發(fā)明的目的在于提供一種用來制造具有高角度精度的棱鏡的棱鏡制造方法。
本發(fā)明的棱鏡制造方法制造按預定角度形成電介質多層膜的棱鏡；其特征在于包括平板兩面研磨工序、電介質多層膜成膜工序、基板粘接工序、疊層玻璃體切斷工序、多聯(lián)玻璃體兩面研磨工序、多聯(lián)玻璃體切斷工序、第一長方塊玻璃體研磨工序、第二長方塊玻璃體研磨工序、及長方塊玻璃體切斷工序；該平板兩面研磨工序，研磨大型基板和小型基板的兩面，獲得所述大型基板和所述小型基板的兩面的平面度和平行度，該大型基板為平板狀的基板，該小型基板的寬度尺寸和厚度與該大型基板相同、進深尺寸比所述大型基板短；該電介質多層膜成膜工序，在由所述平板兩面研磨工序研磨獲得的所述大型基板和所述小型基板的兩面中的任何兩個面上形成電介質多層膜，從而形成成膜面和非成膜面；該基板粘接工序為以粘接所述成膜面與所述非成膜面的方式交替粘接所述大型基板與所述小型基板的工序，以在寬度方向上錯開預定間隔成為臺階狀且將所述大型基板的進深方向兩端作為基準面露出的方式進行層疊，獲得疊層玻璃體；該疊層玻璃體切斷工序，沿與所述臺階狀的傾斜平行的方向按大于等于所述棱鏡一邊的長度的間隔切斷所述疊層玻璃體，獲得多個多聯(lián)玻璃體；該多聯(lián)玻璃體兩面研磨工序，對所述多聯(lián)玻璃體中的、由所述疊層玻璃體切斷工序切斷的兩個切斷面進行兩面研磨，獲得兩個切斷面的平面度和平行度；該多聯(lián)玻璃體切斷工序，在與所述研磨面垂直的方向上按大于等于所述棱鏡一邊的長度的間隔切斷所述多聯(lián)玻璃體，獲得多個長方塊玻璃體；該第一長方塊玻璃體研磨工序，將形成于所述長方塊玻璃體兩端的所述基準面作為基準，對在所述多聯(lián)玻璃體切斷工序中切斷的切斷面進行研磨；該第二長方塊玻璃體研磨工序，以在所述第一長方塊玻璃體研磨工序中研磨獲得的面作為基準，對與該面相反的面進行研磨；該長方塊玻璃體切斷工序，沿與在所述多聯(lián)玻璃體兩面研磨工序中研磨獲得的研磨面或在所述長方塊玻璃體研磨工序中研磨獲得的研磨面垂直的方向，按相等間隔切斷在所述長方塊玻璃體研磨工序中研磨后的所述長方塊玻璃體，獲得多個棱鏡。
按照本發(fā)明的棱鏡制造方法，當層疊大型基板與小型基板時，在進深方向以大型基板的兩端從小型基板突出的方式進行層疊。大型基板與小型基板預先進行兩面的表面研磨，獲得平面度和平行度，所以，該研磨的面作為基準面時常露出。然后，以基準面作為基準進行研磨，可獲得高的角度精度。
在這里，大型基板和小型基板雖然進行兩面的表面研磨，但此后在大型基板的兩面形成電介質多層膜，而不在小型基板的兩面形成電介質多層膜。在該場合，由于在露出的基準面(大型基板的突出的面)總形成電介質多層膜，所以，可將形成了電介質多層膜的面作為基準進行研磨。因此，可制造相對形成電介質多層膜的面具有極高精度的角度精度的棱鏡。
另外，本發(fā)明也可適用于將電介質多層膜形成于進行了表面研磨的大型基板和小型基板的兩面中的小型基板的兩面而不是大型基板的兩面的場合。此時，由于在大型基板上未形成電介質多層膜，所以，在露出的基準面上時常不形成電介質多層膜。因此，雖然以未形成電介質多層膜的面作為基準面進行研磨，但在該場合，最終制造的棱鏡的形成電介質多層膜的面為隔著粘接劑與基準面相對的面。為此，需要按高精度控制粘接劑的厚度，所以，與將形成所述電介質多層膜的面作為基準面的場合相比，有時角度精度相應地下降一些。然而，即使不將形成電介質多層膜的面作為基準面，也與將具有高精度的平面度和平行度的基準面作為基準進行研磨的場合沒有差別，所以，在該場合，也可制造具有高角度精度的棱鏡。
另外，本發(fā)明也適用于在大型基板和小型基板的一側表面分別形成電介質多層膜的場合。此時，在露出的基準面中的一面形成電介質多層膜，但不在其相反面形成電介質多層膜。因此，具有形成電介質多層膜的基準面的長方塊玻璃體和具有未形成電介質多層膜的基準面的長方塊玻璃體分別按一半的比例生成。然而，雖然未形成電介質多層膜的的角度精度有時也稍下降一些，但在以進行了兩面研磨的表面作為基準面進行研磨這一點是一樣的，所以，可制造具有高角度精度的棱鏡。
在該場合，角度精度有時產生一些偏差。為此，雖然在大型基板和小型基板的一側表面分別形成電介質多層膜，但在小型基板的一側表面形成于整個面。另外，在大型基板的一側表面上與小型基板相同的區(qū)域(構成疊層玻璃體時，與大型基板的區(qū)域中接合于小型基板的區(qū)域相同的區(qū)域)形成電介質多層膜。為此，未形成電介質多層膜的面時常成為基準面，所以，可消除所述偏差。
本發(fā)明的棱鏡制造方法可制造具有高角度精度的棱鏡。


圖1為示出本發(fā)明處理流程的流程圖。
圖2為棱鏡的透視圖。
圖3為大型基板和小型基板的透視圖。
圖4為疊層玻璃體的透視圖。
圖5為疊層玻璃體的正面圖和側面圖。
圖6為多聯(lián)玻璃體的透視圖。
圖7為長方塊玻璃體的透視圖。
圖8為夾具的透視圖和放大圖。
具體實施例方式
下面，根據圖1的流程圖說明本發(fā)明的實施方式。圖2為最終制造的棱鏡10。本實施方式的棱鏡10為一邊長PL的立方體型的光學元件，相對光軸按45°的角度形成電介質多層膜3。在此，在本實施方式中，將棱鏡10各面的對角線長度(形成有電介質多層膜3的面的長邊)定義為棱鏡10的對角線長度PD(＝PL×)。另外，在棱鏡10的各面形成具有反射防止功能的反射防止膜。
最初如圖3所示那樣，準備多片具有不同形狀的2種平板狀的基板(玻璃基板等基板)。在圖3(a)中示出大型基板1，該大型基板1的長邊(寬度)具有LX1的長度，短邊(進深)具有LY1的長度，厚度為LZ1。圖3(b)示出小型基板2，該小型基板2的寬度具有LX1的長度，進深具有LY2(LY2＜LY1)的長度，厚度為LZ1。最終制造的棱鏡10通過進行大型基板1和小型基板2的層疊·切斷而生成，所以，大型基板1的寬度(LX1)、進深(LY1)、厚度(LZ1)、及小型基板2的寬度(LX1)、進深(LY2)、厚度(LZ1)全部使用比棱鏡10一邊的長度PL的(1/)倍大的尺寸。
作為最初的工序，通過拋光等對準備的多片大型基板1和小型基板2的兩面進行表面研磨(步驟S1)。通過該表面研磨，大型基板1和小型基板2的兩面可獲得高平面度和平行度。然后，在大型基板1的兩面形成電介質多層膜3(步驟S2)。此時，在本實施方式中，如圖3(a)和(b)所示那樣，將大型基板1的形成有電介質多層膜3的兩面定義為成膜面C，將小型基板2的兩面定義為非成膜面N。
然后，交替地層疊多片大型基板1與小型基板2，獲得疊層玻璃體4(步驟S3)。對于疊層玻璃體4，通過粘接材料粘接大型基板1與小型基板2，如圖4所示那樣，以接合各基板的成膜面C與非成膜面N的方式進行粘合、層疊。圖5(a)和(b)為圖4的正面圖和側面圖，大型基板1和小型基板2在寬度方向以錯開預定間隔使整體成為臺階狀的方式層疊，在進深方向以使大型基板1的兩端從小型基板2突出的方式層疊。在圖4、圖5(a)和圖5(b)中示出大型基板1疊層3片、小型基板2層疊2片的疊層玻璃體4，但層疊的基板的片數(shù)當然可為任意。如圖5(a)所示那樣，大型基板1與小型基板2在寬度方向按與各基板的厚度LZ1相同的間隔錯開地層疊。因此，疊層玻璃體4的所述臺階狀的傾斜角形成45°的角度。另外，如從圖4和圖5(b)可以看出的那樣，大型基板1的兩端由于分別從小型基板2突出的相等量(即，如圖5(b)所示那樣，以“1/2×(LY1-LY2)”的量在兩端相等地突出)，成膜面C中的突出部分露出。在此，在本實施方式中，將成膜面C中的露出的部分定義為基準面B(如圖5(b)所示那樣，基準面B形成于大型基板1的突出部分的兩面)。由于成膜面C具有高的平面度和平行度，基準面B為成膜面C的一部分，所以，基準面B也具有高的平面度和平行度。在后續(xù)的工序中可以得知，通過將基準面B作為基準進行研磨加工，可獲得電介質多層膜3按極高的角度精度(45°)形成的棱鏡10。下面對其進行說明。
然后，沿圖4的虛線，按與所述臺階狀的傾斜平行的方向，或以端面作為基準按45°的角度，以預定間隔由鋼絲鋸等切斷疊層玻璃體4(步驟S4)。通過該切斷，可獲得多個圖6(a)所示那樣的多聯(lián)玻璃體5。此時的疊層玻璃體4的切斷間隔如圖4所示那樣，為在棱鏡10的對角線PD加上研磨余量α后獲得的量。其說明在后面進行。
如在后續(xù)的工序中可以看出的那樣，當在步驟S4生成多聯(lián)玻璃體5時，如多聯(lián)玻璃體5的切斷面5A、5B(切斷疊層玻璃體4時的2個切斷面在圖6(a)中作為上面、下面示出)具有高的平面度和平行度，則切斷面5A、5B構成棱鏡10的一面及其相反面。然而，不能保證在步驟S4切斷后的多聯(lián)玻璃體5的切斷面5A、5B的平面度。因此，研磨多聯(lián)玻璃體5的切斷面5A、5B，如圖6(b)那樣形成研磨面5C、5D(步驟S5)。通過該研磨，研磨面5C和5D可獲得高的平面度和平行度，可分別構成棱鏡10的一面及其相反面。此時，以使研磨后的多聯(lián)玻璃體5的研磨面5C與5D的間隔成為棱鏡10的一邊長度PL的方式進行多聯(lián)玻璃體5的研磨。這樣，可嚴格地構成棱鏡10的2個面。
可是，多聯(lián)玻璃體5通過步驟S5的研磨，其厚度(研磨面5C與5D的間隔)變薄。因此，對于步驟S4的疊層玻璃體4的切斷，估計由研磨產生的研磨余量，按預先帶有余量的切斷間隔進行。具體地說，按在棱鏡10的對角線長度PD加上研磨余量α后的間隔進行疊層玻璃體4的切斷，從而研磨該研磨余量，獲得多聯(lián)玻璃體5的平面度。
在步驟S4中，疊層玻璃體4的切斷不按在棱鏡10的一邊長度PL加上研磨余量的間隔進行，而是按在棱鏡10的對角線的長度PD加上研磨余量的間隔進行切斷，其原因在于多聯(lián)玻璃體5的端面中的短邊的長度與棱鏡10的對角線長度PD對應。
圖6(b)所示研磨后的多聯(lián)玻璃體5的端面5E、5F由疊層玻璃體4最上層和最下層的大型基板1或小型基板2的一部分構成。由于構成疊層玻璃體4的大型基板1和小型基板2在步驟S1中獲得高精度的平面度和平行度，所以，可將多聯(lián)玻璃體5的端面5E、5F作為基準。因此，通過以端面5E、5F作為基準，研磨切斷面5A、5B，可按45°的高角度精度形成由研磨面5C、5D與形成電介質多層膜3的成膜面C所構成的角度。
然后，在研磨后的多聯(lián)玻璃體5的研磨面5C、5D形成反射防止膜(步驟S6)。如所述那樣，多聯(lián)玻璃體5的研磨面5C、5D形成棱鏡10的一面，所以，此時形成反射防止膜。由于從多聯(lián)玻璃體5生成多個棱鏡10，所以，如預先形成反射防止膜，則一次形成多個棱鏡10的反射防止膜。
如圖6(b)的虛線所示那樣，在與研磨面5C、5D垂直的方向按預定間隔切斷形成反射防止膜的多聯(lián)玻璃體5(步驟S7)。通過該切斷，生成多個圖7(a)所示長方塊玻璃體6。
在這里，當進行多聯(lián)玻璃體5的切斷時，與切斷疊層玻璃體4時同樣，不能保證切斷面6A、6B(切斷多聯(lián)玻璃體5時的2個切斷面在圖7(a)中作為側面及其相反面示出)的平面度和平行度。切斷面6A、6B如保證了高的平面度和平行度，則構成棱鏡10的一面及其相反面。然而，當切斷多聯(lián)玻璃體5時，不能保證平面度和平行度。因此，為了研磨切斷面6A、6B而獲得兩面的平面度和平行度，生成長方塊玻璃體6必須考慮研磨余量。因此，當切斷多聯(lián)玻璃體5時，以在棱鏡10的一邊長度PL上加上研磨余量β的間隔進行切斷。但是，由于步驟S7的多聯(lián)玻璃體5的切斷沿與棱鏡10的面平行的方向進行，所以，不按棱鏡10的對角線長度PD進行切斷，而是按在棱鏡10的一邊長度PL的基礎上確保了研磨余量β的間隔進行切斷。
然而，需要進行切斷面6A、6B的研磨以獲得研磨后的兩面的平面度和平行度，此時研磨后的兩面需要相對成膜面C嚴格地構成45°角地進行研磨。因此，以露出于長方塊玻璃體6兩端的基準面B為基準進行研磨?；鶞拭鍮為成膜面C的一部分，成膜面C具有高平面度和平行度，所以，只要以基準面B為基準進行研磨，則研磨后的面可嚴格地與成膜面C形成45°的角度。
最初如圖7(b)所示那樣，進行長方塊玻璃體6的切斷面6A的研磨，獲得研磨面6C(步驟S8第一長方塊玻璃體研磨工序)。圖8示出進行該研磨時使用的夾具的一例。如圖8(a)所示那樣，在夾具7的兩側設置側壁部7S，在各側壁部7S形成多個用于載置長方塊玻璃體6兩端的載置部7P。在載置部7P形成切口部，在該切口部保持長方塊玻璃體6的突出部P(長方塊玻璃體6的兩端中的基準面B露出的部分)。載置部7P的切口部由垂直面7PA和斜面7PB構成，斜面7PB與夾具7的底面7B的角度嚴格地成為45°。另外，垂直面7PA與斜面7PB的角度也嚴格地成為45°。載置部7P的切口部形成等腰直角三角形的形狀，垂直面7PA的高度比棱鏡10的一邊長度PL小。另外，夾具7的載置部7P的形狀為高精度地保持角度的形狀，設于夾具7兩側的側壁部7S間的間隔與小型基板2的進深尺寸LY2大體相同(實質上以可載置長方塊玻璃體6的方式構成得比進深尺寸LY2稍大一些)。如圖8(b)所示那樣，在載置部7P，為了保護載置于載置部7P的長方塊玻璃體6的突出部P的邊緣，形成退讓槽7N。
在該載置部7P載置長方塊玻璃體6的突出部P。圖8(b)為示出以長方塊玻璃體6的切斷面6A為上面的方式載置的場合的截面圖。以長方塊玻璃體6的突出部P中的基準面B與載置部7P的斜面7PB接觸、研磨面5D與垂直面7PA接觸的方式載置。載置部7P的斜面7PB與夾具7的底面7B構成的角度被高精度地保證為45°角，長方塊玻璃體6的基準面B與研磨面5D構成的角度也為45°。因此，長方塊玻璃體6的突出部P嚴密地配合于載置部7P。另一方面，長方塊玻璃體6的切斷面6A與6B的間隔形成得比棱鏡10的一邊長度PL稍長一些，所以，切斷面6A成為比側壁部7S的上面7U稍隆起的狀態(tài)。因此，雖然對隆起的棱鏡10的切斷面6A進行研磨，但該研磨進行到與棱鏡10的一邊長度PL相等為止。此時，作為大致標準研磨到基準面B的棱線的位置，從而可研磨到直至與棱鏡10的一邊長度PL相等。這樣，如圖7(b)所示那樣，長方塊玻璃體6中的大型基板1的部分可獲得截面為等腰直角三角形(夾住直角的二邊為PL的長度)的長方塊形狀。
然后，進行切斷面6B的研磨(第二長方塊玻璃體研磨步驟S9)。在該時刻，長方塊玻璃體6中的研磨面5C、5D和6C已相對成膜面C按高角度精度加工。因此，以研磨面6C為基準對余下的切斷面6B進行研磨，如圖7(c)所示那樣，形成研磨面6D。由于研磨面5C、5D及6C全部相對成膜面C按高角度精度加工，所以，不限于研磨面6C，也可將任意1個面、任意2個面或所有面作為基準形成研磨面6D。根據以上說明，所有研磨面5C、5D、6C、6D形成棱鏡10的一面，可按高角度精度加工長方塊玻璃體6。
所述夾具7只不過為一個示例，本發(fā)明的要旨在于以作為成膜面C一部分的基準面B為基準進行研磨，所以，夾具7不限于圖8所示的結構。因此，只要能以基準面B作為基準進行研磨，則可適用任意的夾具。另外，當進行切斷面6B的研磨時，說明了以研磨面5C、5D及6C為基準進行研磨的場合，但例如也可準備以基準面B為基準進行研磨的夾具，并由該夾具進行切斷面6B的研磨。
在研磨面6C和6D上還未形成反射防止膜，所以，在兩面形成反射防止膜(步驟S10)，如圖7(c)的虛線所示那樣，沿與研磨面5C、5D、6C、6D垂直的方向等間隔地進行切斷(步驟S11)。此時，以切斷間隔與棱鏡10的一邊長度PL相等的方式進行切斷。這樣，可獲得具有高角度精度的棱鏡10，該棱鏡10為圖2所示那樣的一邊長度PL，并以45°的角度地形成有電介質多層膜3。
如以上說明的那樣，本發(fā)明準備寬度和厚度相同而且進深尺寸不同的2種基板、即大型基板和小型基板，分別在一面形成電介質多層膜，并交替地層疊多片大型基板與小型基板。此時，在進深方向以大型基板的兩端從小型基板突出的方式層疊，從而使形成電介質多層膜的面的一部分作為基準面時常露出，所以，通過以該基準面作為基準進行研磨，可獲得高角度精度。
關于所述實施方式的棱鏡10，對具有立方體形狀、形成電介質多層膜3的面為45°的棱鏡進行了說明，所以，當接合大型基板1與小型基板2時，在寬度方向錯開與基板厚度LZ1相同的間隔進行層疊。即，通過在寬度方向錯開LZ1，使所述臺階狀的角度形成為45°，但如在寬度方向上錯開不為LZ1的間隔，則所述臺階狀的角度按與45°不同的角度形成。在步驟S4中，沿與所述臺階狀的傾斜平行的方向切斷疊層玻璃體4，但如臺階狀的角度按與45°不同的角度形成，則可使形成在最終制造的棱鏡10的、形成電介質多層膜3的面為與45°不同的角度。另外，也可使棱鏡10的形狀為與立方體不同的形狀。此時，雖然為與45°不同的角度，但可制造按高角度精度在棱鏡10形成電介質多層膜3的棱鏡。
另外，在本發(fā)明中，例示地說明了光拾取裝置，但不限于此，只要在立方體型的棱鏡中按預定角度形成電介質多層膜，則可適用于任意裝置。例如也可適用于進行色分解·色合成的作為構成液晶投影儀的光學部件的二向色棱鏡。二向色棱鏡也使用立方體形狀的棱鏡，根據入射光的波長區(qū)分反射·透射的二向色膜相對光路按45°的角度形成。因此，本發(fā)明也可適用于該二向色棱鏡等中。
權利要求
1.一種棱鏡的制造方法，制造按預定角度形成電介質多層膜的棱鏡；其特征在于包括平板兩面研磨工序、電介質多層膜成膜工序、基板粘接工序、疊層玻璃體切斷工序、多聯(lián)玻璃體兩面研磨工序、多聯(lián)玻璃體切斷工序、第一長方塊玻璃體研磨工序、第二長方塊玻璃體研磨工序、及長方塊玻璃體切斷工序；該平板兩面研磨工序，研磨大型基板和小型基板的兩面，獲得所述大型基板和所述小型基板的兩面的平面度和平行度，該大型基板為平板狀的基板，該小型基板的寬度尺寸和厚度與該大型基板相同、進深尺寸比所述大型基板短；該電介質多層膜成膜工序，在由所述平板兩面研磨工序研磨獲得的所述大型基板和所述小型基板的兩面中的任何兩個面上形成電介質多層膜，從而形成成膜面和非成膜面；該基板粘接工序為以粘接所述成膜面與所述非成膜面的方式交替粘接所述大型基板與所述小型基板的工序，以在寬度方向上錯開預定間隔成為臺階狀且將所述大型基板的進深方向兩端作為基準面露出的方式進行層疊，獲得疊層玻璃體；該疊層玻璃體切斷工序，沿與所述臺階狀的傾斜平行的方向按大于等于所述棱鏡一邊的長度的間隔切斷所述疊層玻璃體，獲得多個多聯(lián)玻璃體；該多聯(lián)玻璃體兩面研磨工序，對所述多聯(lián)玻璃體中的、由所述疊層玻璃體切斷工序切斷的兩個切斷面進行兩面研磨，獲得兩個切斷面的平面度和平行度；該多聯(lián)玻璃體切斷工序，在與所述研磨面垂直的方向上按大于等于所述棱鏡一邊的長度的間隔切斷所述多聯(lián)玻璃體，獲得多個長方塊玻璃體；該第一長方塊玻璃體研磨工序，將形成于所述長方塊玻璃體兩端的所述基準面作為基準，對在所述多聯(lián)玻璃體切斷工序中切斷的切斷面進行研磨；該第二長方塊玻璃體研磨工序，以在所述第一長方塊玻璃體研磨工序中研磨獲得的面作為基準，對與該面相反的面進行研磨；該長方塊玻璃體切斷工序，沿與在所述多聯(lián)玻璃體兩面研磨工序中研磨獲得的研磨面或在所述長方塊玻璃體研磨工序中研磨獲得的研磨面垂直的方向，按相等間隔切斷在所述長方塊玻璃體研磨工序中研磨后的所述長方塊玻璃體，獲得多個棱鏡。
2.根據權利要求1所述的棱鏡的制造方法，其特征在于在所述基板粘接工序中，所述大型基板和所述小型基板在寬度方向上錯開基板的厚度量、使所述臺階狀為45°。
3.根據權利要求1所述的棱鏡的制造方法，其特征在于在所述第一長方塊玻璃體研磨工序中，夾具具有垂直面和與該垂直面構成45°角的斜面，該垂直面具有與所述棱鏡的一邊長度相等的高度，在該夾具上支撐所述長方塊玻璃體的兩端，將所述長方塊玻璃體中的由所述多聯(lián)玻璃體切斷工序切斷的切斷面研磨成所述垂直面的高度。
4.根據權利要求1所述的棱鏡的制造方法，其特征在于所述第二長方塊玻璃體研磨工序，以所述基準面為基準對在所述第一長方塊玻璃體研磨工序中未研磨的面進行研磨。
5.根據權利要求1所述的棱鏡的制造方法，其特征在于在所述多聯(lián)玻璃體研磨工序后，在由所述多聯(lián)玻璃體研磨工序研磨后的2個研磨面上形成反射防止膜，在所述第二長方塊玻璃體研磨工序后，在所述第一和第二長方塊玻璃體研磨工序中研磨獲得的研磨面上形成所述反射防止膜。
全文摘要
制造具有高角度精度的棱鏡。準備大型基板(1)和小型基板(2)，該大型基板(1)為平板狀的基板，該小型基板(2)的寬度尺寸和厚度與大型基板(1)相同，但進深尺寸卻比大型基板(1)短。在各基板的一側表面形成電介質多層膜(3)，交替地層疊大型基板(1)與小型基板(2)，以使在寬度方向上僅按厚度量錯開形成臺階狀，在進深方向上使大型基板(1)的兩端作為基板面B露出。疊層玻璃體(4)沿與臺階狀平行的方向切斷，對切斷的多聯(lián)玻璃體(5)的切斷面進行研磨。然后，沿垂直方向切斷多聯(lián)玻璃體(5)，獲得長方塊玻璃體(6)，對長方塊玻璃體(6)的切斷面進行研磨。此時，以露出的基準面B為基準進行研磨，從而可相對基準面B將研磨面嚴格地形成為45°。
文檔編號G02B5/04GK1873448SQ20061009232
公開日2006年12月6日 申請日期2006年6月1日 優(yōu)先權日2005年6月1日
發(fā)明者龍保民, 小野健治, 大塚壽, 關口隆史, 岡崎隆一 申請人:富士能佐野株式會社