專利名稱：液晶裝置、其制造方法以及電子設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于各種信息的顯示中優(yōu)選的液晶裝置及電子設(shè)備。
背景技術(shù)：
以往以來，液晶裝置、有機電致發(fā)光顯示裝置、等離子體顯示裝置及場致發(fā)射顯示裝置等的各種電光裝置，已為眾所周知。
作為這種電光裝置一例的使用薄膜晶體管(Thin Film TransistorTFT)等開關(guān)元件的有源矩陣方式的液晶裝置因為具有高畫面質(zhì)量及高速響應(yīng)性等的優(yōu)點，所以已廣泛應(yīng)用于電視和便攜信息終端等中。
這種液晶裝置是下述元件基板和對向基板通過框狀的密封材料來粘合并且在兩個基板間封入液晶而成的，該元件基板形成或安裝像素電極、TFT元件、多條掃描線(柵線)、多條信號線(源線)及驅(qū)動IC等，該對向基板形成R(紅)、G(綠)、B(藍)等三色的濾色器和對向電極等。
近年來，作為這種液晶裝置，具有下述結(jié)構(gòu)的液晶裝置已為眾所周知，該結(jié)構(gòu)為除了R、G、B的3色之外，還設(shè)置W(白)的1色，并將4色用像素作為一個像點(dot)來顯示圖像(例如，參見專利文獻1)。因此，實現(xiàn)提高光效率、既維持色再現(xiàn)性又提高亮度和功率利用效率。還有，根據(jù)該專利文獻1，在白色用像素未設(shè)置別的濾色器。
專利文獻1特開2004-102292號公報發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是鑒于上面的觀點而作出的，其目的為，提供一種可以謀求產(chǎn)品成本的減低等、使用R、G、B及W(透明或白色)的各色且具有多間隙結(jié)構(gòu)的半透射反射型液晶裝置及其制造方法以及電子設(shè)備。
根據(jù)本發(fā)明的另一觀點，液晶裝置具有與W對應(yīng)的顯示像素以及與和上述W不同的1色對應(yīng)的顯示像素，與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素具備透射區(qū)域及反射區(qū)域，并且上述W的上述顯示像素只具備透射區(qū)域；液晶裝置的特征為，具備基板；對向基板，與上述基板對向配置；著色層，配備于上述基板或上述對向基板的與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素；單元(cell)厚度調(diào)整層，設(shè)置于上述基板或上述對向基板，配備于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述反射區(qū)域及上述W的上述透射區(qū)域；以及液晶層，夾持于上述基板和上述對向基板，對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的厚度，相應(yīng)于上述單元厚度調(diào)整層的厚度，比對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述反射區(qū)域的厚度厚。
在上述液晶裝置的其他方式中，液晶裝置至少具有與W對應(yīng)的顯示像素以及與和上述W不同的1色對應(yīng)的顯示像素，與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素及上述W的上述顯示像素分別具備透射區(qū)域及反射區(qū)域；液晶裝置的特征為，具備基板；對向基板，與上述基板對向配置；著色層，配備于上述基板或上述對向基板的與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素；單元厚度調(diào)整層，設(shè)置于上述基板或上述對向基板，并且配備于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的至少上述反射區(qū)域、上述W的上述顯示像素的上述透射區(qū)域及上述W的上述顯示像素的上述反射區(qū)域，上述W的上述顯示像素的上述反射區(qū)域的厚度比上述W的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的厚度厚；以及液晶層，夾持于上述基板和上述對向基板，對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素及上述W的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的厚度，相應(yīng)于上述單元厚度調(diào)整層的厚度，比對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素及上述W的上述顯示像素的上述反射區(qū)域的厚度厚。
在上述液晶裝置的其他方式中，其特征為，在與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素及上述W的上述顯示像素，分別設(shè)置由同一材料構(gòu)成的上述單元厚度調(diào)整層。
在上述液晶裝置的其他方式中，其特征為，在與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述反射區(qū)域所設(shè)置的上述單元厚度調(diào)整層厚度，設(shè)定為和在上述W的上述顯示像素的上述透射區(qū)域所設(shè)置的上述單元厚度調(diào)整層厚度相同的厚度。
在上述液晶裝置的其他方式中，其特征為，對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的上述液晶層厚度，設(shè)定為和對應(yīng)于上述W的上述透射區(qū)域的上述液晶層厚度相同的厚度。
在上述液晶裝置的其他方式中，其特征為，與上述透射區(qū)域?qū)?yīng)的上述著色層厚度比與上述反射區(qū)域?qū)?yīng)的上述著色層厚度厚。
在上述液晶裝置的其他方式中，其特征為，在上述基板及上述對向基板任一方的、與上述反射區(qū)域?qū)?yīng)的位置，設(shè)置具有將光反射之作用的反射層。
根據(jù)本發(fā)明的一個觀點，具有與R、G、B及W各色對應(yīng)的多個顯示像素的液晶裝置，具備基板；和對向基板，通過液晶層與上述基板對向配置；上述R、G、B的上述顯示像素分別具有透射區(qū)域及反射區(qū)域，并且上述W的上述顯示像素只具有透射區(qū)域，與上述R、G、B的上述透射區(qū)域?qū)?yīng)的上述液晶層厚度設(shè)定得比與上述R、G、B的上述反射區(qū)域?qū)?yīng)的上述液晶層厚度厚，在上述R、G、B的上述反射區(qū)域及上述W的上述透射區(qū)域，設(shè)置單元厚度調(diào)整層。
上述液晶裝置具有與R、G、B及W各色對應(yīng)的多個顯示像素，并且其結(jié)構(gòu)具備基板；和對向基板，通過液晶層與該基板對向配置。
而且，R、G、B的顯示像素分別具有進行透射型顯示的透射區(qū)域及進行反射型顯示的反射區(qū)域，另一方面W的顯示像素只具有進行透射型顯示的透射區(qū)域。因此，構(gòu)成了具有與R、G、B及W各色對應(yīng)的顯示像素的半透射反射型液晶裝置。
另外，在該液晶裝置中，具有下述結(jié)構(gòu)，即所謂的多間隙結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)為與R、G、B各透射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度設(shè)定得比與R、G、B各反射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度厚，并且在透射區(qū)域和反射區(qū)域設(shè)定成最佳的光學(xué)特性。
在此，一般情況下，對于具有與R、G、B及W各色對應(yīng)的顯示像素的液晶裝置來說，通過對R、G、B的各顯示像素附加W的顯示像素，實現(xiàn)了高亮度及高對比度?？墒牵驗樵赪的顯示像素沒有色材，所以為了將與R、G、B透射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度(單元厚度)設(shè)定為和與W顯示像素的透射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度(單元厚度)相等，需要在與W的顯示像素對應(yīng)的位置設(shè)置單元厚度調(diào)整用的透明樹脂層。另外，在具有多間隙結(jié)構(gòu)的半透射反射型電光裝置中，通常情況下為了在透射區(qū)域和反射區(qū)域使光學(xué)特性均勻，在反射區(qū)域形成有多間隙用的樹脂層，并且與透射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度設(shè)定得比與反射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度大。
在具有這種多間隙結(jié)構(gòu)的半透射反射型液晶裝置中，在其構(gòu)成為具有與R、G、B及W各色對應(yīng)的顯示像素時(下面，稱為比較例)，需要在與W的顯示像素對應(yīng)的位置將單元厚度調(diào)整用的透明樹脂層，在R、G、B各顯示像素的各反射區(qū)域?qū)⒂刹煌谠撏该鳂渲瑢拥牟牧蠘?gòu)成的多間隙用的樹脂層，分別設(shè)置，相應(yīng)地就使工藝增加，由此引起液晶裝置的產(chǎn)品成本增加。
這一點在上述的液晶裝置中，特別是在R、G、B的反射區(qū)域及W的透射區(qū)域，設(shè)置例如由具有透明性的樹脂材料等構(gòu)成的單元厚度調(diào)整層。這里，優(yōu)選的是，與W對應(yīng)的顯示像素也可以帶有紅色、藍色、黃色，并且在所謂的CIE色度圖中進入到(x，y)＝(0.3～0.4，0.3～0.4)的范圍。
根據(jù)最佳的示例，優(yōu)選的是，在上述R、G、B的上述反射區(qū)域及上述W的上述透射區(qū)域，分別設(shè)置由同一材料構(gòu)成的單元厚度調(diào)整層。也就是說，在該液晶裝置的制造過程中，設(shè)置于R、G、B的反射區(qū)域的單元厚度調(diào)整層和設(shè)置于W的透射區(qū)域的單元厚度調(diào)整層通過同一工藝，采用同一材料同時形成。借此，可以在與R、G、B各顯示像素對應(yīng)的位置并且在W的顯示像素，分別同時形成多間隙結(jié)構(gòu)和單元厚度調(diào)整用的單元厚度調(diào)整層。其結(jié)果為，和比較例相比較，可以謀求工藝的減少，借此能夠減低液晶裝置的產(chǎn)品成本。
根據(jù)本發(fā)明的其他觀點，具有與R、G、B及W各色對應(yīng)的多個顯示像素的液晶裝置具備基板；和對向基板，通過液晶層與上述基板對向配置；上述R、G、B及W的上述顯示像素分別具有透射區(qū)域及反射區(qū)域，在上述R、G、B的至少上述反射區(qū)域、上述W的上述透射區(qū)域及上述W的反射區(qū)域，設(shè)置單元厚度調(diào)整層，并且上述W的上述反射區(qū)域的上述單元厚度調(diào)整層的厚度比上述W的上述透射區(qū)域的上述單元厚度調(diào)整層的厚度厚，與上述R、G、B及W的上述透射區(qū)域?qū)?yīng)的上述液晶層厚度相應(yīng)于上述單元厚度調(diào)整層的厚度，設(shè)定得比與上述R、G、B的上述反射區(qū)域?qū)?yīng)的上述液晶層厚度厚。
上述液晶裝置具有與R、G、B及W各色對應(yīng)的顯示像素，并且其結(jié)構(gòu)具備對向基板，其通過液晶層與該基板對向配置。而且，R、G、B及W的顯示像素分別具有透射區(qū)域及反射區(qū)域。因此，構(gòu)成了具有與R、G、B及W各色對應(yīng)的顯示像素的半透射反射型電光裝置。
另外，在該液晶裝置中，特別是在R、G、B的至少反射區(qū)域、W的透射區(qū)域及W的反射區(qū)域設(shè)置單元厚度調(diào)整層，并且W的反射區(qū)域的單元厚度調(diào)整層的厚度比W的透射區(qū)域的單元厚度調(diào)整層的厚度厚，與R、G、B及W的透射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度相應(yīng)于單元厚度調(diào)整層的厚度，設(shè)定得比與R、G、B的反射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度厚。在此，優(yōu)選的是，與W對應(yīng)的顯示像素也可以帶有紅色、藍色、黃色，并且在所謂的CIE色度圖中進入到(x，y)＝(0.3～0.4，0.3～0.4)的范圍。
根據(jù)最佳的示例，優(yōu)選的是，在上述R、G、B及W的上述反射區(qū)域及上述透射區(qū)域，分別設(shè)置由同一材料構(gòu)成的單元厚度調(diào)整層。也就是說，在該液晶裝置的制造過程中，設(shè)置于R、G、B的至少反射區(qū)域(或者反射區(qū)域及透射區(qū)域的雙方)的單元厚度調(diào)整層和設(shè)置于W的透射區(qū)域及反射區(qū)域的單元厚度調(diào)整層通過同一工藝，采用同一材料同時形成。借此，在該液晶裝置的制造過程中，可以在與R、G、B及W各顯示像素對應(yīng)的位置，分別同時形成多間隙結(jié)構(gòu)。其結(jié)果為，和上述比較例相比較，可以謀求工藝的減少，借此能夠減低液晶裝置的產(chǎn)品成本。
在上述液晶裝置的一個方式中，優(yōu)選的是，上述R、G、B的上述反射區(qū)域所設(shè)置的上述單元厚度調(diào)整層厚度，設(shè)定為和上述透明的上述透射區(qū)域所設(shè)置的上述單元厚度調(diào)整層厚度相同的尺寸。
在上述液晶裝置的其他方式中，與上述R、G、B的上述透射區(qū)域?qū)?yīng)的上述液晶層厚度，設(shè)定為和與上述W的上述透射區(qū)域?qū)?yīng)的上述液晶層厚度相同的尺寸。因此，可以在R、G、B的各透射區(qū)域和W的透射區(qū)域設(shè)定成恰當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)特性。
在上述液晶裝置的其他方式中，在與上述R、G、B的上述顯示像素對應(yīng)的位置，分別設(shè)置與R、G、B對應(yīng)的著色層，與上述透射區(qū)域?qū)?yīng)的上述R、G、B的上述著色層厚度比上述R、G、B的上述反射區(qū)域所設(shè)置的上述著色層厚度厚。
在該方式中，在與R、G、B各顯示像素對應(yīng)的位置，分別設(shè)置與R、G、B對應(yīng)的著色層。而且，與透射區(qū)域?qū)?yīng)的R、G、B的著色層厚度比R、G、B的反射區(qū)域所設(shè)置的著色層厚度厚。因此，可以在R、G、B各反射區(qū)域和R、G、B各透射區(qū)域設(shè)定成恰當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)特性。在最佳的示例中，與透射區(qū)域?qū)?yīng)的R、G、B各著色層厚度可以設(shè)為R、G、B各反射區(qū)域所設(shè)置的著色層厚度的約2倍左右。
在上述液晶裝置的其他方式中，在上述基板及上述對向基板任一方的與上述反射區(qū)域?qū)?yīng)的位置，設(shè)置具有將光反射之作用的反射層。因此，可以在反射區(qū)域進行反射型顯示。
根據(jù)本發(fā)明的其他觀點，具有與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素及與W對應(yīng)的顯示像素之液晶裝置具備基板；和對向基板，通過液晶層與上述基板對向配置；與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素或與上述多色對應(yīng)的上述多個顯示像素分別具有透射區(qū)域及反射區(qū)域，并且上述W的上述顯示像素只具有透射區(qū)域，對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素或與上述多色對應(yīng)的上述多個顯示像素的上述透射區(qū)域的上述液晶層厚度，設(shè)定得比對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素或與上述多色對應(yīng)的上述多個顯示像素的上述反射區(qū)域的上述液晶層厚度厚，在與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素或與上述多色對應(yīng)的上述多個顯示像素的上述反射區(qū)域及上述W的上述透射區(qū)域，設(shè)置單元厚度調(diào)整層。
上述液晶裝置具有與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素及與W對應(yīng)的多個顯示像素，并且其結(jié)構(gòu)具備基板；和對向基板，通過液晶層與該基板對向配置。
而且，與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素分別具有進行透射型顯示的透射區(qū)域及進行反射型顯示的反射區(qū)域，另一方面W的顯示像素只具有進行透射型顯示的透射區(qū)域。因此，構(gòu)成了具有與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素及與W對應(yīng)的顯示像素之半透射反射型液晶裝置。
另外，在該液晶裝置中，具有下述結(jié)構(gòu)，即所謂的多間隙結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)為對應(yīng)于與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素的各透射區(qū)域的液晶層厚度，設(shè)定得比對應(yīng)于與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素的各反射區(qū)域的液晶層厚度厚，在透射區(qū)域和反射區(qū)域設(shè)定成最佳的光學(xué)特性。
特別是，在該液晶裝置中，在與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素的反射區(qū)域及W的透射區(qū)域，設(shè)置例如由具有透明性的樹脂材料等構(gòu)成的單元厚度調(diào)整層。在此，優(yōu)選的是，與W對應(yīng)的顯示像素也可以帶有紅色、藍色、黃色，并且在所謂的CIE色度圖中進入到(x，y)＝(0.3～0.4，0.3～0.4)的范圍。
也就是說，在該液晶裝置的制造過程中，與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素的各反射區(qū)域所設(shè)置的單元厚度調(diào)整層和W的透射區(qū)域所設(shè)置的單元厚度調(diào)整層通過同一工藝，采用同一材料同時形成。因此，可以在對應(yīng)于與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素的位置并且在W的顯示像素，分別同時形成多間隙結(jié)構(gòu)和單元厚度調(diào)整用的單元厚度調(diào)整層。其結(jié)果為，和上述的比較例相比較，可以謀求工藝的減少，借此能夠減低液晶裝置的產(chǎn)品成本。
根據(jù)本發(fā)明的其他觀點，具有與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素及與W對應(yīng)的顯示像素之液晶裝置，具備基板；和對向基板，通過液晶層與上述基板對向配置；與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素或與上述多色對應(yīng)的上述多個顯示像素及W的上述顯示像素分別具有透射區(qū)域及反射區(qū)域，在與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素或與上述多色對應(yīng)的上述多個顯示像素的至少上述反射區(qū)域、上述W的上述透射區(qū)域及上述W的反射區(qū)域，設(shè)置單元厚度調(diào)整層，并且上述W的上述反射區(qū)域的上述單元厚度調(diào)整層的厚度比上述W的上述透射區(qū)域的上述單元厚度調(diào)整的厚度厚，對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素或與上述多色對應(yīng)的上述多個顯示像素的上述透射區(qū)域及W的上述透射區(qū)域各自的上述液晶層厚度，相應(yīng)于上述單元厚度調(diào)整層的厚度，設(shè)定得比對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素或與上述多色對應(yīng)的上述多個顯示像素的上述反射區(qū)域各自的上述液晶層厚度厚。
上述的液晶裝置具有與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素及與W對應(yīng)的顯示像素，并且其結(jié)構(gòu)具備對向基板，其通過液晶層與該基板對向配置。而且，與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素及W的顯示像素分別具有透射區(qū)域及反射區(qū)域。因此，構(gòu)成了具有與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素及與W對應(yīng)的顯示像素之半透射反射型電光裝置。
另外，在該液晶裝置中，特別是在與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素的至少反射區(qū)域、W的透射區(qū)域及W的反射區(qū)域，設(shè)置單元厚度調(diào)整層，并且W的反射區(qū)域的單元厚度調(diào)整層的厚度比W的透射區(qū)域的單元厚度調(diào)整層的厚度厚，對應(yīng)于與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素的各透射區(qū)域及W的透射區(qū)域各自的液晶層厚度，相應(yīng)于單元厚度調(diào)整層的厚度，設(shè)定得比對應(yīng)于與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素的反射區(qū)域各自的液晶層厚度厚。在此，優(yōu)選的是，與W對應(yīng)的顯示像素也可以帶有紅色、藍色、黃色，并且在所謂的CIE色度圖中進入到(x，y)＝(0.3～0.4，0.3～0.4)的范圍。
也就是說，在該液晶裝置的制造過程中，在與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素的至少反射區(qū)域(或者反射區(qū)域及透射區(qū)域的雙方)所設(shè)置的單元厚度調(diào)整層，和W的透射區(qū)域及反射區(qū)域所設(shè)置的單元厚度調(diào)整層，通過同一工藝，采用同一材料同時形成。因此，在該液晶裝置的制造過程中，可以在對應(yīng)于與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素及W的顯示像素的位置，分別同時形成多間隙結(jié)構(gòu)。其結(jié)果為，和上述的比較例相比較，可以謀求工藝的減少，借此能夠減低液晶裝置的產(chǎn)品成本。
另外，還可以構(gòu)成具備上述液晶裝置來作為顯示部的電子設(shè)備。
根據(jù)本發(fā)明的其他觀點，是一種液晶裝置的制造方法，該液晶裝置至少具有與W對應(yīng)的顯示像素以及與和上述W不同的1色對應(yīng)的顯示像素，與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素具備透射區(qū)域及反射區(qū)域，并且上述W的上述顯示像素至少具備透射區(qū)域，對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的液晶層厚度，設(shè)定得比對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述反射區(qū)域的液晶層厚度厚；該液晶裝置的制造方法其特征為，包括著色層形成工藝，用來在基體材料上，對與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素形成著色層；和單元厚度調(diào)整層形成工藝，用來在上述基體材料上，在與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述反射區(qū)域及上述W的上述顯示像素的上述透射區(qū)域，同時形成由透明材料構(gòu)成的單元厚度調(diào)整層。
在上述液晶裝置制造方法的一個方式中，其特征為，上述W的上述顯示像素不具備上述反射區(qū)域。
在上述液晶裝置制造方法的一個方式中，其特征為，上述W的上述顯示像素具備反射區(qū)域，對應(yīng)于上述W的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的液晶層厚度比對應(yīng)于上述W的上述顯示像素的上述反射區(qū)域的液晶層厚度厚，上述單元厚度調(diào)整層形成工藝在上述基體材料上，在與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述反射區(qū)域、上述W的上述顯示像素的上述透射區(qū)域及上述反射區(qū)域，同時形成上述單元厚度調(diào)整層。
在上述液晶裝置制造方法的一個方式中，其特征為，上述著色層形成工藝在位于上述反射區(qū)域的上述著色層形成開口。
技術(shù)方案9至12任一項所述的液晶裝置制造方法，其特征為，上述單元厚度調(diào)整層形成工藝，將上述單元厚度調(diào)整層，形成為和上述著色層相同的厚度。
在上述液晶裝置制造方法的一個方式中，其特征為，上述單元厚度調(diào)整層形成工藝包括層厚度調(diào)整工藝，該層厚度調(diào)整工藝包括抗蝕劑涂敷工藝，在上述W的上述顯示像素及與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述著色層上，涂敷抗蝕劑；第1曝光工藝，在通過第1掩模對上述抗蝕劑進行1次曝光之后，實施顯影及蝕刻處理，上述第1掩模包括將光完全透射的完全曝光區(qū)域及將上述光完全遮光的完全遮光區(qū)域；以及第2曝光工藝，在再次實施上述抗蝕劑涂敷工藝之后，通過第2掩模對上述抗蝕劑進行1次曝光之后，實施顯影及蝕刻處理，上述第2掩模包括上述完全曝光區(qū)域及上述完全遮光區(qū)域，構(gòu)成和上述第1掩模不同；上述層厚度調(diào)整工藝至少將上述W的上述透射區(qū)域所設(shè)置的上述單元厚度調(diào)整層和與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的上述著色層的厚度，設(shè)定為相同。
在上述液晶裝置制造方法的一個方式中，其特征為，上述單元厚度調(diào)整層形成工藝包括層厚度調(diào)整工藝，該層厚度調(diào)整工藝包括抗蝕劑涂敷工藝，用來在上述W的上述顯示像素及與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述著色層上，涂敷抗蝕劑；半色調(diào)(halftone)曝光工藝，在通過下述掩模對上述抗蝕劑至少進行1次曝光之后，實施顯影及蝕刻處理，該掩模包括將光完全透射的完全曝光區(qū)域、將上述光完全遮光的完全遮光區(qū)域及由半透射膜構(gòu)成的半色調(diào)曝光區(qū)域；上述層厚度調(diào)整工藝至少將在上述W的上述透射區(qū)域所設(shè)置的上述單元厚度調(diào)整層和與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的上述著色層的厚度，設(shè)定為相同。
在上述液晶裝置制造方法的一個方式中，其特征為，在上述著色層形成工藝和上述單元厚度調(diào)整層形成工藝之間，具有保護膜形成工藝，用來在與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述著色層上形成保護膜；上述單元厚度調(diào)整層形成工藝在上述W的上述顯示像素及與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述反射顯示區(qū)域的上述保護膜上，形成上述單元厚度調(diào)整層，上述層厚度調(diào)整工藝至少將在上述W的上述透射區(qū)域所設(shè)置的上述單元厚度調(diào)整層和與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的上述著色層的厚度，設(shè)定為相同。
在上述液晶裝置制造方法的一個方式中，其特征為，作為上述著色層形成工藝的前工藝具有反射層形成工藝，用來在上述基體材料上，對上述反射區(qū)域形成反射層。
根據(jù)本發(fā)明的其他觀點，液晶裝置在與R、G、B各色分別對應(yīng)的多個顯示像素內(nèi)具有透射區(qū)域及反射區(qū)域，并且在與W對應(yīng)的顯示像素內(nèi)只具有透射區(qū)域，且與上述R、G、B的上述透射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度設(shè)定得比與上述R、G、B的上述反射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度大，該液晶裝置的制造方法，包括著色層形成工藝，用來在基體材料上，在應(yīng)形成與上述R、G、B的上述各色對應(yīng)的上述顯示像素之區(qū)域，形成具有上述R、G、B的上述各色之著色層；和單元厚度調(diào)整層形成工藝，用來在上述基體材料上，在應(yīng)形成上述R、G、B的上述反射區(qū)域及上述W的上述透射區(qū)域之區(qū)域，同時形成由透明材料構(gòu)成的單元厚度調(diào)整層。
上述液晶裝置的制造方法是具有多間隙結(jié)構(gòu)的液晶裝置的制造方法，該液晶裝置在與R、G、B各色分別對應(yīng)的顯示像素內(nèi)具有透射區(qū)域及反射區(qū)域，并且在與W對應(yīng)的顯示像素內(nèi)只具有透射區(qū)域，且與R、G、B的透射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度設(shè)定得比與R、G、B的上述反射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度大。
該液晶裝置的制造方法首先通過著色層形成工藝，在由玻璃或石英等材料構(gòu)成的基體材料上，在應(yīng)形成與R、G、B各色分別對應(yīng)的多個顯示像素之區(qū)域，形成具有R、G、B各色的著色層。接著，通過單元厚度調(diào)整層形成工藝，在基體材料上，在應(yīng)形成R、G、B的反射區(qū)域及W的透射區(qū)域之區(qū)域，同時形成由透明材料(例如，具有透明性的樹脂材料等)構(gòu)成的單元厚度調(diào)整層。
借此，可以在與R、G、B各顯示像素對應(yīng)的位置并且在W的顯示像素，分別同時形成多間隙結(jié)構(gòu)和單元厚度調(diào)整用的單元厚度調(diào)整層。因而，和上述比較例所涉及的液晶裝置制造方法相比較，可以謀求工藝的減少，并能夠減低液晶裝置的產(chǎn)品成本。
根據(jù)本發(fā)明的其他觀點，液晶裝置在與R、G、B及W各色分別對應(yīng)的多個顯示像素內(nèi)具有透射區(qū)域及反射區(qū)域，且與上述R、G、B及W的上述透射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度設(shè)定得比與上述R、G、B及W的上述反射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度厚；該液晶裝置的制造方法包括著色層形成工藝，用來在基體材料上，在應(yīng)形成與上述R、G、B的上述各色對應(yīng)的上述顯示像素之區(qū)域，形成具有上述R、G、B的上述各色之著色層；和單元厚度調(diào)整層形成工藝，用來在上述基體材料上，在應(yīng)形成上述R、G、B的上述反射區(qū)域、上述W的上述透射區(qū)域及上述反射區(qū)域之區(qū)域，同時形成由透明材料構(gòu)成的單元厚度調(diào)整層。
上述液晶裝置的制造方法是具有多間隙結(jié)構(gòu)的液晶裝置制造方法，該液晶裝置在與R、G、B及W各色分別對應(yīng)的多個顯示像素內(nèi)具有透射區(qū)域及反射區(qū)域，且與R、G、B及W各透射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度設(shè)定得比與R、G、B及W各反射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度厚。
該液晶裝置的制造方法首先通過著色層形成工藝，在由玻璃或石英等材料構(gòu)成的基體材料上，在應(yīng)形成與R、G、B各色對應(yīng)的顯示像素之區(qū)域，形成具有R、G、B各色的著色層。接著，通過單元厚度調(diào)整層形成工藝，在基體材料上，在應(yīng)形成R、G、B各反射區(qū)域、透明的透射區(qū)域及反射區(qū)域之區(qū)域，同時形成由透明材料(例如，具有透明性的樹脂材料等)構(gòu)成的單元厚度調(diào)整層。
借此，可以在與R、G、B及W各顯示像素對應(yīng)的位置分別同時形成多間隙結(jié)構(gòu)。因而，和上述比較例所涉及的液晶裝置制造方法相比較，可以謀求工藝的減少，能夠減低液晶裝置的產(chǎn)品成本。
在上述液晶裝置制造方法的一個方式中，上述著色層形成工藝在位于上述反射區(qū)域的上述R、G、B的上述著色層各自形成開口。因而，可以在R、G、B各反射區(qū)域和R、G、B各透射區(qū)域設(shè)定成恰當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)特性。
在上述液晶裝置制造方法的其他方式中，上述單元厚度調(diào)整層形成工藝可以將上述單元厚度調(diào)整層，形成為和上述R、G、B的上述著色層相同的厚度。
在上述液晶裝置制造方法的其他方式中，上述單元厚度調(diào)整層形成工藝包括層厚度調(diào)整工藝，該層厚度調(diào)整工藝包括抗蝕劑涂敷工藝，用來對在上述單元厚度調(diào)整層的厚度比上述R、G、B的上述著色層厚度厚時，至少在上述R、G、B的上述反射區(qū)域、上述W的上述透射區(qū)域及/或上述反射區(qū)域各自所形成的上述單元厚度調(diào)整層之上，以及在上述R、G、B的上述透射區(qū)域所形成的上述R、G、B的上述著色層之上，涂敷抗蝕劑；第1曝光工藝，用來在通過第1掩模對上述抗蝕劑進行1次曝光之后，實施顯影及蝕刻處理，該第1掩模包括將光完全透射的完全曝光區(qū)域及將上述光完全遮光的完全遮光區(qū)域；和第2曝光工藝，用來在再次實施上述抗蝕劑涂敷工藝之后，通過第2掩模對上述抗蝕劑進行1次曝光之后，實施顯影及蝕刻處理，該第2掩模包括上述完全曝光區(qū)域及上述完全遮光區(qū)域，并且構(gòu)成和上述第1掩模不同；上述層厚度調(diào)整工藝至少將在上述W的上述透射區(qū)域所設(shè)置的上述單元厚度調(diào)整層和上述R、G、B的上述透射區(qū)域的上述著色層厚度，設(shè)定為相同。
在該方式中，單元厚度調(diào)整層形成工藝包括層厚度調(diào)整工藝。而且，層厚度調(diào)整工藝包括抗蝕劑涂敷工藝、第1曝光工藝及第2曝光工藝。首先，抗蝕劑涂敷工藝在上述單元厚度調(diào)整層的厚度比上述R、G、B的上述著色層厚度厚時，至少對在R、G、B各反射區(qū)域、W的透射區(qū)域及/或反射區(qū)域各自所形成的單元厚度調(diào)整層之上，以及在R、G、B各透射區(qū)域所形成的R、G、B的各著色層之上，涂敷抗蝕劑(感光性樹脂)。
接著，第1曝光工藝在通過第1掩模對抗蝕劑進行1次曝光之后，實施顯影及蝕刻處理，該第1掩模包括將光(紫外線或i射線等的光，下面相同)完全透射的完全曝光區(qū)域及將光完全遮光的完全遮光區(qū)域。
接著，第2曝光工藝在再次實施抗蝕劑涂敷工藝之后，通過第2掩模對抗蝕劑(感光性樹脂)進行1次曝光，之后實施顯影及蝕刻處理，該第2掩模包括完全曝光區(qū)域及完全遮光區(qū)域，并且構(gòu)成和第1掩模不同。通過這些一系列的工藝(雙重曝光方法)，層厚度調(diào)整工藝至少將在W的透射區(qū)域所設(shè)置的單元厚度調(diào)整層和R、G、B各透射區(qū)域的著色層厚度，設(shè)定為相同。因此，可以在R、G、B各透射區(qū)域和W的透射區(qū)域設(shè)定成恰當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)特性。
在上述液晶裝置制造方法的其他方式中，上述單元厚度調(diào)整層形成工藝包括層厚度調(diào)整工藝，該層厚度調(diào)整工藝包括抗蝕劑涂敷工藝，用來在上述單元厚度調(diào)整層的厚度比上述R、G、B的上述著色層厚度厚時，至少對在上述R、G、B的上述反射區(qū)域、上述W的上述透射區(qū)域及/或上述反射區(qū)域各自所形成的上述單元厚度調(diào)整層之上，以及在上述R、G、B的上述透射區(qū)域所形成的上述R、G、B的上述著色層之上，涂敷抗蝕劑；和半色調(diào)曝光工藝，用來在通過掩模對上述抗蝕劑至少進行1次曝光之后，實施顯影及蝕刻處理，該掩模包括將光完全透射的完全曝光區(qū)域、將上述光完全遮光的完全遮光區(qū)域及具有半透射膜的半色調(diào)曝光區(qū)域；上述層厚度調(diào)整工藝至少將在上述W的上述透射區(qū)域所設(shè)置的上述單元厚度調(diào)整層和上述R、G、B的上述透射區(qū)域的上述著色層厚度，設(shè)定為相同。
在該方式中，單元厚度調(diào)整層形成工藝包括層厚度調(diào)整工藝。而且，層厚度調(diào)整工藝包括抗蝕劑涂敷工藝和半色調(diào)曝光工藝。
首先，抗蝕劑涂敷工藝在上述單元厚度調(diào)整層的厚度比上述R、G、B的上述著色層厚度厚時，至少對在R、G、B各反射區(qū)域、W的透射區(qū)域及/或反射區(qū)域各自所形成的單元厚度調(diào)整層之上，以及在R、G、B的各透射區(qū)域所形成的R、G、B的各著色層之上，涂敷抗蝕劑(感光性樹脂)。
接著，半色調(diào)曝光工藝在通過掩模對抗蝕劑至少進行1次曝光之后，實施顯影及蝕刻處理，該掩模包括將光完全透射的完全曝光區(qū)域、將光完全遮光的完全遮光區(qū)域及具有半透射膜的半色調(diào)曝光區(qū)域。通過這些一系列的工藝(半色調(diào)曝光方法)，層厚度調(diào)整工藝至少將在W的透射區(qū)域所設(shè)置的單元厚度調(diào)整層和R、G、B各透射區(qū)域的各著色層厚度，設(shè)定為相同。因此，可以在R、G、B各透射區(qū)域和W的透射區(qū)域設(shè)定成恰當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)特性。
在上述液晶裝置制造方法的其他方式中，作為上述著色層形成工藝的前工藝具有反射層形成工藝，用來在上述基體材料上，在上述R、G、B的上述反射區(qū)域形成反射層。因此，可以在R、G、B的反射區(qū)域進行與各色相對應(yīng)的反射型顯示。
在上述液晶裝置制造方法的其他方式中，作為上述著色層形成工藝的前工藝具有反射層形成工藝，用來在上述基體材料上，在上述R、G、B的上述反射區(qū)域及上述W的上述反射區(qū)域形成反射層。因此，可以在R、G、B及W的各反射區(qū)域進行與各色相對應(yīng)的反射型顯示。
根據(jù)本發(fā)明的其他觀點，是一種液晶裝置的制造方法，該液晶裝置在與1色對應(yīng)的顯示像素內(nèi)或與多色對應(yīng)的多個顯示像素內(nèi)分別具有透射區(qū)域及反射區(qū)域，并且在與W對應(yīng)的顯示像素內(nèi)只具有透射區(qū)域，且對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素或與上述多色對應(yīng)的上述多個顯示像素的上述透射區(qū)域各自的液晶層厚度，設(shè)定得比對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素或與上述多色對應(yīng)的上述多個顯示像素的上述反射區(qū)域各自的液晶層厚度厚，該液晶裝置的制造方法包括著色層形成工藝，用來在基體材料上，在應(yīng)形成與上述1色或上述多色對應(yīng)的上述顯示像素之區(qū)域，形成具有上述1色或上述多色的著色層；和單元厚度調(diào)整層形成工藝，用來在上述基體材料上，在應(yīng)形成與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素或與上述多色對應(yīng)的上述多個顯示像素的上述反射區(qū)域各自及上述W的上述透射區(qū)域之區(qū)域，同時形成由透明材料構(gòu)成的單元厚度調(diào)整層。
上述液晶裝置的制造方法是具有多間隙結(jié)構(gòu)的液晶裝置的制造方法，該液晶裝置在與1色對應(yīng)的顯示像素內(nèi)或與多色對應(yīng)的多個顯示像素內(nèi)分別具有透射區(qū)域及反射區(qū)域，并且在與W對應(yīng)的顯示像素內(nèi)只具有透射區(qū)域，且對應(yīng)于與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素的透射區(qū)域各自的液晶層厚度，設(shè)定得比對應(yīng)于與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素的反射區(qū)域各自的液晶層厚度厚。
該液晶裝置的制造方法首先通過著色層形成工藝，在由玻璃或石英等材料構(gòu)成的基體材料上，在應(yīng)形成與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素之區(qū)域，形成具有1色或多色的著色層。接著，通過單元厚度調(diào)整層形成工藝，在基體材料上，在應(yīng)形成與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素的反射區(qū)域各自及W的透射區(qū)域之區(qū)域，同時形成由透明材料(例如，具有透明性的樹脂材料等)構(gòu)成的單元厚度調(diào)整層。
因此，可以在對應(yīng)于與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素各自的位置并且在W的顯示像素，分別同時形成多間隙結(jié)構(gòu)和單元厚度調(diào)整用的單元厚度調(diào)整層。因而，和上述比較例所涉及的液晶裝置制造方法相比較，可以謀求工藝的減少，并能夠減低液晶裝置的產(chǎn)品成本。
根據(jù)本發(fā)明的其他觀點，是一種液晶裝置的制造方法，該液晶裝置在與1色對應(yīng)的顯示像素內(nèi)或與多色對應(yīng)的多個顯示像素內(nèi)及與W對應(yīng)的顯示像素內(nèi)，分別具有透射區(qū)域及反射區(qū)域，且對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素或與上述多色對應(yīng)的上述多個顯示像素及W的上述顯示像素的上述透射區(qū)域各自的液晶層厚度，設(shè)定得比對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素或與上述多色對應(yīng)的上述多個顯示像素及W的上述顯示像素的上述反射區(qū)域各自的液晶層厚度厚，該液晶裝置的制造方法包括著色層形成工藝，用來在基體材料上，在應(yīng)形成與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素或與上述多色對應(yīng)的上述多個顯示像素之區(qū)域，形成具有上述1色或上述多色的著色層；和單元厚度調(diào)整層形成工藝，用來在上述基體材料上，在應(yīng)形成與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素或與上述多色對應(yīng)的上述多個顯示像素的上述反射區(qū)域各自以及上述W的上述透射區(qū)域及上述反射區(qū)域之區(qū)域，同時形成由透明材料構(gòu)成的單元厚度調(diào)整層。
上述液晶裝置的制造方法是具有多間隙結(jié)構(gòu)的液晶裝置的制造方法，該液晶裝置在與1色對應(yīng)的顯示像素內(nèi)或與多色對應(yīng)的多個顯示像素內(nèi)及與W對應(yīng)的顯示像素內(nèi)，分別具有透射區(qū)域及反射區(qū)域，且對應(yīng)于與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素及W的顯示像素的透射區(qū)域各自的液晶層厚度，設(shè)定得比對應(yīng)于與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素及W的顯示像素的反射區(qū)域各自的液晶層厚度厚。
該液晶裝置的制造方法首先通過著色層形成工藝，在由玻璃或石英等材料構(gòu)成的基體材料上，在應(yīng)形成與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素之區(qū)域，形成具有1色或多色的著色層。接著，通過單元厚度調(diào)整層形成工藝，在基體材料上，在應(yīng)形成與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素的反射區(qū)域各自以及W的透射區(qū)域及反射區(qū)域之區(qū)域，同時形成由透明材料(例如，具有透明性的樹脂材料等)構(gòu)成的單元厚度調(diào)整層。
因此，可以在對應(yīng)于與1色對應(yīng)的顯示像素或與多色對應(yīng)的多個顯示像素及W的顯示像素的位置，分別同時形成多間隙結(jié)構(gòu)。因而，和上述比較例所涉及的液晶裝置制造方法相比較，可以謀求工藝的減少，能夠減低液晶裝置的產(chǎn)品成本。


圖1是模式表示本發(fā)明的第1實施方式所涉及的液晶裝置結(jié)構(gòu)的平面圖。
圖2是表示第1實施方式的包括R、G、B及W的1個像素結(jié)構(gòu)的平面圖。
圖3是表示第1實施方式的R、G、B各子像素結(jié)構(gòu)的平面圖。
圖4是沿著圖3中的剖開線A-A′及剖開線B-B′的部分剖面圖。
圖5是沿著圖3中的剖開線B-B′的部分剖面圖。
圖6是沿著圖2中的剖開線C-C′的部分剖面圖。
圖7是表示第2實施方式的包括R、G、B及W的1個像素結(jié)構(gòu)的平面圖。
圖8是表示第2實施方式的R、G、B的各子像素結(jié)構(gòu)的平面圖。
圖9是沿著圖8中的剖開線D-D′及剖開線E-E′的部分剖面圖。
圖10是沿著圖7中的剖開線F-F′的部分剖面圖。
圖11是表示將第1實施方式的液晶裝置變形后的結(jié)構(gòu)的部分剖面圖。
圖12是表示將第2實施方式的液晶裝置變形后的結(jié)構(gòu)的部分剖面圖。
圖13是表示包括R、G、B及W的1個像素結(jié)構(gòu)的各種變形例的平面圖。
圖14是表示包括R、G、B及W的1個像素結(jié)構(gòu)的各種變形例的平面圖。
圖15是表示第1及第2實施方式的液晶裝置的制造方法的流程圖。
圖16是表示第1實施方式的濾色器基扳制造方法的流程圖。
圖17是表示第1實施方式所涉及的濾色器基板制造工藝的剖面圖。
圖18是表示第1實施方式所涉及的濾色器基板制造工藝的剖面圖。
圖19是表示第1實施方式所涉及的濾色器基板制造工藝的剖面圖。
圖20是表示第1實施方式所涉及的濾色器基板制造工藝的剖面圖。
圖21是表示第1實施方式所涉及的濾色器基板制造工藝的剖面圖。
圖22是表示第2實施方式的濾色器基板的制造方法的流程圖。
圖23是表示第2實施方式所涉及的濾色器基板制造工藝的剖面圖。
圖24是表示第2實施方式所涉及的濾色器基板制造工藝的剖面圖。
圖25是表示第2實施方式所涉及的濾色器基板制造工藝的剖面圖。
圖26是表示變形例所涉及的濾色器基板制造工藝等的剖面圖。
圖27是使用本發(fā)明的液晶裝置的電子設(shè)備的電路框圖。
圖28是使用本發(fā)明的液晶裝置的電子設(shè)備的示例。
符號說明4液晶層，5反射電極，6著色層，8共用電極，10像素電極，18單元厚度調(diào)整用絕緣層，21 TFT元件，32源線，33柵線，62數(shù)據(jù)線，63 TFD元件，64掃描電極，65反射層，70、75、76、79掩模，40驅(qū)動IC，41 FPC，91、93元件基板，92、94、96濾色器基板，100、200液晶裝置。
具體實施例方式
下面，參照附圖，對于用來實施本發(fā)明的最佳方式進行說明。還有，下面的各種實施方式是將本發(fā)明用于作為電光裝置一例的液晶裝置中的方式。

第1實施方式將本發(fā)明用于下述液晶裝置中，該液晶裝置是使用作為三端子元件一例的a-Si型TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶體管)元件的有源矩陣驅(qū)動方式的裝置。
(液晶裝置的結(jié)構(gòu))首先，參照圖1至圖5，對于本發(fā)明第1實施方式所涉及的液晶裝置100的結(jié)構(gòu)等，進行說明。
圖1是模式表示本發(fā)明第1實施方式所涉及的液晶裝置100概略結(jié)構(gòu)的平面圖。在圖1中，在附圖跟前方(觀看方)并且在附圖進深方，分別配置濾色器基板92和元件基板91。還有，在圖1中，將附圖縱向(列方向)規(guī)定為Y方向，并且將附圖橫向(行方向)規(guī)定為X方向。另外，在圖1中，與R(紅)、G(綠)、B(藍)、W(透明)對應(yīng)的各區(qū)域表示1個子像素區(qū)域SG，并且與R、G、B、W對應(yīng)的2行2列子像素區(qū)域SG表示1個像素區(qū)域AG。
在本發(fā)明中，像素區(qū)域AG由R、G、B、W構(gòu)成，和以往已被廣泛使用的由R、G、B構(gòu)成1個像素區(qū)域的結(jié)構(gòu)有所不同。為此，在本發(fā)明中，采用和以往不同的描繪操作技術(shù)(rendering，渲染)來進行顯示。渲染使用下述圖像處理技術(shù)，該圖像處理技術(shù)不僅是本像素區(qū)域AG內(nèi)的子像素區(qū)域SG，還對本像素區(qū)域AG周邊的同一色調(diào)的子像素區(qū)域SG也重疊地施加下述灰度等級信號，該灰度等級信號施加于任意的1個像素區(qū)域AG的分別具備RGB各色色層的子像素區(qū)域SG。也就是說，一個像素區(qū)域AG(顯示像素)的RGB各色的子像素區(qū)域SG(子像素)，通過重疊用于1個顯示像素內(nèi)的子像素的顯示的灰度等級信號，將其也施加給1個顯示像素周邊的顯示像素的同一色調(diào)的子像素，來進行顯示。
因此，可以視覺辨認比實際像素數(shù)高的分辨率感，例如在采用下述液晶裝置時，可以實現(xiàn)對應(yīng)VGA(Video Graphics Array，視頻圖形陣列)規(guī)格的畫面顯示分辨率，該液晶裝置具有對應(yīng)QVGA(Quarter VideoGraphics Array，四分之一視頻圖形陣列)規(guī)格的畫面顯示分辨率。
液晶裝置100通過框狀的密封材料5來粘合元件基板91和與該元件基板91對向配置的濾色器基板92，并且在該密封材料5的內(nèi)側(cè)封入液晶來形成液晶層4。
這里，液晶裝置100是一種采用R、G、B、W的4色來構(gòu)成的彩色顯示用液晶裝置，并且是作為開關(guān)元件使用a-Si型TFT元件的有源矩陣驅(qū)動方式的液晶裝置。另外，液晶裝置100是在R、G、B各子像素區(qū)域SG內(nèi)具有透射區(qū)域及反射區(qū)域的半透射反射型液晶裝置，并且還是具有多間隙結(jié)構(gòu)的液晶裝置，該多間隙結(jié)構(gòu)在該透射區(qū)域和該反射區(qū)域使液晶層4的厚度不同。
首先，對于元件基板91的平面結(jié)構(gòu)進行說明。在元件基板91的內(nèi)面上，主要形成或安裝多條源線32、多條柵線33、多個a-Si型TFT元件21、多個像素電極10、驅(qū)動IC40、外部連接用布線35及FPC(Flexible PrintedCircuit，柔性印刷電路)41等。
如圖1所示，元件基板91具有從濾色器基板92的一邊側(cè)向外側(cè)伸出的伸出區(qū)域31，在該伸出區(qū)域31上安裝驅(qū)動IC40。驅(qū)動IC40的輸入側(cè)端子(未圖示)和多條外部連接用布線35的一端側(cè)進行電連接，并且多條外部連接用布線35的另一端側(cè)和FPC進行電連接。各源線32按Y方向延伸且按X方向隔開適當(dāng)?shù)拈g隔來形成，各源線32的一端側(cè)電連接到驅(qū)動IC40的輸出側(cè)端子(未圖示)上。
各柵線33具備第1布線33a，其形成為按Y方向延伸；和第2布線33b，其形成為從該第1布線33a的終端部開始按X方向延伸。各柵線33的第2布線33b按和各源線32交叉的方向，也就是X方向延伸且按Y方向隔開適當(dāng)?shù)拈g隔來形成，各柵線33的第1布線33a一端側(cè)電連接到驅(qū)動IC40的輸出側(cè)端子(未圖示)上。在與各源線32和各柵線33的第2布線33b的交叉處對應(yīng)的位置，設(shè)置TFT元件21，各TFT元件21電連接到各源線32、各柵線33及各像素電極10等上。各TFT元件21及各像素電極10設(shè)置在與各子像素區(qū)域SG對應(yīng)的位置。各像素電極10例如采用ITO(indium-Tin Oxide，氧化銦錫)等的透明導(dǎo)電材料來形成。
1個像素區(qū)域AG按X方向及Y方向排成多個且呈矩陣狀的區(qū)域是有效顯示區(qū)域V(用雙點劃線包圍的區(qū)域)。在該有效顯示區(qū)域V，顯示字符、數(shù)字、圖形等的圖像。還有，有效顯示區(qū)域V外側(cè)的區(qū)域為不用于顯示的邊框區(qū)域38。另外，在各源線32、各柵線33、各TFT元件21及各像素電極10等的內(nèi)面上，形成未圖示的取向膜。
下面，對于濾色器基板92的平面結(jié)構(gòu)進行說明。濾色器基板92具有遮光層(一般被稱為“黑矩陣”，在下面只簡稱為“BM”)、R、G、B的3色著色層6R、6G、6B及共用電極8等。還有，在下面的說明中，在不分色都指著色層時，只記為“著色層6”，在區(qū)分色來指著色層時，記為“著色層6R”等。BM形成在劃分各子像素區(qū)域SG的位置處。在圖1中與W對應(yīng)的各子像素區(qū)域SG，未特別設(shè)置著色層。共用電極8和像素電極相同，由ITO等的透明導(dǎo)電材料來構(gòu)成，并且在濾色器基板92大致一面的范圍內(nèi)來形成。共用電極8在密封材料5的邊角區(qū)域E1，和布線15的一端側(cè)進行電連接，并且該布線15的另一端側(cè)和與驅(qū)動IC40的COM對應(yīng)的輸出端子進行電連接。
在具有上述結(jié)構(gòu)的液晶裝置100中，基于來自和電子設(shè)備等已連接的FPC41側(cè)的信號及電力等，由驅(qū)動IC40按G1、G2、…、Gm-1、Gm(m是自然數(shù))的順序，依次以排他方式每次分別選擇1根柵線33，并且對所選擇的柵線33供給選擇電壓的柵信號，另一方面對其他非選擇的柵線33供給非選擇電壓的柵信號。然后，驅(qū)動IC40針對處于與所選擇的柵線33對應(yīng)的位置的像素電極10，通過分別對應(yīng)的S1、S2、…、Sn-1、Sn(n是自然數(shù))的源線32及TFT元件21，供給與顯示內(nèi)容相應(yīng)的源信號。其結(jié)果為，液晶層4的顯示狀態(tài)轉(zhuǎn)換成非顯示狀態(tài)或中間顯示狀態(tài)，液晶層4的取向狀態(tài)得到控制。
(像素結(jié)構(gòu))下面，參照圖2等，對于1個像素區(qū)域AG的結(jié)構(gòu)進行說明。圖2是圖1中的與1個像素區(qū)域AG(用虛線包圍的部分)對應(yīng)的部分放大平面圖。
如圖2所示，1個像素區(qū)域AG其結(jié)構(gòu)具備與R、G、B、W對應(yīng)的2行2列子像素區(qū)域SG。再者，與R、G、B對應(yīng)的各子像素區(qū)域SG其結(jié)構(gòu)具備進行透射型顯示的透射區(qū)域E10和進行反射型顯示的反射區(qū)域E11。相對于此，與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG其結(jié)構(gòu)只具備透射區(qū)域E10，沒有反射區(qū)域E11。
接著，參照圖3，將圖2中的與R、G、B對應(yīng)的各子像素區(qū)域SG的結(jié)構(gòu)分為反射區(qū)域E11的結(jié)構(gòu)和透射區(qū)域E10的結(jié)構(gòu)，進行說明。
圖3(a)是表示與R、G、B各子像素區(qū)域SG對應(yīng)的元件基板91結(jié)構(gòu)的部分放大平面圖。另一方面，圖3(b)是表示和圖3(a)的元件基板91對向配置且與R、G、B各子像素區(qū)域SG對應(yīng)的濾色器基板92結(jié)構(gòu)的部分放大平面圖。圖4(a)是沿著圖3(a)及(b)中的剖開線A-A′的部分剖面圖，表示與R、G、B各反射區(qū)域E11對應(yīng)的液晶裝置100的剖面結(jié)構(gòu)。另一方面，圖4(b)是沿著圖3(a)及(b)中的剖開線B-B′的部分剖面圖，表示與R、G、B各子像素區(qū)域SG對應(yīng)的液晶裝置100的剖面結(jié)構(gòu)。
首先，對于R、G、B的1個子像素區(qū)域SG內(nèi)的反射區(qū)域E11的結(jié)構(gòu)，進行說明。
在采用玻璃或石英等材料所形成的下側(cè)基板1上，形成柵線33。在圖3(a)中，作為柵線33之要件的第2布線33b具有干線部分33ba，按X方向延伸；和支線部分33bb，從該干線部分33ba向Y方向彎折地分支。在下側(cè)基板1及柵線33上，形成具有絕緣性的柵絕緣層50。在柵絕緣層50上且和柵線33的支線部分33bb平面上重合的位置，設(shè)置作為TFT元件21之要件的a-Si層52。源線32在柵絕緣層50上，其形成為按和柵線33交叉的方向延伸。
源線32如圖3(a)所示，具有干線部分32a，按Y方向延伸；和支線部分32b，從該干線部分32a向X方向彎折地分支。源線32的支線部分32b一部分形成于a-Si層52一端側(cè)的一部分上。在a-Si層52另一端側(cè)的一部分上及柵絕緣層50上，形成由金屬等構(gòu)成的保持電容電極16。因此，a-Si層52分別電連接到源線32及保持電容電極16。而且，在與a-Si層52對應(yīng)的位置，形成包括該層來作為要件的TFT元件21。
在源線32、保持電容電極16及柵絕緣層50等之上，形成具有絕緣性的鈍化(passivation)層(反應(yīng)防止層)51。鈍化層51在和保持電容電極16平面上重合的位置具有接觸孔(開口)51a。在鈍化層51上，形成由樹脂材料等構(gòu)成的樹脂層17。在樹脂層17的表面上，形成多個微小凹凸，該微小凹凸具有使光散射的功能。樹脂層17在與鈍化層51的接觸孔51a對應(yīng)的位置具有接觸孔17a。在樹脂層17上，形成反射電極5，該反射電極采用Al(鋁)等來形成且具有反射功能。反射電極5因為形成到具有多個微小凹凸的樹脂層17上，所以該反射電極5形成為反映出該微小的多個凹凸的形狀。在與接觸孔51a及17a對應(yīng)的反射電極5的位置，形成使光透射的透射開口區(qū)域80。在反射電極5上，形成像素電極10。
另外，在下側(cè)基板1的外面上，配置相位差板13(1/4波長板)，并且在相位差板13的外面上配置偏振板14。另外，在偏振板14的外面上，配置作為照明裝置的背光源15。背光源15最好是例如將LED(LightEmitting Diode，發(fā)光二極管)等之類的點狀光源或冷陰極熒光管等之類的線狀光源和導(dǎo)光板組合起來的光源等。
另一方面，與R、G、B的1個子像素區(qū)域SG內(nèi)的反射區(qū)域E11對應(yīng)的濾色器基板92的結(jié)構(gòu)，如下所述。
在由和下側(cè)基板1相同的材料構(gòu)成的上側(cè)基板2上且與反射區(qū)域E11對應(yīng)的位置，形成R、G、B的著色層6。各著色層6的厚度設(shè)定為d3。著色層6具有開口6a，該開口具有在透射區(qū)域E10和反射區(qū)域E11使之顯示均勻的色的功能。在劃分相鄰的著色層6的位置，形成BM。在著色層6上，形成由樹脂材料等構(gòu)成的單元厚度調(diào)整用絕緣層18。單元厚度調(diào)整用絕緣層18如下所述，兼具下述兩種功能，一種功能為，將與R、G、B各透射區(qū)域E10對應(yīng)的液晶層4的厚度(單元的厚度)和與R、G、B各反射區(qū)域E11對應(yīng)的液晶層4的厚度設(shè)定為最佳的值，在該雙方的區(qū)域均一設(shè)定光學(xué)特性，即具有所謂的多間隙結(jié)構(gòu)，另一種功能為，將與R、G、B各透射區(qū)域E10對應(yīng)的液晶層4的厚度和與W的子像素區(qū)域SG(透射區(qū)域E10)對應(yīng)的液晶層4的厚度設(shè)定為相同，在該雙方的區(qū)域?qū)⒐鈱W(xué)特性設(shè)定為相同。單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度，設(shè)定為和各著色層6的厚度d3相同的值。在單元厚度調(diào)整用絕緣層18等之上，形成共用電極8。
另外，在上側(cè)基板2的外面上配置相位差板11(1/4波長板)，并且在相位差板11的外面上配置偏振板12。
上面所述的與反射區(qū)域E11對應(yīng)的元件基板91和與該反射區(qū)域E11對應(yīng)的濾色器基板92通過液晶層4而對向。而且，與反射區(qū)域E11對應(yīng)的液晶層4的厚度設(shè)定為d2。
而在具有上述結(jié)構(gòu)的反射區(qū)域E11進行反射型顯示時，對液晶裝置100所入射的外部光沿著圖4(a)及(b)所示的路徑R行進。也就是說，對液晶裝置100所入射的外部光由反射電極5進行反射，到達觀看者。此時，該外部光通過形成R、G、B的各著色層6、共用電極8及像素電極10等的區(qū)域，由位于該像素電極10下側(cè)的反射電極5進行反射，并再次通過像素電極10、共用電極8及著色層6等，以此來顯現(xiàn)預(yù)定的色調(diào)及明亮度。這樣一來，就由觀看者視覺辨認預(yù)期的彩色顯示圖像。
下面，對于R、G、B的1個子像素區(qū)域SG內(nèi)的透射區(qū)域E10的結(jié)構(gòu)，進行說明。
在下側(cè)基板1上如圖4(b)所示，形成柵絕緣層50。在柵絕緣層50上，形成鈍化層51。在鈍化層51上，形成樹脂層17。如上所述，在反射區(qū)域E11所形成的樹脂層17在其表面上形成有微小的凹凸，與此相對，在透射區(qū)域E10所形成的樹脂層15在其表面上未形成微小的凹凸。也就是說，在透射區(qū)域E10所形成的樹脂層17表面形成為，具有大致平坦性。在樹脂層17上，形成像素電極10。另外，在下側(cè)基板1的外面上配置相位差板13，并且在相位差板13的外面上配置偏振板14。另外，在偏振板14的外面上配置背光源15。
另一方面，與R、G、B的1個子像素區(qū)域SG內(nèi)的透射區(qū)域E10對應(yīng)的濾色器基板92的結(jié)構(gòu)，如下所述。在上側(cè)基板2上，形成R、G、B的著色層6。在該各著色層6上，形成共用電極8。另外，在上側(cè)基板2的外面上配置相位差板11，并且在相位差板11的外面上配置偏振板12。
上面所述的與透射區(qū)域E10對應(yīng)的元件基板91和與該透射區(qū)域E10對應(yīng)的濾色器基板92通過液晶層4而對向。另外，與透射區(qū)域E10對應(yīng)的液晶層4的厚度d1設(shè)定得比與反射區(qū)域E11對應(yīng)的液晶層4的厚度d2大，構(gòu)成了所謂的多間隙結(jié)構(gòu)。
而在具有上述結(jié)構(gòu)的透射區(qū)域E10進行透射型顯示時，從背光源15所出射的照明光沿著圖4(b)所示的路徑T行進，并通過柵絕緣層50、鈍化層51、像素電極10及著色層6等，到達觀看者。此時，該照明光因透射R、G、B的著色層6，而顯現(xiàn)預(yù)定的色調(diào)及明亮度。這樣一來，就由觀看者視覺辨認預(yù)期的彩色顯示圖像。
下面，參照圖5，對于與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG的結(jié)構(gòu)，進行說明。
圖5是沿著圖2中的剖開線C-C′的部分剖面圖，表示包括與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG在內(nèi)的剖面結(jié)構(gòu)。還有，在圖5中，為了容易理解與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG的剖面結(jié)構(gòu)和與R、G、B對應(yīng)的子像素區(qū)域SG的剖面結(jié)構(gòu)不同的部分，還表示與該3色之中的G對應(yīng)的子像素區(qū)域SG的剖面結(jié)構(gòu)。另外，在圖5中，將與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG和與G對應(yīng)的子像素區(qū)域SG，分別簡寫為SG(W)和SG(G)。再者，在下面，對于上面所說明的器件附上相同的符號，對其說明予以簡化或省略。
首先，對于與W的子像素區(qū)域SG對應(yīng)的元件基板91的結(jié)構(gòu)，對照與G的子像素區(qū)域SG對應(yīng)的元件基板91的結(jié)構(gòu)，進行說明。
如同對照該雙方的結(jié)構(gòu)所理解的那樣，在與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG中，在樹脂層17和像素電極10之間沒有設(shè)置反射電極5。另外，對于其他結(jié)構(gòu)來說，則雙方大致相同。因此，W的子像素區(qū)域SG其結(jié)構(gòu)只具有透射區(qū)域E10。另一方面，與W的子像素區(qū)域SG對應(yīng)的濾色器基板92的結(jié)構(gòu)，如下所述。在上側(cè)基板2上，以預(yù)定的厚度d3形成單元厚度調(diào)整用絕緣層18，并且在該單元厚度調(diào)整用絕緣層18上形成共用電極8。還有，在與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG如上所述，未設(shè)置使用白色色材的著色層。
上面所述的與W的子像素區(qū)域SG對應(yīng)的元件基板91和與該透射區(qū)域E10對應(yīng)的濾色器基板92通過液晶層4而對向。而且，與W的子像素區(qū)域SG對應(yīng)的液晶層4的厚度，設(shè)定為和與R、G、B各透射區(qū)域E10對應(yīng)的液晶層4的厚度d1(d2+d3)相同的值。
還有，W的子像素區(qū)域SG的進行透射型顯示的原理和上面大致相同。也就是說，在W的子像素區(qū)域SG進行透射型顯示時，從背光源15所出射的照明光沿著圖5所示的路徑T行進，并通過柵絕緣層50、鈍化層51、像素電極10、共用電極8及單元厚度調(diào)整用絕緣層18等，到達觀看者。此時，該照明光因透射上述器件，而顯現(xiàn)預(yù)定的明亮度。借此，謀求高亮度及高對比度的提高。
下面，對于本發(fā)明第1實施方式所涉及的液晶裝置100的作用效果，進行說明。
一般情況下，在具有與R、G、B及W(透明)各色對應(yīng)的顯示像素的液晶裝置中，通過對R、G、B各顯示像素附加W的顯示像素，實現(xiàn)高亮度及高對比度?？墒?，因為在W的顯示像素中沒有色材，所以為了將與R、G、B的透射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度(單元厚度)和與W的顯示像素的透射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層的厚度(單元厚度)設(shè)定為相同，需要在與W的顯示像素對應(yīng)的位置設(shè)置單元厚度調(diào)整用的透明樹脂層。另外，對于具有多間隙結(jié)構(gòu)的半透射反射型液晶裝置而言，通常情況下為了在透射區(qū)域和反射區(qū)域使光學(xué)特性均一，在反射區(qū)域形成多間隙用的樹脂層，將與透射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度設(shè)定得比與反射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層厚度大。
在具有這種多間隙結(jié)構(gòu)的半透射反射型液晶裝置中，在其構(gòu)成為具有與R、G、B及W(透明)各色對應(yīng)的顯示像素時(下面，稱為比較例)，需要在與W的顯示像素對應(yīng)的位置將單元厚度調(diào)整用的透明樹脂層、在R、G、B各顯示像素的各反射區(qū)域?qū)⒂刹煌谠撏该鳂渲瑢拥牟牧纤鶚?gòu)成的多間隙用樹脂層，分別設(shè)置，相應(yīng)地就使工藝增加，由此引起液晶裝置的產(chǎn)品成本增加。
這一點在第1實施方式所涉及的液晶裝置100中，特別是在R、G、B的反射區(qū)域E11及W(透明)的透射區(qū)域E10，設(shè)置由同一透明材料(例如，透明樹脂材料)構(gòu)成的單元厚度調(diào)整用絕緣層18。也就是說，在該液晶裝置100的制造過程中，在R、G、B各反射區(qū)域E11的各著色層6上所設(shè)置的單元厚度調(diào)整用絕緣層18和在W(透明)的透射區(qū)域E10所設(shè)置的單元厚度調(diào)整用絕緣層18通過同一工藝，采用同一透明材料同時形成。借此，可以在與R、G、B各子像素區(qū)域SG對應(yīng)的位置并且在W的子像素區(qū)域SG(透射區(qū)域E10)，分別同時形成多間隙結(jié)構(gòu)和單元厚度調(diào)整用的單元厚度調(diào)整用絕緣層18。其結(jié)果為，和上述比較例相比較，可以謀求工藝的減少，借此能夠減低液晶裝置100的產(chǎn)品成本。
如上所述，優(yōu)選的是，與R、G、B及W的各透射區(qū)域E10對應(yīng)的液晶層4的厚度d1，與R、G、B的各反射區(qū)域E11對應(yīng)的液晶層4的厚度d2，與R、G、B的各反射區(qū)域E11對應(yīng)的單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度d3，與W的各透射區(qū)域E10對應(yīng)的單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度d3以及各著色層6的厚度d3之間的關(guān)系，設(shè)定為d1d2+d3。另外，優(yōu)選的是，在將厚度d1設(shè)定為4μm并且將厚度d2設(shè)定為2μm時，厚度d3設(shè)定為約2μm。
第2實施方式將本發(fā)明用于下述液晶裝置中，該液晶裝置是使用作為二端子元件一例的TFD(Thin Film Diode，薄膜二極管)元件的有源矩陣驅(qū)動方式的裝置。
(液晶裝置的結(jié)構(gòu))下面，對于本發(fā)明的第2實施方式所涉及的液晶裝置200的結(jié)構(gòu)，進行說明。還有，在下面，對于和第1實施方式相同的器件附上相同的符號，對其說明予以簡化或省略。
圖6是模式表示第2實施方式所涉及的液晶裝置200的概略結(jié)構(gòu)的平面圖。如圖6所示，液晶裝置200其元件基板93和與該元件基板93對向配置的濾色器基板94通過混入有多個金屬粒子等導(dǎo)通部件7的框狀密封材料5來粘合，并且在該密封材料5的內(nèi)側(cè)封入液晶來形成液晶層4。在圖6中，在附圖跟前側(cè)(觀看方)和附圖進深側(cè)，分別配置元件基板93和濾色器基板94，并且該兩個基板的配置和第1實施方式相反。
這里，液晶裝置200是一種采用R、G、B、W的4色來構(gòu)成的彩色顯示用液晶裝置，并且是作為開關(guān)元件使用TFD元件的有源矩陣驅(qū)動方式的液晶裝置。另外，液晶裝置200是在R、G、B各子像素區(qū)域SG內(nèi)具有透射區(qū)域及反射區(qū)域的半透射反射型液晶裝置，并且是具有多間隙結(jié)構(gòu)的液晶裝置，該多間隙結(jié)構(gòu)在該透射區(qū)域和該反射區(qū)域使液晶層4的厚度不同。
首先，對于元件基板93的平面結(jié)構(gòu)進行說明。元件基板93主要具備多條數(shù)據(jù)線62、多個TFD元件63、多個像素電極10、多條引繞布線61、Y驅(qū)動IC67、多個X驅(qū)動IC66、多條外部連接用布線35及FPC41。
多條數(shù)據(jù)線62是按Y方向延伸的線狀布線，并且從伸出區(qū)域31一直形成到有效顯示區(qū)域V。各數(shù)據(jù)線62按X方向隔開一定的間隔來形成。另外，各數(shù)據(jù)線62連接到對應(yīng)的各TFD元件63，各TFD元件63連接到對應(yīng)的各像素電極10。因此，各數(shù)據(jù)線62和各像素電極10通過各TFD63進行電連接。
多條引繞布線61包括干線部分61a，按Y方向延伸；和彎曲部分61b，相對該干線部分61a向X方向大致彎折成直角。各干線部分61a形成為，在邊框區(qū)域38內(nèi)從伸出區(qū)域31起按Y方向延伸。另外，各干線部分61a相對各數(shù)據(jù)線62大致平行，且隔開一定的間隔來形成。各彎曲部分61b在邊框區(qū)域38內(nèi)，按X方向延伸到位于左右的密封材料5內(nèi)為止。而且，該彎曲部分61b的終端部在密封材料5內(nèi)與導(dǎo)通部件7進行電連接。
在元件基板93的伸出區(qū)域31上，安裝Y驅(qū)動IC67及多個X驅(qū)動IC66。另外，在伸出區(qū)域31上，還形成多條外部連接用布線35。
各X驅(qū)動IC66的輸入側(cè)電連接到外部連接用布線35的一端側(cè)，另一方面各X驅(qū)動IC66的輸出側(cè)電連接到各引繞布線61的一端側(cè)。借此，各X驅(qū)動IC66可以對各引繞布線61輸出掃描信號。
Y驅(qū)動IC67的輸入側(cè)電連接到外部連接用布線35的一端側(cè)，另一方面Y驅(qū)動IC67的輸出側(cè)電連接到各數(shù)據(jù)線62的一端側(cè)。借此，Y驅(qū)動IC67可以對各數(shù)據(jù)線62輸出數(shù)據(jù)信號。
FPC41電連接到下述的電子設(shè)備及多條外部連接用布線35的另一端側(cè)。
在具有上述結(jié)構(gòu)的元件基板93中，例如從便攜電話機或信息終端等的電子設(shè)備通過FPC41、Y驅(qū)動IC67及各X驅(qū)動IC66等，對各數(shù)據(jù)線62和各引繞布線61分別輸出數(shù)據(jù)信號和掃描信號。
下面，對于濾色器基板94的平面結(jié)構(gòu)，進行說明。如圖6所示，濾色器基板94其結(jié)構(gòu)主要具備R、G、B的各著色層6和具有帶狀形狀的掃描電極64等。
各著色層6形成于與像素電極10對應(yīng)的位置。在按Y方向相鄰的著色層6之間，形成有將R、G、B各著色層6之中的任意2色重疊所形成的遮光層67(參見圖9(a)等)，另一方面，在按X方向相鄰的著色層6之間，形成有將R、G、B各著色層6之中的任意3色重疊所形成的遮光層68(參見圖9(b)等)。各掃描電極64按X方向延伸且按Y方向隔開一定的間隔來形成。各掃描電極64的左端部或右端部如圖6所示，延伸到密封材料5內(nèi)為止，且和該密封材料5內(nèi)所混入的多個導(dǎo)通部件7進行電連接。
圖6表示出，上面所述的濾色器基板94和元件基板93通過密封材料5粘合起來的狀態(tài)。如圖所示，濾色器基板94的各掃描電極64相對元件基板93的各數(shù)據(jù)線62進行交叉，且和按X方向成列的多個像素電極10平面上重合。這樣，掃描電極64和各像素電極10重合的區(qū)域就構(gòu)成了1個子像素區(qū)域SG。
另外，濾色器基板94的各掃描電極64和元件基板93的各引繞布線61如圖所示，在左邊200a側(cè)和右邊200b側(cè)之間交替重合，各掃描電極64和各引繞布線61通過密封材料5內(nèi)的導(dǎo)通部件7進行上下導(dǎo)通。也就是說，濾色器基扳94的各掃描電極64和元件基板93的各引繞布線61之間的導(dǎo)通如圖所示，在左邊200a側(cè)和右邊200b側(cè)之間得以交替實現(xiàn)。因此，濾色器基板94的各掃描電極64通過元件基板93的各引繞布線61，電連接到分別位于附圖左右的各X驅(qū)動IC66。
在具有上述結(jié)構(gòu)的液晶裝置200中，基于來自和電子設(shè)備連接的FPC41側(cè)的信號及電力等，由各X驅(qū)動IC66，通過各引繞布線61依次以排他方式每次分別選擇1根各掃描電極64，并且對所選擇的掃描電極64供給選擇電壓的掃描信號，另一方面對其他非選擇的掃描電極64供給非選擇電壓的掃描信號。然后，Y驅(qū)動IC67針對位于與所選擇的掃描電極64對應(yīng)的位置的像素電極10，通過分別對應(yīng)的數(shù)據(jù)線62及TFD元件63供給與顯示內(nèi)容相應(yīng)的數(shù)據(jù)信號。其結(jié)果為，液晶層4的顯示狀態(tài)轉(zhuǎn)換成非顯示狀態(tài)或中間顯示狀態(tài)，液晶層4的取向狀態(tài)得到控制。
(像素結(jié)構(gòu))下面，參照圖7等，對于1個像素區(qū)域AG的結(jié)構(gòu)進行說明。圖7是圖6中的與1個像素區(qū)域AG(用虛線包圍的部分)對應(yīng)的部分放大平面圖。
如圖7所示，1個像素區(qū)域AG其結(jié)構(gòu)具備與R、G、B、W對應(yīng)的2行2列子像素區(qū)域SG。再者，與R、G、B對應(yīng)的各子像素區(qū)域SG其結(jié)構(gòu)具備進行透射型顯示的透射區(qū)域E10和進行反射型顯示的反射區(qū)域E11。相對于此，與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG其結(jié)構(gòu)只具備透射區(qū)域E10，沒有反射區(qū)域E11。
下面，參照圖8，對于圖7中的與R、G、B對應(yīng)的各子像素區(qū)域SG的結(jié)構(gòu)進行說明。
圖8(a)是表示與R、G、B的子像素區(qū)域SG對應(yīng)的元件基板93結(jié)構(gòu)的部分放大平面圖。另一方面，圖8(b)是與R、G、B的子像素區(qū)域SG對應(yīng)的濾色器基板94的結(jié)構(gòu)的部分放大平面圖。圖9(a)是沿著圖8(a)中的剖開線D-D′的部分剖面圖，表示與R、G、B的各反射區(qū)域E11對應(yīng)的液晶裝置200的剖面結(jié)構(gòu)。圖9(b)是沿著圖8(a)中的剖開線E-E′的部分剖面圖，表示與R、G、B的子像素區(qū)域SG對應(yīng)的液晶裝置200的剖面結(jié)構(gòu)。
首先，對于在R、G、B的1個子像素區(qū)域內(nèi)對應(yīng)的元件基板93的結(jié)構(gòu)，進行說明。在由玻璃等構(gòu)成的下側(cè)基板81上，形成數(shù)據(jù)線62、TFD元件63及像素電極10等。數(shù)據(jù)線62如圖8所示，其形成為在子像素區(qū)域SG的右端附近按Y方向延伸。TFD元件63設(shè)置在子像素區(qū)域SG的邊角位置附近。像素電極10設(shè)置于子像素區(qū)域SG內(nèi)，并且和TFD元件63進行電連接。因此，數(shù)據(jù)線62通過TFD元件63電連接到像素電極10。還有，在像素電極10等之上，形成未圖示的取向膜。
下面，對于與1個子像素區(qū)域SG對應(yīng)的濾色器基板94的結(jié)構(gòu)，將其分為透射區(qū)域E10和反射區(qū)域E11進行說明。
首先，對于R、G、B的1個子像素區(qū)域SG內(nèi)的反射區(qū)域E11的結(jié)構(gòu)，進行說明。
在由玻璃等構(gòu)成的上側(cè)基板82上，形成樹脂層17。在樹脂層17的表面上，形成多個微小的凹凸，該微小的凹凸具有使光散射的功能。在樹脂層17上，形成由Al等構(gòu)成的反射層65。因此，反射層65形成為反映出樹脂層17的多個微小凹凸的形狀。在反射層65上，形成R、G、B的各著色層6。R、G、B的各著色層6具有開口6a，該開口具有在透射區(qū)域E10和反射區(qū)域這E11顯示均勻的色的功能。另外，在圖8(b)中，由子像素區(qū)域SG和虛線區(qū)域E30所劃分的區(qū)域包括兩個區(qū)域，一是形成有R、G、B的著色層6之中任意2色的著色層6相互重合的遮光層67的區(qū)域，二是形成有任意3色的著色層6相互重合的遮光層68的區(qū)域。在位于開口6a內(nèi)的反射層65上及著色層6上，形成具有絕緣性的保護層19。該保護層19具有保護著色層6、以免造成由濾色器基板94的制造工藝中所使用的藥劑等而產(chǎn)生的蝕刻或污染的功能。從樹脂層17上到保護層19上的距離設(shè)定為d7。在保護層19上，形成單元厚度調(diào)整用絕緣層18。單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度設(shè)定為d7。在單元厚度調(diào)整用絕緣層18上，形成掃描電極64。還有，在掃描電極64上，形成未圖示的取向膜。
另外，在下側(cè)基板81的外面上配置相位差板13，并且在相位差板13的外面上配置偏振板14。另外，在偏振板14的外面上配置背光源15。
上面所述的與反射區(qū)域E11對應(yīng)的元件基板93和與該反射區(qū)域E11對應(yīng)的濾色器基板94通過液晶層4而對向。而且，與反射區(qū)域E11對應(yīng)的液晶層4的厚度設(shè)定為d6。
而在具有上述結(jié)構(gòu)的反射區(qū)域E11進行反射型顯示時，對液晶裝置200所入射的外部光沿著圖9(a)及(b)所示的路徑R行進。也就是說，對液晶裝置200所入射的外部光由反射層65進行反射，到達觀看者。此時，該外部光通過形成有像素電極10、單元厚度調(diào)整用絕緣層18及R、G、B的各著色層6等的區(qū)域，由位于該各著色層6下側(cè)的反射層65及位于各開口6a內(nèi)的反射層65進行反射，并再次通過各著色層6、單元厚度調(diào)整用絕緣層18及像素電極10等，以此來顯現(xiàn)預(yù)定的色調(diào)及明亮度。這樣一來，就能由觀看者視覺辨認預(yù)期的彩色顯示圖像。
下面，對于R、G、B的1個子像素區(qū)域SG內(nèi)的透射區(qū)域E10的結(jié)構(gòu)，進行說明。
如圖9(b)所示，在下側(cè)基板81上形成樹脂層17，并且在該樹脂層17上形成使光透過的透過開口區(qū)域85等。然后，在位于透過開口區(qū)域85內(nèi)的樹脂層17上，形成R、G、B的著色層6等。在R、G、B的著色層6上，形成保護層19。另外，在保護層19上形成掃描電極64。還有，在掃描電極64之上，形成未圖示的取向膜。
另外，在下側(cè)基板81的外面上配置相位差板13，并且在相位差板13的外面上配置偏振板14。另外，在偏振板14的外面上配置背光源15。另一方面，在上側(cè)基板82上，形成像素電極10。還有，在像素電極10之上，形成未圖示的取向膜。
上面所述的與透射區(qū)域E10對應(yīng)的元件基板93和與該透射區(qū)域E10對應(yīng)的濾色器基板94通過液晶層4而對向。另外，與透射區(qū)域E10對應(yīng)的液晶層4的厚度d5(d6+d7)設(shè)定得比與反射區(qū)域E11對應(yīng)的液晶層4的厚度d6大，構(gòu)成了所謂的多間隙結(jié)構(gòu)。
而在具有上述結(jié)構(gòu)的透射區(qū)域E10進行透射型顯示時，從背光源15所出射的照明光沿著圖9(b)所示的路徑T行進，通過樹脂層17、著色層6、保護層19、掃描電極64及像素電極10等，到達觀看者。此時，該照明光因透射R、G、B的著色層6，而顯現(xiàn)預(yù)定的色調(diào)及明亮度。這樣一來，就能由觀看者視覺辨認預(yù)期的彩色顯示圖像。
下面，參照圖10，對于與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG的結(jié)構(gòu)，進行說明。
圖10是沿著圖7中的剖開線F-F′的部分剖面圖，表示包括與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG在內(nèi)的剖面結(jié)構(gòu)。還有，在圖10中，為了容易理解與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG的剖面結(jié)構(gòu)和與R、G、B對應(yīng)的子像素區(qū)域SG的剖面結(jié)構(gòu)不同的部分，還表示與該3色之中的G對應(yīng)的子像素區(qū)域SG的剖面結(jié)構(gòu)。另外，在圖10中，將與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG和與G對應(yīng)的子像素區(qū)域SG，分別簡寫為SG(W)和SG(G)。再者，在下面，對于上面所說明的器件附上相同的符號，對其說明予以簡化或省略。
首先，對于與W的子像素區(qū)域SG對應(yīng)的元件基板94結(jié)構(gòu)，進行說明。在下側(cè)基板81上形成樹脂層17等。在透射區(qū)域E10所形成的樹脂層17表面形成為，大致具有平坦性。在樹脂層17上，形成單元厚度調(diào)整用絕緣層18等。在單元厚度調(diào)整用絕緣層18上，形成掃描電極64。還有，在掃描電極64之上，形成未圖示的取向膜。因此，與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG為只具有透射區(qū)域E10的結(jié)構(gòu)。還有，在與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG，沒有設(shè)置使用白色色材的著色層。另一方面，對應(yīng)于與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG的元件基板93結(jié)構(gòu)，和與R、G、B的子像素區(qū)域SG對應(yīng)的元件基板93結(jié)構(gòu)相同。
上面所述的與W的子像素區(qū)域SG對應(yīng)的元件基板93和與該透射區(qū)域E10對應(yīng)的濾色器基板94通過液晶層4而對向。而且，與W的子像素區(qū)域SG對應(yīng)的液晶層4的厚度，設(shè)定為和與R、G、B各透射區(qū)域E10對應(yīng)的液晶層4的厚度d5相同的值。
還有，W的子像素區(qū)域SG的進行透射型顯示的原理和上面大致相同。也就是說，在W的子像素區(qū)域SG進行透射型顯示時，從背光源15所出射的照明光沿著圖10所示的路徑T行進，通過樹脂層17、單元厚度調(diào)整用絕緣層18、掃描電極64及像素電極10等，到達觀看者。此時，該照明光因透射上述的器件，而顯現(xiàn)預(yù)定的明亮度。借此，謀求高亮度及高對比度的提高。
下面，若對于本發(fā)明的第2實施方式所涉及的液晶裝置200的作用效果進行說明，就是第2實施方式所涉及的液晶裝置200產(chǎn)生和上述第1實施方式相同的作用效果。
也就是說，在該液晶裝置200中，特別是在R、G、B的反射區(qū)域E11及W(透明)的透射區(qū)域E10，設(shè)置由同一透明材料(例如，透明樹脂材料)構(gòu)成的單元厚度調(diào)整用絕緣層18。也就是說，在該液晶裝置200的制造過程中，在R、G、B各反射區(qū)域E11的各保護層19上所設(shè)置的單元厚度調(diào)整用絕緣層18和在W(透明)的透射區(qū)域E10所設(shè)置的單元厚度調(diào)整用絕緣層18通過同一工藝，采用同一透明材料同時形成。借此，可以在與R、G、B各子像素區(qū)域SG對應(yīng)的位置和W的子像素區(qū)域SG(透射區(qū)域E10)，分別同時形成多間隙結(jié)構(gòu)和單元厚度調(diào)整用的單元厚度調(diào)整用絕緣層18。其結(jié)果為，和上述比較例相比較，可以謀求工藝的減少，借此能夠減低液晶裝置100的產(chǎn)品成本。
如上所述，優(yōu)選的是，與R、G、B及W各透射區(qū)域E10對應(yīng)的液晶層4的厚度d5，與R、G、B各反射區(qū)域E11對應(yīng)的液晶層4的厚度d6，與R、G、B各反射區(qū)域E11對應(yīng)的單元厚度調(diào)整用絕緣層18及與W各透射區(qū)域E10對應(yīng)的單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度d7之間的關(guān)系，設(shè)定為d5d6+d7。另外，優(yōu)選的是，在將厚度d5設(shè)定為4μm并將厚度d6設(shè)定為2μm時，厚度d7設(shè)定為約2μm。
在上述第1實施方式中，其構(gòu)成為，在濾色器基板92側(cè)的R、G、B各子像素區(qū)域SG，為了在透射區(qū)域E10和反射區(qū)域E11顯示均勻的色，在形成于反射區(qū)域E11的著色層6設(shè)置開口6a。不限于此，在本發(fā)明中也可以不在著色層6設(shè)置開口6a，而通過使形成于透射區(qū)域E10的著色層6的厚度比形成于反射區(qū)域E11的著色層6的厚度大，來獲得上述相同的作用效果。
對于這種結(jié)構(gòu)，參照圖11進行簡單說明。圖11是與圖5對應(yīng)的剖面圖，如同注意G的子像素區(qū)域SG所判明的那樣，在透射區(qū)域E10所形成的著色層6的厚度和在反射區(qū)域E11所形成的著色層6的厚度各自不同。
也就是說，如圖11所示，在注意到與著色層6G對應(yīng)的子像素區(qū)域SG時，其透射區(qū)域E10及反射區(qū)域E11的結(jié)構(gòu)如下所述。首先，對于透射區(qū)域E10來說，在上側(cè)基板2上形成著色層6G，并且在該著色層6G上形成共用電極8。另一方面，對于反射區(qū)域E11來說，則在上側(cè)基板2上形成由樹脂材料構(gòu)成的樹脂層20，并且在該樹脂層20上形成著色層6G，再在該著色層6G上形成單元厚度調(diào)整用絕緣層18。另外，在單元厚度調(diào)整用絕緣層18上形成共用電極8。而且，在透射區(qū)域E10所形成的著色層6G的厚度設(shè)定為d8，并且在反射區(qū)域E11所形成的著色層6G的厚度設(shè)定為d9(＜d8)。在最佳的示例中，優(yōu)選的是，在透射區(qū)域E10所形成的著色層6G的厚度d8設(shè)定為在反射區(qū)域E11所形成的著色層6G的厚度d9的約2倍。
在這種結(jié)構(gòu)中進行透射型顯示時，從背光源15所出射的照明光沿著路徑T，對透射區(qū)域E10的著色層6G通過1次，與此相對，在進行反射型顯示時，因為外部光沿著路徑R，先對反射區(qū)域E11的著色層6G通過1次，接著該通過了的外部光由著色層6G下側(cè)所配置的反射電極5進行反射，再沿著路徑R又1次通過著色層6G，所以導(dǎo)致該光共計2次通過著色層6G。也就是說，在進行反射型顯示時，和進行透射型顯示的情形相比較，光只是多出1次地通過著色層6G。
為此，在透射區(qū)域E10所形成的著色層6G的厚度d8相對在反射區(qū)域E11所形成的著色層6G的厚度d9設(shè)定為約2倍時，導(dǎo)致在透射區(qū)域E10和反射區(qū)域E11，光按相同的長度通過，因此可以在其雙方的區(qū)域顯示均勻的色。還有，這里雖然特別省略了說明，但是不言而喻，也可以將R及B各子像素區(qū)域SG的結(jié)構(gòu)設(shè)為和上述變形例相同的結(jié)構(gòu)。
另外，第2實施方式也和第1實施方式相同，其構(gòu)成為，在R、G、B各子像素區(qū)域SG，為了在透射區(qū)域E10和反射區(qū)域E11顯示均勻的色，在形成于反射區(qū)域E11的著色層6設(shè)置開口6a。
不限于這種結(jié)構(gòu)，在本發(fā)明中第2實施方式也可以采用和上述變形例相同的結(jié)構(gòu)。對于這一點，參照圖12進行簡單說明。圖12是與圖10對應(yīng)的剖面圖，如同注意G的子像素區(qū)域SG所判明的那樣，形成于透射區(qū)域E10的著色層6的厚度和形成于反射區(qū)域E11的著色層6的厚度各自不同。
也就是說，如圖12所示，在注意到與著色層6G對應(yīng)的子像素區(qū)域SG時，其透射區(qū)域E10及反射區(qū)域E11的結(jié)構(gòu)如下所述。首先，對于透射區(qū)域E10來說，在下側(cè)基板81上形成著色層6G，并且在該著色層6G上形成保護層19，再在該保護層19上形成掃描電極64。另一方面，對于反射區(qū)域E11來說，則在下側(cè)基板81上形成樹脂層17，并且在該樹脂層17上形成反射層65。另外，在該反射層65上形成著色層6G，并且在該著色層6G上形成保護層19。進而，在該保護層19上形成單元厚度調(diào)整用絕緣層18，并且在該單元厚度調(diào)整用絕緣層18上形成掃描電極64。
而且，在透射區(qū)域E10所形成的著色層6G的厚度設(shè)定為d10，另一方面在反射區(qū)域E11所形成的著色層6G的厚度設(shè)定為d11(＜d10)。在最佳的示例中，優(yōu)選的是，在透射區(qū)域E10所形成的著色層6G的厚度d10設(shè)定為在反射區(qū)域E11所形成的著色層6G的厚度d11的約2倍。因此，通過采用和上述原理相同的方法，分別使光通過透射區(qū)域E10和反射區(qū)域E11，就可以在透射區(qū)域E10和反射區(qū)域E11顯示均勻的色。還有，R及B的各子像素區(qū)域SG的結(jié)構(gòu)也不言而喻，可以設(shè)為和上述變形例相同的結(jié)構(gòu)。
另外，在上述第1及第2實施方式(也包括上述各變形例)中，其構(gòu)成為，在R、G、B各子像素區(qū)域SG分別設(shè)置透射區(qū)域E10及反射區(qū)域E11，另一方面在W的子像素區(qū)域SG只設(shè)置透射區(qū)域E10。不限于此，根據(jù)本發(fā)明，在第1及第2實施方式中，W的子像素區(qū)域SG的結(jié)構(gòu)也和R、G、B的各子像素區(qū)域SG的結(jié)構(gòu)相同，也可以分別設(shè)置透射區(qū)域E10及反射區(qū)域E11。圖13(a)及(b)分別表示采用這種結(jié)構(gòu)的1個像素區(qū)域AG的平面結(jié)構(gòu)。這里，圖13(a)是與第1實施方式所涉及的圖2對應(yīng)的部分平面圖，表示出在W的子像素區(qū)域SG內(nèi)設(shè)置透射區(qū)域E10和反射區(qū)域E11的結(jié)構(gòu)圖。另一方面，圖13(b)是與第2實施方式所涉及的圖7對應(yīng)的部分平面圖，表示出在W的子像素區(qū)域SG內(nèi)設(shè)置透射區(qū)域E10和反射區(qū)域E11的結(jié)構(gòu)圖。
還有，這種情況下，在第1實施方式(包括上述變形例)中，在元件基板91側(cè)需要在與W的反射區(qū)域E11對應(yīng)的樹脂層17和像素電極10之間設(shè)置反射電極5。另一方面，在第2實施方式(包括上述變形例)中，在濾色器基板94，需要在W的反射區(qū)域E11的樹脂層17和單元厚度調(diào)整用絕緣層18之間設(shè)置反射層65。
另外，在第1及第2實施方式中，雖然由包括R、G、B、W的著色層6的2行2列子像素區(qū)域SG構(gòu)成了1個像素區(qū)域AG，但是不限于此，在本發(fā)明中如圖14(a)所示，也可以由包括R、G、B、W的著色層6的1行4列子像素區(qū)域SG(全是相同的面積)來構(gòu)成1個像素區(qū)域AG。還有，此時，R、G、B、W的排列順序不限定為圖14(a)的結(jié)構(gòu)，而可以根據(jù)需要，適當(dāng)變更其排列順序。另外，如上所述，如果將W設(shè)置于1個像素區(qū)域AG內(nèi)，則亮度得到提高，相反卻有時使高亮度下的色濃度下降。因而，為了既使亮度提高又防止色濃度的下降，如圖14(b)所示，其有效設(shè)定為，使W的子像素區(qū)域SG的面積與R、G、B的各子像素區(qū)域SG的面積相比，相對變小。另外，根據(jù)本發(fā)明，包括R、G、B、W的著色層6的1個像素區(qū)域SG的結(jié)構(gòu)不限定為上述的結(jié)構(gòu)，而可以在不脫離本發(fā)明宗旨的范圍內(nèi)進行各種變更。
另外，根據(jù)本發(fā)明，在上述第1及第2實施方式中，由于單元厚度調(diào)整用絕緣層18有時兼作R、G、B各著色層6的保護膜，因而在R、G、B各透射區(qū)域的著色層6上，也可以殘存該單元厚度調(diào)整用絕緣層18來作為薄壁部。
另外，根據(jù)本發(fā)明，在上述第1及第2實施方式中，雖然將單元厚度調(diào)整用絕緣層18和著色層配置于同一基板，但是不限于此，根據(jù)本發(fā)明也可以將單元厚度調(diào)整用絕緣層18和著色層6配置于不同的基板。具體而言，也可以在設(shè)置開關(guān)元件的基板配置單元厚度調(diào)整用絕緣層18，在和該基板對向的基板配置著色層6。此時，也可以在單元厚度調(diào)整用絕緣層18上配置反射電極5或反射層65?？傊灰軌蚶脝卧穸日{(diào)整用絕緣層18，防止在具備R、G、B各著色層6的顯示像素的透射區(qū)域和不具備著色層的W的顯示像素的透射區(qū)域之間液晶層厚的厚度產(chǎn)生較大差異，就可以。
下面，對于上述本發(fā)明的第1及第2實施方式所涉及的液晶裝置100及200的制造方法等，進行說明。
(第1實施方式所涉及的液晶裝置的制造方法)首先，參照圖15至圖21，對于第1實施方式所涉及的液晶裝置100的制造方法進行說明。圖15是表示第1及第2實施方式所涉及的液晶裝置100及200的制造方法的流程圖。圖16是表示第1實施方式所涉及的濾色器基板92的制造方法的流程圖。圖17至圖21表示與圖15中的工藝S1對應(yīng)的各工藝圖。在圖17至圖21中，SG(W)和SG(G)分別表示與W(透明)對應(yīng)的子像素區(qū)域SG和與G(綠)對應(yīng)的子像素區(qū)域SG。另外，E10和E11分別表示應(yīng)作為透射區(qū)域的區(qū)域和應(yīng)作為反射區(qū)域的區(qū)域。還有，在下面以圖5所示的濾色器基板92的剖面結(jié)構(gòu)為例進行說明。
首先，制作上述的濾色器基扳92(工藝S1)。該濾色器基板92是通過經(jīng)由工藝P1至工藝P6來制作的。
具體而言，首先準(zhǔn)備由玻璃或石英等材料構(gòu)成的上側(cè)基板2，接著利用光刻技術(shù)，在該上側(cè)基板2上例如使由黑色樹脂材料構(gòu)成的BM成膜，隨后實施蝕刻處理。借此，如圖17(a)所示，在子像素區(qū)域SG的周圍形成具有邊框狀的形狀的BM(工藝P1)。
接著，形成R、G、B的各著色層6(工藝P2)。具體而言，如圖17(b)所示，將R、G、B的各著色層6，利用光刻技術(shù)使之成為上述圖1等的排列圖形地形成于各子像素區(qū)域SG內(nèi)。此時，各著色層6的厚度設(shè)定為d3。在最佳的示例中，優(yōu)選的是，各著色層6的厚度d3設(shè)定為約2μm。另外，此時在與反射區(qū)域E11對應(yīng)的各著色層6R、6G、6B設(shè)置開口6a，該開口具有在透射區(qū)域E10和反射區(qū)域E11顯示均勻的色的功能。另外，此時在W的子像素區(qū)域SG所形成的著色層6全都通過蝕刻處理被除去。
接著，形成單元厚度調(diào)整用絕緣層(工藝P3)。具體而言，在上側(cè)基板2的一部分、BM及著色層6之上，在一面的范圍內(nèi)使由透明樹脂材料構(gòu)成的單元厚度調(diào)整用絕緣層18成膜，隨后實施蝕刻處理。此時，單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度設(shè)定為和著色層6相同的厚度d3。借此，在采用本制造方法制造出液晶裝置100時，可以將W的透射區(qū)域E10的液晶層4的厚度和R、G、B的各透射區(qū)域E10的液晶層4的厚度設(shè)定為相同，并且可以將R、G、B的各透射區(qū)域E10的液晶層4的厚度和R、G、B的各反射區(qū)域E11的液晶層4的厚度設(shè)定為最佳的厚度。
特別是，在該工藝中，在W的子像素區(qū)域SG及R、G、B的各反射區(qū)域E11分別同時形成由同一透明樹脂材料構(gòu)成的單元厚度調(diào)整用絕緣層18。因而，在和具有對W的子像素區(qū)域SG和R、G、B的各反射區(qū)域E11分別獨立形成單元厚度調(diào)整用絕緣層18的那種工藝的制造方法(比較例)進行了比較時，相應(yīng)地就能謀求工藝的減少。其結(jié)果為，可以謀求利用本制造方法來制造的液晶裝置100的產(chǎn)品成本減低。
但是，由于工序(process)上的原因等，有時單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度形成得比上述各著色層6的厚度大。
這種情況下，與W(透明)的子像素區(qū)域SG(透射區(qū)域E10)對應(yīng)的液晶層4的厚度和與R、G、B的各透射區(qū)域E10對應(yīng)的液晶層4的厚度不相同，在其雙方的區(qū)域在光學(xué)特性方面產(chǎn)生不一致。
因此，在這種情況下，通過實施作為下一工藝的工藝P4，使與W的子像素區(qū)域SG(透射區(qū)域E10)對應(yīng)的單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度和與R、G、B的各透射區(qū)域E10對應(yīng)的各著色層6的厚度相同。還有，在單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度和各著色層6的厚度設(shè)定為相同的厚度時，不言而喻，不需要實施工藝P4。另外，工藝P4并不是作為工藝P3的下一工藝，也可以包括于工藝P3中。
在此參照圖19及圖20對于工藝P4進行說明。如上所述，在單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度比各著色層6的厚度大時，為了解決上述的不佳狀況，在工藝P4中，利用包括抗蝕劑涂敷工藝、預(yù)干燥(預(yù)烘)工藝、曝光工藝、顯影工藝及蝕刻工藝的光刻技術(shù)，使單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度和各著色層6的厚度相一致。此時作為曝光方法，優(yōu)選的是，例如使用雙重曝光方法或半色調(diào)曝光方法。在此，所謂的“雙重曝光方法”是指，使用結(jié)構(gòu)不同的2種掩模70及75，對通過上述工藝所制作的基板分別各實施1次曝光(共計2次曝光)的方法。另一方面，所謂的“半色調(diào)曝光方法”是指，使用掩模76，對通過上述工藝所制作的基板只實施1次曝光的方法，該掩模76包括一部分和透明膜相比光透射率低的半透射膜。
首先，參照圖19，對于采用雙重曝光方法將與W的子像素區(qū)域SG(透射區(qū)域E10)對應(yīng)的單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度和各著色層6的厚度設(shè)定為相同的方法，進行說明。還有，下面，在光刻技術(shù)中對除曝光工藝之外的各工藝的說明予以省略或簡化。
如上所述，掩模70和掩模75的結(jié)構(gòu)各自不同。掩模70用于對上述基板進行第1次曝光時，另一方面，掩模75用于對上述基板進行第2次曝光時。還有，圖19(a)及(b)所示的多個箭頭表示出UV(紫外線)或i射線等光的行進方向。
首先，在圖19(a)中，在通過上述工藝P3所制作的基板上，涂敷應(yīng)成為單元厚度調(diào)整用絕緣層18的感光性樹脂(抗蝕劑)18x。此時，例如在將R、G、B各著色層6的厚度設(shè)為d20時，抗蝕劑18按預(yù)定的厚度d21(＝2×d20)涂敷。接著，通過在上述基板上的預(yù)定位置所配置的掩模70來實施第1次的曝光，隨后實施顯影、蝕刻處理，將預(yù)定區(qū)域的無用抗蝕劑18x除去。還有，此時使用的抗蝕劑18x優(yōu)選的是，使用正型抗蝕劑，該正型抗蝕劑，使利用掩模得以遮光的區(qū)域的抗蝕劑產(chǎn)生硬化，另一方面使利用掩模得以曝光的區(qū)域的抗蝕劑等被除去。
在此，掩模70如圖19(a)所示，其結(jié)構(gòu)從左依次具備完全曝光的區(qū)域(配置于與SG(W)的區(qū)域?qū)?yīng)的位置)，形成有使光完全通過的開口；完全遮光的區(qū)域(配置于與SG(G)、SG(R)、SG(B)各反射區(qū)域E11對應(yīng)的位置)，由將光完全遮光的材料構(gòu)成；和完全曝光的區(qū)域(配置于與SG(G)、SG(R)、SG(B)各透射區(qū)域E10對應(yīng)的位置)。
借此，利用掩模70得以完全曝光了的、在R、G、B各透射區(qū)域E10的各著色層6上所形成的、與區(qū)域E50對應(yīng)的抗蝕劑18x(相當(dāng)于厚度d20)，以及W的子像素區(qū)域SG的與區(qū)域E51對應(yīng)的抗蝕劑18x(相當(dāng)于厚度d20)，被分別除去，另一方面，利用掩模70得以完全遮光的與R、G、B各反射區(qū)域E11對應(yīng)的抗蝕劑18x沒有被除去而得以殘存。
接著，利用掩模75來實施第2次曝光。首先，如圖19(b)所示，在上述基板上的預(yù)定位置配置掩模75，通過該掩模75來實施第2次曝光，隨后實施顯影、蝕刻處理將無用的抗蝕劑等除去。
在此，掩模75如圖19(b)所示，其結(jié)構(gòu)從左依次具備完全遮光的區(qū)域(配置于與SG(W)的區(qū)域?qū)?yīng)的位置)、相同的完全遮光的區(qū)域(配置于與SG(G)、SG(R)、SG(B)的各反射區(qū)域E11對應(yīng)的位置)及完全曝光的區(qū)域(配置于與SG(G)、SG(R)、SG(B)的各透射區(qū)域E10對應(yīng)的位置)。
借此，利用掩模75得以完全曝光了的R、G、B的各透射區(qū)域E10的與區(qū)域E52對應(yīng)的抗蝕劑18x(相當(dāng)于厚度d21)被完全除去，另一方面，利用掩模75得以完全遮光了的、與W的子像素區(qū)域SG對應(yīng)的抗蝕劑18x，以及與R、G、B的各反射區(qū)域E11對應(yīng)的抗蝕劑18x，沒有被除去而得以殘存。
通過采用上面所述的雙重曝光方法，而成為和圖18所示的基板大致相同的狀態(tài)，也就是說可以將與W的子像素區(qū)域SG(透射區(qū)域E10)對應(yīng)的單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度和與R、G、B的各透射區(qū)域E10對應(yīng)的各著色層6的厚度設(shè)定為相同。因此，可以將與W(透明)的子像素區(qū)域SG(透射區(qū)域E10)對應(yīng)的液晶層4的厚度和與R、G、B的各透射區(qū)域E10對應(yīng)的液晶層4的厚度設(shè)定為相同，能夠在其雙方的區(qū)域?qū)⒐鈱W(xué)特性設(shè)定為相同。
下面，參照圖20，對于取代雙重曝光方法而采用半色調(diào)曝光方法將與W的子像素區(qū)域SG(透射區(qū)域E10)對應(yīng)的單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度和與R、G、B的各透射區(qū)域E10對應(yīng)的各著色層6的厚度設(shè)定為相同厚度的方法，進行說明。
首先，如圖20所示，對通過上述工藝P3所制作的基板涂敷抗蝕劑18x。此時，例如在將R、G、B各著色層6的厚度設(shè)為d20時，抗蝕劑18按預(yù)定的厚度d21(＝2×d20)涂敷。接著，通過上述基板的預(yù)定位置所配置的掩模76只實施1次曝光，隨后對該基板實施顯影、蝕刻處理，將無用的抗蝕劑等除去。
在此，掩模76如圖20所示，其結(jié)構(gòu)從左依次具備半色調(diào)曝光的區(qū)域(配置于與SG(W)的區(qū)域?qū)?yīng)的位置)，采用和透明膜相比光透射率低的半透射膜來構(gòu)成；完全遮光的區(qū)域(配置于與SG(G)、SG(R)、SG(B)的各反射區(qū)域E11對應(yīng)的位置)；以及完全曝光的區(qū)域(配置于與SG(G)、SG(R)、SG(B)的各透射區(qū)域E10對應(yīng)的位置)。
借此，利用掩模76得以半色調(diào)曝光了的W的子像素區(qū)域SG(透射區(qū)域E10)的與區(qū)域E54對應(yīng)的抗蝕劑18x形成為，按預(yù)定厚度d20的量通過蝕刻被除去，其厚度變薄，另外利用掩模76得以完全遮光了的與R、G、B的各反射區(qū)域E11對應(yīng)的抗蝕劑18x沒有被除去而得以殘存，另外利用掩模76得以完全曝光了的R、G、B的各透射區(qū)域E10的與區(qū)域E53對應(yīng)的抗蝕劑18x(相當(dāng)于厚度d21)被完全除去。
通過采用上面所述的半色調(diào)曝光方法，和上述雙重曝光方法相同，可以將與W(透明)的子像素區(qū)域SG(透射區(qū)域E10)對應(yīng)的液晶層4的厚度和與R、G、B的各透射區(qū)域E10對應(yīng)的液晶層4的厚度設(shè)定為相同，能夠在其雙方的區(qū)域使光學(xué)特性相同。
接著，如圖21所示，在單元厚度調(diào)整用絕緣層18及各著色層6等之上，形成由ITO等構(gòu)成的共用電極8，并且在該共用電極8上形成未圖示的取向膜(工藝P5)，接下來安裝其他構(gòu)成器件，例如在上側(cè)基板2的外面?zhèn)劝惭b相位差板11及偏振板12等(工藝P6)。這樣一來，就制作圖5等所示的第1實施方式的濾色器基板92。
接著，返回圖15，采用眾所周知的方法，來制作圖5等所示的第1實施方式的元件基板91(工藝S2)。接下來，通過未圖示的密封材料5來粘合濾色器基板92和元件基板91，并通過該密封材料5中所設(shè)置的開口，對該兩個基板的內(nèi)部封入液晶，再采用樹脂材料等對該開口進行密封處理(工藝S3)。通過安裝此外的必要器件(工藝S4)，來制作圖1及圖5等所示的第1實施方式的液晶裝置100。
(第2實施方式所涉及的液晶裝置的制造方法)下面，參照圖15、圖22至圖25等，對于第2實施方式所涉及的液晶裝置200的制造方法，進行說明。圖22是表示第2實施方式所涉及的濾色器基板94的制造方法的流程圖。圖23至圖25表示與圖15中的工藝S1對應(yīng)的各工藝圖。在圖23至圖25中，SG(W)和SG(G)分別表示與W對應(yīng)的子像素區(qū)域SG和與G對應(yīng)的子像素區(qū)域SG。另外，E10和E11分別表示應(yīng)成為透射區(qū)域的區(qū)域和應(yīng)成為反射區(qū)域的區(qū)域。還有，在下面以圖10所示的濾色器基扳94剖面結(jié)構(gòu)為一例，進行說明。
首先，制作上述的濾色器基板94(工藝S1)。該濾色器基板94是通過經(jīng)由工藝R1至工藝R8來制作的。
具體而言，首先準(zhǔn)備由玻璃或石英等材料構(gòu)成的下側(cè)基板81，接下來利用光刻技術(shù)，在該下側(cè)基板81上使由樹脂材料等構(gòu)成的樹脂層17成膜，接著通過對與R、G、B各子像素區(qū)域SG對應(yīng)的樹脂層17表面進行蝕刻處理等，在其表面上形成微小的多個凹凸(工藝R1)。
接著，形成反射層65(工藝R2)。具體而言，在與R、G、B各反射區(qū)域E11等對應(yīng)的樹脂層17上，使Al等成膜，接下來通過蝕刻將在與R、G、B各透射區(qū)域E10等對應(yīng)的樹脂層17上所成膜的反射層65的一部分除去。借此，在R、G、B各透射區(qū)域E10形成具有使光透射之功能的透射開口區(qū)域85，并且至少在R、G、B各反射區(qū)域E11形成反射層65。
接著，采用眾所周知的方法，形成R、G、B的各著色層6(工藝R3)。此時，例如按著色層6B、著色層6R、著色層6G的順序，在應(yīng)形成它們的子像素區(qū)域SG形成相應(yīng)的各著色層6R、6G、6B。還有，對各著色層6R、6G、6B形成的順序沒有特別限定。此時，同時在與R、G、B的各反射區(qū)域E11對應(yīng)的著色層6形成開口6a，并且在劃分各著色層6的區(qū)域形成著色層6R、6G、6B之中的任意的2色重合的遮光層67以及3色著色層6R、6G、6B重合的遮光層68(參見圖8(b))，上述開口6a具有在透射區(qū)域E10和反射區(qū)域E11顯示均勻的色的功能。
接著，采用眾所周知的方法，將由丙烯酸樹脂等構(gòu)成的保護膜19，形成于與R、G、B各子像素區(qū)域SG對應(yīng)的位置(工藝R4)。此時，從樹脂層17上到保護層19上的距離設(shè)定為d7。
接著，形成單元厚度調(diào)整用絕緣層18(工藝R5)。具體而言，采用和第1實施方式的濾色器基扳92相同的方法，在與W的子像素區(qū)域SG對應(yīng)的樹脂層17及與R、G、B各子像素區(qū)域SG對應(yīng)的保護層19上，使由透明樹脂材料構(gòu)成的單元厚度調(diào)整用絕緣層18成膜，隨后對該基板實施蝕刻處理。此時，單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度設(shè)定為d7。因此，在采用本制造方法制造出液晶裝置100時，可以將W的透射區(qū)域E10的液晶層4的厚度和R、G、B的各透射區(qū)域E10的液晶層4的厚度設(shè)定為相同，并且可以將R、G、B的各透射區(qū)域E10的液晶層4的厚度和R、G、B的各反射區(qū)域E11的液晶層4的厚度設(shè)定為最佳的厚度。
特別是，在該工藝中，在W的子像素區(qū)域SG及R、G、B的各反射區(qū)域E11，同時形成分別由同一透明樹脂材料構(gòu)成的單元厚度調(diào)整用絕緣層18。因而，在和具有對W的子像素區(qū)域SG和R、G、B的各反射區(qū)域E11獨立形成單元厚度調(diào)整用絕緣層18的那種工藝的制造方法(比較例)進行了比較時，相應(yīng)地就可以謀求工藝的減少。其結(jié)果為，可以謀求采用本制造方法制造的液晶裝置產(chǎn)品成本的減少。另外，可以根據(jù)需要，以和上述第1實施方式所涉及的濾色器基板92的制造方法相同的宗旨，進行對單元厚度調(diào)整用絕緣層18的層厚進行調(diào)整的工藝(工藝R6)。還有，工藝R6并不作為工藝R5的下一工藝，也可以包括于工藝R5中。
接著，在樹脂層17及單元厚度調(diào)整用絕緣層18等之上，形成由ITO等構(gòu)成的帶狀掃描電極64，接下來在該掃描電極64等之上形成未圖示的取向膜(工藝R7)。接下來，安裝其他構(gòu)成器件，例如在下側(cè)基板81的外面?zhèn)劝惭b相位差板13、偏振板14及背光源15等(工藝R8)。這樣一來，就能制作圖10等所示的第2實施方式的濾色器基板94。
接著，返回圖15，采用眾所周知的方法來制作圖10等所示的第2實施方式的元件基板93(工藝S2)。接下來，通過未圖示的混入有多個導(dǎo)通部件7的邊框狀密封材料5，來粘合濾色器基板94和元件基板93，并通過該密封材料5中所設(shè)置的開口，對該兩個基板的內(nèi)部封入液晶，再用樹脂材料等對該開口進行密封處理(工藝S3)。通過安裝此外的必要器件(工藝S4)，就能制作圖6及圖10等所示的第2實施方式的液晶裝置200。
下面，對于具有與圖12所示的變形例結(jié)構(gòu)類似的結(jié)構(gòu)之濾色器基扳96的制造方法，進行說明。
濾色器基板96雖然和圖12所示的結(jié)構(gòu)大致相同，但是在圖12的結(jié)構(gòu)中，在W的子像素區(qū)域SG具有透射區(qū)域E10及反射區(qū)域E11(也就是說，包括與圖13(b)對應(yīng)的結(jié)構(gòu))。圖26(a)是表示該濾色器基板96結(jié)構(gòu)的部分剖面圖。
首先，參照圖26(a)，對于濾色器基板96的結(jié)構(gòu)進行簡單說明。還有，在下面對于和上面所說明的器件相同的器件附上相同的符號，對其說明予以省略或簡化。
如圖所示，濾色器基板96的結(jié)構(gòu)為，R、G、B、W的各子像素區(qū)域SG各自具有透射區(qū)域E10及反射區(qū)域E11。在與W的反射區(qū)域E11對應(yīng)的下側(cè)基板81上以及與R、G、B各反射區(qū)域E11對應(yīng)的下側(cè)基板81上，分別形成由Al等構(gòu)成的反射層71。然后，在與R、G、B各透射區(qū)域E10對應(yīng)的下側(cè)基板81上以及與R、G、B各反射區(qū)域E11對應(yīng)的各反射層71上，分別形成著色層6R、6G、6B。因此，如圖所示，與R、G、B各透射區(qū)域E10對應(yīng)的各著色層6的厚度設(shè)定得比各反射層71上所形成的著色層6的厚度大。另外，在與R、G、B各反射區(qū)域E11對應(yīng)的各著色層6上、與W的透射區(qū)域E10對應(yīng)的下側(cè)基板81上以及與W的反射區(qū)域E11對應(yīng)的反射層71上，分別形成由同一材料構(gòu)成的單元厚度調(diào)整用絕緣層18。雖然省略了圖示，但是對于具有這種結(jié)構(gòu)的濾色器基板96來說，與R、G、B各透射區(qū)域E10對應(yīng)的液晶層4的厚度設(shè)定為和與W的透射區(qū)域E10對應(yīng)的液晶層4的厚度相同，并且與R、G、B各反射區(qū)域E11對應(yīng)的液晶層4的厚度設(shè)定為和與W的反射區(qū)域E11對應(yīng)的液晶層4的厚度相同。
接下來，參照圖26(b)及(c)，對于具有這種結(jié)構(gòu)的濾色器基板96的制造方法，進行簡單說明。還有，這里只對于與圖16的工藝P3及P4或者圖22的工藝R5及R6相當(dāng)?shù)墓に囘M行說明。
濾色器基板96是通過經(jīng)由工藝T1和作為其下一工藝的工藝T2等來制造的。首先，采用眾所周知的方法來制造下述基板，接下來在該基板上使單元厚度調(diào)整用絕緣層18按一定的厚度成膜(工藝T1)，上述基板具有將圖26(b)中的單元厚度調(diào)整用絕緣層18除去了的結(jié)構(gòu)。
接著，如圖26(c)所示，在光刻技術(shù)中實施半色調(diào)曝光方法等，將無用的單元厚度調(diào)整用絕緣層18除去。此時使用的掩模79其結(jié)構(gòu)從左依次具備完全曝光(配置于與R、G、B各透射區(qū)域E10對應(yīng)的位置)、半色調(diào)曝光(配置于與R、G、B各反射區(qū)域E11對應(yīng)的位置)、相同的半色調(diào)曝光(配置于與W的透射區(qū)域E10對應(yīng)的位置)及完全遮光(配置于與W的反射區(qū)域E11對應(yīng)的位置)。
借此，在R、G、B各子像素區(qū)域SG，與區(qū)域E50(卡環(huán)狀的區(qū)域)對應(yīng)的單元厚度調(diào)整用絕緣層18被除去，并且與區(qū)域E51(用虛線部分包圍的區(qū)域)對應(yīng)的單元厚度調(diào)整用絕緣層18得以殘存，另外在W的透射區(qū)域E10，與區(qū)域E52(用虛線部分包圍的區(qū)域)對應(yīng)的單元厚度調(diào)整用絕緣層18被除去，并且在W的子像素區(qū)域SG，與區(qū)域E53對應(yīng)的單元厚度調(diào)整用絕緣層18得以殘存。這樣一來，就能制造具有上述結(jié)構(gòu)的濾色器基板96。
就該制造方法而言，優(yōu)選的是，與R、G、B各透射區(qū)域E10對應(yīng)的著色層6的厚度和與W各透射區(qū)域E10對應(yīng)的單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度設(shè)定為相同，并且優(yōu)選的是，與R、G、B各反射區(qū)域E11對應(yīng)的包括著色層6及單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度和與W各反射區(qū)域E11對應(yīng)的單元厚度調(diào)整用絕緣層18的厚度設(shè)定為相同。
因此，可以獲得上述第1及第2實施方式的液晶裝置的本發(fā)明的作用效果。還有，在該示例中雖然使用半色調(diào)曝光方法制作了濾色器基板96，但是不限于此，根據(jù)本發(fā)明，不言而喻，也可以使用雙重曝光方法來制作濾色器基板96。
下面，對于使用本發(fā)明所涉及的第1及第2實施方式(包括上述的各種變形例，下面相同)的液晶裝置100或200來作為電子設(shè)備顯示裝置時的實施方式，進行說明。
圖27是表示本實施方式整體結(jié)構(gòu)的概略結(jié)構(gòu)圖。這里所示的電子設(shè)備具有上述液晶裝置100或200等和對其進行控制的控制機構(gòu)410。在此，將液晶裝置100或200等，在概念上分為面板結(jié)構(gòu)體403和由半導(dǎo)體IC等構(gòu)成的驅(qū)動電路402進行描述。另外，控制機構(gòu)410具有顯示信息輸出源411、顯示信息處理電路412、電源電路413及定時發(fā)生器414。
顯示信息輸出源411具備存儲器，由ROM(Read Only Memory，只讀存儲器)或RAM(Random Access Memory，隨機存取存儲器)等構(gòu)成；存儲單元，由磁記錄盤或光記錄盤等構(gòu)成；和調(diào)諧電路，用來對數(shù)字圖像進行調(diào)諧輸出；其構(gòu)成為，根據(jù)由定時發(fā)生器414所生成的各種時鐘信號，以預(yù)定格式的圖像信號等形式將顯示信息供給顯示信息處理電路412。
顯示信息處理電路412具備串行-并行轉(zhuǎn)換電路、放大/反相電路、旋轉(zhuǎn)電路、灰度系數(shù)校正電路及箝位電路等眾所周知的各種電路，執(zhí)行所輸入的顯示信息的處理，將該圖像信息和時鐘信號CLK一起供給驅(qū)動電路402。驅(qū)動電路402包括掃描線驅(qū)動電路、數(shù)據(jù)線驅(qū)動電路及檢查電路。另外，電源電路413對上述各構(gòu)成器件分別供給預(yù)定的電壓。
下面，對于可使用本發(fā)明的第1及第2實施方式(包括上述的各種變形例)的液晶裝置100或200的電子設(shè)備具體示例，參照圖28進行說明。
首先，對于將本發(fā)明的第1及第2實施方式(包括上述的各種變形例，下面相同)的液晶裝置100或200等用于便攜式個人計算機(所謂的筆記本式個人計算機)顯示部中的示例，進行說明。圖28(a)是表示該個人計算機結(jié)構(gòu)的立體圖。如同圖所示，個人計算機710具備主體部712，具備鍵盤711；和顯示部713，使用本發(fā)明所涉及的液晶裝置來作為面板。
接下來，對于將本發(fā)明的第1及第2實施方式(包括上述的各種變形例)的液晶裝置100或200等使用于便攜電話機顯示部中的示例，進行說明。圖28(b)是表示該便攜電話機結(jié)構(gòu)的立體圖。如同圖所示，便攜電話機720除了多個操作按鈕721之外，還具備受話口722、送話口723以及使用本發(fā)明的第1至第3實施方式所涉及的液晶裝置的顯示部724。
還有，作為可使用本發(fā)明的第1及第2實施方式(包括上述的各種變形例)的液晶裝置100或200等的電子設(shè)備，除了圖28(a)所示的個人計算機和圖28(b)所示的便攜電話機之外，還能舉出液晶電視、取景器式/監(jiān)視直觀式磁帶錄像機、汽車導(dǎo)航裝置、尋呼機、電子記事本、臺式電子計算器、文字處理機、工作站、電視電話、POS終端及數(shù)字靜止相機等。
權(quán)利要求
1.一種液晶裝置，其至少具有與W對應(yīng)的顯示像素以及與和上述W不同的1色對應(yīng)的顯示像素，與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素具備透射區(qū)域及反射區(qū)域，并且上述W的上述顯示像素只具備透射區(qū)域，其中，上述W指透明或白色，該液晶裝置的特征為，具備基板；對向基板，其與上述基板對向配置；著色層，其配備于上述基板或上述對向基板的與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素；單元厚度調(diào)整層，其設(shè)置于上述基板或上述對向基板，配備于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述反射區(qū)域及上述W的上述透射區(qū)域；以及液晶層，其夾持于上述基板和上述對向基板，對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的厚度，相應(yīng)于上述單元厚度調(diào)整層的厚度，比對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述反射區(qū)域的厚度厚。
2.一種液晶裝置，其至少具有與W對應(yīng)的顯示像素以及與和上述W不同的1色對應(yīng)的顯示像素，與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素及上述W的上述顯示像素分別具備透射區(qū)域及反射區(qū)域，其特征為，具備基板；對向基板，其與上述基板對向配置；著色層，其配備于上述基板或上述對向基板的與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素；單元厚度調(diào)整層，其設(shè)置于上述基板或上述對向基板，并且配備于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的至少上述反射區(qū)域、上述W的上述顯示像素的上述透射區(qū)域及上述W的上述顯示像素的上述反射區(qū)域，上述W的上述顯示像素的上述反射區(qū)域的厚度比上述W的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的厚度厚；以及液晶層，其夾持于上述基板和上述對向基板，對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素及上述W的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的厚度，相應(yīng)于上述單元厚度調(diào)整層的厚度，比對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素及上述W的上述顯示像素的上述反射區(qū)域的厚度厚。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液晶裝置，其特征為在與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素及上述W的上述顯示像素，分別設(shè)置有由同一材料所構(gòu)成的上述單元厚度調(diào)整層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的液晶裝置，其特征為在與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述反射區(qū)域所設(shè)置的上述單元厚度調(diào)整層的厚度，設(shè)定為和在上述W的上述顯示像素的上述透射區(qū)域所設(shè)置的上述單元厚度調(diào)整層的厚度相同的厚度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的液晶裝置，其特征為對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的上述液晶層的厚度，設(shè)定為和對應(yīng)于上述W的上述透射區(qū)域的上述液晶層的厚度相同的厚度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的液晶裝置，其特征為與上述透射區(qū)域?qū)?yīng)的上述著色層的厚度，比與上述反射區(qū)域?qū)?yīng)的上述著色層的厚度厚。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的液晶裝置，其特征為在上述基板及上述對向基板任一方的、與上述反射區(qū)域?qū)?yīng)的位置，設(shè)置有具有將光反射的作用的反射層。
8.一種電子設(shè)備，其特征為具備權(quán)利要求1至7中任一項所述的液晶裝置，來作為顯示部。
9.一種液晶裝置的制造方法，該液晶裝置至少具有與W對應(yīng)的顯示像素以及與和上述W不同的1色對應(yīng)的顯示像素，與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素具備透射區(qū)域及反射區(qū)域，并且上述W的上述顯示像素至少具備透射區(qū)域，對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的液晶層的厚度，設(shè)定得比對應(yīng)于與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述反射區(qū)域的液晶層的厚度厚；該制造方法的特征為，包括著色層形成工藝，其中，在基體材料上，對與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素形成著色層；和單元厚度調(diào)整層形成工藝，其中，在上述基體材料上，在與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述反射區(qū)域及上述W的上述顯示像素的上述透射區(qū)域，同時形成由透明材料所構(gòu)成的單元厚度調(diào)整層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液晶裝置的制造方法，其特征為上述W的上述顯示像素不具備上述反射區(qū)域。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液晶裝置的制造方法，其特征為上述W的上述顯示像素具備反射區(qū)域，與上述W的上述顯示像素的上述透射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層的厚度，比與上述W的上述顯示像素的上述反射區(qū)域?qū)?yīng)的液晶層的厚度厚，上述單元厚度調(diào)整層形成工藝，在上述基體材料上，在與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述反射區(qū)域、上述W的上述顯示像素的上述透射區(qū)域及上述反射區(qū)域，同時形成上述單元厚度調(diào)整層。
12.根據(jù)權(quán)利要求9至11中任一項所述的液晶裝置的制造方法，其特征為上述著色層形成工藝，在位于上述反射區(qū)域的上述著色層形成開口。
13.根據(jù)權(quán)利要求9至12中任一項所述的液晶裝置的制造方法，其特征為上述單元厚度調(diào)整層形成工藝，將上述單元厚度調(diào)整層形成為和上述著色層相同的厚度。
14.根據(jù)權(quán)利要求9至13中任一項所述的液晶裝置的制造方法，其特征為上述單元厚度調(diào)整層形成工藝包括層厚度調(diào)整工藝，該層厚度調(diào)整工藝包括抗蝕劑涂敷工藝，其中，在上述W的上述顯示像素及與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述著色層上，涂敷抗蝕劑；第1曝光工藝，其中，在通過第1掩模對上述抗蝕劑進行1次曝光之后，實施顯影及蝕刻處理，上述第1掩模包括將光完全透射的完全曝光區(qū)域及將上述光完全遮光的完全遮光區(qū)域；以及第2曝光工藝，其中，在再次實施上述抗蝕劑涂敷工藝之后，通過第2掩模對上述抗蝕劑進行1次曝光之后，實施顯影及蝕刻處理，上述第2掩模包括上述完全曝光區(qū)域及上述完全遮光區(qū)域、其構(gòu)成和上述第1掩模不同；上述層厚度調(diào)整工藝，至少將在上述W的上述透射區(qū)域所設(shè)置的上述單元厚度調(diào)整層和與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的上述著色層的厚度，設(shè)定為相同。
15.根據(jù)權(quán)利要求9至13中任一項所述的液晶裝置的制造方法，其特征為上述單元厚度調(diào)整層形成工藝包括層厚度調(diào)整工藝，該層厚度調(diào)整工藝包括抗蝕劑涂敷工藝，其中，在上述W的上述顯示像素及與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述著色層上，涂敷抗蝕劑；和半色調(diào)曝光工藝，其中，在通過下述掩模對上述抗蝕劑至少進行1次曝光之后實施顯影及蝕刻處理，該掩模包括將光完全透射的完全曝光區(qū)域、將上述光完全遮光的完全遮光區(qū)域及具有半透射膜的半色調(diào)曝光區(qū)域；上述層厚度調(diào)整工藝，至少將在上述W的上述透射區(qū)域所設(shè)置的上述單元厚度調(diào)整層和與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的上述著色層的厚度，設(shè)定為相同。
16.根據(jù)權(quán)利要求9至13中任一項所述的液晶裝置的制造方法，其特征為在上述著色層形成工藝和上述單元厚度調(diào)整層形成工藝之間具有保護膜形成工藝，該保護膜形成工藝在與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述著色層上形成保護膜，上述單元厚度調(diào)整層形成工藝，在上述W的上述顯示像素及與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述反射顯示區(qū)域的上述保護膜上，形成上述單元厚度調(diào)整層，上述層厚度調(diào)整工藝，至少將在上述W的上述透射區(qū)域所設(shè)置的上述單元厚度調(diào)整層和與上述1色對應(yīng)的上述顯示像素的上述透射區(qū)域的上述著色層的厚度，設(shè)定為相同。
17.根據(jù)權(quán)利要求9至16中任一項所述的液晶裝置的制造方法，其特征為作為上述著色層形成工藝的前工藝具有反射層形成工藝，該反射層形成工藝在上述基體材料上，在上述反射區(qū)域形成反射層。
全文摘要
本發(fā)明的液晶裝置其濾色器基板和元件基板通過密封材料來粘合，在其內(nèi)部封入液晶。作為本發(fā)明特征的濾色器基板，將R、G、B及W(透明)的2行2列各子像素區(qū)域作為1個像素區(qū)域來構(gòu)成，具有將該像素區(qū)域按矩陣狀配置多個的有效顯示區(qū)域。R、G、B各子像素區(qū)域具有透射區(qū)域及反射區(qū)域。在R、G、B各子像素區(qū)域設(shè)置與各色對應(yīng)的著色層。該濾色器基板在與R、G及B各反射區(qū)域的各著色層上對應(yīng)的位置以及與W(透明)的子像素區(qū)域?qū)?yīng)的位置設(shè)置單元厚度調(diào)整用絕緣層，該單元厚度調(diào)整用絕緣層分別通過同一工藝同時形成，并且由同一透明樹脂材料構(gòu)成。
文檔編號G03F7/20GK1892335SQ20061010029
公開日2007年1月10日 申請日期2006年7月6日 優(yōu)先權(quán)日2005年7月6日
發(fā)明者堀口正寬 申請人:三洋愛普生映像元器件有限公司