專(zhuān)利名稱(chēng)：漸層式濾波片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種漸層式濾波片的制作方法，特別涉及利用軟件模擬手段 將鍍上單層膜所需的蒙板模擬出來(lái)，再據(jù)此進(jìn)行漸層式濾波片的多層膜制作 過(guò)程。
背景技術(shù)：
如同己知用于投射幻燈片的投影機(jī)(slide projector)，液晶顯示投影機(jī) (LCD projector)則是用來(lái)將電視、電腦或是其他輸入來(lái)源的影像畫(huà)面投射
至屏幕上的一種設(shè)備，此液晶顯示投影機(jī)通常含有三個(gè)獨(dú)立的液晶玻璃面板 (LCD glass panels)，分別為紅(R)、綠(G)與藍(lán)色(B)等三原色，背
光源通常利用鹵素?zé)?halogen lamp)產(chǎn)生有較好色溫(color temperature)
與涵蓋較廣頻譜(spectrum)的顏色，使得照射液晶玻璃面板上的象素產(chǎn)生
正確的投射畫(huà)面。
在上述液晶顯示投影機(jī)投射過(guò)程中，可能因?yàn)橥渡涔?背光源)的角度 產(chǎn)生色偏(color-shift),可利用二片漸層式濾波片(gradient filter)進(jìn)行光 線角度補(bǔ)償，可正確產(chǎn)生光的三原色。
而已知的漸層式濾波片是在一片玻璃片上顯示由淺至深的顏色分布，如 圖1所示已知的漸層式濾波片示意圖，其中濾波片板10為透明基材12上制 作多層的薄膜ll，如以沉積(Deposition)或蒸鍍(Evaporation Deposition) 方式，形成如圖的具有二色性(dichroic)的濾波片，其中各層薄膜可各自有 不同的反射率、穿透率或是厚度，可以照射出連續(xù)性變化的顏色。舉例來(lái)說(shuō)， 圖中顯示沿著軸線14形成連續(xù)密度變化的漸層圖形(density-gradient pattern)，以調(diào)節(jié)或補(bǔ)償所投射出的顏色變化。
已知技術(shù)中，在進(jìn)行鍍膜的作業(yè)時(shí)，可以通過(guò)自動(dòng)控制的方式，先估算 鍍膜厚度與穿透率或光譜的關(guān)系，并在制作過(guò)程中即時(shí)量取穿透率或光譜與 預(yù)估結(jié)果比對(duì)，以控制鍍膜的厚度?；蛘?，在蒸鍍薄膜的同時(shí)，進(jìn)行其中蒙
板(Mask)的校正，使用錯(cuò)誤測(cè)試(try-and-error)的方式，達(dá)到所要蒸鍍漸 層式濾波片的形態(tài)。上述蒙板的設(shè)置可以影響鍍膜機(jī)內(nèi)氣流分布，進(jìn)而使在 基材上蒸鍍的材料有預(yù)期的厚度變化。
舉例來(lái)說(shuō)，如圖2所示的蒸鍍機(jī)機(jī)臺(tái)示意圖，圖中所示為真空室(vacuum chamber) 20，其中主要包括一個(gè)傘狀的基材夾具22，可以用來(lái)設(shè)置需要蒸 鍍的基材，如圖中的透明基材24，基材下方設(shè)置有一片或多片蒙板，此例顯 示有兩片蒙板26與26'，分別對(duì)應(yīng)兩個(gè)蒸發(fā)源28a與28b，通過(guò)蒙板26與 26'的形狀與位置的調(diào)整改變真空室20中的氣流分布，以影響蒸鍍?cè)谝粋€(gè)或 多個(gè)透明基材24上的材料分布。真空室20下方更設(shè)置有需要蒸鍍的材料蒸 發(fā)源28a與28b，通常分別設(shè)置為不同且相互搭配的材料，且下方再設(shè)置有 電子槍27'與27"，通過(guò)產(chǎn)生的電子束激發(fā)蒸發(fā)源28a與28b的材料射出離 子，經(jīng)蒙板26,26'的調(diào)整進(jìn)行鍍膜。

發(fā)明內(nèi)容
然而，己知技術(shù)利用自動(dòng)控制即時(shí)校正或是人工實(shí)驗(yàn)的方式進(jìn)行鍍膜測(cè) 試，尤其是需要鍍上20至40層薄膜的制作過(guò)程中，在蒙板的校正都需要耗 費(fèi)相當(dāng)?shù)臅r(shí)間與成本。有鑒于此，本發(fā)明提出一種漸層式濾波片的制作方法， 提出一種先用軟件模擬手段進(jìn)行鍍上漸層式薄膜的模擬，先掌握各單層膜材 料、鍍膜機(jī)內(nèi)部氣流分布與蒙板的設(shè)置在鍍膜時(shí)的擾流特性，經(jīng)模擬后，才 真正進(jìn)行各單層膜鍍膜的制作過(guò)程，以此達(dá)到節(jié)省時(shí)間與成本、鍍膜的成功 率能夠大大提高、測(cè)試制作過(guò)程的次數(shù)減少、制作過(guò)程的效率提升等功效。
本發(fā)明所公開(kāi)的漸層式濾波片的制作方法主要步驟包括先決定濾波片 的漸層變化，再以軟件模擬手段估計(jì)對(duì)應(yīng)單層膜厚度，之后依據(jù)單層膜的厚 度推算蒙板的形態(tài)，并完成于鍍膜機(jī)內(nèi)制作具有漸層變化的濾波片。
而其中優(yōu)選實(shí)施例先制備鍍膜環(huán)境，包括鍍膜機(jī)，與其中承載透明基材 的基材夾具，和一個(gè)或多個(gè)鍍膜源，與激發(fā)該鍍膜源的激發(fā)裝置。再?zèng)Q定所 需制作在透明基材上的漸層形態(tài)，之后由模擬手段估計(jì)達(dá)到漸層變化所需的 厚度變化量，間接推算出對(duì)應(yīng)的單層膜厚度，該模擬手段所利用的工具包括 多個(gè)高折射率材料模塊與低折射率材料模塊，利用其中參數(shù)調(diào)整，推算出蒙 板的形態(tài)，并依據(jù)該單層膜厚度制作蒙板，最后，在該鍍膜機(jī)內(nèi)設(shè)置該蒙板，并制作形成具有該漸層形態(tài)的濾波片。并重復(fù)上述方法的步驟完成多層的漸 層式濾波片。


圖1為已用技術(shù)的漸層式濾波片示意圖2所示為已知技術(shù)的蒸鍍機(jī)機(jī)臺(tái)示意圖3A所示為濾波片的光穿透率與光波長(zhǎng)關(guān)系的曲線圖3B所示為根據(jù)漸層需要推算的其他曲線圖3C所示為曲線波長(zhǎng)范圍對(duì)應(yīng)透明基材位置的示意圖4A與圖4B所示為蒙板的調(diào)整示意圖5顯示為利用電子束蒸鍍法的鍍膜機(jī)示意圖； 圖6為本發(fā)明主要制作過(guò)程；
圖7為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的流程圖。
其中，附圖標(biāo)記說(shuō)明如下 濾波片板10
薄膜ll
基材12 軸線14 真空室20 基材夾具22 透明基材24 蒙板26, 26， 蒸發(fā)源28a、 28b 電子槍27'、 27" 曲線31， 32， 33 透明基材30,30， 第一點(diǎn)301 第二點(diǎn)302 第三點(diǎn)303點(diǎn)401,402,403，404,405,406
真空室50 基材夾具51 透明基材52 鍍膜源56a， 56b 激發(fā)裝置58'， 58" 蒙板42， 42,， 54， 54， 支撐桿40， 53， 53，
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明公開(kāi)了一種漸層式濾波片的制作方法，利用軟件模擬手段(如光 學(xué)薄膜模擬軟件Macleod)先決定所要鍍?cè)跒V波片上的材料與厚度，以估計(jì) 在多少單層膜厚度下可以得到所需要的漸層變化，并推算出其在鍍膜機(jī)
(coater)中相對(duì)應(yīng)的蒙板形狀，再重復(fù)計(jì)算各所需其他的單層膜所需厚度 與相對(duì)應(yīng)的蒙板形狀，達(dá)成漸層式濾波片的多層膜制作過(guò)程。
上述軟件模擬手段利用制作濾波片的光學(xué)薄膜模擬軟件(如Macleod)與 機(jī)械繪圖軟件(如AutoCAD)達(dá)成，其中主要有模擬鍍模所需材料的多個(gè)模塊
(module)，為包括有高折射率材料與低折射率材料的多個(gè)模塊，作為鍍膜 模擬的工具，調(diào)整其中模塊順序再調(diào)整其中鍍膜厚度、穿透率或光譜的參數(shù)， 利用軟件模擬手段模擬鍍膜材料、鍍膜機(jī)等的結(jié)構(gòu)，估計(jì)單層膜鍍膜的穿透 率與厚度等參數(shù)的變化量，使在制作過(guò)程中能快速、準(zhǔn)確地完成鍍膜的作業(yè)。 主要特征是用所估計(jì)的單層膜厚度代替己知制作過(guò)程，以軟件模擬手段配合 理論根據(jù)使蒙板調(diào)整到能鍍出所估計(jì)的單層膜厚度后，即可用相同的蒙板制 作出所需要的漸層濾波片，以便縮短制作過(guò)程時(shí)間，并且能降低成本、提升 效率。
在進(jìn)行漸層式濾波片制作過(guò)程前，本發(fā)明利用軟件模擬手段先進(jìn)行環(huán)境 模擬，在此使用的單層膜的顏色波長(zhǎng)可以分為多個(gè)基本顏色的單層膜。開(kāi)始 先以多個(gè)不同折射率的單層膜厚度模塊模擬出所需的光譜結(jié)構(gòu)，如利用高、 低折射率穿插的模塊進(jìn)行模擬，高、低折射率的模塊即為想要改變的變量， 依據(jù)漸層式濾波片的需求調(diào)整后，得出各單層膜鍍膜厚度，并以此推算出蒙
板形態(tài)，如形狀。
本發(fā)明有下列優(yōu)點(diǎn)
對(duì)于漸層變化不大的濾波片而言能一次就成功；
對(duì)于變化較大的濾波片也僅需再根據(jù)制作過(guò)程光譜結(jié)果做一些微小修
改；
測(cè)試制作過(guò)程時(shí)是以鍍單層膜來(lái)替代原來(lái)復(fù)雜的制作過(guò)程；
節(jié)省許多時(shí)間與成本；
成功率能大大提高；
測(cè)試制作過(guò)程的次數(shù)也會(huì)減少許多；以及
可以?xún)H改變鍍膜機(jī)中一個(gè)蒙板的形狀即可以達(dá)成所需的漸層變化。
為達(dá)到以模擬單層膜特性的方式進(jìn)行各單層膜的鍍膜制作過(guò)程，需要先 針對(duì)單層膜鍍?cè)谕该骰纳系奈锢硖匦约右苑治?，?qǐng)參閱圖3A所示所設(shè)計(jì) 的濾波片的光穿透率(transmittance)與光波長(zhǎng)關(guān)系的曲線圖。
其中橫軸為光波長(zhǎng)(入)，縱軸為光穿透率(T)，此曲線顯示濾波片 的光譜特性，即在特定光譜范圍中，即圖式的波長(zhǎng)范圍，此濾波片在每個(gè)波 段有不同的穿透率，圖中的實(shí)施例在波長(zhǎng)較長(zhǎng)的部分有較小的穿透率，而波 長(zhǎng)較短的部分有較好的穿透率，并且可以以其中間點(diǎn)A對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng)代表該濾 波片厚度變化與光譜關(guān)系的一個(gè)參考點(diǎn)。
經(jīng)上述物理分析后，圖3B顯示依需要可以由曲線表示的波長(zhǎng)范圍與穿 透率的關(guān)系推算出其濾波片上所需的厚度變化，如由曲線31的中間點(diǎn)所表 示的波長(zhǎng)范圍與穿透率的關(guān)系所得到的濾波片結(jié)構(gòu)與厚度，依所需的漸層條 件，在某一厚度的改變下向左邊決定出曲線32，向右邊決定曲線33，曲線 31,32,33分別有不同的波長(zhǎng)范圍所對(duì)應(yīng)的濾波片透率的特性，此厚度變化的 比例推算到所對(duì)應(yīng)到的單層膜厚度變化，再由此單層膜厚度的變化推算出蒙 板的形狀，本發(fā)明可以應(yīng)用于兩個(gè)以上、多個(gè)曲線的實(shí)施例。舉例來(lái)說(shuō)，若 對(duì)應(yīng)三種顏色的單層膜，鍍?cè)谕该骰纳蠒r(shí)，可以產(chǎn)生不同顏色間的漸層效 果；也可以對(duì)應(yīng)同一色調(diào)(hue)中的不同深淺，在鍍膜時(shí)可以產(chǎn)生深淺間 的漸層效果，如灰階的效果。之后再依上述多個(gè)曲線推算出所需鍍上單層膜 厚度。
再請(qǐng)參閱圖3C所示曲線波長(zhǎng)范圍對(duì)應(yīng)透明基材30位置的示意圖。本發(fā)
明根據(jù)圖中所示代表不同單層膜材料的波長(zhǎng)范圍與穿透率的曲線推算到對(duì)
應(yīng)的單層膜鍍膜厚度，如曲線31的特性可以對(duì)應(yīng)蒸鍍于透明基材30中的第 一點(diǎn)301的濾波片結(jié)構(gòu)厚度，再根據(jù)漸層需求決定曲線32，并對(duì)應(yīng)到透明基 材30的第二點(diǎn)302所要鍍上的濾波片結(jié)構(gòu)厚度，由上述兩點(diǎn)所模擬出的單 層膜厚度推算出所需蒙板的形態(tài)。在鍍膜時(shí)，可以通過(guò)蒙板改變鍍膜材料在 鍍膜機(jī)內(nèi)的氣流分布，在透明基材30上第一點(diǎn)301至第二點(diǎn)302間形成不 同厚度的漸層圖樣。同理，由曲線33的中間點(diǎn)所表示的特性模擬濾波片結(jié) 構(gòu)厚度，即對(duì)應(yīng)到透明基材30的第三點(diǎn)303所需鍍上的厚度，再在鍍膜時(shí)， 通過(guò)蒙板改變成為氣態(tài)的鍍膜材料的氣流分布，可以在透明基材30上形成 第一點(diǎn)301到第三點(diǎn)303間不同厚度的漸層圖樣。
上述各曲線31,32,33分別代表所要在對(duì)應(yīng)的透明基材上鍍上的厚度值， 為形成特定漸層圖樣，根據(jù)所需的漸層形態(tài)由曲線31推算出曲線32與曲線 33，再各自推算出對(duì)應(yīng)的所需鍍上的材料厚度。舉例來(lái)說(shuō)，若設(shè)計(jì)后的高低 折射率薄膜堆迭的光學(xué)結(jié)構(gòu)可以得到曲線31，曲線32則為0.95倍的所有高 折射率層數(shù)的厚度變化所得到的結(jié)果，曲線33為1.05倍的所有高折射率層 數(shù)的厚度變化所得到的結(jié)果，相對(duì)而言，改變所有低折射率層數(shù)的厚度或兩 者厚度都改變也可以得到相同的結(jié)果。
之后，再由各曲線31,32,33推算出相對(duì)應(yīng)所需鍍上的單層膜厚度，假設(shè) 曲線31對(duì)應(yīng)到適當(dāng)?shù)母哒凵渎蕟螌幽ず穸?，曲線32則對(duì)應(yīng)到0.95倍的此單 層膜厚度，曲線33對(duì)應(yīng)到1.05倍的單層膜厚度，接著，經(jīng)由上述利用軟件 模擬手段估計(jì)出的單層膜厚度(如所推算0.95至1.05的厚度)，再推算出 相對(duì)蒙板的形態(tài)，主要形態(tài)為形狀的改變，因?yàn)槊砂逶阱兡r(shí)可以調(diào)節(jié)其中 氣流分布，進(jìn)而改變鍍膜在透明基材上的離子形態(tài)，完成漸層式的濾波片。 如圖4A與圖4B所示的蒙板示意圖，通過(guò)一個(gè)蒙板各位置形狀的調(diào)整可以同 時(shí)符合一個(gè)或多個(gè)透明基材的鍍膜條件(如己知技術(shù)圖2所示)
圖4A顯示為未調(diào)整前均勻性的蒙板42形態(tài)，可如圖中所示的橄欖形， 或是其他形狀的形態(tài)，蒙板42位于鍍膜機(jī)內(nèi)的真空室中，以支撐桿40或其 他支撐蒙板42的裝置進(jìn)行真空室內(nèi)位置的調(diào)整。本發(fā)明先利用軟件模擬手 段進(jìn)行鍍膜厚度變化量的估計(jì)，間接推算出對(duì)應(yīng)的單層膜厚度，再推算蒙板 42的形態(tài)，故可以?xún)H改變鍍膜機(jī)中一個(gè)蒙板的形狀即可以達(dá)成所需的漸層變 化。而蒙板的形態(tài)除了形狀以外，更有利用其中支撐桿所調(diào)整位于真空室中
的位置，與蒙板邊緣與支撐桿的角度。經(jīng)蒙板形態(tài)推算后，如圖4B所示為 經(jīng)調(diào)整后的蒙板42'，可以看出利用蒙板邊緣與支撐桿的角度調(diào)整產(chǎn)生了多 個(gè)凹凸?fàn)畹幕《龋瑸榱藢?duì)應(yīng)的透明基材的位置，以不同的弧度設(shè)計(jì)產(chǎn)生不同 漸層圖案。比如，要鍍上的厚度較薄的位置，要用蒙板42，遮的地方就較多， 要厚的位置，則需要遮的地方就較少。
如圖中蒙板42，的一個(gè)弧度范圍中有三點(diǎn)401，402，403，表達(dá)三個(gè)需要調(diào) 整的參數(shù)，包括此三點(diǎn)到基材夾具的相對(duì)位置與支撐桿40間的角度變化(實(shí) 際運(yùn)作并不以三點(diǎn)為限)，以產(chǎn)生不同的鍍膜厚度，對(duì)應(yīng)圖式中位于基材夾 具上的透明基材30上的第一點(diǎn)301、第二點(diǎn)302與第三點(diǎn)303，使鍍膜時(shí)能 在第一點(diǎn)301至第二點(diǎn)302產(chǎn)生不同程度的漸層效果，使第一點(diǎn)301至第三 點(diǎn)303間產(chǎn)生漸層效果。另一實(shí)施例顯示于圖中的透明基材30'，蒙板42' 中另一個(gè)弧度上的三點(diǎn)404,405,406經(jīng)調(diào)整后，將對(duì)應(yīng)至透明基材30，上的第 四點(diǎn)304、第五點(diǎn)305與第六點(diǎn)306，將于透明基材30'上第四點(diǎn)304至第五 點(diǎn)305產(chǎn)生一個(gè)漸層效果，而于第四點(diǎn)304與第六點(diǎn)306間也產(chǎn)生另一個(gè)漸 層效果。
上述通過(guò)蒙板與基材夾具間的空間變化產(chǎn)生相對(duì)于多個(gè)透明基材上不 同的漸層效果，必須要先有幾個(gè)基本的資訊，利用這些基本資訊則可以在不 同的漸層變化下推算出所對(duì)應(yīng)的單層膜厚度，進(jìn)而推算出蒙板的形狀，比如 要有鍍膜機(jī)傘狀的基材夾具每一圈對(duì)應(yīng)到均勻性蒙板與支撐桿的位置，以方 便估計(jì)蒙板對(duì)應(yīng)于基材夾具每一圈的位置與角度，以鍍上適當(dāng)?shù)膯螌幽ず?度。舉例來(lái)說(shuō)， 一個(gè)漸層濾波片的規(guī)格為中心點(diǎn)T(50，500nm，另二個(gè)位置 分別為510nm與490nm時(shí)，假設(shè)500nm中心點(diǎn)對(duì)應(yīng)到某適當(dāng)?shù)膯螌幽ず穸龋?經(jīng)由光學(xué)薄膜軟件模擬可以得知51 Onm對(duì)應(yīng)到1.05倍單層膜厚度，而490nm 對(duì)應(yīng)到0.95倍的單層膜厚度，因此可以通過(guò)不同的單層膜厚度來(lái)估計(jì)出蒙板 不同位置上所需的角度大小，這樣就可以畫(huà)出對(duì)應(yīng)此規(guī)格的蒙板形狀。
圖5顯示本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例使用一種電子束蒸鍍法(Electron Beam Evaporation)示意圖，通過(guò)加熱鎢絲使外層電子動(dòng)能大于束縛能而逸出，并 利用高電位差加速電子及磁場(chǎng)控制電子束軌跡，使其撞擊到蒸鍍?cè)串a(chǎn)生高熱 讓蒸鍍?cè)床糠蛛x子化，并在高真空的環(huán)境下附著在被透明基材上。圖中所示 為真空室50，其中主要結(jié)構(gòu)包括一個(gè)傘狀的基材夾具51,用以承載多個(gè)透 明基材52，真空室50下方設(shè)置需要鍍上的材料鍍膜源(film-plating source) 56a與56b，通常分別設(shè)置為不同且相互搭配的材料，如一為高折射率的材 料、另一為低折射率的材料，下方設(shè)置有激發(fā)裝置58'與58"，通過(guò)其產(chǎn)生 的電子束激發(fā)鍍膜源56a與56b的材料而射出離子，再經(jīng)一個(gè)或多個(gè)蒙板54 與54'調(diào)整真空室內(nèi)50離子四散的氣流分布，此例為兩個(gè)蒙板54與54'，分 別對(duì)應(yīng)兩個(gè)鍍膜源56a與56b，以進(jìn)行鍍膜，此蒙板54與54，分別由支撐桿 53與53'進(jìn)行位置調(diào)整。
依據(jù)上述實(shí)施例，本發(fā)明利用適當(dāng)?shù)膯螌幽ず穸戎谱鳚u層式濾波片的制 作方法主要步驟如圖6所示，包括先決定所需的濾波片的漸層變化(步驟 S601)，再分析光譜，依據(jù)其中穿透率與各波段波長(zhǎng)范圍的關(guān)系，以軟件模 擬手段估計(jì)達(dá)到漸層變化所需的厚度變化量，再推算對(duì)應(yīng)所需漸層圖形的單 層膜厚度(步驟S603)，由此推算的單層膜厚度，再推算蒙板形態(tài)，主要為 形狀(步驟S605)，以此蒙板設(shè)置在鍍膜機(jī)內(nèi)，進(jìn)行單層膜的鍍膜制作過(guò)程， 如以電子束蒸鍍法進(jìn)行(步驟S607)，重復(fù)上述步驟逐步完成多層的漸層式 濾波片的制作。
基于上述主要步驟，本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例如圖7所示的流程。 先制備鍍膜環(huán)境，包括鍍膜機(jī)，其中設(shè)置有承載透明基材的傘狀基材夾 具，傘狀的基材夾具每圈相對(duì)于蒙板與其支撐桿有對(duì)應(yīng)位置關(guān)系，并設(shè)置有 一個(gè)或多個(gè)鍍膜源，并激發(fā)鍍膜源離子化的激發(fā)裝置(步驟S701);之后， 依據(jù)上述制備的環(huán)境，先決定所需制作在透明基材上的漸層形態(tài)(濾波片)， 包括漸層的深淺變化、顏色變化等，通過(guò)軟件模擬手段依據(jù)所需的漸層形態(tài) 估計(jì)達(dá)到漸層變化所需的厚度變化量，再間接推算一個(gè)或多個(gè)單層膜厚度 (步驟S703);由所得的單層膜厚度變化推算蒙板在所對(duì)應(yīng)的位置的變化， 即推算出該蒙板的形態(tài)，主要包括形狀、蒙板利用支撐桿調(diào)整的位置與蒙板 邊緣與支撐桿的角度(步驟S705);以此推算的結(jié)果制作蒙板，再利用單層 膜進(jìn)行測(cè)試鍍膜(步驟S707)，以此測(cè)試變化量是否有符合所推算的需求(步 驟S709)，若不符合時(shí)則依照測(cè)試鍍膜結(jié)果修改蒙板形態(tài)(步驟S711)， 并重回步驟S707，若符合，即可以進(jìn)行實(shí)際鍍膜制作過(guò)程，制鍍所需的漸層 式濾波片(步驟S713),鍍膜之后，還需檢查是否符合規(guī)格(步驟S715)，
如果并不符合需求，則仍需修改蒙板(步驟S717)，若已符合需求，則完成 本次鍍膜制作過(guò)程(步驟S719)。最后，利用重復(fù)上述步驟，可以在透明基 材上產(chǎn)生多層的單層膜結(jié)構(gòu)，形成所需制作的漸層式濾波片，并且其主要實(shí) 施例用于液晶顯示投影機(jī)(LCDprojector)內(nèi)進(jìn)行光線角度補(bǔ)償。
上述本發(fā)明方法的實(shí)施例中修改蒙板的步驟可利用鍍膜機(jī)內(nèi)高折射率 的鍍膜材料相對(duì)應(yīng)的蒙板形狀，如相對(duì)應(yīng)鍍膜材料Ta205, Ti02, Nb205， M3等 的蒙板；或僅需修改鍍膜機(jī)內(nèi)低折射率材料蒙板形狀，如Si02，MgF2等用的 蒙板；或鍍膜機(jī)內(nèi)低折射率與高折射率材料的蒙板都需要修改。
綜上所述，本發(fā)明為漸層式濾波片的制作方法，利用軟件模擬的手段先 進(jìn)行各單層膜厚度與蒙板形狀的模擬，在進(jìn)行實(shí)際鍍膜制作過(guò)程時(shí)能節(jié)省制 作時(shí)間與成本，使鍍膜的成功率大大提高，并提升效率。
以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，不用于限制本發(fā)明的專(zhuān)利范圍，因 此只要運(yùn)用本發(fā)明說(shuō)明書(shū)及附圖所做出的等效的結(jié)構(gòu)變化，都同理包含于本 發(fā)明的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種漸層式濾波片的制作方法，其特征在于所述的方法包括決定一個(gè)或多個(gè)濾波片的漸層變化；以模擬手段分析單層膜的穿透率與在光譜中各波段波長(zhǎng)范圍的關(guān)系，再由該濾波片的漸層變化估計(jì)出所述單層膜厚度的變化量，以推算對(duì)應(yīng)所述單層膜的厚度；推算一個(gè)或多個(gè)蒙板的形態(tài)，依據(jù)所述單層膜的厚度推算所述蒙板的形態(tài)；以及以電子束蒸鍍方式在設(shè)置所述蒙板的鍍膜機(jī)內(nèi)制作所述具有漸層變化的所述濾波片。
2. 如權(quán)利要求1所述的漸層式濾波片的制作方法，其特征在于通過(guò)重 復(fù)所述方法的步驟完成多層的所述漸層式濾波片。
3. 如權(quán)利要求1所述的漸層式濾波片的制作方法，其特征在于所述的 電子束蒸鍍方式利用一個(gè)或多個(gè)激發(fā)裝置激發(fā)一個(gè)或多個(gè)鍍膜源射出離子 進(jìn)行鍍膜。
4. 如權(quán)利要求3所述的漸層式濾波片的制作方法，其特征在于所述的 鍍膜源包括高折射率的材料與低折射率的材料，所述的高折射率的材料為 Ta205， Ti02, Nb2Os， M3之一或其組合，而低折射率的材料為Si02， MgF2之一或其組合。
5. 如權(quán)利要求1所述的漸層式濾波片的制作方法，其特征在于所述的 蒙板的形態(tài)包括所述蒙板的形狀、利用一個(gè)或多個(gè)支撐桿調(diào)整的位置、所述 蒙板邊緣與一個(gè)或多個(gè)支撐桿的角度。
6. —種漸層式濾波片的制作方法，其特征在于所述的方法包括 制備鍍膜環(huán)境，包括鍍膜機(jī)，其中設(shè)置有承載一個(gè)或多個(gè)透明基材的基材夾具，和一個(gè)或多個(gè)鍍膜源，與一個(gè)或多個(gè)激發(fā)所述鍍膜源的激發(fā)裝置； 決定所需制作在所述透明基材上的漸層形態(tài)；由模擬手段分析一個(gè)或多個(gè)單層膜的穿透率與在光譜中各波段波長(zhǎng)范 圍的關(guān)系后，估計(jì)所述單層膜厚度，所述模擬手段主要利用調(diào)整其中多個(gè)高 折射率材料模塊與低折射率材料模塊模擬出所需的光譜結(jié)構(gòu)，以估計(jì)所述單 層膜厚度；依據(jù)所述單層膜厚度制作一個(gè)或多個(gè)蒙板；在所述鍍膜機(jī)內(nèi)設(shè)置所述蒙板，并以電子束蒸鍍方式制作形成具有所述 漸層形態(tài)的一個(gè)或多個(gè)濾波片。
7. 如權(quán)利要求6所述的漸層式濾波片的制作方法，其特征在于通過(guò)重復(fù) 所述方法的歩驟完成多層的所述濾波片。
8. 如權(quán)利要求6所述的漸層式濾波片的制作方法，其特征在于所述的電 子束蒸鍍方式利用所述激發(fā)裝置激發(fā)所述鍍膜源射出離子進(jìn)行鍍膜。
9. 如權(quán)利要求6所述的漸層式濾波片的制作方法，其特征在于所述的鍍 膜源包括高折射率的材料與低折射率的材料，所述的高折射率的材料為 Ta205, Ti02， Nb205， M3之一或其組合，而所述低折射率的材料為Si02， MgF2 之一或其組合。
10. 如權(quán)利要求6所述的漸層式濾波片的制作方法，其特征在于所述的 蒙板的形態(tài)包括所述蒙板的形狀、利用一個(gè)或多個(gè)支撐桿調(diào)整的位置、所述 蒙板邊緣與一個(gè)或多個(gè)支撐桿的角度。
全文摘要
一種漸層式濾波片的制作方法，為改善已知技術(shù)在鍍膜測(cè)試時(shí)需要耗費(fèi)相當(dāng)?shù)臅r(shí)間與成本進(jìn)行蒙板校正的制作過(guò)程。本發(fā)明先利用軟件模擬手段進(jìn)行在透明基材上鍍上漸層式薄膜的模擬，掌握各單層膜材料、鍍膜機(jī)內(nèi)部氣流與蒙板的設(shè)置在鍍膜時(shí)的物理性質(zhì)，才真正進(jìn)行各單層膜鍍膜的制作過(guò)程，以此達(dá)到節(jié)省時(shí)間與成本、鍍膜的成功率能夠大大提高、測(cè)試制作過(guò)程的次數(shù)減少、制作過(guò)程的效率提升等功效。主要步驟包括先決定濾波片的漸層變化，再以軟件模擬手段估計(jì)對(duì)應(yīng)單層膜厚度，之后依據(jù)單層膜的厚度推算蒙板的形態(tài)，最后才在鍍膜機(jī)內(nèi)制作具有漸層變化的濾波片。
文檔編號(hào)G02B5/20GK101191856SQ20061016360
公開(kāi)日2008年6月4日 申請(qǐng)日期2006年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2006年11月30日
發(fā)明者林君鴻, 詹博文 申請(qǐng)人:普立爾科技股份有限公司