專利名稱：用于清潔曝光設備的母版上的圖形區(qū)的清潔裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種清潔裝置，更具體地，涉及一種用于清潔曝光設備的母版上 的圖形區(qū)的清潔裝置。
背景技術：
眾所周知，制作彩色等離子體顯示屏時所用的曝光設備主要是用來對感光性漿料 進行選擇性曝光，留下需要的部分，除去不需要的部分，再經過顯影等工藝形成所需要的圖 形，這也就是形成電極線條的過程。在等離子體顯示板(PDP)的制作流程中，ITO、Bus、ADD、 障壁的制作等多個工藝流程都需要進行曝光工作，而其中對感光性漿料的選擇性曝光是通 過母版(photo mask)來完成的。目前，傳統(tǒng)的PDP曝光設備都是采用立式母版來進行曝光，也就是說，曝光過程中 母版和印有感光性漿料的玻璃基板是在直立狀態(tài)下進行曝光的。其工作流程大致如下當印有感光性漿料的玻璃基板進入曝光設備之后，首先用夾子將玻璃基板固定在 臺子(stage)上。然后使臺子直立，玻璃基板也隨之直立，而與母版平行。隨著臺子朝著母 版移動，玻璃基板逐漸靠近母版。接著進行對位和間隙測量。最后開始進行曝光。圖1是示意性地示出了在用傳統(tǒng)的曝光設備進行曝光時母版與玻璃基板之間的 相對位置關系的視圖。在圖1中，直立的臺子用參考標號1表示，待曝光的印有感光漿料 的玻璃基板用參考標號2表示，母版用參考標號3表示，母版中的圖形區(qū)(即，需要進行清 潔的區(qū)域)用參考標號4表示。在進行曝光時，光線沿箭頭所示方向射入，經由圖形區(qū)4到 達感光漿料表面，從而達到曝光的目的。但需要注意的是，如果圖形區(qū)4受到灰塵顆粒的污染，曝光后得到的圖形就會受 到影響。為了使曝光后得到的線條均勻無缺陷，必須確保母版3的表面足夠清潔，防止灰塵 落到母版3上。但由于母版3的表面容易產生靜電，很容易吸附灰塵，因此必須每次在進行 曝光之前或定期地對母版3的表面進行清潔。上述清潔可先使用濕設備進行，然后吹干，或 者進行干式清潔。目前，對于量產線上的母版一般都是采用濕法清潔。然而，清潔完的母版在后續(xù)的 運輸過程中又容易被污染。對于試驗室中使用的母版一般是進行手動除塵。然而，手動除塵存在如下所述的 諸多缺陷一是由于操作人員對曝光設備內部潔凈度的影響，從而破壞了高潔凈度要求，帶 來了新的污染；二是在手動除塵的過程中，由于操作人員的作業(yè)會產生氣流而帶起塵埃， 往往是在剛用粘滾清潔完母版之后又使母版立刻粘上新的灰塵，因而除塵工作難以徹底完 成；三是無法對曝光設備進行細致的檢查，不能很好地判斷除塵效果。綜上所述，手工除塵 很難徹底清潔母版，而且很容易造成二次污染。由此可見，無論是量產線上的母版還是試驗室中使用的母版都未能很好地得到清 潔及進行檢查。為此，有必要開發(fā)出一種改良的用于母版的清潔裝置，以提高除塵效率，并 準確判斷有無灰塵的存在，從而保證良好的潔凈度。

實用新型內容為了解決上述問題，本實用新型提出了一種結構簡單、且能夠對母版進行自動除 塵的清潔裝置。無論是量產線上的母版還是試驗室中使用的母版均可使用本清潔裝置進行 清潔，并且能夠實現(xiàn)大面積全自動除塵，而操作人員只需定期檢查并更換清潔裝置即可。因 此，本清潔裝置既提高了曝光圖形的質量又節(jié)省了人力物力。在本實用新型的優(yōu)選實施例中，提供了一種用于清潔曝光設備的母版上的圖形區(qū) 的清潔裝置。本清潔裝置的特征在于，其包括導軌，與母版的長度方向平行地布置在母版 的側部；套筒，安裝在導軌上，并且能夠沿導軌自由滑動；其中，該套筒為圓柱形空心套筒， 并包括金屬外殼；以及粘性膜層，套設在該金屬外殼外，以粘住母版表面的灰塵顆粒。進一步地，套筒的長度不小于圖形區(qū)的寬度。進一步地，本清潔裝置進一步包括桿，一端連接至套筒。進一步地，該桿具有樞轉軸，桿能夠圍繞該樞轉軸樞轉，并相對于導軌具有直立和 平放兩種狀態(tài)。從而，當本清潔裝置開始工作時，套筒隨桿一起直立，并從導軌一側的起始 位置移動到另一側的終結位置，以掃過圖形區(qū)；當清潔裝置停止工作時，套筒隨桿平放在導 軌上。進一步地，在本清潔裝置工作時，金屬外殼連接有低壓電源，以起到靜電吸附的作 用，從而與粘性膜層的物理吸附作用配合而更好地清除灰塵。進一步地，上述導軌為分別布置在母版一側的兩條導軌，上述套筒為分別安裝在 兩條導軌中的一條上且能夠沿該導軌自由滑動的兩個套筒，并且上述桿為分別與兩個套筒 中的一個的一端連接的兩個桿。因此，可以同時對母版的兩個表面進行清潔，并且由于兩個 套筒在同一水平位置，使得清潔時母版兩側的力達到平衡狀態(tài)。本清潔裝置的工作原理如下當母版移動到指定位置后，桿及與之連接的套筒直 立，這樣，套筒位于母版的一側。然后，套筒朝著母版移動并靠近，直到套筒上的粘性膜層正 好緊貼母版的表面。之后，桿及套筒以一定速度從導軌一側的起始位置移動至另一側的終 結位置，此時粘性膜層粘掉母版表面上的微小塵埃。接著，桿沿導軌從終結位置返回到起始 位置。此后，根據(jù)對母版表面清潔度的要求，桿及套筒可再一次或多次從導軌一側的起始位 置移動至另一側的終結位置。與此同時，套筒連接有低壓電源，以起到靜電吸附的作用，從 而與粘性膜層的物理吸附作用配合而更好地清除灰塵。在清潔工作完成之后，套筒離開緊 貼的母版，桿及套筒回到平放狀態(tài)。與現(xiàn)有技術中的清潔裝置相比，本清潔裝置的優(yōu)點在于簡單可行。整個清潔過程 中不需要協(xié)助手動操作，使母版清潔工作徹底自動化，從而避免了由操作人員帶來的污染， 保證了設備內部良好的潔凈度。并且，本清潔裝置使靜電除塵與粘性膜層的物理吸附功能 相結合，達到了更好的除塵效果，杜絕了曝光時由于灰塵污染而造成的圖形缺陷問題，因此 提高了制屏的良品率。

從以下參照附圖對實施例的描述中，本實用新型的各種目的、優(yōu)點以及特征將變 得顯而易見，附圖中[0020]圖1是示意性地示出了在用傳統(tǒng)曝光設備進行曝光時母版與玻璃基板之間的相 對位置關系的視圖；圖2是根據(jù)本實用新型的優(yōu)選實施例的清潔裝置的側視圖；圖3是示意性地示出了圖2的清潔裝置中的金屬套筒的構造的視圖；以及圖4是示意性地示出了根據(jù)本實用新型的優(yōu)選實施例的清潔裝置的工作原理的 視圖。
具體實施方式
以下結合附圖對本實用新型的結構原理和工作原理做進一步詳細說明。圖2是根據(jù)本實用新型的優(yōu)選實施例的清潔裝置的側視圖，其用于清潔母版3上 的圖形區(qū)4。如圖2所示，本清潔裝置包括分別用參考標號5a和5b表示的兩條導軌、分別 用參考標號7a和7b表示的兩個桿、以及分別用參考標號6a和6b表示的兩個套筒。下面將參照圖3對套筒的構造做進一步的詳細描述。圖3是示意性地示出了圖2的清潔裝置中的套筒的構造的視圖。如圖3中所示， 套筒6為圓柱形空心套筒，并包括中心軸，位于套筒6的中心處，并與桿7連接；軸承8，套 設在中心軸外；金屬外殼10，套設在軸承8外；以及粘性膜層9，套設在金屬外殼10外，以粘 住母版表面的灰塵顆粒。由此可知，軸承8與金屬外殼10之間是空心的，以減輕套筒6的 重量。粘性膜層9具有良好的物理吸附能力，以吸附灰塵顆粒，同時使得與母版3的接觸為 軟接觸，故不會損傷母版表面，但需要定期更換。當套筒6緊貼母版3移動時，金屬外殼10 連同粘性膜層9 一起繞軸承8轉動，以保證膜層9與母版3之間不會出現(xiàn)相對滑動而損傷 母版表面。與此同時，在清潔裝置工作的時候，金屬外殼10連接有低壓電源，以起到靜電吸 附的作用，從而對母版表面進行清潔。下面將參照圖4對本清潔裝置的工作原理進行描述。圖4是示意性地示出了根據(jù)本實用新型的優(yōu)選實施例的清潔裝置的工作原理的 視圖。如圖4中所示，導軌5與母版3的長度方向平行地設置在母版3的一側。桿7 — 端可自由滑動地安裝在導軌5中，而另一端與套筒6連接。驅動裝置11驅動桿7以及套筒 6在導軌5中自由地滑動。當母版3移動到指定位置后，本清潔裝置開始工作。首先，平放 在導軌5上的套筒6由于與其連接的桿7的作用而直立，達到6’的位置。隨后，套筒朝著 母版3移動直到與母版3緊密貼合，并且金屬外殼10連接有低壓電源。接著，在粘性膜層 9與母版圖形區(qū)4貼合之后，桿7開始在導軌5上從一側朝著另一側滑動，直到套筒達到6” 的位置。此時，粘性膜層9已經掃過母版3的圖形區(qū)4。之后，桿7返回，套筒從6”的位置 回到6’的位置，粘性膜層9再次掃過母版3的圖形區(qū)4。此后，根據(jù)對母版3的表面清潔度 的要求，桿7及套筒6可再一次或多次從導軌5 —側的起始位置移動至另一側的終結位置。 最后，套筒離開母版3回到6的位置，金屬外殼10被斷電，清潔工作完成。由于母版兩側各有一個套筒，因此可以同時對母版的兩個表面進行清潔，并且由 于兩個套筒在同一水平位置，使得清潔時母版兩側的力達到平衡狀態(tài)。由于密封性好，而且 清潔裝置工作時擾動很小，可以避免灰塵顆粒再次揚起。并且，此外靜電吸附作用與粘性 膜層的物理吸附作用相結合，能夠更徹底的除塵，達到事半功倍的效果。[0032] 以上雖然出于說明的目的公開了本實用新型的優(yōu)選實施例，但是本領域技術人員 應理解，在不背離所附權利要求公開的本實用新型的范圍和精神的前提下，各種修改、增添 和替換都是可行的。
權利要求1.一種用于清潔曝光設備的母版上的圖形區(qū)的清潔裝置，其特征在于，所述清潔裝置 包括導軌(5)，所述導軌(5)與母版(3)的長度方向平行地布置在所述母版(3)的側部；套筒(6)，安裝在所述導軌(5)上，并且能夠沿所述導軌(5)自由滑動；其中，所述套筒(6)為圓柱形空心套筒，并包括金屬外殼(10)；以及粘性膜層(9)，套 設在所述金屬外殼(10)夕卜。
2.根據(jù)權利要求1所述的清潔裝置，其特征在于，所述套筒(6)的長度不小于圖形區(qū) (4)的寬度。
3.根據(jù)權利要求2所述的清潔裝置，進一步包括桿(7)，所述桿(7)的一端連接至所 述套筒(6)。
4.根據(jù)權利要求3所述的清潔裝置，其特征在于，所述桿(7)具有樞轉軸，所述桿(7) 能夠圍繞所述樞轉軸樞轉，并相對于所述導軌(5)具有直立和平放兩種狀態(tài)。
5.根據(jù)權利要求1所述的清潔裝置，其特征在于，所述金屬外殼(10)連接有低壓電源。
6.根據(jù)上述權利要求中任一項所述的清潔裝置，其特征在于，所述導軌(5)為分別 布置在所述母版(3) —側的兩條導軌(5a、5b)，所述套筒(6)為分別安裝在所述兩條導軌 (5a、5b)中的一條上且能夠沿所述導軌自由滑動的兩個套筒(6a、6b)，并且所述桿(7)為 分別與所述兩個套筒(6a、6b)中的一個的一端連接的兩個桿(7a、7b)。
專利摘要本實用新型提供了一種用于清潔曝光設備的母版上的圖形區(qū)的清潔裝置，其包括導軌(5)，所述導軌(5)與母版(3)的長度方向平行地布置在所述母版(3)的側部；套筒(6)，安裝在所述導軌(5)上，并且能夠沿所述導軌(5)自由滑動；其中，所述套筒(6)為圓柱形空心套筒，并包括金屬外殼(10)；以及粘性膜層(9)，套設在所述金屬外殼(10)外。本清潔裝置能夠實現(xiàn)大面積全自動除塵，而操作人員只需定期檢查并更換清潔裝置即可。因此，既提高了曝光圖形的質量又節(jié)省了人力物力。
文檔編號G03F1/82GK201780452SQ201020238099
公開日2011年3月30日 申請日期2010年6月23日 優(yōu)先權日2009年12月31日
發(fā)明者田玉民, 費悅 申請人:四川虹歐顯示器件有限公司