專利名稱：集光裝置及其集光方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)于ー種集光系統(tǒng)和集光方法；特別是指一種應(yīng)用在太陽(yáng)電池模組(photovoltaic module)或太陽(yáng)能轉(zhuǎn)換機(jī)制的集光系統(tǒng)的組裝結(jié)構(gòu)復(fù)合設(shè)計(jì),使光線在集光裝置之間產(chǎn)生更理想的路徑配置的手段。
背景技術(shù)：
應(yīng)用光學(xué)透鏡(例如Fresnel lens)和太陽(yáng)電池模組或晶片組合，來(lái)大量收集入射光的集光系統(tǒng)或集光模塊，已為現(xiàn)有技木?，F(xiàn)有的集光統(tǒng)包括光學(xué)透鏡或一次光學(xué)元 件(或稱聚光器)、二次光學(xué)元件、光學(xué)蓋板、和一底板等部分(或經(jīng)ー框架設(shè)置在底板和光學(xué)蓋板之間)，將上述組件固定組合的型態(tài)。例如，US 7473000B2「SHIELD FOR SOLARRADIATION COLLECTOR」、及 US 2009/0320923 「PHOTOVOLTAIC CONCENTRATING APPARATUS」專利案等，提供了典型的實(shí)施例。就像那些熟習(xí)此技藝的人所知悉，如果太陽(yáng)光線的入射或光線路徑落在晶片(或電池模組)的中心區(qū)域，會(huì)使晶片局部區(qū)域產(chǎn)生熱應(yīng)カ集中的情形，這會(huì)降低晶片的使用壽命和影響光電轉(zhuǎn)換效能；因此，在習(xí)知技藝的集光結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)均傾向于獲得較大的可接受角和均光效果，來(lái)改善上述的問(wèn)題。例如，US 6541694B2TN0NIMAGING LIGHT CONCENTRATORWITH UNIFORM IRRADIANCE」專利案，提供了一個(gè)可行的實(shí)施例。上述的可接受角指在沒(méi)有誤差的理想狀況下，太陽(yáng)光線可100%入射集光系統(tǒng)。但是，當(dāng)外在因素迫使入射光角度產(chǎn)生偏差，如果集光效率可達(dá)到90%時(shí)，該入射角度偏差定義為可接受角。ー個(gè)有關(guān)這類(lèi)集光裝置在應(yīng)用方面的課題是，它們?cè)讷@得較大的可接受角和均光效果的作用下，通常也造成了光線入射接收元件或電池模組(或晶片)的角度増加，而損失了光線接收元件的集光效率。具體來(lái)說(shuō)，例如使用TIR組成的聚光裝置可以達(dá)到高集光倍率和超短焦設(shè)計(jì)。然而，如果企圖以光線接收元件可高效率吸收入射光的條件考量，TIR聚光裝置有相當(dāng)大部分的光以大角度入射該接收元件(或晶片)，而造成接收元件的光電效率無(wú)法提高，而這種情形并不是我們所期望的。同樣的，卡塞格林(Cassegrain)、RXI短焦式集光裝置也存在了所述的情形。代表性的來(lái)說(shuō)，這些參考資料顯示了有關(guān)光源和光學(xué)組件或集光系統(tǒng)配合在應(yīng)用方面的技藝；它們也反映出這些光學(xué)組件或集光裝置設(shè)計(jì)在某些應(yīng)用的情形中，所存在的一些問(wèn)題。如果重行設(shè)計(jì)考量集光模組的組織結(jié)構(gòu)，使其構(gòu)造不同于現(xiàn)有技術(shù)，將可改變它的使用型態(tài)，而有別于舊法；實(shí)質(zhì)上，也會(huì)増加它的應(yīng)用范圍。因此，它的構(gòu)造必需考量到下列幾個(gè)設(shè)計(jì)課題I.使它的制造組裝結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)在符合一個(gè)簡(jiǎn)單的條件下，包括降低集光裝置組裝的困難度，以減少制造成本；并且，提高聚光元件和光線接收元件的精確度，以進(jìn)ー步增加集光裝置的轉(zhuǎn)換效能和發(fā)電效率的穩(wěn)定度等作用，來(lái)改善習(xí)知結(jié)構(gòu)光學(xué)照度不均勻，影響光電轉(zhuǎn)換效能等情形。2.在已知的習(xí)知技藝中均傾向于針對(duì)光線入射接收元件(或晶片)的均勻度(即，均光效果)或増大可接受角提出改良設(shè)計(jì)，而未討論光線入射接收元件(或晶片)的角度的課題。例如，在US 7473000B2, US 6541694B2專利案中，提供了一個(gè)結(jié)構(gòu)成上寬、下窄型態(tài)的均光器(或稱集光器)，來(lái)増加集光系統(tǒng)的可接受角。不過(guò)如上述的，當(dāng)光線進(jìn)入這類(lèi)上寬、下窄型態(tài)的均光器后，通常也造成了光線入射接收元件或電池模組(或晶片)的角度増加，而損失了光線接收元件的光電轉(zhuǎn)換效率。因此，在本發(fā)明的集光裝置設(shè)計(jì)中，該光線入射接收元件(或晶片)的角度，是特別被加以考量的。
3.請(qǐng)參考圖1，光線入射角度和接收元件(或晶片)響應(yīng)的示意圖。當(dāng)光線以角度0°入射(或定義為垂直入射)晶片時(shí)，晶片的效率響應(yīng)達(dá)到100% ;當(dāng)光線入射晶片的角度超過(guò)30°吋，晶片的效率響應(yīng)低于87%。換言之，必須企圖使光線入射晶片的角度盡量被保持在小于30°的范圍內(nèi)，才能降低晶片的效率損失(或提高晶片的吸收效率和光電轉(zhuǎn)換效能)。4.如上述，為了獲得降低“晶片的效率損失”的作用，習(xí)知的一次光學(xué)元件和二次光學(xué)元件的組合結(jié)構(gòu)和相關(guān)配置設(shè)計(jì)，應(yīng)重新被安排和考量；以及，如何安排、設(shè)計(jì)才能使入射晶片的光線角度被保持在小于30°的范圍內(nèi)，讓入射光線(或入射到晶片的太陽(yáng)光線)的損失，被減到最小。而這些課題在上述的參考資料中均未被教示或具體揭露。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的即在于提供ー種集光裝置及其集光方法，提供ー組裝簡(jiǎn)單，以及使光線以較垂直的角度入射接收元件、増加光線接收元件的吸收效率和照度均勻性等作用；包括一具有焦(點(diǎn))區(qū)的聚光器和一組合有光線接收元件的全反射集光器。該集光器定義有一入光孔徑和一出光孔徑；并且，使該集光器的入光孔徑接近或位于該聚光器焦區(qū)的位置。以及，該聚光器接收光源的至少一部分光線，使它們通過(guò)焦(點(diǎn))區(qū)后，順向出射到該集光器；并且，經(jīng)集光器的全反射光學(xué)作用將該光線入射接收元件，改善現(xiàn)有結(jié)構(gòu)因光線入射角度太大或不理想，和光學(xué)照度不均勻、影響光電轉(zhuǎn)換效能等情形。根據(jù)本發(fā)明的集光裝置，該集光器以ー參考軸為基準(zhǔn)，形成一(圓)錐狀輪廓(斷面)的型態(tài)。所述集光器的入光孔徑接近或位于該聚光器焦區(qū)的位置或范圍。以及，該接收元件設(shè)置在集光器出光孔徑的位置上。因此，當(dāng)該聚光器接收光源的至少一部分光線，使它們通過(guò)焦(點(diǎn))區(qū)，順向出射到該集光器后，經(jīng)集光器的全反射光學(xué)作用，使上述光線入射接收元件的角度，被盡可能的保持在接近垂直(或小于30° )入射接收元件的角度范圍內(nèi)。根據(jù)本發(fā)明的集光裝置，該集光器設(shè)置在一基部上；該基部形成有一開(kāi)孔，以組合該集光器。以及，使該基部開(kāi)孔接近或位于該聚光器焦區(qū)的位置上。該基部的開(kāi)孔以該參考軸為參考方向，定義有一上區(qū)和一下區(qū)；并且，形成該上區(qū)較寬，下區(qū)較窄的輪廓(斷面)型態(tài)。因此，該聚光器焦區(qū)接近或位于基部開(kāi)孔上區(qū)的位置；以及，使集光器的(入光)孔徑位于該基部開(kāi)孔上區(qū)的位置?？尚械氖?，以該參考軸為參考方向，該基部形成在聚光器的底部。并且，該基部(或底部)開(kāi)孔形成一錐狀輪廓(或梯形斷面)的型態(tài)；上區(qū)的內(nèi)徑大于該下區(qū)的內(nèi)徑。以及，該下區(qū)的內(nèi)徑約等于該集光器出光孔徑的外徑；因此，集光器的結(jié)構(gòu)型態(tài)特別適于操作者直接對(duì)準(zhǔn)該聚光器開(kāi)孔的下區(qū)，同時(shí)獲得垂直方向?qū)ξ缓妥?、?或中心)方向?qū)ξ坏淖饔?，使集光器?jiǎn)便組合在該聚光器的底部(或基部)上。較佳的是，該底部開(kāi)孔或基部開(kāi)孔包含一(內(nèi))表面；并且，該表面鍍有ー層反射膜，而形成一反射面。根據(jù)本發(fā)明的集光裝置，該底部開(kāi)孔或基部開(kāi)孔的下區(qū)內(nèi)徑約等于該接收元件的外徑或約等于該接收元件的對(duì)角線長(zhǎng)度。根據(jù)本發(fā)明集光裝置的集光方法，使光線的光學(xué)設(shè)計(jì)輸入，包括(a)使該聚光器接收光源的至少一部分光(線)；使所述光(線)通過(guò)該焦(點(diǎn))區(qū)后，順向出射到集光器上，而得到第一階輸出光；以及(b)該第一階輸出光到達(dá)集光器后,經(jīng)該集光器的一全反射光學(xué)作用，出光為第二階輸出光；所述第二階輸出光在到達(dá)該集光器的出光孔徑后，入射到該(光線)接收元件。根據(jù)本發(fā)明集光裝置的集光方法，包括另ー集光方法；所述的集光方法使光線的光學(xué)設(shè)計(jì)輸入包括(a)使該聚光器接收光源的至少一部分光(線)；所述光(線)在偏離該焦(點(diǎn))區(qū)后，順向出射到基部(或底部)開(kāi)孔的表面；(b)上述光線經(jīng)基部(或底部)開(kāi)孔的表面反射出光，而得到第一階輸出光；以及(C)該第一階輸出光到達(dá)集光器后，經(jīng)該集光器的折射及/或一(內(nèi))全反射光學(xué)作用，出光為第二階輸出光；所述第二階輸出光在到達(dá)該集光器的出光孔徑后，入射到該(光線)接收元件。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明所述的集光裝置及其集光方法，提供ー組裝簡(jiǎn)單，以及使光線以較垂直的角度入射接收元件、増加光線接收元件的吸收效率和照度均勻性等作用。對(duì)于本發(fā)明所具有的新穎性、特點(diǎn)，及其他目的與功效，將在下文中配合所附圖式的詳加說(shuō)明，而趨于了解；如圖所示


圖I是光線入射角度和接收元件響應(yīng)的示意圖。圖2是本發(fā)明聚光器和集光器的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本發(fā)明聚光器、集光器和基部的結(jié)構(gòu)組合示意圖。圖4是本發(fā)明的聚光器選擇ー全反射式聚焦光學(xué)元件的結(jié)構(gòu)組合示意圖。圖5是光線經(jīng)聚光器和集光器的一、二次光學(xué)作用后的照度分布示意圖。圖6是光線經(jīng)聚光器和集光器的一、二次光學(xué)作用后的光強(qiáng)度分布示意圖。圖7是本發(fā)明聚光器和集光器的結(jié)構(gòu)分解示意圖。圖8是本發(fā)明聚光器和集光器的結(jié)構(gòu)組合透視示意圖。圖9是圖8的結(jié)構(gòu)剖視示意圖；其中，該假想線部份是描繪了集光器上部形成ー彎曲面型態(tài)的情形。圖10是圖9的局部結(jié)構(gòu)放大示意圖。
圖11是本發(fā)明集光裝置導(dǎo)引光線行進(jìn)的示意圖；是描繪了光線經(jīng)聚光器一次光學(xué)和集光器二次光學(xué)的情形。圖12是圖11的局部結(jié)構(gòu)放大示意圖。圖13是本發(fā)明集光裝置的集光方法方塊示意圖。圖14是光線產(chǎn)生偏角入射集光裝置的光線行進(jìn)示意圖。圖15是圖14的局部結(jié)構(gòu)放大示意圖。圖16是本發(fā)明集光裝置的另ー集光方法方塊示意圖。圖17是本發(fā)明集光裝置的又一集光方法方塊示意圖。 附圖標(biāo)記說(shuō)明10_聚光器；11_反射面；12、22_(入光)孔徑；13_底部；14、31_開(kāi)孔；14a、31a-上區(qū);14b、31b_下區(qū);14c、31c_(內(nèi))表面;15_焦(點(diǎn))區(qū);20_集光器;23-彎曲面；24-(出光)孔徑；30-基部；40_次級(jí)光學(xué)元件；50-(光線)接收元件；60-基板；71、72_光線；71a、72a-光線；71b、72b_光線；x_參考軸。
具體實(shí)施例方式請(qǐng)參閱圖2，本發(fā)明的集光裝置，包括一聚光器和一集光器的組合，概分別以參考編號(hào)10、20表不之。該聚光器10又被定義為一次光學(xué)兀件,具有一焦(點(diǎn))區(qū)15。因此，該聚光器10接收光源的至少一部分光線后，使它們通過(guò)焦(點(diǎn))區(qū)15，順向出射到該集光器20;并且，經(jīng)集光器20的一全反射光學(xué)作用或程序，將該光線入射一(光線)接收元件50。請(qǐng)參考圖2，該集光器20是一“全反射”的光學(xué)設(shè)計(jì)，又被定義為二次光學(xué)元件；在所采的實(shí)施例中，是以ー參考軸X為基準(zhǔn)，形成一幾何形輪廓的透光實(shí)心體的型態(tài)；圖中顯示了該集光器20是形成一(圓)錐狀輪廓(斷面)的型態(tài)。錐狀輪廓的型態(tài)在斷面上的曲線是曲率為0的傾斜直線。該集光器20定義有一入光孔徑22和一出光孔徑24 ;并且，使該集光器20的入光孔徑22接近或位于該聚光器焦區(qū)15的位置或范圍。該接收元件50設(shè)置在集光器出光孔徑24的位置上。詳細(xì)來(lái)說(shuō)，該接收元件50配置在ー陶瓷、銅或其類(lèi)似材料制成的基板60上；例如，第2圖所描繪的情形。實(shí)務(wù)上，接收元件50和基板60之間可涂置錫膏來(lái)固定；并且，集光器20可直接包覆或封裝在該接收元件50上。依據(jù)上述，從圖2的剖視來(lái)看，該集光器入光孔徑22的寬度(或直徑)小于出光孔徑24的寬度(或直徑)；簡(jiǎn)言之，集光器20形成一上部較窄、下部較寬的幾何形輪廓型態(tài)。該集光器20形成上部窄、下部寬的結(jié)構(gòu)型態(tài)，使入射到該集光器20的光線，被盡可能的保持在接近垂直(或小于30° )入射接收元件50的角度范圍內(nèi)，而獲得提高接收元件50的吸收效率和接收元件50上的照度均勻性等作用；此部分在下文中還會(huì)予以敘述。請(qǐng)參閱圖3，在一個(gè)可行的實(shí)施例中，該集光器20設(shè)置在一基部30上；基部30可和該基板60形成一體成型的型態(tài)，或在基部30和基板60之間布置粘膠，使它們相互接合固定。該基部30包括或界定有ー開(kāi)孔31，以收容該集光器20。以及，使該基部開(kāi)孔31位于該聚光器焦區(qū)15的位置或ー范圍內(nèi)。該基部30的開(kāi)孔31以該參考軸X為參考方向，定義有ー上區(qū)31a和一下區(qū)31b ;并且，形成該上區(qū)31a較寬，下區(qū)31b較窄的輪廓(斷面)型態(tài)。換言之，從第3圖的剖視來(lái)看，該上區(qū)31a的寬度(或直徑)大于該下區(qū)31b的寬度(或直徑)。該聚光器焦區(qū)15接近或位于基部開(kāi)孔上區(qū)31a的位置；以及，使集光器20的(入光)孔徑22位于該基部開(kāi)孔上區(qū)31a的位置。較佳的是，該基部30的開(kāi)孔31包含一(內(nèi))表面31c ;并且,該表面31c鍍有ー層反射膜，而形成一反射面。須加以說(shuō)明的是依據(jù)上述，該基部開(kāi)孔31形成上區(qū)31a較寬，下區(qū)31b較窄的結(jié)構(gòu)型態(tài)，可増加光學(xué)系統(tǒng)的可接受角。因此，聚光器10和集光器20的組合結(jié)構(gòu)可讓入射的光線以較小角度(如上述30°的范圍內(nèi))入射接收元件50 ;以及配合該開(kāi)孔上區(qū)31a、下區(qū)31b和表面31c的結(jié)構(gòu)，同時(shí)達(dá)到増加光學(xué)系統(tǒng)的可接受角的作用。請(qǐng)參閱圖4，描繪了ー個(gè)具體的實(shí)施例。該聚光器10選擇了一全反射式(TIR)聚焦光學(xué)元件，而具有該焦區(qū)15，來(lái)與該集光器20、基部30和開(kāi)孔31配合的結(jié)構(gòu)型態(tài)；即，該集光器20的入光孔徑22設(shè)置在聚光器焦區(qū)15的位置上。所述的聚焦光學(xué)元件也可以選擇Fresnel (菲涅耳)、全反射折射透鏡(TIR Iens)...或其類(lèi)似的聚光系統(tǒng)。圖4顯示了入射光線或太陽(yáng)光線以直射型態(tài)進(jìn)入聚光器10的一次光學(xué)和集光器20的二次光學(xué)作用的集光行進(jìn)情形。在所采的實(shí)施例中，將通過(guò)該聚光器10中間部份的入射光線以參考編號(hào)71表示之；將通過(guò)該聚光器10周邊部分的入射光線以參考編號(hào)72表示之。圖中顯示了光線71經(jīng)過(guò)該聚光器10直接導(dǎo)引到該聚光器10的焦區(qū)15，然后從集光器20的入光孔徑22進(jìn)入集光器20，均勻和聚集的入射到該光線接收元件50上。S卩，光線71未經(jīng)過(guò)集光器20的全反射作用，而是直接折射后進(jìn)入光線接收元件50。而入射光線72進(jìn)入聚光器10，經(jīng)聚光器10的鋸齒狀結(jié)構(gòu)導(dǎo)引通過(guò)焦區(qū)15后，從集光器20的入光孔徑22出射，提供第一階輸出光；然后，所述第一階輸出光被集光器20的(內(nèi))全反射光學(xué)作用，均勻的入射到該光線接收元件50上。需加以說(shuō)明的是，圖4特別顯示出該光線71、72經(jīng)聚光器10的反射光學(xué)作用和集光器20的全反射光學(xué)作用后，該光線71、72入射接收元件50的角度范圍被保持在0° 30° (或大約0° 40° )之間；簡(jiǎn)言之，該光線71、72以較垂直或小于30°的角度范圍入射該接收元件50。因此，其入射接收元件50的角度較小、光照度的均勻性和光強(qiáng)度的分布都較現(xiàn)有技術(shù)理想，例如圖5、圖6實(shí)驗(yàn)?zāi)M所描繪的情形。請(qǐng)參閱圖7、圖8，描繪了另ー個(gè)具體的實(shí)施例。該聚光器10是一“反射式”的光學(xué)設(shè)計(jì)或光學(xué)反射映射元件，而具有一反射(曲)面11 ;反射面11是ー具有反射材料的反射層；例如，可選擇金屬表面反射層或其他材料構(gòu)成反射效果的組織結(jié)構(gòu)。圖9特別顯示出，該聚光器10的體積明顯大于該集光器20的體積。在所采的實(shí)施例中，該集光器20是配置在圖中聚光器10的底部13，或經(jīng)接合結(jié)構(gòu)組合，或是采一體成型的結(jié)構(gòu)。具體來(lái)說(shuō)，該聚光器10包含一入光孔徑12、和一形成在底部13上的開(kāi)孔14(或稱為出光孔徑)。所述的開(kāi)孔14被定義在入光孔徑12的另一端或相對(duì)邊，以容許光線從該開(kāi)孔14輸出。實(shí)質(zhì)上，該集光器20被收容或設(shè)置在聚光器開(kāi)孔14的位置或區(qū)域內(nèi)。因此，在較佳的考量中，集光器20的高度約等于該底部13的厚度；例如，第9圖所顯示的情形。請(qǐng)參考圖9，該聚光器10或其反射面11以ー參考軸X為基準(zhǔn)，形成一碗狀輪廓、拋物線輪廓或其他幾何形輪廓的型態(tài)；在所采的實(shí)施例中，聚光器10選擇ー拋物線(斷面) 輪廓的型態(tài)；因此，該反射面11是ー彎曲面的型態(tài)，而界定出該焦(點(diǎn))區(qū)15;并且，該開(kāi)孔14鄰近該焦(點(diǎn))區(qū)15。因此，集光器20的入光孔徑22接近或位于該焦區(qū)15的位置上。
在一個(gè)可行的實(shí)施例中，該聚光器入光孔徑12上配置有一次級(jí)聚光元件40 ;次級(jí)聚光元件40可選擇ー凸透鏡、Fresnel鏡片、鋸齒狀全反射透鏡(TIR)或其他型態(tài)的光學(xué)鏡片，以導(dǎo)引光線通過(guò)該焦區(qū)15輸出。相較于圖4和圖9的實(shí)施例來(lái)說(shuō)，可明顯比對(duì)出，該聚光器底部13代表或取代了該基部30的結(jié)構(gòu)。更具體的說(shuō)，該底部13的開(kāi)孔14以該參考軸X為參考方向，形成ー錐狀輪廓(或梯形斷面)的型態(tài)；相同于基部30的開(kāi)孔31，開(kāi)孔14也定義有一上區(qū)14a和一下區(qū)14b;并且，形成該上區(qū)14a較寬，下區(qū)14b較窄的輪廓(斷面)型態(tài)。也就是說(shuō)，從第9或10圖的剖視來(lái)看，聚光器上區(qū)14a的寬度(或內(nèi)徑)大于該下區(qū)14b的寬度(或內(nèi)徑)。以及，該下區(qū)14b (或31b)的寬度(或內(nèi)徑)約等于或微大于該集光器出光孔徑24的寬度(或外徑)；因此，集光器20上部窄、下部寬的錐狀結(jié)構(gòu)型態(tài)，形成一類(lèi)似導(dǎo)引柱的 作用，特別適于操作者簡(jiǎn)便的使集光器20對(duì)準(zhǔn)該聚光器開(kāi)孔14的下區(qū)14b，同時(shí)獲得垂直方向?qū)ξ缓妥?、?或中心)方向?qū)ξ坏淖饔?，直接插入聚光器底?3,使集光器20和聚光器10組合在一起；例如，圖10所描繪的情形。該聚光器10的開(kāi)孔14也包含一(內(nèi))表面14c ;并且，該表面14c鍍有ー層反射膜，而形成一反射面，其作用(増加這光學(xué)系統(tǒng)的可接受角)在下文中還會(huì)予以敘述。在一個(gè)較佳的考量中，該底部開(kāi)孔14或基部開(kāi)孔31的下區(qū)14b、31b內(nèi)徑約等于該接收元件50的外徑或約等于該接收元件50的對(duì)角線長(zhǎng)度。如上述在實(shí)務(wù)上，接收元件50和基板60之間可涂置錫膏來(lái)固定；并且，在聚光器底部13和基板60之間布置粘膠來(lái)接合聚光器10和基板60。所述基板60的面積或體積可依據(jù)需求或現(xiàn)場(chǎng)條件來(lái)變更。請(qǐng)參考圖9、圖10，在ー個(gè)修正的實(shí)施例中，該集光器20的上部表面(或稱界面)，或入光孔徑22上，形成一彎曲面23的型態(tài)；例如，圖中假想線部份所顯示的情形。相較于平面而言，彎曲面23可讓較大角度的入射光線到達(dá)集光器20時(shí)，產(chǎn)生的反射損失被盡可能的降到最低。在一個(gè)可行的考量中，該集光器20在圖中(例如第3或9圖)的高度(或位置)可略低或略高于該開(kāi)孔14、31的高度(或位置)。如上述的條件考量，也可以包括I.該聚光器開(kāi)孔下區(qū)14b (或基部開(kāi)孔下區(qū)31b)的寬度(或內(nèi)徑)約等于或微大于該接收元件50的寬度(或外徑)。2.該聚光器開(kāi)孔下區(qū)14b (或基部開(kāi)孔下區(qū)31b)的寬度(或內(nèi)徑)約等于或微大于該接收元件50的對(duì)角線長(zhǎng)度。3.該集光器(出光)孔徑24的寬度(或內(nèi)徑)約等于該接收元件50的寬度(或外徑)。4.該集光器(出光)孔徑24的寬度(或內(nèi)徑)約等于該接收元件50的對(duì)角線長(zhǎng)度。請(qǐng)參閱圖11、圖12，顯示了入射光線或太陽(yáng)光線以直射型態(tài)進(jìn)入聚光器10的一次光學(xué)和集光器20的二次光學(xué)作用的集光行進(jìn)情形。在所采的實(shí)施例中，將通過(guò)該次級(jí)光學(xué)元件40的入射光線以參考編號(hào)71表示之；將未經(jīng)過(guò)該次級(jí)光學(xué)元件40，進(jìn)入聚光器10的入射光線以參考編號(hào)72表示之。圖中顯示了光線71經(jīng)過(guò)該次級(jí)光學(xué)元件40直接導(dǎo)引到該聚光器10的焦區(qū)15，然后從聚光器10的開(kāi)孔14 (或集光器20的入光孔徑22)進(jìn)入集光器20，以較垂直角度的均勻入射到該光線接收元件50上。入射光線72進(jìn)入聚光器10后，經(jīng)聚光器反射面11反射通過(guò)焦區(qū)15，從聚光器10的開(kāi)孔14 (或集光器20的入光孔徑22)出射，提供第一階輸出光；然后，所述第一階輸出光被集光器20的(內(nèi))全反射光學(xué)作用，均勻的入射到該光線接收元件50上。須加以說(shuō)明的是，第11、12圖分別顯示出該光線71、72經(jīng)聚光器10的折射光學(xué)、反射光學(xué)作用和集光器20的全反射光學(xué)作用后，入射接收元件50的角度范圍被保持在0° 30° (或大約0° 40° )之間；因此，其光照度的均勻性和光強(qiáng)度的分布都較習(xí)知技藝?yán)硐?，例如上述?、6圖實(shí)驗(yàn)?zāi)M所描繪的情形。請(qǐng)參閱圖13，依據(jù)上述，本發(fā)明集光裝置包括一集光方法；所述的集光方法使光線的光學(xué)設(shè)計(jì)輸入包括(a)使該聚光器10接收光源的至少一部分光(線)；使所述光(線)通過(guò)該焦 (點(diǎn))區(qū)15后，順向出射到集光器20上，而得到第一階輸出光；以及(b)該第一階輸出光到達(dá)集光器20后，經(jīng)該集光器20的一(內(nèi))全反射光學(xué)作用，出光為第二階輸出光；所述第二階輸出光在到達(dá)該集光器20的出光孔徑24后，入射到該(光線)接收元件50。請(qǐng)參閱圖14、圖15，上文曾提到該聚光器10的開(kāi)孔14包含一(內(nèi))表面14c ;并且，該表面14c鍍有ー層反射膜，而形成一反射面的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。第14、15圖特別顯示出當(dāng)光線或太陽(yáng)光入射集光裝置的角度是非直射型態(tài)時(shí)，會(huì)產(chǎn)生偏差(或偏角)現(xiàn)象。相較于上述的第11、12圖而言，光線71經(jīng)過(guò)該次級(jí)光學(xué)元件40后，會(huì)有部分光線(在這實(shí)施例中，以編號(hào)71a表示之)在通過(guò)聚光器10的開(kāi)孔14后，越過(guò)集光器20 (或偏離焦區(qū)15)出射到該聚光器開(kāi)孔14的表面14c (或反射面)上；并且經(jīng)表面14c反射出射，形成第一階輸出光。所述第一階輸出光到達(dá)集光器20后,經(jīng)該集光器20的折射或一(內(nèi))全反射光學(xué)作用，出光為第二階輸出光；第二階輸出光在到達(dá)該集光器20的出光孔徑24后，入射到該(光線)接收元件50上。圖中也描繪了部分光線71b經(jīng)過(guò)該次級(jí)光學(xué)元件40后，偏離焦區(qū)15的直接出射到集光器20上；然后，出光入射到該(光線)接收元件50上。圖14、圖15也描繪了光線72會(huì)有部分光線(在這實(shí)施例中，以編號(hào)72a表示之)經(jīng)聚光器反射面11反射，和通過(guò)聚光器10的開(kāi)孔14后，越過(guò)集光器20 (或偏離焦區(qū)15)出射到該聚光器開(kāi)孔14的表面14c (或反射面)上；并且經(jīng)表面14c反射出射，形成第一階輸出光。所述第一階輸出光到達(dá)集光器20后，經(jīng)該集光器20的折射或/及一(內(nèi))全反射光學(xué)作用，出光為第二階輸出光；第二階輸出光在到達(dá)該集光器20的出光孔徑24后,入射到該(光線)接收元件50上。圖中也描繪了部分光線72b經(jīng)聚光器反射面11反射后，偏離焦區(qū)15的直接出射到集光器20上；然后，經(jīng)該集光器20的折射和(內(nèi))全反射光學(xué)作用，出光入射到該(光線)接收元件50上?？闪私獾氖窃趯?shí)際應(yīng)用的情形中，雖然該越過(guò)集光器20的部分光線71a、71b、72a、72b相較于總體集光效率或集光比例而言，僅占極微小的比例；但在所述的實(shí)施例中，該集光裝置因具有較大的可接受角，因此該光線71a、71b、72a、72b在經(jīng)過(guò)聚光器10的反射面11或開(kāi)孔(內(nèi))表面14c反射光學(xué)作用，以及再經(jīng)過(guò)該集光器20的折射或/及(內(nèi))全反射光學(xué)作用后，也入射到該(光線)接收元件50上。也就是說(shuō)，這集光裝置如上述在獲得入射接收元件50的角度小、光照度均勻、光強(qiáng)度分部較佳的作用下，也具有較大可接受角的光學(xué)作用。請(qǐng)參考圖16，依據(jù)上述，本發(fā)明的集光裝置包括另ー集光方法；所述的集光方法使光線的光學(xué)設(shè)計(jì)輸入包括(a)使該聚光器10接收光源的至少一部分光(線)；所述光(線)在偏離該焦 (點(diǎn))區(qū)15后，順向出射到聚光器開(kāi)孔14的表面14c。該聚光器10所接收的至少一部分光(線)指該光線以該參考軸X為基準(zhǔn)線，形成偏角型態(tài)的進(jìn)入該聚光器10 ;包括通過(guò)該次級(jí)光學(xué)元件40的光線71a，和經(jīng)聚光器反射面11反射的光線72a。(b)上述光線經(jīng)聚光器10的出光孔徑表面14c反射出光，而得到第一階輸出光；以及(c)該第一階輸出光到達(dá)集光器20后，經(jīng)該集光器20的折射或/及一(內(nèi))全反射光學(xué)作用，出光為第二階輸出光；所述第二階輸出光在到達(dá)該集光器20的出光孔徑24后，入射到該(光線)接收元件50。請(qǐng)參考圖17，依據(jù)上述，本發(fā)明的集光裝置包括又一集光方法；所述的集光方法使光線的光學(xué)設(shè)計(jì)輸入包括(a)使該聚光器10接收光源的至少一部分光(線)；所述光(線)在偏離該焦(點(diǎn))區(qū)15后，順向出射到該集光器20 ;而得到第一階輸出光。該聚光器10所接收的至少一部分光(線)指該光線以該參考軸X為基準(zhǔn)線，形成偏角型態(tài)的進(jìn)入該聚光器10 ;包括通過(guò)該次級(jí)光學(xué)元件40的光線71b，和經(jīng)聚光器反射面11反射的光線72b。(b)并且，該第一階輸出光經(jīng)該集光器20的折射或/及一(內(nèi))全反射光學(xué)作用，形成第二階輸出光，入射到該(光線)接收元件50上。在一個(gè)衍生的實(shí)施例中，該集光器20可考量以該參考軸X形成一拋物線(斷面)輪廓的型態(tài)(圖未顯示)，而具有一焦(點(diǎn))區(qū)和形成在焦(點(diǎn))區(qū)那里的ー個(gè)入光孔徑22 ;并且，使所述的集光器焦(點(diǎn))區(qū)與該聚光器10的焦(點(diǎn))區(qū)15形成共焦(點(diǎn))或在一范圍內(nèi)大致共焦的型態(tài)。以及，使該集光器20的入光孔徑22大致位于該聚光器開(kāi)孔上區(qū)14a或其焦區(qū)15的位置。在這實(shí)施例中，相對(duì)于該集光器入光孔徑22的另ー邊或相對(duì)邊，集光器20也定義有一出光孔徑24 ;實(shí)質(zhì)上，該接收元件50設(shè)置在集光器出光孔徑24的位置上?？闪私獾氖窃谶@衍生的實(shí)施例中，它的光線運(yùn)動(dòng)情形是和上述第11、12、14、15圖描繪的光線路徑類(lèi)似的。在這實(shí)施例中，可定義該入射的光線通過(guò)的焦(點(diǎn))區(qū)，也包括共焦或大致共焦(點(diǎn))區(qū)的型態(tài)；所述共焦(點(diǎn))區(qū)指聚光器10的焦區(qū)15和集光器焦區(qū)的共焦區(qū)域或范圍。代表性地來(lái)說(shuō)，這集光裝置及其集光方法在提供ー結(jié)構(gòu)精簡(jiǎn)的條件下，包括了下列的設(shè)計(jì)考量I.使它的制造組裝結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)在符合一個(gè)簡(jiǎn)單的條件下，包括降低集光裝置組裝的困難度，以減少制造成本；并且，提高聚光元件和光線接收元件的精確度，以進(jìn)ー步增加集光裝置的轉(zhuǎn)換效能和發(fā)電效率的穩(wěn)定度等作用，改善習(xí)知結(jié)構(gòu)光學(xué)照度不均勻，影響光電轉(zhuǎn)換效能等情形。上述作用的獲得，使這集光裝置的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)包括(I)使該全反射集光器20的輪廓或斷面，形成上窄、下寬的結(jié)構(gòu)型態(tài)；因此，相較于習(xí)知技藝而言，這集光裝置使光線入射接收元件50的角度會(huì)比較接近垂直(即0° )的型態(tài)、光照度分布也比較均勻。(2)使聚光器開(kāi)孔14的下區(qū)14b (或基部開(kāi)孔31的下區(qū)31b)的直徑約等于或微大于集光器20的外徑；或開(kāi)孔下區(qū)14b、31b的直徑約等于或微大于接收元件50的外徑(或接收元件50對(duì)角線長(zhǎng)度)；以及，集光器20是建立一類(lèi)似導(dǎo)引柱的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，是使聚光器10和集光器20的垂直方向、水平(或中心)方向的對(duì)準(zhǔn)和組裝作業(yè)變得更簡(jiǎn)便。2.不同于集光器10的結(jié)構(gòu)型態(tài)，該聚光器10的開(kāi)孔14或基部開(kāi)孔31選擇一反射式光學(xué)元件；并且，較佳的是形成上寬、下窄的結(jié)構(gòu)型態(tài)，使這集光裝置可獲得較大的“可接受角”的作用；即使在光線以偏角的情形入射集光裝置時(shí)，仍可被導(dǎo)入該接收元件50。3.該聚光器10的開(kāi)孔14形成上寬、下窄的結(jié)構(gòu)型態(tài)的另ー個(gè)考量和效益在于開(kāi)孔14的(內(nèi))表面14c形成反射面的作業(yè)，可在聚光器10實(shí)施鍍膜形成反射面11的同一作業(yè)程序中完成；而不會(huì)產(chǎn)生如習(xí)知技藝分次或分別執(zhí)行鍍膜作業(yè)，效率較差、鍍膜均勻性不理想等情形。4.這集光裝置聚光器10的一次光學(xué)作用和集光器20的二次光學(xué)作用的組織設(shè)計(jì)，特別加以考量該光線入射接收元件50(或晶片)的角度的課題；明顯相異于舊法中僅針對(duì)光線入射接收元件的均勻度(即，均光效果)或増大可接受角的設(shè)計(jì)等情形。5.圖11、圖12特別顯示了這集光裝置的光線入射接收元件50(或晶片)角度，被保持在小于30°的范圍內(nèi)，而明顯降低了接收元件50的效率損失(或提高晶片的吸收效率和光電轉(zhuǎn)換效能)。6.如上述，這集光裝置獲得降低“晶片的效率損失”的作用，使該一次光學(xué)元件(即，聚光器10)和二次光學(xué)元件(即，集光器10)的組合結(jié)構(gòu)和相關(guān)配置設(shè)計(jì)，被重新安排
和考量。因此，本發(fā)明提供了一有效的集光裝置及其集光方法；其空間型態(tài)不同于現(xiàn)有技術(shù)，且具有舊法中所未有的機(jī)能，明顯展現(xiàn)了相當(dāng)大的進(jìn)歩。但是，以上所述，僅為本發(fā)明的可行實(shí)施例而已，并非用來(lái)限定本發(fā)明實(shí)施的范圍，即凡依本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍所作的均等變化與修飾，皆為本發(fā)明專利范圍所涵蓋。
權(quán)利要求
1.ー種集光裝置，其特征在于，包括 ー聚光器，具有一焦區(qū)； 一透光實(shí)心體型態(tài)的集光器，形成上部窄、下部寬的結(jié)構(gòu)型態(tài)，配置在接近該聚光器焦區(qū)的位置上； 該集光器包含有一入光孔徑和一出光孔徑；以及 一光線接收元件，設(shè)置在鄰近該集光器出光孔徑的位置； 并且，接收至少一部分光線；所述一部分光線經(jīng)過(guò)該集光器至少一次全反射光學(xué)作用。
2.如權(quán)利要求I所述的集光裝置，其特征在于，該集光器以ー參考軸為基準(zhǔn)，形成錐狀輪廓的型態(tài)。
3.如權(quán)利要求I所述的集光裝置，其特征在于，該集光器的入光孔徑設(shè)在接近該聚光器焦區(qū)的位置。
4.如權(quán)利要求I所述的集光裝置，其特征在于，該集光器包覆在該光線接收元件上。
5.如權(quán)利要求I所述的集光裝置，其特征在于，該集光器入光孔徑的寬度小于該出光孔徑的寬度。
6.如權(quán)利要求I所述的集光裝置，其特征在于，該集光器設(shè)置在一基部上；實(shí)質(zhì)上，所述基部包括有一開(kāi)孔，收容該集光器；以及 該開(kāi)孔位于接近聚光器焦區(qū)的位置，定義有一上區(qū)和一下區(qū)；并且，形成開(kāi)孔上區(qū)寬、下區(qū)窄的結(jié)構(gòu)型態(tài)。
7.如權(quán)利要求6所述的集光裝置，其特征在干，該開(kāi)孔上區(qū)的寬度大于該開(kāi)孔下區(qū)的覽度。
8.如權(quán)利要求6所述的集光裝置，其特征在干，該開(kāi)孔上區(qū)位于接近該聚光器焦區(qū)的位置；以及 該集光器的入光孔徑位于接近該開(kāi)孔上區(qū)的位置。
9.如權(quán)利要求6所述的集光裝置，其特征在于，該基部的開(kāi)孔包含一內(nèi)表面；該內(nèi)表面鍍有ー層反射膜，而形成一反射面。
10.如權(quán)利要求6所述的集光裝置，其特征在于，該基部開(kāi)孔下區(qū)的內(nèi)徑等于該集光器出光孔徑的外徑。
11.如權(quán)利要求6所述的集光裝置，其特征在于，該基部開(kāi)孔下區(qū)的內(nèi)徑大于該集光器出光孔徑的外徑。
12.如權(quán)利要求I所述的集光裝置，其特征在于，該部分光線入射光線接收元件的角度范圍為0° 40°。
13.如權(quán)利要求I所述的集光裝置，其特征在于，該聚光器是一形成幾何型輪廓型態(tài)的反射式光學(xué)元件；包括 一入光孔徑、一反射面、一底部、和一形成在底部上的開(kāi)孔； 該開(kāi)孔位于該入光孔徑的相對(duì)邊； 該集光器設(shè)置在該開(kāi)孔的區(qū)域內(nèi)；以及 所述開(kāi)孔位于接近聚光器焦區(qū)的位置，定義有一上區(qū)和一下區(qū)；并且，形成開(kāi)孔上區(qū)寬、下區(qū)窄的結(jié)構(gòu)型態(tài)。
14.如權(quán)利要求13所述的集光裝置，其特征在干，該開(kāi)孔上區(qū)的寬度大于該開(kāi)孔下區(qū)的寬度。
15.如權(quán)利要求13所述的集光裝置，其特征在干，該開(kāi)孔上區(qū)位于接近該聚光器焦區(qū)的位置；以及 該集光器的入光孔徑位于接近該開(kāi)孔上區(qū)的位置。
16.如權(quán)利要求13所述的集光裝置,其特征在于,該開(kāi)孔包含一內(nèi)表面；該內(nèi)表面鍍有ー層反射膜，而形成一反射面。
17.如權(quán)利要求13所述的集光裝置，其特征在于，該集光器的高度等于該底部的厚度。
18.如權(quán)利要求13所述的集光裝置，其特征在于，該聚光器形成一拋物線輪廓的型態(tài)。
19.如權(quán)利要求13所述的集光裝置，其特征在干，該開(kāi)孔下區(qū)的內(nèi)徑等于該集光器出光孔徑的外徑。
20.如權(quán)利要求13所述的集光裝置，其特征在干，該開(kāi)孔下區(qū)的內(nèi)徑大于該集光器出光孔徑的外徑。
21.如權(quán)利要求6或13所述的集光裝置，其特征在干，該開(kāi)孔下區(qū)的內(nèi)徑等于該光線接收元件的外徑。
22.如權(quán)利要求6或13所述的集光裝置，其特征在干，該開(kāi)孔下區(qū)的內(nèi)徑大于該光線接收元件的外徑。
23.如權(quán)利要求6或13所述的集光裝置，其特征在干，該開(kāi)孔下區(qū)的內(nèi)徑等于該光線接收元件的對(duì)角線長(zhǎng)度。
24.如權(quán)利要求6或13所述的集光裝置，其特征在干，該開(kāi)孔下區(qū)的內(nèi)徑大于該光線接收元件的對(duì)角線長(zhǎng)度。
25.如權(quán)利要求I所述的集光裝置，其特征在于，該集光器出光孔徑的內(nèi)徑等于該光線接收元件的外徑。
26.如權(quán)利要求I所述的集光裝置，其特征在于，該集光器出光孔徑的內(nèi)徑等于該光線接收元件的對(duì)角線長(zhǎng)度。
27.如權(quán)利要求I所述的集光裝置，其特征在于，該集光器入光孔徑上形成一彎曲面的型態(tài)。
28.如權(quán)利要求13所述的集光裝置，其特征在于，該聚光器入光孔徑配置有一次級(jí)聚光元件。
29.如權(quán)利要求I所述的集光裝置，其特征在于，該光線接收元件配置在一基板上；所述基板與該基部形成結(jié)合型態(tài)。
30.如權(quán)利要求13所述的集光裝置，其特征在于，光線接收元件配置在一基板上；所述基板與該聚光器底部形成結(jié)合型態(tài)。
31.如權(quán)利要求I所述的集光裝置，其特征在于，該集光器形成一拋物線輪廓的型態(tài)，而具有一焦區(qū)；所述焦區(qū)與該聚光器的焦區(qū)形成共焦型態(tài)。
32.如權(quán)利要求I所述的集光裝置，其特征在于，該集光器形成一拋物線輪廓的型態(tài)，而具有一焦區(qū)；所述焦區(qū)與該聚光器的焦區(qū)形成大致共焦的型態(tài)。
33.如權(quán)利要求I所述的集光裝置，其特征在于，該聚光器是ー菲涅耳光學(xué)元件。
34.如權(quán)利要求I所述的集光裝置，其特征在于，該聚光器是ー全反射折射光學(xué)元件。
35.如權(quán)利要求6或13所述的集光裝置，其特征在干，該集光器的位置低于該開(kāi)孔的位置。
36.如權(quán)利要求6或13所述的集光裝置，其特征在干，該集光器的位置高于該開(kāi)孔的位置。
37.ー種集光裝置的集光方法，其特征在于，包括 (a)使一具有焦區(qū)的聚光器接收至少一部分光線； 使所述光線通過(guò)該焦區(qū)后，順向出射到一成透光實(shí)心體型態(tài)的集光器上，而得到第一階輸出光；以及 (b)該第一階輸出光到達(dá)集光器后,經(jīng)該集光器的一全反射光學(xué)作用，出光為第二階輸出光； 所述第二階輸出光，入射到一光線接收元件上。
38.ー種集光裝置的集光方法，其特征在于，包括 (a)使一具有焦區(qū)的聚光器接收至少一部分光線； 該聚光器包含一入光孔徑、一開(kāi)孔和一形成在開(kāi)孔上的表面； 該光線在偏離該焦區(qū)后，順向出射到聚光器開(kāi)孔的表面； (b)上述光線經(jīng)聚光器開(kāi)孔的表面反射出光，而得到第一階輸出光；以及 (c)該第一階輸出光到達(dá)一成透光實(shí)心體型態(tài)的集光器后，經(jīng)該集光器的折射及/或一全反射光學(xué)作用，出光為第二階輸出光； 所述第二階輸出光入射到一光線接收元件上。
39.如權(quán)利要求38所述的集光方法，其特征在于，該程序(a)的聚光器接收的至少一部分光線以ー參考軸為基準(zhǔn)線，形成偏角型態(tài)的進(jìn)入該聚光器。
40.如權(quán)利要求38或39所述的集光方法，其特征在于，該程序(a)的光線通過(guò)一次級(jí)光學(xué)元件后，進(jìn)入該聚光器。
41.如權(quán)利要求38或39所述的集光方法，其特征在于，該程序(a)的光線經(jīng)聚光器反射面反射后，偏離該焦區(qū)的順向出射到聚光器開(kāi)孔的表面上。
42.ー種集光裝置的集光方法，其特征在于，包括 (a)使一具有焦區(qū)的聚光器接收至少一部分光線； 該光線在偏離該焦區(qū)后，順向出射到一開(kāi)孔上；所述開(kāi)孔形成在一基部上；并且，開(kāi)孔具有一表面； (b)上述光線經(jīng)基部開(kāi)孔的表面反射出光，而得到第一階輸出光；以及 (c)該第一階輸出光到達(dá)一成透光實(shí)心體型態(tài)的集光器后，經(jīng)該集光器的折射及/或一全反射光學(xué)作用，出光為第二階輸出光； 所述第二階輸出光入射到一光線接收元件上。
43.如權(quán)利要求42所述的集光方法，其特征在于，該程序(a)的聚光器接收的至少一部分光線以ー參考軸為基準(zhǔn)線，形成偏角型態(tài)的進(jìn)入該聚光器。
44.ー種集光裝置的集光方法，其特征在于，包括 (a)使一具有焦區(qū)的聚光器接收光源的至少一部分光線； 所述光線在偏離該焦區(qū)后，順向出射到一成透光實(shí)心體型態(tài)的集光器，而得到第一階輸出光； (b)并且，該第一階輸出光經(jīng)該集光器的折射及/或一全反射光學(xué)作用，形成第二階輸出光，入射到一光線接收元件上。
45.如權(quán)利要求44所述的集光方法，其特征在于，該程序(a)的聚光器接收的至少一部分光線以ー參考軸為基準(zhǔn)線，形成偏角型態(tài)的進(jìn)入該聚光器。
46.如權(quán)利要求44所述的集光方法，其特征在于，該程序(a)的光線通過(guò)一次級(jí)光學(xué)元件后，進(jìn)入該聚光器。
47.如權(quán)利要求44所述的集光方法，其特征在于，該程序(a)的聚光器包含一反射面；使該光線經(jīng)聚光器的反射面反射后，偏離該焦區(qū)的順向出射到該集光器上。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種集光裝置及其集光方法，提供一組裝簡(jiǎn)單，以及使光線以較垂直的角度入射接收元件、增加光線接收元件的吸收效率等作用；包括一具有焦(點(diǎn))區(qū)的聚光器和一組合有光線接收元件的全反射集光器。該集光器定義有一入光孔徑和一出光孔徑；并且，使該集光器的入光孔徑接近或位于該聚光器焦區(qū)的位置。以及，該聚光器接收光源的至少一部分光線，使它們通過(guò)焦(點(diǎn))區(qū)后，順向出射到該集光器；并且，經(jīng)集光器的全反射光學(xué)作用將該光線入射接收元件，改善習(xí)知結(jié)構(gòu)因光線入射角度太大或不理想，和光學(xué)照度不均勻、影響光電轉(zhuǎn)換效能等情形。
文檔編號(hào)G02B19/00GK102654636SQ20111005080
公開(kāi)日2012年9月5日 申請(qǐng)日期2011年3月3日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月3日
發(fā)明者鄒淵翔 申請(qǐng)人:聚陽(yáng)光能股份有限公司