專利名稱：光波導(dǎo)路的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種廣泛用于光通信、光信息處理以及其它普通光學(xué)領(lǐng)域的光波導(dǎo)路的制造方法
背景技術(shù)：
光波導(dǎo)路安裝到光波導(dǎo)路裝置、光集成電路、光配線基板等光學(xué)裝置中，廣泛用于光通信、光信息處理以及其它普通光學(xué)的領(lǐng)域。通常，光波導(dǎo)路在下包層的上表面上以規(guī)定的突出圖案形成有作為光通路的芯，并以覆蓋該芯的方式形成有上包層。作為光波導(dǎo)路的制造方法，例如，一次制作多個(gè)光波導(dǎo)路的情況，提出有下述的制造方法(例如，參照專利文獻(xiàn)I)。即，首先，如圖6的(a)所示，在基板A上形成一層下包層 11，該下包層11具有能夠形成多個(gè)光波導(dǎo)路Wtl (參照?qǐng)D6的(d))的大小。接下來(lái)，如圖6 的(b)所示，在該下包層11的上表面上劃分出多個(gè)與光波導(dǎo)路Wtl相對(duì)應(yīng)的區(qū)域，并且在每個(gè)上述區(qū)域上以規(guī)定的突出圖案形成芯12。接下來(lái)，如圖6的(c)所示，以覆蓋上述芯12 的方式在上述下包層11的上表面上涂布整面的作為上包層13的形成材料的液狀的固化性樹(shù)脂(感光性樹(shù)脂、熱固化性樹(shù)脂)后，使該涂布層13a固化，從而形成上包層13。以上述方法，能夠形成由下包層11、芯12和上包層13構(gòu)成的光波導(dǎo)路Wtl，該光波導(dǎo)路Wtl是以在上述基板A上形成多個(gè)光波導(dǎo)路Wtl且使相互鄰接的光波導(dǎo)路Wtl與光波導(dǎo)路Wtl相接合的狀態(tài)形成的。然后，如圖6的(d)所示，利用旋轉(zhuǎn)刀等連同切割基板A—起對(duì)相互鄰接的光波導(dǎo)路Wtl與光波導(dǎo)路Wtl之間的邊界進(jìn)行切割。之后，從該基板A剝離各個(gè)光波導(dǎo)路Wc^以上述方法能夠獲得多個(gè)光波導(dǎo)路然而，在上述光波導(dǎo)路Wtl的制造工序中，涂布上包層形成用的液狀的固化性樹(shù)脂時(shí)(參照?qǐng)D6的(c))，在形成有芯12的部分，該涂布層13a較高，在相互鄰接的光波導(dǎo)路 Wtl和光波導(dǎo)路Wtl之間等沒(méi)有形成芯12的部分，該涂布層13a較低，并且以該狀態(tài)使涂布層 13a固化。因此，上包層13的上表面形成為如波浪起伏的凹凸?fàn)?。使如上所述那樣上包?13的上表面形成得不平坦的光波導(dǎo)路Wtl與連接器相連接時(shí)，厚度較薄部分難以固定在連接器上，因此可能使光波導(dǎo)路Wtl和連接器的對(duì)準(zhǔn)位置錯(cuò)位，對(duì)連接連接器時(shí)的連接損失造成不良影響。此外，在圖6的(c)中，為了易于理解，夸張地表示了上包層13的上表面的凹凸?fàn)睢Ｒ虼?，為了使上包?3的上表面平坦化，提出有研磨該上表面或者在該上表面上進(jìn)一步形成I層包層的方法(例如，參照專利文獻(xiàn)2 4)。專利文獻(xiàn)I :日本特開(kāi)2008-203694號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 :日本特開(kāi)2001-74953號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3 :日本特開(kāi)2001-74963號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)4 :日本特開(kāi)2001-91775號(hào)公報(bào)然而，如上所述，在為了使上包層13的上表面平坦化而研磨該上表面或者在該上表面上進(jìn)一步形成I層包層的方法中，額外需要該研磨的工序、再形成I層包層的工序，因此會(huì)降低生產(chǎn)效率。此外，光波導(dǎo)路Wtl根據(jù)其用途不同，整體形狀變得復(fù)雜的情況較多，因此在如上所述地通過(guò)切割獲得每個(gè)光波導(dǎo)路Wtl的方法中，利用旋轉(zhuǎn)刀等的切割變得困難， 從而生產(chǎn)效率降低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述情況完成的，其目的在于，提供一種光波導(dǎo)路的制造方法，該制造方法在一次制造多個(gè)光波導(dǎo)路的情況下，能夠以較高的生產(chǎn)效率制造出上包層的上表面平坦的光波導(dǎo)路。為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法是用于制造多個(gè)光波導(dǎo)路的光波導(dǎo)路的制造方法，其包括形成虛擬(dummy)下包層的工序，在基板上劃分出多個(gè)與光波導(dǎo)路相對(duì)應(yīng)的區(qū)域，進(jìn)行下包層形成用的感光性樹(shù)脂的涂布及曝光，由此在每個(gè)上述區(qū)域上形成光波導(dǎo)路下包層，并且在相互鄰接的上述光波導(dǎo)路下包層和光波導(dǎo)路下包層之間形成虛設(shè)下包層，且使該虛設(shè)下包層與該光波導(dǎo)路下包層之間有間隙；形成芯的工序，在上述光波導(dǎo)路下包層及上述虛設(shè)下包層的上表面，進(jìn)行芯形成用的感光性樹(shù)脂的涂布及曝光而形成芯；形成感光性樹(shù)脂層的工序，以覆蓋上述芯的狀態(tài)涂布上包層形成用的感光性樹(shù)脂而形成該感光性樹(shù)脂層；形成多個(gè)光波導(dǎo)路的工序，通過(guò)有選擇地曝光上述感光性樹(shù)脂層的與上述多個(gè)光波導(dǎo)路相對(duì)應(yīng)的部分，使該曝光部分形成為上包層，從而在上述基板上形成多個(gè)由上述光波導(dǎo)路下包層、上述芯以及上述上包層構(gòu)成的光波導(dǎo)路；以及剝離工序，從上述基板有選擇性地分別剝離上述多個(gè)光波導(dǎo)路。S卩，在本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法中，在基板上劃分出多個(gè)與光波導(dǎo)路相對(duì)應(yīng)的區(qū)域，在每個(gè)該區(qū)域中形成光波導(dǎo)路下包層，并且在相互鄰接的上述光波導(dǎo)路下包層和光波導(dǎo)路下包層之間形成虛設(shè)下包層，且使該虛設(shè)下包層與該光波導(dǎo)路下包層之間有間隙。因此，在之后的整面涂布芯形成用的感光性樹(shù)脂的工序中，由于形成有上述虛設(shè)下包層，因此在該虛設(shè)下包層形成部分上述感光性樹(shù)脂的涂布層不會(huì)變低，從而該涂布層的上表面形成得平坦。由此，通過(guò)曝光該涂布層而成形為規(guī)定圖案的芯形成均勻的高度。然后，在形成上述芯后整面涂布上包層形成用的感光性樹(shù)脂的工序中，由于在基板上有上述虛設(shè)下包層及形成在該虛設(shè)下包層上表面上的芯，因此在上述部分上，上述感光性樹(shù)脂層不會(huì)變低，從而該感光性樹(shù)脂層的上表面形成的平坦。由此，通過(guò)有選擇地曝光該感光性樹(shù)脂層而形成的上包層的上表面也平坦。其結(jié)果，不需要以往技術(shù)必需的用于使上包層的上表面平坦化的研磨等工序，能夠提高生產(chǎn)效率。此外，在本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法中，如上所述，由于在基板上劃分出的每個(gè)區(qū)域中形成一個(gè)光波導(dǎo)路，因此從基板分別剝離各個(gè)光波導(dǎo)路，能夠獲得一個(gè)一個(gè)的光波導(dǎo)路。即，在本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法中，獲得一個(gè)一個(gè)的光波導(dǎo)路時(shí)不需要切割工序。由此也能夠提高生產(chǎn)效率。而且，即使光波導(dǎo)路具有復(fù)雜形狀，由于只要從基板剝離該光波導(dǎo)路即可，因此也不會(huì)產(chǎn)生由于光波導(dǎo)路的形狀而造成的生產(chǎn)效率的降低。另外，在本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法中，如上所述，不需要用于使上包層的上表面平坦化的研磨、用于獲得一個(gè)一個(gè)的光波導(dǎo)路的切割，因此不產(chǎn)生研磨屑、切割屑，因此上述研磨屑等不會(huì)附著在光波導(dǎo)路上，從而也不會(huì)降低光波導(dǎo)路的可靠性。在本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法中，在基板上劃分出多個(gè)與光波導(dǎo)路相對(duì)應(yīng)的區(qū)域，在每個(gè)上述區(qū)域上形成光波導(dǎo)路下包層，并且在相互鄰接的上述光波導(dǎo)路下包層與光波導(dǎo)路下包層之間形成虛設(shè)下包層，且使該虛設(shè)下包層與該光波導(dǎo)路下包層有間隙。由于形成有該虛設(shè)下包層，因此能夠使之后整面形成的芯形成用的感光性樹(shù)脂的涂布層其上表面平坦，由此，在上述光波導(dǎo)路下包層及虛設(shè)下包層的上表面上，能夠形成高度均勻的芯。 而且，由于形成有上述虛設(shè)下包層及在虛設(shè)下包層上表面形成的上述芯，因此使之后整面形成的上包層形成用的感光性樹(shù)脂層其上表面平坦，由此，能夠形成平坦的上包層的上表面。其結(jié)果，不需要以往技術(shù)必需的用于使上包層的上表面平坦化的研磨等工序，因此能夠提高生產(chǎn)效率。此外，如上所述，在本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法中，由于在基板上劃分出的每個(gè)區(qū)域中形成一個(gè)光波導(dǎo)路，因此獲得一個(gè)一個(gè)的光波導(dǎo)路時(shí)，只需從基板上剝離該光波導(dǎo)路即可，不需要進(jìn)行切割。因此，即使光波導(dǎo)路具有復(fù)雜形狀，也不會(huì)產(chǎn)生由于該光波導(dǎo)路的形狀而造成的生產(chǎn)效率的降低。另外，在本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法中，如上所述，不需要用于使上包層的上表面平坦化的研磨、用于獲得一個(gè)一個(gè)的光波導(dǎo)路的切割，因此研磨屑、切割屑不會(huì)附著在光波導(dǎo)路上，能夠獲得可靠性優(yōu)良的光波導(dǎo)路。特別是，在上述光波導(dǎo)路下包層與上述虛設(shè)下包層之間的間隙設(shè)定在300μπι以下的情況下，由于該間隙足夠窄，因此提高上述芯形成用的感光性樹(shù)脂的涂布層的上表面的平坦性，進(jìn)而提高上包層形成用的感光性樹(shù)脂層的上表面的平坦性，提高上包層的上表面的平坦性。因此，在將上述光波導(dǎo)路連接于連接器時(shí)，光波導(dǎo)路與連接器的固定變得穩(wěn)定，兩者間的校準(zhǔn)位置不易錯(cuò)動(dòng)，從而減少連接連接器時(shí)的連接損失。此外，形成在上述虛設(shè)下包層的上表面上的芯為多個(gè)時(shí)，在該虛設(shè)下包層的上表面調(diào)整的相互鄰接的芯與芯的間隔，從而進(jìn)一步提高上包層形成用的感光性樹(shù)脂層的上表面的平坦性，即進(jìn)一步提高上包層的上表面的平坦性，進(jìn)一步減少上述光波導(dǎo)路連接連接器時(shí)的連接損失。而且，在同一工序中形成上述光波導(dǎo)路下包層和上述虛設(shè)下包層時(shí)，能夠進(jìn)一步提聞生廣效率。


圖I的(a) 圖I的(d)是示意性地表示本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法的一實(shí)施方式中的下包層的形成方法的說(shuō)明圖。圖2的(a) 圖2的(C)是示意性地表示上述光波導(dǎo)路的制造方法的一實(shí)施方式中的芯的形成方法的說(shuō)明圖。圖3的(a) 圖3的(C)是示意性地表示上述光波導(dǎo)路的制造方法的一實(shí)施方式中的上包層的形成方法的說(shuō)明圖。圖4是示意性地表示上述光波導(dǎo)路的制造方法的一實(shí)施方式中的從基板剝離光波導(dǎo)路的方法的說(shuō)明圖。圖5的(a) 圖5的(d)是示意性地表示本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法的其它實(shí)施方式的說(shuō)明圖。圖6的(a) 圖6的(d)是示意性地表示以往的光波導(dǎo)路的制造方法的說(shuō)明圖。
具體實(shí)施方式
接下來(lái)，基于附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。圖I 圖4表示本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法的一實(shí)施方式。該實(shí)施方式的光波導(dǎo)路的制造方法中，概括來(lái)說(shuō)，首先，如圖I的(a) 圖I的(d)所示，在基板A上劃分出多個(gè)與光波導(dǎo)路W(參照?qǐng)D3的(c))相對(duì)應(yīng)的區(qū)域，在每個(gè)該區(qū)域形成光波導(dǎo)路下包層1，并且在相互鄰接的上述光波導(dǎo)路下包層I與光波導(dǎo)路下包層I之間形成虛設(shè)下包層D，并使該虛設(shè)下包層D與該光波導(dǎo)路下包層I之間留有間隙。接下來(lái)，如圖2的(a) 圖2的(c) 所示，利用形成有上述虛設(shè)下包層D的結(jié)構(gòu)，形成整面的芯形成用的感光性樹(shù)脂層2a，并使該感光性樹(shù)脂層2a處于上表面平坦的狀態(tài)，之后，選擇性地進(jìn)行曝光，從而在上述光波導(dǎo)路下包層I及虛設(shè)下包層D的上表面上，以均勻的高度形成規(guī)定圖案的芯2。接下來(lái)，如圖 3(a) 圖3的(c)所示，利用形成有上述虛設(shè)下包層D及其上表面形成有上述芯2的結(jié)構(gòu)， 形成整面的上包層形成用的感光性樹(shù)脂層3a，并使該感光性樹(shù)脂層3a處于上表面平坦的狀態(tài)，之后，選擇性地進(jìn)行曝光，從而在與上述光波導(dǎo)路下包層I相對(duì)應(yīng)的部分，以使上包層3的上表面變平坦的方式形成上包層3。以上述方式，形成多個(gè)由光波導(dǎo)路下包層I、芯2 和上包層3構(gòu)成的光波導(dǎo)路W，且該光波導(dǎo)路W形成在上述基板A上劃分出的每個(gè)區(qū)域中。 之后，如圖4所示，從上述基板A分別剝離各個(gè)光波導(dǎo)路W。以上述方式能夠獲得多個(gè)光波導(dǎo)路W。S卩，在上述光波導(dǎo)路的制造方法中，在相互鄰接的上述光波導(dǎo)路下包層I與光波導(dǎo)路下包層I之間形成虛設(shè)下包層D及在虛設(shè)下包層D的上表面上的上述芯2，由此能夠以使上包層3的上表面變平坦的方式形成該上包層3。因此，不需要以往技術(shù)必需的用于使上包層3的上表面平坦化的研磨等工序，能夠提高生產(chǎn)效率。此外，在上述光波導(dǎo)路的制造方法中，從上述基板A剝離各個(gè)光波導(dǎo)路W，由此能夠獲得一個(gè)一個(gè)分開(kāi)的光波導(dǎo)路W，因此不需要切割工序，從這一點(diǎn)也能夠提高生產(chǎn)效率。如上所述，在上述光波導(dǎo)路的制造方法中， 能夠以較高的生產(chǎn)效率制造上包層3的上表面平坦的光波導(dǎo)路W。以下對(duì)上述光波導(dǎo)路的制造方法進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。首先，如圖I的(a)所示，準(zhǔn)備用于形成多個(gè)光波導(dǎo)路W的基板A。作為該基板A 的形成材料，例如能夠舉出玻璃，不銹鋼等金屬，聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚酰亞胺等樹(shù)脂等。接下來(lái)，如圖I的(b)所示，在上述基板A上涂布一整面的清漆，該清漆是在溶劑中溶解作為光波導(dǎo)路下包層I及虛設(shè)下包層D的形成材料的感光性樹(shù)脂而制成的。該清漆的涂布例如可以利用旋涂法、浸涂法、鑄造法、注入法、噴墨法等進(jìn)行。而且，進(jìn)行50°C 1200C X 10 30分鐘的加熱處理使該清漆的涂布層干燥。由此，形成在光波導(dǎo)路下包層I 及虛設(shè)下包層D上的感光性樹(shù)脂層Ia形成均勻的厚度。該感光性樹(shù)脂層Ia的厚度通常設(shè)定為5 μ m以上。接下來(lái)，如圖I的(C)所示，在上述感光性樹(shù)脂層Ia的上方配置光掩模M1，在該光掩模M1上形成有與光波導(dǎo)路下包層I及虛設(shè)下包層D的圖案相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口圖案，隔著該光掩模M1利用紫外線等輻射線L1曝光上述感光性樹(shù)脂層la。輻射線L1的照射量通常設(shè)定在 10mJ/cm2 10000mJ/cm2的范圍內(nèi)。進(jìn)行上述曝光后,進(jìn)行加熱處理,使結(jié)束光反應(yīng)。該加熱處理通常在80°C 250°C的范圍內(nèi)在10秒 2小時(shí)的范圍內(nèi)進(jìn)行。接下來(lái)，如圖I的(d)所示，使用顯影液進(jìn)行顯影，由此溶解并除去上述感光性樹(shù)脂層Ia中的未曝光部分，剩余的感光性樹(shù)脂層Ia形成為光波導(dǎo)路下包層I及虛設(shè)下包層D 的圖案。如上所述，上述光波導(dǎo)路的下包層I的圖案是形成在從基板A上劃分出的與多個(gè)光波導(dǎo)路W相對(duì)應(yīng)的每個(gè)區(qū)域上的圖案，上述虛設(shè)下包層D為形成在相互鄰接的上述光波導(dǎo)路下包層I與光波導(dǎo)路下包層I之間的圖案，且以與該光波導(dǎo)路下包層I之間留有間隙的方式形成。上述顯影后，利用加熱處理除去殘留在形成圖案的剩余感光性樹(shù)脂層Ia的表面等上的顯影液。該加熱處理通常在80°C 120°C X 10分鐘 30分鐘的范圍內(nèi)進(jìn)行。由此， 將成形在上述光波導(dǎo)路下包層I及虛設(shè)下包層D的圖案上的剩余感光性樹(shù)脂層Ia形成為光波導(dǎo)路下包層I及虛設(shè)下包層D。相互鄰接的上述光波導(dǎo)路下包層I與光波導(dǎo)路下包層I之間的間隙通常設(shè)定為 400μπι以下。而且，從使在后述工序中形成的芯形成用的感光性樹(shù)脂層形成為均勻的高度進(jìn)而使芯形成為均勻的高度的觀點(diǎn)出發(fā)，上述光波導(dǎo)路下包層I與上述虛設(shè)下包層D之間的間隙優(yōu)選形成為較小，具體來(lái)說(shuō)，優(yōu)選將其設(shè)定在300 μ m以下。此外，上述光波導(dǎo)路下包層I與虛設(shè)下包層D形成為具有相同的厚度。然后，如圖2的(a)所示，以覆蓋上述光波導(dǎo)路下包層I及虛設(shè)下包層D的方式整面涂布清漆，形成該感光性樹(shù)脂層2a，上述清漆是在溶劑中溶解作為芯2的形成材料的感光性樹(shù)脂而制成的。該清漆的涂布及感光性樹(shù)脂層2a的形成方法與圖I的(b)所說(shuō)明的上述下包層形成用的感光性樹(shù)脂層Ia的形成方法相同。此時(shí)，在上述光波導(dǎo)路下包層I與光波導(dǎo)路下包層I之間形成有上述虛設(shè)下包層D，因此在該部分上述芯形成用的感光性樹(shù)脂層2a不會(huì)變低，從而該感光性樹(shù)脂層2a的上表面形成得平坦。該感光性樹(shù)脂層2a的厚度(光波導(dǎo)路下包層I上的厚度)通常設(shè)定在20 μ m 80 μ m的范圍內(nèi)。接下來(lái)，如圖2的(b)所示，在上述感光性樹(shù)脂層2a的上方配置光掩模M2，該光掩模M2形成有與芯2 (參照?qǐng)D2的(c))的圖案相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口圖案，隔著該光掩模M2利用紫外線等輻射線L2曝光上述感光性樹(shù)脂層2a后進(jìn)行加熱處理。上述曝光及加熱處理的方法與圖I的(c)所說(shuō)明的下包層I、虛設(shè)下包層D的形成方法相同。接下來(lái)，如圖2的(C)所示，使用顯影液進(jìn)行顯影，由此溶解并除去上述感光性樹(shù)脂層2a中的未曝光部分，剩余在光波導(dǎo)路下包層I上及虛設(shè)下包層D上的感光性樹(shù)脂層2a 形成為芯2的圖案。之后，利用加熱處理除去殘留在該剩余感光性樹(shù)脂層2a的表面等上的顯影液，從而將上述剩余感光性樹(shù)脂層2a形成為芯2。上述顯影及加熱處理方法與圖I的 (d)所說(shuō)明的下包層I、虛設(shè)下包層D的形成方法相同。上述芯2在上述光波導(dǎo)路下包層I 上形成為規(guī)定圖案，該芯2的寬度通常設(shè)定在20μπι 80μπι的范圍內(nèi)。形成在上述虛設(shè)下包層D上的芯2的寬度形成為與該虛設(shè)下包層D的寬度相同。上述芯2的高度形成為在上述下包層I上的高度及虛設(shè)下包層D上的高度相同。而且，如圖3的(a)所示，以覆蓋上述芯2的方式整面涂布清漆，形成該感光性樹(shù)脂層3a，上述清漆是在溶劑中溶解作為上包層3的形成材料的感光性樹(shù)脂而制成的。該清漆的涂布及感光性樹(shù)脂層3a的形成方法與圖I的(b)所說(shuō)明的形成上述下包層形成用的感光性樹(shù)脂層Ia的方法相同。此時(shí)，在上述光波導(dǎo)路下包層I與光波導(dǎo)路下包層I之間， 形成有上述虛設(shè)下包層D及在該虛設(shè)下包層D上表面上的上述芯2，因此在該部分上述上包層形成用的感光性樹(shù)脂層3a不會(huì)變低，從而該感光性樹(shù)脂層3a的上表面形成得平坦。該感光性樹(shù)脂層3a的厚度(自芯2的上表面的厚度)通常設(shè)定為5μπι以上。接下來(lái)，如圖3的(b)所示，在上述感光性樹(shù)脂層3a的上方配置光掩模M3，該光掩模M3形成有與上包層3 (參照?qǐng)D3的(c))的圖案相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口圖案，隔著該光掩模％利用紫外線等輻射線L3曝光上述感光性樹(shù)脂層3a后進(jìn)行加熱處理。該曝光及加熱處理方法與圖I的(c)所說(shuō)明的下包層I、虛設(shè)下包層D的形成方法相同。接下來(lái)，如圖3的(C)所示，使用顯影液進(jìn)行顯影，由此溶解并除去上述感光性樹(shù)脂層3a中的未曝光部分，剩余在光波導(dǎo)路下包層I上的感光性樹(shù)脂層3a形成為上包層3 的圖案。之后，利用加熱處理除去殘留在該剩余感光性樹(shù)脂層3a的表面等上的顯影液，上述剩余感光性樹(shù)脂層3a形成為上包層3。上述顯影及加熱處理方法與圖I的(d)所說(shuō)明的下包層I、虛設(shè)下包層D的形成方法相同。上述上包層3形成在與上述光波導(dǎo)路下包層I 相對(duì)應(yīng)的部分上。以上述方式，能夠在上述基板A上形成多個(gè)由光波導(dǎo)路下包層I、芯2和上包層3 構(gòu)成的光波導(dǎo)路W，并且該多個(gè)光波導(dǎo)路W是以如下述的狀態(tài)形成的，S卩、在相鄰的光波導(dǎo)路W之間形成有上述虛設(shè)下包層D及在該虛設(shè)下包層D上表面上的上述芯2，且該虛設(shè)下包層D及在該虛設(shè)下包層D上表面上的上述芯2與該光波導(dǎo)路W之間留有間隙。之后，如圖4所示，從上述基板A分別剝離各個(gè)光波導(dǎo)路W。由此，不進(jìn)行切割就能夠獲得一個(gè)一個(gè)分離的光波導(dǎo)路W。此時(shí)，上述虛設(shè)下包層D及其上表面的上述芯2留在基板A上。作為上述剝離方法，例如能夠舉出，在使基板A的下表面抵接到真空抽吸工作臺(tái)并利用空氣吸附固定基板A的狀態(tài)下，用真空吸附器吸附各個(gè)上包層3的上表面而提起該吸附部分的方法。在該方法中，在各個(gè)上包層3上粘接有與該上包層3相對(duì)應(yīng)的芯2和光波導(dǎo)路下包層I粘接的狀態(tài)下，各個(gè)光波導(dǎo)路W從基板A剝離出來(lái)。此時(shí)，由于其形成材料的原因，基板A與光波導(dǎo)路下包層I之間的粘接力及基板A與上包層3之間的粘接力小于上包層3與芯2之間的粘接力、上包層3與光波導(dǎo)路下包層I之間的粘接力及芯2與光波導(dǎo)路下包層I之間的粘接力，從而通過(guò)上述操作能夠簡(jiǎn)單地剝離該光波導(dǎo)路W。圖5的(a) 圖5的(d)表示本發(fā)明的光波導(dǎo)路的制造方法的其它實(shí)施方式。該實(shí)施方式的光波導(dǎo)路的制造方法中，形成多個(gè)在上述實(shí)施方式(參照?qǐng)DI 圖4)中形成在虛設(shè)下包層D的上表面上的芯2 (參照?qǐng)D5的(b))。除此之外的部分與上述實(shí)施方式相同， 相同的部分標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記。而且，在上述虛設(shè)下包層D的上表面調(diào)整相互鄰接的芯 2與芯2之間的間隔(狹縫寬度)S(參照?qǐng)D5的(b))，從而與上述實(shí)施方式相同，實(shí)現(xiàn)不研磨上包層3的上表面等也能夠形成平坦的上包層3的上表面的效果。在該實(shí)施方式中，特別是使光波導(dǎo)路W的寬度增大的情況下發(fā)揮效果。尤其是在相互鄰接的光波導(dǎo)路下包層I上的一端側(cè)的芯2與虛設(shè)下包層D上的另一端側(cè)的芯2之間的間隔(芯間隔)T設(shè)定在200 μ m 600 μ m的范圍內(nèi)的情況下發(fā)揮效果。對(duì)該實(shí)施方式的光波導(dǎo)路的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。首先，如圖5的(a)所示，以與上述實(shí)施方式相同的方法(參照?qǐng)DI的(a) 圖I的(d))，在基板A上形成光波導(dǎo)路下包層 I及虛設(shè)下包層D。接下來(lái)，如圖5的(b)所示，以與上述實(shí)施方式相同的方法(參照?qǐng)D2 的(a) 圖2的(c))，在上述光波導(dǎo)路下包層I的上表面及上述虛設(shè)下包層D的上表面上形成多個(gè)芯2。與上述實(shí)施方式相同，由于上述虛設(shè)下包層D的存在，上述芯2形成為相同的高度。此外，從提高在接下來(lái)的工序(參照?qǐng)D5的(C))中形成的上包層形成用的感光性樹(shù)脂層3a的上表面的平坦性的觀點(diǎn)出發(fā)，在上述虛設(shè)下包層D的上表面上相互鄰接的芯2 與芯2的間隔S優(yōu)選設(shè)定為ΙΟΟμπι 300μπι的范圍內(nèi)。接下來(lái)，如圖5的(c)所示，以與上述實(shí)施方式相同的方法(參照?qǐng)D3的(a))，形成上包層形成用的感光性樹(shù)脂層3a。與上述實(shí)施方式相同，由于上述虛設(shè)下包層D及其上表面上的多個(gè)芯2的存在，該感光性樹(shù)脂層 3a形成平坦的上表面。而且，如圖5的(d)所示，與上述實(shí)施方式相同(參照?qǐng)D3的(b) 圖3的(c))，選擇性曝光上述感光性樹(shù)脂層3a后進(jìn)行顯影，從而在上述基板A上形成多個(gè)由光波導(dǎo)路下包層I、芯2及上表面平坦的上包層3構(gòu)成的光波導(dǎo)路W。之后，與上述實(shí)施方式相同(參照?qǐng)D4)，能夠從上述基板A分別剝離得到光波導(dǎo)路W。此外,雖然在上述各實(shí)施方式中,利用光刻法由一層感光性樹(shù)脂層Ia同時(shí)形成光波導(dǎo)路下包層I和虛設(shè)下包層D，但是也可以用其它方法，例如也可以在形成光波導(dǎo)路下包層I圖案后，在相互鄰接的上述光波導(dǎo)路下包層I與光波導(dǎo)路下包層I之間用與光波導(dǎo)路下包層I不同的材料形成虛設(shè)下包層D。此外，在上述光波導(dǎo)路的制造方法中，作為上述光波導(dǎo)路下包層I、芯2、上包層3 的形成材料的上述感光性樹(shù)脂，例如可以舉出環(huán)氧類樹(shù)脂、丙烯酸類樹(shù)脂。此外，用于溶解該感光性樹(shù)脂的上述溶劑，例如可以舉出乳酸乙酯、環(huán)己酮、丁酮(methyl ethyl ketone ； MEK)等。相對(duì)100質(zhì)量份的上述感光性樹(shù)脂，在10質(zhì)量份 80質(zhì)量份的范圍內(nèi)使用上述溶劑。而且，作為上述芯2的形成材料，使用折射率大于上述光波導(dǎo)路下包層I及上包層3 的形成材料的材料。該折射率的調(diào)整，例如能夠通過(guò)選擇上述光波導(dǎo)路下包層I、芯2、上包層3的各形成材料的種類、調(diào)整組成比率而進(jìn)行。而且，在上述各個(gè)實(shí)施方式中，通過(guò)適當(dāng)設(shè)定上述光掩模MpM2、M3的開(kāi)口圖案的形狀，能夠簡(jiǎn)單地形成復(fù)雜形狀的光波導(dǎo)路W。而且，即使如上所述地形成復(fù)雜形狀的光波導(dǎo)路W，也能夠通過(guò)從基板A剝離而獲得一個(gè)一個(gè)的光波導(dǎo)路W，因此不會(huì)引起生產(chǎn)效率的降低。接下來(lái)，對(duì)照以往例對(duì)實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明。但是，本發(fā)明并不限定于實(shí)施例。實(shí)施例光波導(dǎo)路下包層、虛設(shè)下包層、上包層的形成材料成分A (固體環(huán)氧樹(shù)脂)含有芳香環(huán)骨架的環(huán)氧樹(shù)脂(三菱化學(xué)制，- C - 一卜 1002)。成分Β(固體環(huán)氧樹(shù)脂)含有脂環(huán)骨架的環(huán)氧樹(shù)脂(Daicel株式會(huì)社制，EHPE 3150)。成分C (光產(chǎn)酸劑)三芳基锍鹽的50%碳酸丙烯酯(Propylene carbonate)溶液 (SAN-APR0 株式會(huì)社制，CPI-200K)。將70質(zhì)量份的成分A、30質(zhì)量份的成分B和2質(zhì)量份的成分C攪拌溶解(溫度 80°C，攪拌250rpmX3小時(shí))在55質(zhì)量份的乳酸乙脂(武藏野化學(xué)研究所制)中，制備下包層及上包層的形成材料(感光性樹(shù)脂組成物)。用數(shù)字粘度計(jì)(Brookfield公司制， HBDV-I+CP)測(cè)量該感光性樹(shù)脂組成物的粘度，測(cè)得其粘度為1320mP a · S。芯的形成材料成分D :鄰甲酹酹醒清漆縮水甘油醚(0-Cresol novolac glycidyl ether)(新日鐵化學(xué)制，YD CN-700-10)。將100質(zhì)量份的該成分D和I質(zhì)量份的上述成分C攪拌溶解(溫度80°C，攪拌 250rpmX3小時(shí))在60質(zhì)量份的乳酸乙脂(武藏野化學(xué)研究所制)中，制備芯的形成材料 (感光性樹(shù)脂組成物)。用數(shù)字粘度計(jì)(Brookfield公司制，HBDV-I+CP)測(cè)量該感光性樹(shù)脂組成物的粘度，測(cè)得其粘度為1900mPa · S。實(shí)施例I光波導(dǎo)路下包層，虛設(shè)下包層的形成使用旋轉(zhuǎn)涂布裝置(mikasa株式會(huì)社制，1X-DX2),在玻璃制基板(Central Glass 株式會(huì)社制，140mmX 140mmX I. Imm(厚度))的表面上涂布上述下包層的形成材料后,進(jìn)行 130°C XlO分鐘的干燥處理，形成下包層形成用的感光性樹(shù)脂層。接下來(lái)，隔著光掩模使用曝光機(jī)(mikasa株式會(huì)社制，MA-60F)及超高壓水銀燈(USHI0電機(jī)株式會(huì)社制，USH-250D)， 對(duì)上述感光性樹(shù)脂層照射紫外線(波長(zhǎng)365nm)，進(jìn)行總光量2000mJ/cm2的曝光。接下來(lái)， 進(jìn)行130°C XlO分鐘的加熱處理。之后，在Y-丁內(nèi)酯(三菱化學(xué)社制)的顯影液中浸泡 3分鐘進(jìn)行顯影(浸泡顯影)，由此溶解除去未曝光部分后，進(jìn)行120°C X 10分鐘的加熱處理，形成直線狀的光波導(dǎo)路下包層及直線狀的虛設(shè)下包層，且該光波導(dǎo)路下包層與虛設(shè)下包層之間有300 μ m的間隙(參照?qǐng)DI的(d))。芯的形成接下來(lái)，使用上述旋轉(zhuǎn)涂布裝置，以覆蓋上述光波導(dǎo)路下包層及虛設(shè)下包層的方式涂布上述芯的形成材料后，進(jìn)行130°C X5分鐘的干燥處理，從而形成芯形成用的感光性樹(shù)脂層。接下來(lái)，隔著光掩模使用上述曝光機(jī)及上述超高壓水銀燈照射紫外線(波長(zhǎng) 365nm)，進(jìn)行照度4000mJ/cm2的曝光。接下來(lái)，進(jìn)行130°C X 15分鐘的加熱處理。之后，在 Y-丁內(nèi)酯(三菱化學(xué)社制)的顯影液中浸泡3分鐘進(jìn)行顯影(浸泡顯影)，在溶解除去未曝光部分后進(jìn)行120°C X 10分鐘的加熱處理，在上述光波導(dǎo)路下包層上及虛設(shè)下包層上形成直線狀的芯(參照?qǐng)D2的(C))。上包層的形成然后，使用上述旋轉(zhuǎn)涂布裝置，以覆蓋上述芯的方式涂布上述上包層的形成材料， 形成上包層形成用的感光性樹(shù)脂層。然后，進(jìn)行130°C X 10分鐘的加熱處理。接下來(lái)， 隔著光掩模使用上述曝光機(jī)及上述超高壓水銀燈并照射紫外線(波長(zhǎng)365nm)，進(jìn)行照度 2000mJ/cm2的曝光。接下來(lái)，進(jìn)行130°C XlO分鐘的加熱處理。之后，在Y-丁內(nèi)酯(三菱化學(xué)社制)的顯影液中浸泡3分鐘而進(jìn)行顯影(浸泡顯影)，在溶解除去未曝光部分后進(jìn)行120°C XlO分鐘的加熱處理，從而在與上述光波導(dǎo)路下包層相對(duì)應(yīng)的部分形成上包層 (參照?qǐng)D3的(C))。之后，從上述玻璃制基板剝離光波導(dǎo)路下包層，獲得由光波導(dǎo)路下包層、芯和上包層構(gòu)成的薄膜狀的連接器用光波導(dǎo)路(參照?qǐng)D4)。然后，在切割帶(日東電工株式會(huì)社制， UE-111AJ)上貼合該連接器用光波導(dǎo)路，使用切割鋸(Disco株式會(huì)社制，DAD522)及切割刀 (Disco株式會(huì)社制，NBC-Z2050，50. 6mmX O. 025mmX 40mm)，以0. 3mm/秒的切削速度將上述連接器用光波導(dǎo)路切割為長(zhǎng)度100_的光波導(dǎo)路，從而使直線狀的芯的長(zhǎng)度方向的兩端面暴露。實(shí)施例2
在上述實(shí)施例I中，光波導(dǎo)路下包層和虛設(shè)下包層之間的間隙為150 μ m。除此之外與上述實(shí)施例I相同，獲得長(zhǎng)度IOOmm的連接器用光波導(dǎo)路。以件例與上述實(shí)施例I相比較，以往例中的下包層形成用的感光性樹(shù)脂層未進(jìn)行圖案化，而是在整個(gè)面形成一層的感光性樹(shù)脂層。即，不形成虛設(shè)下包層。除此之外與上述實(shí)施例I相同，獲得長(zhǎng)度100_的連接器用光波導(dǎo)路?？偤穸鹊臏y(cè)暈使用顯微鏡(KEYENCE社制，VHX-200)測(cè)量上述實(shí)施例I、2及以往例的連接器用光波導(dǎo)路的光波導(dǎo)路下包層、芯及上包層的累加厚度(總厚度)(I通道 12通道 (channel))。另外，計(jì)算出該總厚度的最大值和最小值的差。將該結(jié)果表示在下述的表I 中。表I
權(quán)利要求
1.一種用于制造多個(gè)光波導(dǎo)路的光波導(dǎo)路的制造方法，其特征在于，包括形成虛設(shè)下包層的工序，在基板上劃分出多個(gè)與光波導(dǎo)路相對(duì)應(yīng)的區(qū)域，進(jìn)行下包層形成用的感光性樹(shù)脂的涂布及曝光，由此在每個(gè)上述區(qū)域中形成光波導(dǎo)路下包層，并且在相互鄰接的上述光波導(dǎo)路下包層與光波導(dǎo)路下包層之間形成虛設(shè)下包層，且使該虛設(shè)下包層與該光波導(dǎo)路下包層之間有間隙；形成芯的工序，在上述光波導(dǎo)路下包層及上述虛設(shè)下包層的上表面，進(jìn)行芯形成用的感光性樹(shù)脂的涂布及曝光而形成芯；形成感光性樹(shù)脂層的工序，以覆蓋上述芯的狀態(tài)涂布上包層形成用的感光性樹(shù)脂而形成該感光性樹(shù)脂層；形成多個(gè)光波導(dǎo)路的工序，通過(guò)有選擇地曝光上述感光性樹(shù)脂層的與上述多個(gè)光波導(dǎo)路相對(duì)應(yīng)的部分而使該曝光部分形成為上包層，從而在上述基板上形成多個(gè)由上述光波導(dǎo)路下包層、上述芯以及上述上包層構(gòu)成的光波導(dǎo)路；以及剝離工序，從上述基板有選擇地分別剝離上述多個(gè)光波導(dǎo)路。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光波導(dǎo)路的制造方法，其中，上述光波導(dǎo)路下包層與上述虛設(shè)下包層之間的間隙設(shè)定為300 μ m以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的光波導(dǎo)路的制造方法，其中，在上述虛設(shè)下包層的上表面上形成多個(gè)芯。
4.根據(jù)權(quán)利要求I至3中任一項(xiàng)所述的光波導(dǎo)路的制造方法，其中，上述光波導(dǎo)路下包層和上述虛設(shè)下包層在同一工序形成。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光波導(dǎo)路的制造方法。在基板(A)上劃分出多個(gè)與光波導(dǎo)路(W)相對(duì)應(yīng)的區(qū)域，在每個(gè)該區(qū)域中形成光波導(dǎo)路下包層(1)并且在相互鄰接的光波導(dǎo)路下包層(1)之間，以與該光波導(dǎo)路下包層(1)留出間隙的方式形成虛設(shè)下包層(D)。接下來(lái)，在光波導(dǎo)路下包層(1)及虛設(shè)下包層(D)的上表面上形成芯(2)后，整面涂布上包層形成用的感光性樹(shù)脂。然后，有選擇地曝光感光性樹(shù)脂層(3a)的與多個(gè)光波導(dǎo)路(W)相對(duì)應(yīng)的部分而使該曝光部分形成為上包層(3)，從而形成由光波導(dǎo)路下包層(1)、芯(2)及上包層(3)構(gòu)成的多個(gè)光波導(dǎo)路(W)，并從基板(A)剝離上述光波導(dǎo)路(W)。
文檔編號(hào)G02B6/13GK102590943SQ201110433890
公開(kāi)日2012年7月18日 申請(qǐng)日期2011年12月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月7日
發(fā)明者宗和范, 高瀨真由 申請(qǐng)人:日東電工株式會(huì)社