專利名稱：散射曝光系統(tǒng)的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及曝光技術，具體為一種散射曝光系統(tǒng)。
(二)技術背景IXD液晶顯示屏制造流程中的曝光工序，是在暗室中將菲林置于散射光與ITO玻璃之間，使ITO玻璃上的光刻膠根據(jù)菲林圖案曝光。暗室中的曝光條件有所要求，比如說散射光的范圍和暗室內(nèi)的通風條件等散射光的范圍決定菲林圖案的曝光程度，通風條件決定暗室內(nèi)溫度，溫度過高，會使菲林圖案尺寸發(fā)生變化。因此提高散射光范圍進而增加曝光強度和改善通風條件是曝光工序中制造合格 LCD液晶顯示屏半成品的重要條件。
(三)實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是提出一種提高曝光面積和降低溫度的散射曝光系統(tǒng)。能夠實現(xiàn)上述目的的散射曝光系統(tǒng)，包括使菲林架光刻平臺在其內(nèi)曝光的暗室， 暗室內(nèi)設置曝光機構和通風機構，所不同的是所述曝光機構設于菲林架光刻平臺上方，包括安裝在反光罩內(nèi)的曝光燈，所述反光罩的反光面上有密集的凹陷；所述通風機構包括將冷風通入暗室的送風管和將熱風導出暗室的排風管。所述反光面的波紋度(不平度)彡3mm/20mm,其密集程度為2 4個凹陷/平方厘米。所述反光罩安裝于可調(diào)節(jié)高度的機架上，通過改變反光罩的高度，增強或減少曝光強度。所述機架為安裝于暗室頂部的調(diào)節(jié)桿，反光罩連接于調(diào)節(jié)桿上。所述送風管連通送風機，所述排風管連通排風機。本實用新型的優(yōu)點在不增加曝光燈亮度和高度的情況下，本實用新型散射曝光系統(tǒng)通過改變反光罩的反光面形狀來提高曝光散射面，降低反光罩高度進而增大曝光強度，并配置送風機和排風機改善通風條件，降低暗室溫度，滿足曝光工序的工藝要求。


圖1為本實用新型一種實施方式的結構示意圖。圖2為圖1實施方式的側視圖。圖號標識1、菲林架光刻平臺；2、暗室；3、反光罩；4、調(diào)節(jié)桿；5、送風機；6、排風機；7、工作臺。
具體實施方式
本實用新型散射曝光系統(tǒng)包括暗室2，所述暗室2設于工作臺7上方，工作臺7上
3的菲林架光刻平臺1可通過軌道進出暗室2，如圖1、圖2所示。所述暗室2內(nèi)設有曝光機構和通風機構所述曝光機構設于菲林架光刻平臺1上方，包括反光罩3和反光罩3內(nèi)的曝光燈， 反光罩3通過兩側安裝于暗室2頂部的調(diào)節(jié)桿4垂吊，反光罩3的反光面上向內(nèi)有密集的凹陷，其不平度(波紋度)(3mm/20mm，密集程度為2 4個凹陷/平方厘米，如圖1所示。在原有曝光燈高度和功率不變的情況下，所述反光罩3的寬度可以增加(例如從原來的IOOmm 增加至120mm)，由于散射光面積的擴大，在菲林架光刻平臺1的曝光面積不變情況下，反光罩3的高度可以下降聚光，提高曝光強度(例如高度從原來的800mm下降至650mm)。所述通風機構包括將冷風從暗室2下部側面通入的送風管和將熱風從暗室2頂部排出的排風管，送風管連通設于工作臺7下方的送風機5，排風管連通設于暗室2上方的排風機。
權利要求1.散射曝光系統(tǒng)，包括使菲林架光刻平臺(1)在其內(nèi)曝光的暗室O)，暗箱O)內(nèi)設置曝光機構和通風機構，其特征在于所述曝光機構設于菲林架光刻平臺(1)上方，包括安裝在反光罩(3)內(nèi)的曝光燈，所述反光罩(3)的反光面上有密集的凹陷；所述通風機構包括將冷風通入暗室O)的送風管和將熱風導出暗室O)的排風管。
2.根據(jù)權利要求1所述的散射曝光系統(tǒng)，其特征在于所述反光面的波紋度3mm/20mm， 其密集程度為2 4個凹陷/平方厘米。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的散射曝光系統(tǒng)，其特征在于所述反光罩(3)安裝于可調(diào)節(jié)高度的機架上。
4.根據(jù)權利要求3所述的散射曝光系統(tǒng)，其特征在于所述機架(4)為安裝于暗室(2) 頂部的調(diào)節(jié)桿G)，反光罩(3)連接于調(diào)節(jié)桿(4)上。
5.根據(jù)權利要求1或2所述的散射曝光系統(tǒng)，其特征在于所述送風管連通送風機 (5)，所述排風管連通排風機(6)。
專利摘要本實用新型公開了一種散射曝光系統(tǒng)，包括使菲林架光刻平臺在其內(nèi)曝光的暗室，暗箱內(nèi)設置曝光機構和通風機構，所述曝光機構設于菲林架光刻平臺上方，包括安裝在反光罩內(nèi)的曝光燈，所述反光罩的反光面上有密集的凹陷；所述通風機構包括將冷風通入暗室的送風管和將熱風排出暗室的排風管。在不增加曝光燈亮度和高度的情況下，本實用新型散射曝光系統(tǒng)通過改變反光罩的反光面形狀來提高曝光散射面，降低反光罩高度進而增大曝光強度，并配置送風機和排風機改善通風條件，降低暗室溫度，滿足曝光工序的工藝要求。
文檔編號G03F7/20GK202049331SQ20112016375
公開日2011年11月23日 申請日期2011年5月20日 優(yōu)先權日2011年5月20日
發(fā)明者葉茂賢 申請人:廣西欽州天山微電子有限公司