專利名稱：光刻膠涂布機承載系統(tǒng)及具有該系統(tǒng)的光刻膠涂布機的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種光刻膠涂布機承載系統(tǒng)，更具體地說，涉及一種使用真空泵浦抽氣的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)及相應的光刻膠涂布機。
背景技術：
TFT-IXD (薄膜場效應晶體管-液晶顯示器)在生產(chǎn)過程中經(jīng)常會有光斑MURA (玻璃基板上光刻膠顏色不均勻的現(xiàn)象)的產(chǎn)生，CF(Color Filter 彩色濾光片)工藝中光刻膠涂布機為主要的生產(chǎn)機臺，光刻膠涂布機在工作的過程中由于使用真空泵浦抽氣容易在玻璃基板表面產(chǎn)生光斑，其中由于真空泵浦產(chǎn)生的氣泡造成的光斑最為嚴重。真空泵浦產(chǎn)生的氣泡造成光斑的原因為光刻膠內(nèi)含有顏料、溶劑以及粘接劑等， 玻璃基板經(jīng)過噴嘴涂布光刻膠后，呈現(xiàn)不穩(wěn)定的狀態(tài)。在真空泵浦抽氣的過程中，光刻膠涂布機內(nèi)的容納空間通過真空泵浦抽氣的動作形成負壓，玻璃基板上的光刻膠內(nèi)的溶劑會被形成的負壓氣流帶走，負壓形成瞬間的氣流強弱，往往是真空泵浦造成光斑的關鍵。如圖1所示，光刻膠涂布機包括泵100、抽氣閥190、支撐針120、承載托盤130、頂板140以及底板150，使用時，將頂板140打開，將帶涂布光刻膠的玻璃基板110放置在支撐針120上，然后再將頂板140和底板150閉合形成一個容納空間，當要抽氣時，將抽氣閥190 打開，泵100就會對容納空間進行抽氣操作?，F(xiàn)在一般采用墊高塊160來墊高玻璃基板110 以減小玻璃基板110和頂板140之間的距離，進而減小負壓氣流來減弱或消除光斑的產(chǎn)生。 但是使用墊高塊160具有以下幾個缺陷1、必須將光刻膠涂布機完全停止工作后才可進行墊高作業(yè)；2、操作人員必須進入光刻膠涂布機內(nèi)的容納空間內(nèi)進行墊高作業(yè)，這時會將操作人員身上的灰塵顆粒帶入到機臺內(nèi)部，導致產(chǎn)品良率受到影響；3、在墊高作業(yè)的過程中，操作人員可能會將支撐玻璃基板110的支撐針120移動出原來的位置，這樣在光刻膠涂于玻璃基板110上后，玻璃基板110被支撐針120支撐的位置的受力發(fā)生改變，玻璃基板110上的光刻膠受到泵100抽取時，玻璃基板110的變形導致玻璃基板110上光刻膠內(nèi)溶劑被負壓帶走的不均一，則易產(chǎn)生光斑；4、操作人員無法通過墊高塊準確設置玻璃基板110與頂板140之間的距離。故，有必要提供一種光刻膠涂布機承載系統(tǒng)及相應的光刻膠涂布機，以解決現(xiàn)有技術所存在的問題。

實用新型內(nèi)容本實用新型要解決的技術問題在于，針對現(xiàn)有技術的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)及相應的光刻膠涂布機易產(chǎn)生光斑且處理方法復雜、準確度低的缺陷，提供一種通過調(diào)整機構自動調(diào)整玻璃基板與頂板之間的距離以減弱或消除真空泵浦造成光斑的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)及相應的光刻膠涂布機，本光刻膠涂布機承載系統(tǒng)及相應的光刻膠涂布機操作簡單，調(diào)整精度高。[0011]本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是構造一種光刻膠涂布機承載系統(tǒng)，其中包括承載托盤以及用于自動調(diào)整所述承載托盤高度的調(diào)整機構，所述調(diào)整機構與所述承載托盤連接。在本實用新型所述的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)中，所述調(diào)整機構包括伺服電機、絲桿以及連接件，所述絲桿的一端與所述伺服電機連接，所述絲桿的另一端通過所述連接件與所述承載托盤連接。在本實用新型所述的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)中，所述光刻膠涂布機承載系統(tǒng)還包括用于控制所述伺服電機輸出的控制模塊，所述控制模塊與所述伺服電機連接。在本實用新型所述的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)中，所述伺服電機包括用于將所述伺服電機的輸出反饋給所述控制模塊的反饋單元，所述反饋單元與所述控制模塊連接。在本實用新型所述的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)中，所述伺服電機為有刷電機或無刷電機；所述伺服電機為交流電機或直流電機。本實用新型還涉及一種光刻膠涂布機，包括由頂板和底板組成的容納空間以及設置在所述容納空間內(nèi)的支撐針以及承載托盤，所述支撐針設置于所述承載托盤上，其中所述光刻膠涂布機還包括設置在所述容納空間內(nèi)用于自動調(diào)整所述承載托盤高度的調(diào)整機構；所述調(diào)整機構與所述承載托盤連接。在本實用新型所述的光刻膠涂布機中，所述調(diào)整機構包括伺服電機、絲桿以及連接件，所述絲桿的一端與所述伺服電機連接，所述絲桿的另一端通過所述連接件與所述承載托盤連接。在本實用新型所述的光刻膠涂布機中，所述光刻膠涂布機還包括用于控制所述伺服電機輸出的控制模塊，所述控制模塊與所述伺服電機連接。在本實用新型所述的光刻膠涂布機中，所述伺服電機包括用于將所述伺服電機的輸出反饋給所述控制模塊的反饋單元，所述反饋單元與所述控制模塊連接。在本實用新型所述的光刻膠涂布機中，所述伺服電機為有刷電機或無刷電機；所述伺服電機為交流電機或直流電機。實施本實用新型的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)及相應的光刻膠涂布機，具有以下有益效果通過調(diào)整機構自動調(diào)整玻璃基板和頂板之間的距離，且調(diào)整操作簡單，調(diào)整精度高； 避免了現(xiàn)有技術的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)及相應的光刻膠涂布機易產(chǎn)生光斑且處理方法復雜、準確度低的缺陷。

圖1是現(xiàn)有技術的光刻膠涂布機的機構示意圖；圖2是本實用新型的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)的優(yōu)選實施例的結構框圖；圖3是本實用新型的光刻膠涂布機的優(yōu)選實施例的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合圖示，對本實用新型的優(yōu)選實施例作詳細介紹。在圖2所示的本實用新型的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)的優(yōu)選實施例的結構框圖和圖3所示的本實用新型的光刻膠涂布機的優(yōu)選實施例的結構示意圖中，所述光刻膠涂布機承載系統(tǒng)包括承載托盤230以及調(diào)整機構270，調(diào)整機構270用于自動調(diào)整承載托盤230高度，調(diào)整機構270與承載托盤230連接。本實用新型的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)通過調(diào)整機構270實現(xiàn)了對承載托盤230高度的自動調(diào)整，使得可以方便的調(diào)整光刻膠涂布機的頂板240和待進行光刻膠涂布的玻璃基板210之間的距離。在使用泵200對光刻膠涂布機的內(nèi)部的容納空間進行抽氣時，可以通過調(diào)整機構270減小頂板240和玻璃基板210之間的距離，從而減小負壓氣流來減弱或消除由泵200抽氣造成的光斑的產(chǎn)生；在光刻膠涂布機進行涂布操作時，可以通過調(diào)整機構270增大頂板240和玻璃基板210之間的距離，方便光刻膠涂布操作的進行。由于頂板 240和玻璃基板210之間的距離由調(diào)整機構270進行自動調(diào)整，避免了操作人員進行人工墊高操作，從而不會出現(xiàn)灰塵顆粒的污染和支撐針220的移動造成的光斑的產(chǎn)生，同時調(diào)整機構270可以較人工操作更為準確的設置玻璃基板210和頂板240之間的距離。在圖3所示的本實用新型的光刻膠涂布機的優(yōu)選實施例的結構示意圖中，調(diào)整機構270包括伺服電機271、絲桿272以及連接件273，絲桿272的一端與伺服電機271連接， 絲桿272的另一端通過連接件273與承載托盤230連接。本實用新型的調(diào)整機構270通過伺服電機271來實現(xiàn)，絲桿272的一端與伺服電機271連接，絲桿272的另一端與連接件273連接，連接件273與承載托盤230固定連接， 伺服電機271將接收到的電信號轉換成電機軸上的角位移或角速度輸出，絲桿272通過等距螺紋將電機軸上的角位移或角速度轉換為連接件273在垂直方向的位移，從而實現(xiàn)了承載托盤230在垂直方向的位置的調(diào)整。伺服電機271主要靠脈沖來定位，伺服電機271接收到1個脈沖，就會旋轉1個脈沖對應的角度，從而實現(xiàn)位移，這樣伺服電機271能夠被精確的控制轉動的角度，從而實現(xiàn)承載托盤230的精確定位。當然也可使用其他可以對承載托盤230實現(xiàn)自動調(diào)整高度的裝置或設備作為調(diào)整機構270。在圖2所示的本實用新型的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)的優(yōu)選實施例的結構框圖中， 所述光刻膠涂布機承載系統(tǒng)還包括控制模塊觀0，控制模塊280用于控制伺服電機271的輸出，控制模塊280與伺服電機271連接，伺服電機271包括反饋單元2711，反饋單元2711 用于將伺服電機271的輸出反饋給控制模塊觀0，反饋單元2711與控制模塊280連接。伺服電機271的反饋單元2711具備發(fā)出脈沖的功能，伺服電機271每旋轉一個角度，反饋單元2711都會發(fā)出對應數(shù)量的脈沖，這樣，和控制模塊280發(fā)出的脈沖形成了呼應，控制模塊280發(fā)送了多少脈沖給伺服電機271，同時又從反饋單元2711接收了多少脈沖回來，這樣，根據(jù)接收和發(fā)送脈沖的數(shù)量就能夠很精確的控制伺服電機271的轉動，如接收的脈沖少于發(fā)送的脈沖，則在下次發(fā)送時增加相應的脈沖數(shù)量，如接收的脈沖多于發(fā)送的脈沖，則在下次發(fā)送時減少相應的脈沖數(shù)量，從而實現(xiàn)精確的定位。作為本實用新型的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)的優(yōu)選實施例，所述伺服電機271為有刷電機或無刷電機，所述伺服電機271為交流電機或直流電機。有刷電機成本低、結構簡單、啟動轉矩大、調(diào)速范圍寬、控制容易、需要維護，但維護不方便(換碳刷)、易產(chǎn)生電磁干擾、對環(huán)境有要求。因此它可以用于對成本敏感的普通工業(yè)和民用場合。無刷電機體積小、重量輕、出力大、響應快、速度高、慣量小、轉動平滑、力矩穩(wěn)定、容易實現(xiàn)智能化，其電子換相方式靈活，可以方波換相或正弦波換相，電機免維護、 效率高、運行溫度低、電磁輻射小、長壽命，可用于各種環(huán)境，但控制復雜同時成本較高。同時使用者可以根據(jù)具體的需要選擇使用交流電機或直流電機作為伺服電機271。本實用新型還涉及一種光刻膠涂布機，在圖2所示的本實用新型的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)的優(yōu)選實施例的結構框圖和圖3所示的本實用新型的光刻膠涂布機的優(yōu)選實施例的結構示意圖中，所述光刻膠涂布機包括由頂板240和底板250組成的容納空間以及設置在所述容納空間內(nèi)支撐針220以及承載托盤230，支撐針220設置在承載托盤230上， 光刻膠涂布機還包括設置在容納空間內(nèi)用于自動調(diào)整所述承載托盤230高度的調(diào)整機構 270 ；調(diào)整機構270與承載托盤230連接。如圖3所示，支撐針220以及承載托盤230從上到下依次設置在容納空間中，在承載托盤230的下面設置有與其連接的調(diào)整機構270。本實用新型的光刻膠涂布機通過調(diào)整機構270實現(xiàn)了對承載托盤230高度的自動調(diào)整，使得可以方便的調(diào)整光刻膠涂布機的頂板240和待進行光刻膠涂布的玻璃基板210之間的距離。本實用新型的光刻膠涂布機使用時，將頂板240打開后，把玻璃基板210放置在支撐針220上，然后將頂板240和底板250閉合形成一個容納空間。當要抽氣時，將抽氣閥290打開，泵200開始對光刻膠涂布機的內(nèi)部的容納空間進行抽氣時，可以通過調(diào)整機構270減小頂板240和玻璃基板210之間的距離， 從而減小負壓氣流來減弱或消除由泵200抽氣造成的光斑的產(chǎn)生；當光刻膠涂布機進行涂布操作時，可以通過調(diào)整機構270增大頂板240和玻璃基板210之間的距離，方便光刻膠涂布操作的進行。由于頂板240和玻璃基板210之間的距離由調(diào)整機構270進行自動調(diào)整， 避免了操作人員進行人工墊高操作，從而不會出現(xiàn)灰塵顆粒的污染和支撐針220的移動造成的光斑的產(chǎn)生，同時調(diào)整機構270可以較人工操作更為準確的設置玻璃基板210和頂板 240之間的距離。在圖3所示的本實用新型的光刻膠涂布機的優(yōu)選實施例的結構示意圖中，調(diào)整機構270包括伺服電機271、絲桿272以及連接件273，絲桿272的一端與伺服電機271連接， 絲桿272的另一端通過連接件273與承載托盤230連接。本實用新型的調(diào)整機構270通過伺服電機271來實現(xiàn)，絲桿272的一端與伺服電機271連接，絲桿272的另一端與連接件273連接，連接件273與承載托盤230固定連接， 伺服電機271將接收到的電信號轉換成電機軸上的角位移或角速度輸出，絲桿272通過等距螺紋將電機軸上的角位移或角速度轉換為連接件273在垂直方向的位移，從而實現(xiàn)了承載托盤230在垂直方向的位置的調(diào)整。伺服電機271主要靠脈沖來定位，伺服電機271接收到1個脈沖，就會旋轉1個脈沖對應的角度，從而實現(xiàn)位移，這樣伺服電機271能夠被精確的控制轉動的角度，從而實現(xiàn)承載托盤230的精確定位。當然也可使用其他可以對承載托盤230實現(xiàn)自動調(diào)整高度的裝置或設備作為調(diào)整機構270。作為本實用新型的光刻膠涂布機的優(yōu)選實施例，所述光刻膠涂布機承載系統(tǒng)還包括控制模塊觀0，控制模塊280用于控制伺服電機271的輸出，控制模塊280與伺服電機271 連接，伺服電機271包括反饋單元2711，反饋單元2711用于將伺服電機271的輸出反饋給控制模塊觀0，反饋單元2711與控制模塊280連接。伺服電機271的反饋單元2711具備發(fā)出脈沖的功能，伺服電機271每旋轉一個角度，反饋單元2711都會發(fā)出對應數(shù)量的脈沖，這樣，和控制模塊280發(fā)出的脈沖形成了呼應，控制模塊280發(fā)送了多少脈沖給伺服電機271，同時又從反饋單元2711接收了多少脈沖回來，這樣，根據(jù)接收和發(fā)送脈沖的數(shù)量就能夠很精確的控制伺服電機271的轉動，如接收的脈沖少于發(fā)送的脈沖，則在下次發(fā)送時增加相應的脈沖數(shù)量，如接收的脈沖多于發(fā)送的脈沖，則在下次發(fā)送時減少相應的脈沖數(shù)量，從而實現(xiàn)精確的定位。作為本實用新型的光刻膠涂布機的優(yōu)選實施例，所述伺服電機271為有刷電機或無刷電機，所述伺服電機271為交流電機或直流電機。有刷電機成本低、結構簡單、啟動轉矩大、調(diào)速范圍寬、控制容易、需要維護，但維護不方便(換碳刷)、易產(chǎn)生電磁干擾、對環(huán)境有要求。因此它可以用于對成本敏感的普通工業(yè)和民用場合。無刷電機體積小、重量輕、出力大、響應快、速度高、慣量小、轉動平滑、力矩穩(wěn)定、容易實現(xiàn)智能化，其電子換相方式靈活，可以方波換相或正弦波換相，電機免維護、 效率高、運行溫度低、電磁輻射小、長壽命，可用于各種環(huán)境，但控制復雜同時成本較高。同時使用者可以根據(jù)具體的需要選擇使用交流電機或直流電機作為伺服電機271。以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結構變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。
權利要求1.一種光刻膠涂布機承載系統(tǒng)，其特征在于，包括承載托盤以及用于自動調(diào)整所述承載托盤高度的調(diào)整機構，所述調(diào)整機構與所述承載托盤連接。
2.根據(jù)權利要求1所述的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)，其特征在于，所述調(diào)整機構包括伺服電機、絲桿以及連接件，所述絲桿的一端與所述伺服電機連接，所述絲桿的另一端通過所述連接件與所述承載托盤連接。
3.根據(jù)權利要求2所述的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)，其特征在于，所述光刻膠涂布機承載系統(tǒng)還包括用于控制所述伺服電機輸出的控制模塊，所述控制模塊與所述伺服電機連接。
4.根據(jù)權利要求3所述的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)，其特征在于，所述伺服電機包括用于將所述伺服電機的輸出反饋給所述控制模塊的反饋單元。
5.根據(jù)權利要求2所述的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)，其特征在于，所述伺服電機為有刷電機或無刷電機；所述伺服電機為交流電機或直流電機。
6.一種光刻膠涂布機，包括由頂板和底板組成的容納空間以及設置在所述容納空間內(nèi)的支撐針以及承載托盤，所述支撐針設置于所述承載托盤上，其特征在于，所述光刻膠涂布機還包括設置在所述容納空間內(nèi)用于自動調(diào)整所述承載托盤高度的調(diào)整機構；所述調(diào)整機構與所述承載托盤連接。
7.根據(jù)權利要求6所述的光刻膠涂布機，其特征在于，所述調(diào)整機構包括伺服電機、絲桿以及連接件，所述絲桿的一端與所述伺服電機連接，所述絲桿的另一端通過所述連接件與所述承載托盤連接。
8.根據(jù)權利要求7所述的光刻膠涂布機，其特征在于，所述光刻膠涂布機還包括用于控制所述伺服電機輸出的控制模塊，所述控制模塊與所述伺服電機連接。
9 根據(jù)權利要求8所述的光刻膠涂布機，其特征在于，所述伺服電機包括用于將所述伺服電機的輸出反饋給所述控制模塊的反饋單元，所述反饋單元與所述控制模塊連接。
10.根據(jù)權利要求7所述的光刻膠涂布機，其特征在于，所述伺服電機為有刷電機或無刷電機；所述伺服電機為交流電機或直流電機。
專利摘要本實用新型涉及一種光刻膠涂布機，包括由頂板和底板組成的容納空間以及設置在容納空間內(nèi)的支撐針以及承載托盤，支撐針與承載托盤連接，光刻膠涂布機還包括設置在所述容納空間內(nèi)用于自動調(diào)整承載托盤高度的調(diào)整機構；調(diào)整機構與承載托盤連接。本實用新型還涉及一種光刻膠涂布機承載系統(tǒng)。本實用新型的光刻膠涂布機承載系統(tǒng)及相應的光刻膠涂布機調(diào)整操作簡單，調(diào)整精度高。
文檔編號G03F7/16GK202257027SQ201120387170
公開日2012年5月30日 申請日期2011年10月12日 優(yōu)先權日2011年10月12日
發(fā)明者張志豪 申請人:深圳市華星光電技術有限公司