專利名稱：一種烘烤架及具有其的烘烤箱的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及加熱設(shè)備領(lǐng)域，具體而言，涉及一種烘烤架及具有其的烘烤箱。
背景技術(shù)：
勻膠鉻版是一種硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是當前及未來微細加工光掩膜制作的主流感光材料(相當于照相用的感光膠卷)。它是在平整的、高光潔度的玻璃基版上通過直流磁控濺射沉積上氮化鉻-氮氧化鉻薄膜而形成鉻膜基版，再在其上涂敷一層光致抗蝕劑(又稱光刻膠)或電子束抗蝕劑制成勻膠鉻版。即勻膠鉻版分為玻璃基版層、鍍氮化鉻-氮氧化鉻薄膜層、勻膠層。一個典型的勻膠過程(涂敷光刻膠的過程)包括滴膠、高速旋轉(zhuǎn)以及干燥(溶劑 揮發(fā))幾個步驟。干燥的過程目前主要有兩種方式，一種為熱板烘烤方式，另一種為烘箱烘烤方式。如圖I所示，現(xiàn)有技術(shù)在烘箱中烘烤時基板51采用直立擺放形式，在夾具42的接觸處因烘烤箱中的循環(huán)風沿箭頭D所示方向從后往前送風的時候易被夾具42擋住而容易導(dǎo)致基板51膠面均勻性變差，而且在送入烤架本體41的時候，烤架本體41與烘烤箱摩擦產(chǎn)生顆粒，顆粒因自重，易往下落，粘附在基版的膠面上，烘干后難以去除。

實用新型內(nèi)容本實用新型旨在提供一種烘烤架及具有其的烘烤箱，以解決現(xiàn)有技術(shù)中基板膠面均勻性差和顆粒粘附在基板的膠面的技術(shù)問題。為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供了一種烘烤架，用于烘干涂覆于基板表面的膠面時支撐所述基板，包括烤架本體，烤架本體包括相對設(shè)置的上表面和下表面；定位塊，多個定位塊設(shè)置于烤架本體的上表面，每個定位塊包括支撐面，支撐面用于與上表面具有間隔地支撐所述基板。進一步地，每個定位塊還包括定位面，多個定位塊的各定位面對基板相對于烤架本體的橫向位置進行定位。進一步地，定位面垂直于烤架本體的上表面。進一步地，定位面包括兩個相互垂直的定位平面。進一步地，烘烤架還包括滾動裝置。進一步地，滾動裝置包括底部滾動裝置，設(shè)置于烤架本體的下表面；側(cè)邊滾動裝置，設(shè)置于烤架本體的側(cè)表面。進一步地，每個定位塊的支撐面與基板點接觸。進一步地，支撐面包括向烤架本體的中心并向靠近上表面的方向傾斜的傾斜面。本發(fā)明還提供一種烘烤箱，通過送風方式烘干涂覆于基板表面的膠面，包括支撐基板的上述烘烤架。進一步地，烘烤架沿送風方向水平放置。[0016]進一步地，基板為大尺寸勻膠鉻版。應(yīng)用本實用新型的技術(shù)方案，通過設(shè)置位于烤架本體上表面的定位塊，使基板在定位塊支撐面的支撐下與烤架本體上表面之間形成一定的距離；利用定位塊支撐的方法，減少了夾具對基板烘干效果的影響，可有效的改善膠面的均勻性。進一步地，在每個定位塊上設(shè)置定位面，對基板相對于烤架本體的橫向位置進行定位。進一步地，設(shè)置滾動裝置，在烘烤架本體放入烘烤箱的時候，可有效減小烘烤架本體下表面和側(cè)表面與烘烤箱箱壁的摩擦，減少或避免箱壁顆粒吸附在基板上。進一步地，在定位塊上設(shè)置傾斜面，當基板放置定位塊上時，各定位塊與基板均為點接觸，減小定位塊對膠面的影響。

構(gòu)成本申請的一部分的說明書附圖用來提供對本實用新型的進一步理解，本實用新型的示意性實施例及其說明用于解釋本實用新型，并不構(gòu)成對本實用新型的不當限定。在附圖中圖I為現(xiàn)有技術(shù)中的烤箱烘烤方法的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為根據(jù)本實用新型實施例的烘烤架的整體結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為根據(jù)本實用新型實施例的烘烤架的主視結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為根據(jù)本實用新型實施例的烘烤架的定位塊結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實施例來詳細說明本實用新型。如圖2所示，本實用新型實施例中的烘烤架包括烤架本體I、定位塊2以及滾動裝置3?？炯鼙倔wI包括相對設(shè)置的上表面和下表面；四個定位塊2設(shè)置于烤架本體I的上表面，每個定位塊2上都設(shè)置有支撐面，用于與上表面有間隔地支撐勻膠鉻版。滾動裝置3包括設(shè)置于烤架本體I下表面的底部滾動裝置和設(shè)置于烤架本體I側(cè)表面的側(cè)邊滾動裝置。如圖3所示，根據(jù)本實用新型實施例中的烘烤架，底部滾輪31為底部滾動裝置，側(cè)邊滾輪32為側(cè)邊滾動裝置。上述滾動裝置3用于減少烤架本體I與烘烤箱箱壁之間的摩擦，從而減少顆粒的產(chǎn)生。進一步地，上述勻膠鉻版的膠面面向烤架本體I上表面向下設(shè)置。如圖4所示，每個定位塊2還包括定位面，上述定位面為垂直于烤架本體I上表面的兩個相互垂直的定位平面。四個上述定位塊的各定位面對上述勻膠鉻版相對于烤架本體I的橫向位置進行定位。進一步地，上述支撐面設(shè)置有向烤架本體I的中心并向靠近上表面方向傾斜的傾斜面21，傾斜面21與勻膠鉻版為點接觸。本實用新型還提供了一種通過送風方式烘干涂覆于勻膠鉻版表面的膠面的烘烤箱，包括支撐上述勻膠鉻版的上述烘烤架。進一步地，上述烘烤架沿送風方向水平放置。[0034]從以上的描述中，可以看出，本實用新型上述的實施例實現(xiàn)了如下技術(shù)效果通過設(shè)置位于烤架本體上表面的定位塊，使勻膠鉻版在定位塊支撐面的支撐下與烤架本體上表面之間形成一定的距離；利用定位塊支撐的方法，減少了夾具對勻膠鉻版烘干效果的影響，可有效的改善膠面的均勻性。進一步地，在每個定位塊上設(shè)置定位面，對勻膠鉻版相對于烤架本體的橫向位置進行定位。進一步地，設(shè)置滾動裝置，在烘烤架本體放入烘烤箱的時候，可有效減小烘烤架本體下表面和側(cè)表面與烘烤箱箱壁的摩擦，減少或避免箱壁顆粒吸附在勻膠鉻版上。進一步地，勻膠鉻版的膠面面向烤架本體上表面向下設(shè)置，也可減少或避免箱壁顆粒吸附于勻膠鉻版膠面上。進一步地，在定位塊上設(shè)置傾斜面，當勻膠鉻版放置定位塊上時，各定位塊與勻膠鉻版均為點接觸，減小定位塊對膠面的影響。以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本實用新型，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種烘烤架，用于烘干涂覆于基板表面的膠面時支撐所述基板，其特征在于，包括 烤架本體(I)，所述烤架本體(I)包括相對設(shè)置的上表面和下表面； 定位塊(2)，多個所述定位塊(2)設(shè)置于所述烤架本體(I)的所述上表面，每個所述定位塊(2)包括支撐面，所述支撐面用于與所述上表面具有間隔地支撐所述基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的烘烤架，其特征在于，每個所述定位塊(2)還包括定位面，多個所述定位塊(2)的各所述定位面對所述基板相對于所述烤架本體(I)的橫向位置進行定位。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的烘烤架，其特征在于，所述定位面垂直于所述烤架本體(I)的上表面。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的烘烤架，其特征在于，所述定位面包括兩個相互垂直的定位平面。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的烘烤架，其特征在于，所述烘烤架還包括滾動裝置(3)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的烘烤架，其特征在于，所述滾動裝置(3)包括 底部滾動裝置(31)，設(shè)置于所述烤架本體(I)的下表面； 側(cè)邊滾動裝置(32)，設(shè)置于所述烤架本體(I)的側(cè)表面。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的烘烤架，其特征在于，每個所述定位塊(2)的所述支撐面與所述基板點接觸。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的烘烤架，其特征在于，所述支撐面包括向所述烤架本體(I)的中心并向靠近所述上表面的方向傾斜的傾斜面(21)。
9.一種烘烤箱，通過送風方式烘干涂覆于基板表面的膠面，包括支撐所述基板的烘烤架，其特征在于，所述烘烤架為根據(jù)權(quán)利要求I至8中任一項所述的烘烤架。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的烘烤箱，其特征在于，所述烘烤架沿送風方向水平放置。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的烘烤箱，其特征在于，所述基板為大尺寸勻膠鉻版。
專利摘要本實用新型提供了一種烘烤架及具有其的烘烤箱，該烘烤架用于烘干涂覆于基板表面的膠面時支撐基板，包括烤架本體，烤架本體包括相對設(shè)置的上表面和下表面；定位塊，多個定位塊設(shè)置于烤架本體的上表面，每個定位塊包括支撐面，支撐面用于與上表面具有間隔地支撐基板。通過設(shè)置位于烤架本體上表面的定位塊，使基板在定位塊支撐面的支撐下與烤架本體上表面之間形成一定的距離；利用定位塊支撐的方法，減少了夾具對基板烘干效果的影響，可有效的改善膠面的均勻性。
文檔編號G03F7/40GK202758167SQ20122038433
公開日2013年2月27日 申請日期2012年8月3日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月3日
發(fā)明者李偉, 鄧輝 申請人:湖南電子信息產(chǎn)業(yè)集團有限公司, 湖南普照信息材料有限公司