顯影劑容器、顯影裝置、清潔裝置、處理盒和成像裝置制造方法
【專利摘要】提供了一種收容顯影劑的顯影劑容器，所述顯影劑容器包括：具有凹部的第一框架；以及具有第一凸部的第二框架，其中第一框架和第二框架通過第一熔接部和第二熔接部結(jié)合，在第一熔接部中凹部和第一凸部被焊接在一起，在第二熔接部中第二凸部和平面部被焊接在一起，凹部具有在凹部?jī)?nèi)執(zhí)行第一框架和第二框架定位的定位內(nèi)側(cè)面。還提供了一種用于制造顯影劑容器的方法，一種具有顯影劑容器的顯影裝置，一種清潔裝置，一種處理盒，以及一種成像裝置。
【專利說(shuō)明】顯影劑容器、顯影裝置、清潔裝置、處理盒和成像裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種收容顯影劑的顯影劑容器，一種具有所述顯影劑容器的顯影裝 置，以及一種去除殘留在圖像承載部件上的顯影劑的清潔裝置。本發(fā)明還涉及一種具有所 述顯影裝置或清潔裝置的處理盒，以及一種具有處理盒的成像裝置（電子照相成像裝置）。
[0002] 目前，電子照相成像裝置利用電子照相成像處理在記錄介質(zhì)上成像。例如，電子 照相成像裝置可以是復(fù)印機(jī)、打印機(jī)（LED打印機(jī)，激光束打印機(jī)等）、傳真設(shè)備或文字處理 機(jī)。
[0003] 另外，處理盒是這樣一種盒，其中用作處理設(shè)備的充電設(shè)備、顯影設(shè)備和清潔設(shè)備 中的至少一種以及圖像承載部件被集成到盒中。處理盒能夠以可從成像裝置拆除的方式使 用。
[0004] 另外，顯影裝置至少具有集成到盒中的顯影設(shè)備，并且該盒能夠以相對(duì)于成像裝 置主體可拆除的方式使用。
[0005] 另外，清潔裝置可以被集成到盒中用作清潔設(shè)備，并且能夠以相對(duì)于成像裝置主 體可拆除的方式使用。

【背景技術(shù)】
[0006] 此前已經(jīng)在使用所謂的處理盒方法，其中，在電子照相成像裝置中，用于成像的處 理設(shè)備被制成可拆除地安裝至成像裝置主體的盒的形式。根據(jù)這種處理盒方法，電子照相 成像裝置的維護(hù)可以由用戶執(zhí)行而無(wú)需依賴于維護(hù)工人。因此，維護(hù)操作能夠得到明顯改 進(jìn)。
[0007] 收容顯影劑的顯影劑容器可以被用作這樣的處理盒。顯影劑盒可以通過將顯影劑 框架的接觸部和顯影劑容器蓋的接觸部彼此抵接并通過超聲波焊接結(jié)合而形成（日本專 利公開特許公報(bào)JP2002-40781)。這種超聲波焊接除了被用于處理盒以外還被用作將框架 熔接在一起的方法（日本專利公開特許公報(bào)JP2005-91809)。
[0008] 但是，根據(jù)上述構(gòu)造（日本專利公開特許公報(bào)JP2002-40781)，必須針對(duì)每一個(gè)框 架確定定位部和熔接部，并且定位部還要設(shè)置在熔接部的外側(cè)上。因此，包括定位部的顯影 劑容器的尺寸增大。而且，因?yàn)橛糜诿恳粋€(gè)框架的定位部都處于嵌合關(guān)系中，所以框架之間 的位置能夠偏離與嵌合部件中的游隙相等的量。因此，結(jié)合之后的顯影劑容器可能會(huì)變大。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 因此，根據(jù)本發(fā)明，一種收容顯影劑的顯影劑容器包括：具有凹熔接部的第一框 架；以及具有第一凸部的第二框架，其中第一框架和第二框架通過第一熔接部和第二熔接 部結(jié)合，在第一熔接部中所述凹部和第一凸部被焊接在一起，在第二熔接部中第二凸部和 平坦部被焊接在一起，所述凹部具有執(zhí)行第一框架和第二框架在凹部中的定位的定位內(nèi)側(cè) 面。
[0010] 還提供了顯影劑容器的制造方法、具有所述顯影劑容器的顯影裝置、清潔裝置、處 理盒或成像裝置。
[0011] 本發(fā)明的更多特征將根據(jù)以下參照附圖對(duì)示范性實(shí)施例的說(shuō)明變得顯而易見。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0012] 圖1是示出調(diào)色劑容器蓋和顯影劑框架的結(jié)合構(gòu)造的透視圖。
[0013] 圖2是示出根據(jù)成像裝置實(shí)施例的整體構(gòu)造的整體構(gòu)造圖。
[0014] 圖3A至圖3C是處理盒的截面構(gòu)造圖。
[0015] 圖4是處理盒的分解透視圖。
[0016] 圖5是沿圖1中的V-V線截取以示出第一熔接部的構(gòu)造的截面圖。
[0017] 圖6是沿圖1中的VI-VI線截取以示出第一邊緣部熔接部的構(gòu)造的截面圖。
[0018] 圖7是沿圖1中的VII-VII線截取以示出第二熔接部的構(gòu)造的截面圖。
[0019] 圖8是示出密封部件的構(gòu)造的正視圖。
[0020] 圖9是示出用于熔接調(diào)色劑容器蓋和顯影劑框架的方法的透視圖。
[0021] 圖10是示出用于熔接調(diào)色劑容器蓋和顯影劑框架的方法的透視圖。
[0022] 圖11A和圖11B是示出用于熔接第一熔接部的方法的截面圖。
[0023] 圖12A和圖12B是示出用于熔接第一邊緣部熔接部的方法的截面圖。
[0024] 圖13A和圖13B是示出用于熔接第二熔接部的方法的截面圖。
[0025] 圖14A和圖14B是示出用于熔接密封部件和在第一熔接部和第二熔接部之間的重 疊部的方法的截面圖。
[0026] 圖15A和圖15B是示出用于熔接密封部件和在第一熔接部和第二熔接部之間的重 疊部的方法的截面圖。
[0027] 圖16A和圖16B是示出第一熔接部和第二熔接部之間的密封部件的構(gòu)造的示意 圖。
[0028] 圖17是示出用于防止顯影劑容器中的調(diào)色劑溢出的構(gòu)造的示意圖。
[0029] 圖18A至圖18C是示出第一熔接部的一種變型的截面圖。
[0030] 圖19A至圖19C是示出第一熔接部的一種變型的截面圖。
[0031] 圖20A至圖20C是示出第一熔接部的一種變型的截面圖。
[0032] 圖21A和圖21B是示出用于相對(duì)于裝置主體附連和拆除處理盒的方法的透視圖。
[0033] 圖22A和圖22B是示出處理盒相對(duì)于裝置主體的附連和拆除路徑的說(shuō)明圖。
[0034] 圖23A至圖23C是裝置主體的截面圖。
[0035] 圖24是示出調(diào)色劑容器蓋和顯影劑框架的結(jié)合構(gòu)造的透視圖。
[0036] 圖25是示出用于熔接調(diào)色劑容器蓋和顯影劑框架的方法的透視圖。
[0037] 圖26是示出調(diào)色劑容器蓋和顯影劑框架的結(jié)合構(gòu)造的透視圖。
[0038] 圖27是示出顯影劑容器、感光鼓以及從曝光設(shè)備發(fā)出的激光束之間的關(guān)系的透 視圖。
[0039] 圖28是示出調(diào)色劑容器蓋和顯影劑框架的結(jié)合構(gòu)造的透視圖。
[0040] 圖29是示出第一熔接部和第二熔接部之間的連接部的透視圖。
[0041] 圖30是示出第一熔接部和第二熔接部之間的連接部的展開圖。
[0042] 圖31是示出調(diào)色劑容器蓋和顯影劑框架的結(jié)合構(gòu)造的透視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0043] 以下將參照附圖和示例介紹本發(fā)明的實(shí)施例。要注意的是，除非描述了特定確認(rèn)， 否則由這些實(shí)施例中介紹的結(jié)構(gòu)部件的功能、性質(zhì)和形狀及其各個(gè)部件的相對(duì)配置構(gòu)成的 本發(fā)明的保護(hù)范圍不應(yīng)局限于給出的說(shuō)明。而且，除非再次特別說(shuō)明，否則在以下的說(shuō)明中 曾經(jīng)介紹過的部件的材料、形狀等均應(yīng)被視為類似于第一次說(shuō)明。
[0044] 第一實(shí)施例
[0045] 首先將參照附圖介紹成像裝置、顯影裝置和處理盒。
[0046] 在以下的說(shuō)明中，處理盒的長(zhǎng)度方向（或長(zhǎng)度方向N)與作為圖像承載部件的電子 照相感光鼓的旋轉(zhuǎn)軸線方向一致。而且，處理盒的寬度方向（或?qū)挾确较騇)是與電子照相 感光部件的旋轉(zhuǎn)軸線交叉的方向。
[0047] 另外，提及處理盒時(shí)向上的方向是指在處理盒已經(jīng)安裝到裝置主體中時(shí)向上的方 向，而向下的方向是指在處于相同狀態(tài)時(shí)向下的方向。
[0048] 成像裝置的整體構(gòu)造
[0049] 將參照?qǐng)D2介紹作為本實(shí)施例的一種示范性實(shí)施方案的成像裝置的整體構(gòu)造。圖 2示出的成像裝置1根據(jù)來(lái)自外部設(shè)備例如可通信地連接至裝置主體la的計(jì)算機(jī)的圖像信 息利用電子照相成像處理通過顯影劑在記錄介質(zhì)P上成像。記錄介質(zhì)P例如可以是記錄片 材、0ΗΡ片材或織物。
[0050] 用作圖像承載部件的電子照相感光鼓（以下稱作"感光鼓"）2沿箭頭A的方向旋 轉(zhuǎn)，由此通過作為充電設(shè)備的充電棍3給感光鼓2的表面均勻地充電。根據(jù)來(lái)自光學(xué)設(shè)備 (曝光設(shè)備）4的圖像信息的激光束L照射在感光鼓2上以在感光鼓2上根據(jù)圖像信息形成 靜電潛像。感光鼓2上的已經(jīng)在此形成的靜電潛像由隨后介紹的作為顯影劑承載部件的顯 影輥22通過作為顯影劑的調(diào)色劑t顯影，由此形成調(diào)色劑圖像（顯影的圖像）。
[0051] 根據(jù)圖2示出的成像裝置使用了具有感光鼓、充電輥、顯影設(shè)備和清潔設(shè)備的處 理盒5。
[0052] -旦處理盒5如圖2所示被恰當(dāng)?shù)匕惭b在裝置主體la中，裝置主體la的觸點(diǎn)（未 示出）和處理盒5的連接點(diǎn)（未示出）即被電連接。因此，預(yù)定的充電偏壓和顯影偏壓能 夠從設(shè)置于裝置主體la的電壓施加設(shè)備（未示出）分別施加至充電輥3和顯影輥22。
[0053] 另外，裝置主體la和處理盒5的驅(qū)動(dòng)傳輸單元（未示出）相連。由裝置主體la 提供的來(lái)自驅(qū)動(dòng)設(shè)備（未示出）例如驅(qū)動(dòng)馬達(dá)等的驅(qū)動(dòng)力可以傳遞至處理盒5。
[0054] 根據(jù)本實(shí)施例，由裝置主體la提供的驅(qū)動(dòng)設(shè)備的驅(qū)動(dòng)被傳遞至感光鼓2,并且驅(qū) 動(dòng)力在此通過驅(qū)動(dòng)傳輸單元例如齒輪系被傳遞至作為顯影劑承載部件的顯影輥22和攪拌 設(shè)備26等。要注意的是，獨(dú)立驅(qū)動(dòng)每一個(gè)元件例如攪拌設(shè)備26等的驅(qū)動(dòng)設(shè)備譬如可以經(jīng) 由設(shè)置在裝置主體側(cè)和處理盒側(cè)的驅(qū)動(dòng)傳輸單元獨(dú)立于裝置主體la設(shè)置。
[0055] 另一方面，放置在進(jìn)給盒6中的記錄介質(zhì)P與調(diào)色劑圖像（顯影圖像）的形成同 步地由拾取輥7和對(duì)拾取輥形成壓接的壓接部件9每次一張片材地分離和進(jìn)給。記錄介質(zhì) P沿傳送引導(dǎo)件8被輸送至用作轉(zhuǎn)印設(shè)備的轉(zhuǎn)印輥10。接下來(lái)，記錄介質(zhì)P經(jīng)過由感光鼓2 和已被施加固定電壓的轉(zhuǎn)印輥10形成的轉(zhuǎn)印夾持部。感光鼓2上形成的調(diào)色劑圖像（顯 影圖像）在此時(shí)被轉(zhuǎn)印至記錄介質(zhì)P。已接受調(diào)色劑圖像（顯影圖像）轉(zhuǎn)印的記錄介質(zhì)P 由傳送引導(dǎo)件11輸送至定影設(shè)備12。該定影設(shè)備12具有驅(qū)動(dòng)輥12a和容納加熱器12b的 定影輥12c。向穿過由定影輥12c和驅(qū)動(dòng)輥12a形成的夾持部的記錄介質(zhì)P加熱和加壓，由 此將轉(zhuǎn)印的調(diào)色劑圖像（顯影圖像）定影于此。隨后，記錄介質(zhì)P由排出輥對(duì)13輸送并被 排出至排出托盤14。
[0056] 處理盒
[0057] 接下來(lái)將參照?qǐng)D3和圖4介紹根據(jù)本示范性實(shí)施例的相對(duì)于裝置主體la可拆除 的處理盒5。
[0058] 如圖3A所示，處理盒5具有感光單元（清潔裝置）30,這是具有感光鼓2、充電輥3 以及作為清潔設(shè)備的清潔刮板的第一單元。此外，處理盒5具有顯影單元（顯影裝置）20， 這是具有作為承載顯影劑的顯影劑承載部件的顯影輥22的第二單元。處理盒因此被構(gòu)造 為包括兩個(gè)獨(dú)立單元。如圖4所示，感光鼓2通過鼓軸承37和定位銷38可旋轉(zhuǎn)地附連至 感光單元（清潔裝置）30的清潔框架21。驅(qū)動(dòng)馬達(dá)（未示出）的驅(qū)動(dòng)力被傳遞至感光單元 30,感光鼓2由此被驅(qū)動(dòng)從而根據(jù)成像操作沿箭頭A的方向旋轉(zhuǎn)。充電輥3和清潔刮板31 被配置在感光鼓2的外周上。
[0059] 如圖3A所示，清潔刮板31由與刮板支撐部31a -體或與之附連的清潔部件31b 制成。該清潔部件31b抵靠感光鼓2以刮掉感光鼓2的表面上殘留的調(diào)色劑，由此從鼓表 面上去除調(diào)色劑。殘留的調(diào)色劑被收容在廢調(diào)色劑收容部32a中。
[0060] 此外，位于感光鼓2和構(gòu)成廢調(diào)色劑收容部32a的清潔框架32之間的上開口 32b 設(shè)有在感光鼓2和上開口 32b之間進(jìn)行密封的防溢出片39,由此防止調(diào)色劑沿感光鼓2的 向上的方向泄漏。
[0061] 充電輥軸承33以穿過充電輥3的中心和感光鼓2的中心沿著箭頭C的方向可移 動(dòng)的方向被附連至清潔框架32。充電輥3的軸3 j被可旋轉(zhuǎn)地附連至充電輥軸承33。軸承 33處于被充電棍加壓部件34壓向感光鼓2的狀態(tài)。
[0062] 根據(jù)本實(shí)施例，顯影單元20具有收容由磁性樹脂調(diào)色劑顆粒構(gòu)成的磁性單成分 顯影劑（調(diào)色劑）（用作顯影劑）的顯影劑容器21。不言自明的是，也可以使用雙成分顯影 劑或非磁性顯影劑或在磁性樹脂調(diào)色劑顆粒中包括外部添劑的顯影劑。
[0063] 顯影單元和清潔裝置各自能以相對(duì)于裝置主體可拆除的方式使用。此外，也可以 存在其中將顯影單元和清潔裝置以構(gòu)建到裝置主體中的形式使用而不是可拆除地使用的 情況。
[0064] 顯影劑容器21由例如通過超聲波焊接或其他熔接形式固定在一起的作為收容調(diào) 色劑t的第一框架的顯影劑框架24和作為第二框架的顯影劑容器蓋（以下稱為"調(diào)色劑容 器蓋")29組成。此外，顯影劑框架24支撐攪拌設(shè)備26并形成在內(nèi)部收容調(diào)色劑的顯影劑 收容部21a。顯影劑容器21被分隔部21b分隔為顯影劑收容部21a和顯影室21c，并且顯 影劑收容部21a和顯影室21c經(jīng)由分隔部21b中的供給開口 21d (以下稱為"調(diào)色劑供給開 口"）連通。
[0065] 提供該顯影劑容器的顯影單元（顯影裝置）20具有作為顯影設(shè)備的顯影輥22以 向感光鼓22上形成的靜電潛像供給調(diào)色劑并由此形成可見圖像。另外，作為顯影劑層厚度 管控設(shè)備用于向調(diào)色劑施加摩擦帶電電荷并在顯影輥22的表面上形成調(diào)色劑層的顯影刮 板23也與其他部件一起被設(shè)置于顯影單元。
[0066] 另外，與顯影劑框架24相結(jié)合形成位于形成顯影室21c的調(diào)色劑容器蓋29和顯 影輥22之間的下部開口 21j。而且下部開口 21j設(shè)有防溢出片25以防止顯影輥22和下部 開口 21 j之間的調(diào)色劑泄漏。
[0067] 顯影劑收容部21a中的調(diào)色劑通過攪拌設(shè)備26的旋轉(zhuǎn)從調(diào)色劑供給開口 21d輸 送至顯影室21c -側(cè)，然后送出至具有內(nèi)置固定磁體27并沿箭頭B的方向旋轉(zhuǎn)的顯影輥 22。顯影劑厚度管控部件23b被設(shè)置為與顯影刮板23的刮板支撐部23a -體或與之附連。 通過顯影輥22和顯影劑厚度管控部件23b向刮板支撐部23a施加摩擦帶電電荷，同時(shí)在顯 影輥22的表面上形成其厚度受管控的調(diào)色劑層。
[0068] 如圖4所示，顯影輥22由顯影劑容器21經(jīng)由顯影軸承28a和顯影軸承28b可旋 轉(zhuǎn)地支撐，顯影軸承28a和顯影軸承28b沿顯影劑容器21的長(zhǎng)度方向各自附連至一側(cè)。顯 影輥22相對(duì)于感光鼓2保持固定間隙，并且因此作為被可旋轉(zhuǎn)地支撐的間隙保持部件的間 隔器棍40a和40b被配置在顯影棍22的兩端。
[0069] 另外，在顯影軸承28a和28b中設(shè)有孔28al和28bl。顯影單元20通過用作結(jié)合 部件并分別裝配到孔28al和28bl中以作為其中心的結(jié)合軸35a和35b被可轉(zhuǎn)動(dòng)地結(jié)合至 沿感光單元30的長(zhǎng)度方向設(shè)置在兩端的孔30a和30b。
[0070] 將顯影單元20壓向感光鼓2的加壓彈簧36a和36b的端部36al和36bl分別在 沿顯影單元20長(zhǎng)度方向的兩端被附連至支撐單元20a和20b。加壓彈簧36a和36b被配置 在結(jié)合軸35a和35b相對(duì)于感光鼓2的相反側(cè)，結(jié)合軸35a和35b是顯影單兀20相對(duì)于感 光單元30的旋轉(zhuǎn)中心。
[0071] 在顯影單元20和感光單元30通過結(jié)合軸35a和35b結(jié)合的情況下，加壓彈簧36a 和36b的另一端部36a2和36b2接觸感光單元的接收面30c和30d(參見圖3A)。
[0072] 如圖3A所示，加壓彈簧36a和36b被壓縮在感光單元30的接收面30c和30d與 支撐單元20a和20b之間。因此，顯影單元20被圍繞結(jié)合軸35a和35b的動(dòng)量D壓向感光 鼓2。顯影輥22的表面上形成的調(diào)色劑層隨后被供給至感光鼓2的顯影區(qū)域。根據(jù)感光鼓 2上形成的靜電潛像通過轉(zhuǎn)移至感光鼓2的調(diào)色劑形成調(diào)色劑圖像。
[0073] 圖3B和圖3C示出了另一些實(shí)施例的示例。
[0074] 圖3B示出的顯影劑容器具有不阻止激光束穿過第一凸調(diào)色劑儲(chǔ)存部21kl和第二 凸調(diào)色劑儲(chǔ)存部21k2同時(shí)確保有空間能夠讓來(lái)自曝光設(shè)備的激光束從中穿過的構(gòu)造。因 此收容的調(diào)色劑t的量能夠有所增加。
[0075] 圖3C示出的顯影劑容器621由通過超聲波焊接固定的顯影劑框架624和調(diào)色劑 容器蓋629組成，顯影劑框架624是形成顯影劑儲(chǔ)存部62la、支撐攪拌設(shè)備626且在其中收 容調(diào)色劑t的第一框架，調(diào)色劑容器蓋29是第二框架。如圖3C所示，靠近感光鼓的熔接部 是第二熔接部71，并且遠(yuǎn)離感光鼓的熔接部是第一熔接部70,第一熔接部70和第二熔接部 71被結(jié)合在一起。
[0076] 顯影劑收容容器和熔接部的構(gòu)造
[0077] 顯影劑容器21由作為收容調(diào)色劑t的第一框架的顯影劑框架24和作為第二框架 的調(diào)色劑容器蓋29組成，它們通過超聲波焊接結(jié)合（固定）。將參照?qǐng)D1介紹通過焊接固 定的結(jié)合構(gòu)造。
[0078] 圖1是示出調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24的結(jié)合構(gòu)造的透視圖。在此情況下， 顯影劑容器21通過使調(diào)色劑容器蓋29的角部29g、29h、29i和29j與顯影劑框架24的角 部24g、24h、24i和24j相匹配來(lái)構(gòu)造。
[0079] 如圖1所示，凹熔接部50沿調(diào)色劑容器蓋29的寬度方向Μ被設(shè)置用于一個(gè)端側(cè) Ml (圖1中的左側(cè)）。凹端部熔接部50f沿凹熔接部50的長(zhǎng)度方向Ν被設(shè)置在兩個(gè)端側(cè)。 另外，凸熔接部51沿寬度方向Μ在另一個(gè)端側(cè)M2(圖1中的右側(cè)）以及沿長(zhǎng)度方向N在兩 個(gè)端側(cè)被設(shè)置為開口的盒形。另外，執(zhí)行調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿長(zhǎng)度方向N 的定位的凸塊部52沿長(zhǎng)度方向N在一個(gè)端側(cè)N1 (圖1中的下側(cè)）被設(shè)置于凸熔接部51沿 長(zhǎng)度方向N的外側(cè)。
[0080] 被熔接凸部60在面對(duì)凹熔接部50的位置被設(shè)置于顯影劑框架24。被熔接凸端部 60f在面對(duì)凹端部熔接部50f的位置被設(shè)置于端部。
[0081] 還提供了在面對(duì)凸熔接部51的位置具有平坦部的平坦熔接部61。
[0082] 提供沿調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24的長(zhǎng)度方向N執(zhí)行定位的矩形孔62以 便裝配凸塊部52。將凸塊部52的長(zhǎng)度方向面52a和52b與孔62的長(zhǎng)度方向面62a和62b 裝配在一起，由此確定調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿長(zhǎng)度方向N的位置。此時(shí)，在凸 塊部52的寬度方向面52c和52d與孔62的寬度方向面62c和62d之間留有空間，從而不 限制調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿寬度方向Μ的位置。調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑 框架24沿寬度方向Μ的定位構(gòu)造將隨后介紹。
[0083] 此時(shí)，用作結(jié)合部的第一熔接部70由結(jié)合在一起的凹熔接部50和被熔接凸部60 構(gòu)成。用作結(jié)合部的第一端部熔接部70f由結(jié)合在一起的凹端部熔接部50f和被熔接凸端 部60f構(gòu)成。用作結(jié)合部的第二熔接部71由結(jié)合在一起的凸熔接部51和平坦熔接部61 的平面部構(gòu)成。
[0084] 根據(jù)圖1示出的示范性實(shí)施例，第一端部熔接部70f和第二熔接部71不相交，并 且留有空間54a和54b。提供了填充在第一端部熔接部70f和第二熔接部71之間的空間 54a和54b中并且防止調(diào)色劑泄漏到顯影劑容器21外部的密封部件55a和55b。密封部件 55a和55b通過粘合劑例如雙面膠帶等附連至顯影劑框架24的密封部件附連部24e和24f。 密封部件55a和55b的構(gòu)造細(xì)節(jié)將隨后介紹。根據(jù)圖1示出的實(shí)施例，第一端部熔接部70f 和第二熔接部71不相交，但是可以采用在其中形成相交的設(shè)置方式。
[0085] 在此，顯影劑框架是第一框架并且調(diào)色劑容器蓋是第二框架，但是顯影劑框架可 以是第二框架并且調(diào)色劑容器蓋可以是第一框架。
[0086] 第一熔接部的構(gòu)造
[0087] 將參照?qǐng)D5和圖6介紹第一熔接部70。
[0088] 細(xì)節(jié)將隨后介紹，但是第一熔接部由已經(jīng)焊接在一起的凹熔接部50和被熔接凸 部60組成。而且第一端部熔接部是第一熔接部的一部分。
[0089] 圖5是沿圖1中的V-V線截取以描述第一熔接部70的構(gòu)造的截面圖。圖6是沿 圖1中的VI-VI線截取以描述作為第一熔接部70的端部的第一端部熔接部70f的構(gòu)造的 截面圖。
[0090] 如圖5所示，凹熔接部50的截面是凹形。此外，凹熔接部50由用作定位部以執(zhí)行 顯影劑框架24相對(duì)于調(diào)色劑容器蓋29的定位的定位內(nèi)側(cè)面50a、用作第一熔接結(jié)合部的內(nèi) 側(cè)面50b、用作凹底部的底面50c、斜面50d和開口部50e組成。斜面50d沿著使得開口部 50e的凹開口的寬度W比凹部底面的寬度Y更寬的方向設(shè)置。定位內(nèi)側(cè)面50a被設(shè)置在凹 部中，由此能夠以一體的方式執(zhí)行定位和熔接。
[0091] 另外，被熔接凸部60的截面是凸形。另外，被熔接凸部60具有在執(zhí)行顯影劑框架 24相對(duì)于調(diào)色劑容器蓋29定位的情況下用作被定位部的被定位面（被定位外側(cè)面）60a。 另外，被熔接凸部60由用作第一被熔接凸部的外側(cè)面60b和用作凸邊緣部的邊緣面60d組 成。邊緣面60d具有在熔接時(shí)抵接斜面50d的抵接部60c。被定位面（被定位外側(cè)面）60a 面對(duì)定位內(nèi)側(cè)面50a，外側(cè)面60b面對(duì)內(nèi)側(cè)面50b，且邊緣面60d面對(duì)底面50c。凸部邊緣的 寬度X大于凹形中凹部底面的寬度Y且小于開口部50e的凹開口的寬度W。也就是說(shuō)W>X>Y 成立。
[0092] 下面將參照?qǐng)D6介紹第一端部熔接部70f的構(gòu)造。如圖6所示，圖6是沿圖1中 的VI-VI線截取的截面圖，作為凹熔接部50的端部的凹端部熔接部50f具有內(nèi)側(cè)面50b、底 面50c以及與定位內(nèi)側(cè)面50a相比沿長(zhǎng)度方向N更遠(yuǎn)地伸向外側(cè)的斜面50d。另外，對(duì)于 作為凸熔接部60的端部的凸端部熔接部60f類似地，外側(cè)面60b和邊緣面60d與被定位面 (被定位外側(cè)面）60a相比沿長(zhǎng)度方向N更遠(yuǎn)地伸向外側(cè)。
[0093] 第二熔接部的構(gòu)造
[0094] 下面將參照?qǐng)D7介紹由凸熔接部51和平坦熔接部61構(gòu)成的第二熔接部71。
[0095] 正如隨后詳細(xì)介紹的那樣，第二熔接部由已經(jīng)焊接在一起的凸熔接部51和具有 平面的平坦熔接部61組成。
[0096] 圖7是沿圖1中的VII-VII線截取以示出第二熔接部71的構(gòu)造的截面圖。
[0097] 如圖7所示，凸熔接部51具有其截面為三角形的凸起51a、在凸起兩側(cè)供熔融材料 流入的凹槽51b和51c以及在凹槽的兩個(gè)外側(cè)的平坦部51e和51f。另外，平坦熔接部61 具有抵靠凸起51a的平坦部61a。
[0098] 密封部件的構(gòu)造
[0099] 下面將參照?qǐng)D8介紹密封部件55a的構(gòu)造。
[0100] 圖8是示出附連至顯影劑框架24的密封部件55a與顯影劑容器蓋29的凹端部熔 接部50f和凸熔接部51的位置關(guān)系的正視圖。
[0101] 如圖8所示，設(shè)置于沿寬度方向Μ的一個(gè)端側(cè)Ml的凹端部熔接部50f和設(shè)置于沿 長(zhǎng)度方向N的一個(gè)端側(cè)N1的凸熔接部51不相交，并且在凹端部熔接部50f和凸熔接部51 之間留有空間54a。密封部件55a被配置為跨接凹端部熔接部50f和凸熔接部51。此時(shí)， 覆蓋凹端部熔接部50f的內(nèi)側(cè)面50b的重疊部55al被設(shè)置于密封部件55a。還設(shè)有覆蓋凸 熔接部51的凸起51a的重疊部55a2。
[0102] 在此已經(jīng)介紹了設(shè)置于沿調(diào)色劑容器蓋29的長(zhǎng)度方向N的一個(gè)端側(cè)N1的密封部 件55a，但是設(shè)置于沿調(diào)色劑容器蓋29的長(zhǎng)度方向N的另一個(gè)端側(cè)N2的密封部件55b也具 有相同的構(gòu)造。
[0103] 要注意的是，通過凹熔接部的熔接形成的第一熔接部是指從凹熔接部的一端E1 到另一端的熔接部分。另一方面，通過凸熔接部51的熔接形成的第二熔接部是指從凸熔接 部51的一端E2到另一端的熔接部分。凹端部熔接部50f是指從凹熔接部的端部E1到E3 的部分。
[0104] 用于顯影劑容器的熔接方法
[0105] 下面將參照?qǐng)D9至圖17介紹用于熔接調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24的方法。 [0106] 圖9是示出用于熔接調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24的方法的透視圖。
[0107] 圖10是示出用于熔接調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24的方法的透視圖。
[0108] 圖11A和圖11B是沿圖9中的XI-XI線截取以示出用于熔接第一熔接部70的方 法的截面圖。圖11A是示出其中凹熔接部50和被熔接凸部60彼此抵靠以及恰好在要熔接 到一起之前的狀態(tài)的截面圖。圖11B是示出在凹熔接部50和被熔接凸部60已被熔接到一 起之后的狀態(tài)的截面圖。
[0109] 圖12A和圖12B是沿圖9中的XII-XII線截取以示出用于熔接第一端部熔接部 70f的方法的截面圖。圖12A是示出其中凹端部熔接部50f和被熔接凸端部60f彼此抵靠 以及恰好在熔接之前的狀態(tài)的截面圖。圖12B是示出在凹端部熔接部50f和被熔接凸端部 60f已被熔接到一起之后的狀態(tài)的截面圖。
[0110] 圖13A和圖13B是沿圖9中的XIII-XIII線截取以示出用于熔接第二熔接部71 的方法的截面圖。圖13A是示出其中凸熔接部51和平坦熔接部61彼此抵靠以及恰好在熔 接之前的狀態(tài)的截面圖。圖13B是示出在凸熔接部51和平坦熔接部61已被熔接到一起之 后的狀態(tài)的截面圖。
[0111] 圖14A和圖14B是沿圖8中的XIV-XIV線截取以示出用于在密封部件55a和第一 端部熔接部70f之間重疊部55al的方法的截面圖。圖14A是示出其中凹端部熔接部50f 和被熔接凸端部60f彼此抵接以及恰好在熔接開始之前的狀態(tài)的截面圖。圖14B是示出在 完成將凹端部熔接部50f和被熔接凸端部60f熔接到一起之后的狀態(tài)的截面圖。
[0112] 圖15A和圖15B是沿圖8中的XV-XV線截取以示出用于在密封部件55a和第二熔 接部71之間熔接重疊部55a2的方法的截面圖。圖15A是示出其中凸熔接部51和平坦熔 接部61彼此抵靠以及恰好在熔接開始之前的狀態(tài)的截面圖。圖15B是示出在完成將凸熔 接部51和平坦熔接部61熔接到一起之后的狀態(tài)的截面圖。
[0113] 圖16A和圖16B是示出第一熔接部70和第二熔接部71之間的密封部件55的構(gòu) 造的示意圖。圖16A是描述熔接開始之前的狀態(tài)的示意圖。圖16B是描述其中熔接已完成 的狀態(tài)的示意圖。
[0114] 圖17是示出用于防止顯影劑容器21中的調(diào)色劑溢出的構(gòu)造的示意圖。
[0115] 如圖9和圖10所示，熔接邊角接觸面56被設(shè)置于調(diào)色劑容器蓋29的凹熔接部50 和凸熔接部51的背面（熔接邊角接觸面56的背面上的位置在圖中用虛線表示）。另外，在 熔接時(shí)作為第一被接收面的第一被熔接部24a以及在熔接時(shí)作為第二被接收面的第二被 熔接部24b被設(shè)置于顯影劑框架24。還設(shè)有在熔接時(shí)作為第三被接收面的第三被熔接部 24c以及在熔接時(shí)作為第四被接收面的第四被熔接部24d。
[0116] 在熔接時(shí)，第一被熔接部24a由熔接支架57的第一熔接承受部57a支撐，第二被 熔接部24b由第二熔接承受部57b支撐，第三被熔接部24c由第三熔接承受部57c支撐，并 且第四被熔接部24d由第四熔接承受部57d支撐。
[0117] 因此，在熔接凹熔接部50和凸熔接部60的情況下，與熔接部分離的第二被熔接部 24b由第二熔接承受部57b支撐。
[0118] 另外，在熔接凸熔接部51和平坦熔接部61的情況下，在熔接部附近的第一被熔接 部24a由第一熔接承受部57a支撐，第三被熔接部24c由第三熔接承受部57c支撐，并且第 四被熔接部24d由第四熔接承受部57d支撐。
[0119] 由此制備調(diào)色劑容器蓋29 (例如第一框架）和顯影框架（例如第二框架），并且對(duì) 于制備的調(diào)色劑容器蓋29或顯影框架以及熔接承受部或被熔接部準(zhǔn)備接受超聲波振動(dòng)。 利用上述方法通過超聲波焊接來(lái)制造顯影劑容器。制成的顯影劑容器在凹部中設(shè)有定位內(nèi) 側(cè)面，因此不必再設(shè)置單獨(dú)的定位部，實(shí)現(xiàn)了尺寸的減小。
[0120] 第一熔接部的熔接方法
[0121] 下面將參照?qǐng)D11A和圖11B介紹第一熔接部70的熔接方法。
[0122] 如圖11A所示，凹烙接部50和被烙接凸部60沿箭頭G的方向被壓合在一起，由此 設(shè)置于外側(cè)面60b頂端的抵接部60c和斜面50d彼此抵接。此時(shí)，在抵接部60c處沿箭頭 G的方向的作用力F1受限于斜面50d，由此產(chǎn)生沿斜面50d的作用力F2。在抵接部60c處 產(chǎn)生推力F3,這是作用力F2在垂直于箭頭G的方向的分力。因此，被定位外側(cè)面60a由定 位內(nèi)側(cè)面50a施壓，由此確定顯影劑框架24相對(duì)于調(diào)色劑容器蓋29沿寬度方向Μ的位置。 在處于此狀態(tài)時(shí)，與沿箭頭G的方向施加作用力F1同時(shí)地施加超聲波振動(dòng)，由此通過抵接 部60c和斜面50d的抵接部S的變形而發(fā)熱。這種發(fā)熱促使內(nèi)側(cè)面50b和外側(cè)面60b熔化， 并且在凹熔接部50的底面50c和被熔接凸部60的邊緣面60d之間的空間沿箭頭G的方向 縮小。
[0123] 因此，如圖11B所示，內(nèi)側(cè)面50b和外側(cè)面60b在調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架 24的定位內(nèi)側(cè)面50a和被定位外側(cè)面60a彼此抵接時(shí)熔化。一旦施加的超聲波振動(dòng)停止， 來(lái)自振動(dòng)的發(fā)熱減少，內(nèi)側(cè)面50b和外側(cè)面60b即被焊接在一起。另外，如上所述，在熔接 期間和熔接完成之后，通過由沿箭頭G的方向的作用力F1生成的壓力F3促使調(diào)色劑容器 蓋29和顯影劑框架24的定位內(nèi)側(cè)面50a和被定位外側(cè)面60a彼此抵接來(lái)執(zhí)行沿寬度方向 Μ的定位。根據(jù)使用的材料，可以存在通過超聲波振動(dòng)烙化一部分的定位內(nèi)側(cè)面50a和被定 位外側(cè)面60a的情況。
[0124] 下面將參照?qǐng)D12A和圖12B介紹第一端部熔接部70f的熔接方法。
[0125] 現(xiàn)通過促使第一熔接部70的上述定位內(nèi)側(cè)面50a和被定位外側(cè)面60a彼此抵接 來(lái)執(zhí)行第一端部熔接部70f沿調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24的寬度方向Μ的定位。
[0126] 如圖12Α所示，凹端部熔接部50f和被熔接凸端部60f沿箭頭G的方向被加壓，由 此設(shè)置于外側(cè)面60b尖端的抵接部60c和斜面50d彼此抵接。
[0127] 在處于此狀態(tài)時(shí)，與沿箭頭G的方向施加作用力F1同時(shí)地施加超聲波振動(dòng)，由此 通過抵接部60c和斜面50d的抵接部S的變形而發(fā)熱。這種發(fā)熱促使內(nèi)側(cè)面50b和外側(cè)面 60b熔化，并且在凹熔接部50的底面50c和被熔接凸部60的邊緣面60d之間的空間沿箭頭 G的方向縮小。
[0128] 結(jié)果，如圖12B所示，內(nèi)側(cè)面50b和外側(cè)面60b熔化。一旦施加的超聲波振動(dòng)停止， 來(lái)自振動(dòng)的發(fā)熱減少，內(nèi)側(cè)面50b和外側(cè)面60b即被焊接在一起。
[0129] 如上所述的結(jié)合部可以被稱作共用結(jié)合部。
[0130] 第二熔接部的熔接方法
[0131] 下面將參照?qǐng)D13A和圖13B介紹第二熔接部71的熔接方法。
[0132] 如圖13A所示，通過將凸熔接部51和平坦熔接部61沿箭頭G的方向壓合在一起， 凸起51a的頂點(diǎn)51d和平坦部61a彼此抵靠。此時(shí)，將凸塊部52的長(zhǎng)度方向面52a和52b 與孔62的長(zhǎng)度方向面62a和62b裝配在一起，由此確定沿長(zhǎng)度方向N的位置。在處于此狀 態(tài)時(shí)，與沿箭頭G的方向施加作用力F1同時(shí)地施加超聲波振動(dòng)，由此通過凸起51a和平坦 部61a的抵接部T的變形而發(fā)熱。這種發(fā)熱促使凸起51a和平坦部61a熔化，并且在凸熔 接部51的平坦部51e和51f以及平坦熔接部61的平坦部61a之間的空間沿箭頭G的方向 縮小。此時(shí)，凸起51a和平坦部61a中的熔融樹脂流入凹槽51b和51c，由此凸熔接部51的 平坦部51e和51f以及平坦熔接部61的平坦部61a即可緊密地彼此熔接。
[0133] 結(jié)果，如圖13B所示，調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24的凸起51a和平坦部61a 熔化。一旦施加的超聲波振動(dòng)停止，來(lái)自振動(dòng)的發(fā)熱減少，凸起51a和平坦部61a即被焊接 在一起。此時(shí)，調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿長(zhǎng)度方向N的位置不由第二熔接部71 決定，并且沿長(zhǎng)度方向N的位置通過如上所述的凸塊部52和孔62的裝配進(jìn)行的定位來(lái)確 定。
[0134] 比較上述的第二熔接部和第一熔接部，擁有第一熔接部使得能夠省略凸塊部52， 并且能夠?qū)崿F(xiàn)更小的顯影劑容器。
[0135] 第一熔接部和第二熔接部之間的構(gòu)造
[0136] 第一熔接部和第二熔接部具有不同的截面形狀，因此如果彼此交替地形成，那么 相鄰部分的設(shè)計(jì)就變得復(fù)雜。因此，第一熔接部的第一端部熔接部70f和第二熔接部71之 間的空間可以利用密封部件55a和55b密封。由此即可避免設(shè)計(jì)復(fù)雜化。另外，在隨后的 介紹中，作為第一熔接部的第一端部熔接部和第二熔接部可以彼此相鄰地形成。在此情況 下不使用密封部，因此能夠增加氣密性。
[0137] 以下將詳細(xì)介紹使用密封部件的情況。
[0138] 下面將參照?qǐng)D14A和圖14B介紹熔接密封部件55a的重疊部55al和內(nèi)側(cè)面50b的 方法。為了描述密封部件55a被夾在調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24之間的狀態(tài)，密封 部件55a的截面部分在圖中示為陰影。如圖14A所示，密封部件55a被附連至顯影劑框架 24的密封部件附連部24e。調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿箭頭G的方向在密封部件 55a的重疊部55al和凹端部熔接部50f的內(nèi)側(cè)面50b處被壓合。通過這種壓合，在密封部 件55a被沿厚度方向P壓縮時(shí)，抵接部60c和斜面50d彼此抵接。隨后，在處于重疊部55al 被夾持的狀態(tài)時(shí)，與沿箭頭G的方向朝向斜面50d對(duì)抵接部60c施加作用力F1同時(shí)地施加 超聲波振動(dòng)，由此通過抵接部60c和斜面50d的抵接部的變形而發(fā)熱。這種發(fā)熱促使內(nèi)側(cè) 面50b和外側(cè)面60b熔化。同時(shí)，夾在內(nèi)側(cè)面50b和外側(cè)面60b之間的密封部件55a也熔 化。如圖14B所示，密封部件55a處于沿厚度方向P被壓縮的狀態(tài)。一旦施加的超聲波振 動(dòng)停止，來(lái)自振動(dòng)的發(fā)熱減少，內(nèi)側(cè)面50b和外側(cè)面60b即被焊接在一起。
[0139] 下面將參照?qǐng)D15A和圖15B介紹熔接密封部件55a的重疊部55a2和凸起51a的 方法。為了描述密封部件55a被夾在調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24之間的狀態(tài)，密封 部件55a的截面部分在圖中示為陰影。如圖15A所示，密封部件55a被附連至顯影劑框架 24的密封部件附連部24e。調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿箭頭G的方向在密封部件 55a的重疊部55a2和凸熔接部51的凸起51a處被壓合，由此在密封部件55a被沿厚度方向 P壓縮時(shí)，凸起51a的頂點(diǎn)51d和平坦部61a彼此抵接。隨后，在處于重疊部55a2被夾持的 狀態(tài)時(shí)，與沿箭頭G的方向施加作用力F1同時(shí)地施加超聲波振動(dòng)，由此通過凸起51a和平 坦部61a的抵接部T的變形而發(fā)熱。這種發(fā)熱促使凸起51a和平坦部61a熔化。同時(shí)，夾 在凸起51a和平坦部61a之間的密封部件55a也熔化。如圖15B所示，密封部件55a處于 沿厚度方向P被壓縮的狀態(tài)。一旦施加的超聲波振動(dòng)停止，來(lái)自振動(dòng)的發(fā)熱減少，凸起51a 和平坦部61a即被焊接在一起。
[0140] 下面將參照?qǐng)D16A和圖16B介紹第一端部熔接部70f和第二熔接部71之間的密 封部件55a的構(gòu)造。為了描述密封部件55a被夾在調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24之間 的狀態(tài)，密封部件55a的截面部分在圖中示為陰影。如圖16A所示，密封部件55a在凹端部 熔接部50f與凸熔接部51之間的部分處被附連至顯影劑框架24的密封部件附連部24e。 調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿箭頭G的方向被壓合，由此如圖16B所示在調(diào)色劑容 器蓋29和顯影劑框架24處于彼此熔接的狀態(tài)時(shí)，密封部件55a被沿厚度方向P壓縮。
[0141] 根據(jù)上述構(gòu)造，因?yàn)槊芊獠考?5a和55b被配置為覆蓋在第一熔接部、第一端部熔 接部、第二熔接部以及第一端部熔接部和第二熔接部上，所以在調(diào)色劑容器蓋和顯影劑框 架之間的結(jié)合部中不存在空間。
[0142] 因此，在調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24結(jié)合的情況下，調(diào)色劑容器蓋29和顯 影劑框架24之間不存在空間。由此即可防止調(diào)色劑t從由調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架 24組成的顯影劑容器21中外流。
[0143] 密封部件55a在此可以是發(fā)泡彈性部件，或者可以是彈性部件例如撓性橡膠或彈 性體等。
[0144] 顯影劑容器的特征
[0145] 根據(jù)上述構(gòu)造，通過第一熔接部70與無(wú)裝配間隙的抵接部即可執(zhí)行調(diào)色劑容器 蓋29和顯影劑框架24沿寬度方向Μ的定位。因此，根據(jù)在定位部中沿寬度方向Μ有裝配 間隙的構(gòu)造，在執(zhí)行調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿寬度方向Μ的定位的情況下不必 設(shè)置允許裝配間隙的空間，由此即可減小熔接部的尺寸。因?yàn)榭蚣苤g不存在由調(diào)色劑容 器蓋29和顯影劑框架24沿寬度方向Μ的裝配間隙導(dǎo)致的偏差，所以提高了顯影劑容器21 的外觀尺寸精度。
[0146] 另外，在熔接由凹熔接部50和凸熔接部60組成的第一熔接部70的情況下，與熔 接部分離的第二被熔接部24b由第二熔接承受部57b支撐，由此在熔接部附近沒有熔接承 受部。因此，熔接由凸熔接部51和平坦熔接部61組成的第二熔接部71所必需的凸緣形第 一被熔接部24a、第三被熔接部24c和第四被熔接部24d變?yōu)樵谌劢硬扛浇辉俦匦?，由?即可減小第一熔接部70的尺寸。
[0147] 而且，根據(jù)本實(shí)施例，由沿調(diào)色劑容器蓋29的寬度方向Μ設(shè)置在一個(gè)端側(cè)Ml的第 一熔接部70執(zhí)行調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿寬度方向Μ的定位。另一方面，在面 對(duì)第一熔接部70且沿調(diào)色劑容器蓋29的寬度方向Μ形成在另一個(gè)端側(cè)M2的第二熔接部 71處不執(zhí)行定位。這樣在熔接時(shí)凸起51a與平坦部61a不分離的范圍內(nèi)即可允許第二熔接 部71有少量的偏差。因此，即使在調(diào)色劑容器蓋29以及顯影劑框架24的第一熔接部70 和面對(duì)的第二熔接部71之間的尺寸有差異的情況下也能執(zhí)行熔接而不會(huì)使調(diào)色劑容器蓋 29和顯影劑框架24的框架變形。
[0148] 處理盒5的顯影劑容器21具有附連部用于附連諸如顯影劑刮板23的附連部、支 撐顯影輥22的顯影劑軸承28的附連部和防溢出片25的附連部等的部件。另外，例如顯影 劑刮板23、顯影輥22和防溢出片25等部件要求很高的定位精度。因此，由于組成顯影劑容 器21的調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24被無(wú)變形地熔接，因此顯影劑刮板23的附連部 不變形。類似地，附連諸如支撐顯影輥22的顯影劑軸承28的附連部和防溢出片25的附連 部等的部件的附連部不變形。因此，顯影劑刮板23、顯影輥22和防溢出片25的相對(duì)位置關(guān) 系不會(huì)由于熔接而改變，并且提高了圖像質(zhì)量。
[0149] 另外，根據(jù)本實(shí)施例，如圖1所示，沿調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24的寬度方 向Μ的定位在第一熔接部70執(zhí)行，并且沿長(zhǎng)度方向N的定位利用沿長(zhǎng)度方向N設(shè)置在一個(gè) 端側(cè)Ν1的端部上的凸塊部52和孔62執(zhí)行。因此，根據(jù)常規(guī)構(gòu)造，為了執(zhí)行調(diào)色劑容器蓋 29和顯影劑框架24沿寬度方向Μ和長(zhǎng)度方向Ν的定位，凸塊部和孔必須設(shè)置在兩個(gè)位置。 相反地，不僅定位能夠通過將凸塊部和孔僅設(shè)置在一個(gè)位置來(lái)進(jìn)行，而且顯影劑容器21的 尺寸沿長(zhǎng)度方向Ν或?qū)挾确较颚蓽p小。
[0150] 第一熔接部的第一變型
[0151] 將參照?qǐng)D18介紹第一熔接部的一種變型。
[0152] 如圖5所示，以上的說(shuō)明內(nèi)容是這樣一個(gè)示例，其中設(shè)置于沿調(diào)色劑容器蓋的寬 度方向Μ的一個(gè)端側(cè)Ml的凹熔接部50向沿寬度方向Μ的另一個(gè)端側(cè)M2提供定位內(nèi)側(cè)面 50a，并且向沿寬度方向Μ的一個(gè)端側(cè)Ml提供內(nèi)側(cè)面50b。但是，如圖18所示，可以實(shí)現(xiàn)這 樣一種構(gòu)造，其中內(nèi)側(cè)面50b被設(shè)置于沿寬度方向Μ的一個(gè)端側(cè)Ml并且定位內(nèi)側(cè)面50b被 設(shè)置于沿寬度方向Μ的另一個(gè)端側(cè)M2。
[0153] 圖18Α至圖18C是示出第一熔接部79的一種變型的截面圖。圖18Α是示出在凹 熔接部59和被熔接凸部69彼此抵接之前的狀態(tài)的截面圖。圖18Β是示出其中凹熔接部59 和被熔接凸部69已經(jīng)彼此抵接且恰好在熔接開始之前的狀態(tài)的截面圖。圖18C是示出其中 凹熔接部59和被熔接凸部69已經(jīng)完成熔接且其中第一熔接部已經(jīng)形成的狀態(tài)的截面圖。
[0154] 如圖18Α所示，凹熔接部59具有凹形截面，凹熔接部59由執(zhí)行顯影劑框架24相 對(duì)于調(diào)色劑容器蓋29定位的定位內(nèi)側(cè)面59a、內(nèi)側(cè)面59b、底面59c和斜面59d組成。斜面 59d沿著使凹部開口寬度W能夠大于凹部底面寬度Y的方向設(shè)置。
[0155] 另外，被熔接凸部69具有凸形截面，并且被熔接凸部69由在執(zhí)行顯影劑框架24 相對(duì)于調(diào)色劑容器蓋29定位的情況下的被定位外側(cè)面69a、外側(cè)面69b和邊緣面69d組成。 被定位外側(cè)面69a面對(duì)定位內(nèi)側(cè)面59a，外側(cè)面69b面對(duì)內(nèi)側(cè)面59b，且邊緣面69d面對(duì)底 面59c。凸邊緣寬度X大于凹底面寬度Y且小于凹開口寬度W。也就是說(shuō)W>X>Y成立。
[0156] 接下來(lái)，如圖18B所示，凹熔接部59和被熔接凸部69沿箭頭G的方向被壓合在一 起，由此設(shè)置于外側(cè)面69b的邊緣的抵接部69c和斜面59d彼此抵接。此時(shí)，在抵接部69c 處沿箭頭G的方向的作用力F1受限于斜面59d，由此產(chǎn)生沿斜面59d的作用力F4。另外， 在抵接部69c處產(chǎn)生推力F5,這是作用力F4在垂直于箭頭G的方向的分力。因此，被定位 外側(cè)面69a由定位內(nèi)側(cè)面59a施壓，由此確定顯影劑框架24相對(duì)于調(diào)色劑容器蓋29沿寬 度方向Μ的位置。在處于此狀態(tài)時(shí)，與沿箭頭G的方向施加作用力F1同時(shí)地施加超聲波振 動(dòng)，由此通過抵接部69c和斜面59d的抵接部S的變形而發(fā)熱。這種發(fā)熱促使內(nèi)側(cè)面59b 和外側(cè)面69b熔化，并且在凹熔接部59的底面59c和被熔接凸部69的邊緣面69d之間的 空間沿箭頭G的方向縮小。
[0157] 結(jié)果，如圖18C所示，內(nèi)側(cè)面59b和外側(cè)面69b在調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架 24的定位內(nèi)側(cè)面59a和被定位外側(cè)面69a彼此抵接時(shí)熔化。一旦施加的超聲波振動(dòng)停止， 來(lái)自振動(dòng)的發(fā)熱減少，內(nèi)側(cè)面59b和外側(cè)面69b即被焊接在一起，由此形成第一熔接部。另 夕卜，如上所述，在熔接期間和熔接完成之后，通過由沿箭頭G的方向的作用力F1生成的壓力 F5促使調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24的定位內(nèi)側(cè)面59a和被定位外側(cè)面69a彼此抵接 來(lái)執(zhí)行沿寬度方向Μ的定位。
[0158] 第一熔接部的第二變型
[0159] 要注意的是，根據(jù)上述的示范性實(shí)施例，已經(jīng)利用設(shè)有第一熔接部70和79的凹熔 接部50和59的示例介紹了斜面50d和59d。但是，斜面50d和59d可以被設(shè)置于第一熔接 部70和79的被熔接凸部60和69。
[0160] 將參照?qǐng)D19A至圖19C介紹第一熔接部的另一種變型。
[0161] 圖19A至圖19C是描述第一熔接部73的一種變型的截面圖。圖19A是示出在凹 熔接部53和被熔接凸部63彼此抵接之前的狀態(tài)的截面圖。圖19B是示出其中凹熔接部53 和被熔接凸部63已經(jīng)彼此抵接且恰好在熔接開始之前的狀態(tài)的截面圖。圖19C是示出其中 凹熔接部53和被熔接凸部63已經(jīng)完成熔接且其中第一熔接部已經(jīng)形成的狀態(tài)的截面圖。
[0162] 如圖19A所示，凹熔接部53具有凹形截面，凹熔接部53由執(zhí)行顯影劑框架24相 對(duì)于調(diào)色劑容器蓋29定位的定位內(nèi)側(cè)面53a、內(nèi)側(cè)面53b、底面53c和開口 53e組成。
[0163] 被熔接凸部63具有凸形截面，并且被熔接凸部63由在執(zhí)行顯影劑框架24相對(duì)于 調(diào)色劑容器蓋29定位的情況下的被定位外側(cè)面63a、外側(cè)面63b、邊緣面63d和斜面63e組 成。
[0164] 被定位外側(cè)面63a面對(duì)定位內(nèi)側(cè)面53a，外側(cè)面63b面對(duì)內(nèi)側(cè)面53b，且邊緣面63d 面對(duì)底面53c。斜面63e沿凸邊緣寬度Y1變得小于凸部寬度XI的方向設(shè)置。開口 53e的 凹開口寬度W1小于凸部寬度XI且大于凸部邊緣寬度Y1。也就是說(shuō)X1>W1>Y1成立。
[0165] 接下來(lái)，如圖19B所示，凹熔接部53和被熔接凸部63沿箭頭G的方向被壓合在一 起，由此設(shè)置于內(nèi)側(cè)面53b的邊緣的抵接部53d和斜面63e彼此抵接。此時(shí)，在抵接部53d 處沿箭頭G的方向的作用力F1受限于斜面63e，由此產(chǎn)生沿斜面63e的作用力F6。另外， 在抵接部53d處產(chǎn)生推力F7,這是作用力F6在垂直于箭頭G的方向的分力。因此，被定位 外側(cè)面63a由定位內(nèi)側(cè)面53a施壓，由此確定顯影劑框架24相對(duì)于調(diào)色劑容器蓋29沿寬 度方向Μ的位置。在處于此狀態(tài)時(shí)，與沿箭頭G的方向施加作用力F1同時(shí)地施加超聲波振 動(dòng)，由此通過抵接部53d和斜面63e的抵接部S的變形而發(fā)熱。這種發(fā)熱促使內(nèi)側(cè)面53b 和外側(cè)面63b熔化，并且在凹熔接部53的底面53c和被熔接凸部63的邊緣面63d之間的 空間沿箭頭G的方向縮小。
[0166] 結(jié)果，如圖19C所示，內(nèi)側(cè)面53b和外側(cè)面63b在調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架 24的定位內(nèi)側(cè)面53a和被定位外側(cè)面63a彼此抵接時(shí)熔化。一旦施加的超聲波振動(dòng)停止， 來(lái)自振動(dòng)的發(fā)熱減少，內(nèi)側(cè)面53b和外側(cè)面63b即被焊接在一起，由此形成第一熔接部。另 夕卜，如上所述，在熔接期間和熔接完成之后，通過由沿箭頭G的方向的作用力F1生成的壓力 F7促使調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24的定位內(nèi)側(cè)面53a和被定位外側(cè)面63a彼此抵接 來(lái)執(zhí)行沿寬度方向Μ的定位。
[0167] 第一熔接部的第三變型
[0168] 根據(jù)本實(shí)施例，主要通過具有定位內(nèi)側(cè)面50a，53a、內(nèi)側(cè)面50b，53b、底面50c， 53c、斜面50d，53d和開口 50e，53e的示例給出凹熔接部50, 53的介紹。本示范性實(shí)施例的 變型被描述為提供一體的內(nèi)側(cè)面（50b，53b)和斜面（50d，53d)。
[0169] 將參照?qǐng)D20A至圖20C介紹第一熔接部的另一種變型。
[0170] 圖20A至圖20C是描述第一熔接部87的一種變型的截面圖。圖20A是示出在凹 熔接部85和被熔接凸部86彼此抵接之前的狀態(tài)的截面圖。圖20B是示出其中凹熔接部85 和被熔接凸部86已經(jīng)彼此抵接且恰好在熔接開始之前的狀態(tài)的截面圖。圖20C是示出其 中凹熔接部85和被熔接凸部86已完成熔接的狀態(tài)的截面圖。
[0171] 如圖20A所示，凹熔接部85具有凹形截面，且凹熔接部85由執(zhí)行顯影劑框架24 相對(duì)于調(diào)色劑容器蓋29定位的定位內(nèi)側(cè)面85a、斜面85b、底面85c和開口 85e組成。斜面 85b沿以比凹底面寬度Y2更寬的方式增加開口 85e的凹開口寬度W2的方向設(shè)置。
[0172] 另外，被熔接凸部86具有凸形截面，并且被熔接凸部86由在執(zhí)行顯影劑框架24 相對(duì)于調(diào)色劑容器蓋29定位的情況下的被定位外側(cè)面86a、外側(cè)面86b和邊緣面86d組成。 被定位外側(cè)面86a面對(duì)定位內(nèi)側(cè)面85a，外側(cè)面86b面對(duì)內(nèi)側(cè)面85b，且邊緣面86d面對(duì)底 面85c。凸邊緣寬度X2大于凹底面寬度Y2且小于開口 85e的凹開口寬度W2。也就是說(shuō) W2>X2>Y2 成立。
[0173] 如圖20B所示，凹熔接部85和被熔接凸部86沿箭頭G的方向被壓合在一起，由此 設(shè)置于外側(cè)面86b的邊緣的抵接部86c和斜面85b彼此抵接。此時(shí)，在抵接部86c處沿箭 頭G的方向的作用力F1受限于斜面85b，由此產(chǎn)生沿斜面85b的作用力F8。另外，在抵接 部86c處產(chǎn)生推力F9,這是作用力F8在垂直于箭頭G的方向的分力。因此，被定位外側(cè)面 86a由定位內(nèi)側(cè)面85a施壓，由此確定顯影劑框架24相對(duì)于調(diào)色劑容器蓋29沿寬度方向Μ 的位置。在處于此狀態(tài)時(shí)，與沿箭頭G的方向施加作用力F1同時(shí)地施加超聲波振動(dòng)，由此 通過抵接部86c和斜面85b的抵接部S的變形而發(fā)熱。這種發(fā)熱促使內(nèi)側(cè)面85b和外側(cè)面 86b熔化，并且在凹熔接部85的底面85c和被熔接凸部86的邊緣面85d之間的空間沿箭頭 G的方向縮小。
[0174] 結(jié)果，如圖20C所示，斜面85b和外側(cè)面86b在調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24 的定位內(nèi)側(cè)面85a和被定位外側(cè)面86a彼此抵接時(shí)熔化。一旦施加的超聲波振動(dòng)停止，來(lái) 自振動(dòng)的發(fā)熱減少，斜面85b和外側(cè)面86b即被焊接在一起。另外，如上所述，在熔接期間 和熔接完成之后，通過由沿箭頭G的方向的作用力F1生成的壓力F3促使調(diào)色劑容器蓋29 和顯影劑框架24的定位內(nèi)側(cè)面85a和被定位外側(cè)面86a彼此抵接來(lái)執(zhí)行沿寬度方向Μ的 定位。
[0175] 用于將處理盒附連至裝置主體和從裝置主體拆除的方法
[0176] 下面將參照?qǐng)D21Α、圖21Β、圖22Α和圖22Β介紹用于將處理盒5附連至裝置主體 la和從裝置主體la拆除的方法。
[0177] 圖21A和圖21B是示出用于相對(duì)于裝置主體la附連和拆除處理盒5的方法的透 視圖。圖21A是沿長(zhǎng)度方向N從另一個(gè)端側(cè)N2看的透視圖。圖21B是沿長(zhǎng)度方向N從一 個(gè)端側(cè)N1看的透視圖。
[0178] 圖22A和圖22B是示出處理盒5相對(duì)于裝置主體la的附連和拆除路徑的說(shuō)明圖。 圖22A是沿長(zhǎng)度方向N從一個(gè)端側(cè)N1看的說(shuō)明圖。圖22B是沿長(zhǎng)度方向N從另一個(gè)端側(cè) N2看的說(shuō)明圖。
[0179] 如圖21A和圖21B所示，用于在裝置主體la中執(zhí)行處理盒5的位置限制的定位凸 塊90和定位凸塊91被設(shè)置在沿處理盒5的感光鼓2的長(zhǎng)度方向N的側(cè)面上。另外，執(zhí)行 處理盒5旋轉(zhuǎn)限制的旋轉(zhuǎn)止擋凸塊92被設(shè)置于在沿處理盒5的長(zhǎng)度方向N的一個(gè)端側(cè)N1 的側(cè)面5a。另外，用于穩(wěn)定處理盒5的附連和拆除姿態(tài)的被引導(dǎo)凸塊93被設(shè)置于在沿處理 盒5的長(zhǎng)度方向N的另一個(gè)端側(cè)N2的側(cè)面5b。
[0180] 用于附連和拆除處理盒5的開口 15位于裝置主體1中，并且曝光設(shè)備4被配置在 開口下方（圖22A和圖22B)。另外，導(dǎo)軌部件80和81被設(shè)置為安裝設(shè)備以用于在安裝處 理盒5的情況下在處理盒5已經(jīng)經(jīng)過開口 15之后將處理盒5引導(dǎo)至裝置主體la中的安裝 完成位置。引導(dǎo)處理盒5上的定位凸塊90的定位引導(dǎo)部80a被設(shè)置于設(shè)在沿裝置主體la 的長(zhǎng)度方向N的一個(gè)端側(cè)N1的導(dǎo)軌部件80。還設(shè)有引導(dǎo)處理盒5上的旋轉(zhuǎn)止擋凸塊92的 旋轉(zhuǎn)止擋引導(dǎo)部80b。另外，引導(dǎo)處理盒5上的定位凸塊91的定位引導(dǎo)部81a被設(shè)置于設(shè) 在沿裝置主體la的長(zhǎng)度方向N的另一個(gè)端側(cè)N2的導(dǎo)軌部件81。還設(shè)有引導(dǎo)處理盒5上的 被引導(dǎo)凸塊93的附連和拆除引導(dǎo)部81b。
[0181] 如圖22A和圖22B所示，處理盒5處于其中定位凸塊90和91與定位導(dǎo)軌部80a 和81a、旋轉(zhuǎn)止擋凸塊92與旋轉(zhuǎn)止擋導(dǎo)軌部80b、被引導(dǎo)凸塊93與附連和拆除引導(dǎo)部81b 裝配在一起的狀態(tài)。在此狀態(tài)下，處理盒5沿導(dǎo)軌80和81附連至裝置主體la和從裝置主 體la拆除。此時(shí)，處理盒5沿被設(shè)置在曝光設(shè)備4上方并保護(hù)曝光設(shè)備4的保護(hù)部件16 附連和拆除，感光鼓2抵接轉(zhuǎn)印輥10并被定位。
[0182] 處理盒和裝置主體的關(guān)系
[0183] 在將處理盒5附連至裝置主體la或從裝置主體la拆除的情況下遵循的路徑由圖 22A和圖22B中的雙點(diǎn)劃線Z1表示。由此，處理盒5在曝光設(shè)備4上方經(jīng)過以被附連或拆 除。因此，在將處理盒5附連至裝置主體la或從裝置主體la拆除的過程中，處理盒5的第 一熔接部70來(lái)到最接近保護(hù)部件16的位置。此時(shí)，遠(yuǎn)離熔接部的第二被熔接部24b (圖9 和圖10)由最接近保護(hù)部件16的熔接部支撐并與之附連。凸緣例如第一被熔接部24a、第 三被熔接部24c和第四被熔接部24d(圖9和圖10)不是必需的，因此使用其中的熔接部尺 寸能夠減小的第一熔接部70。因此，附連和拆除處理盒5所需的空間可以較小。換句話說(shuō)， 通過使用根據(jù)本示范性實(shí)施例包括具有第一熔接部70的顯影劑容器的處理盒5,與Z1部分 離保護(hù)部件的距離相關(guān)的部分可以由于不包括凸緣部分而從裝置主體去除。因此，裝置主 體的尺寸能夠減小。不言自明的是，凸緣部分能夠如上所述被省略，但是凸緣部分可以根據(jù) 其用途而使用較小的寬度。
[0184] 下面將參照?qǐng)D23介紹應(yīng)用本實(shí)施例的情況下裝置主體la的具體結(jié)構(gòu)。
[0185] 圖23A至圖23C是描述應(yīng)用本實(shí)施例的情況下的優(yōu)點(diǎn)的截面圖。圖23A是描述現(xiàn) 有技術(shù)的截面圖。圖23B是描述其中裝置主體la的尺寸減小的狀態(tài)的截面圖。圖23C描 述其中顯影劑容器21的尺寸增大的狀態(tài)的截面圖。
[0186] 如圖23A所示，第二熔接部71在熔接部附近設(shè)有凸緣，該凸緣在熔接時(shí)作為承受 部，第二熔接部71被用于其中處理盒5的熔接部最接近保護(hù)部件16的部分。在將處理盒5 附連至裝置主體la或從裝置主體la拆除的情況下第二熔接部71遵循的路徑由圖23A中 的雙點(diǎn)劃線Z2表示。
[0187] 相反地，在圖23B中，第一熔接部70被用在其中處理盒5的熔接部最接近保護(hù)部 件16的部分。因此，第二被熔接部24b上的凸緣（圖9和圖10)不是必需的，并且處理盒 5在附連至裝置主體la或從裝置主體la拆除時(shí)可以與保護(hù)部件16保持距離。在將處理 盒5附連至裝置主體la或從裝置主體la拆除的情況下第二熔接部71遵循的路徑由圖23B 中的雙點(diǎn)劃線Z3表示。因此，用于附連或拆除處理盒5的空間的寬度ZA1能夠減小。相應(yīng) 地，裝置主體la的寬度ZA2能夠減小，并且裝置主體la的安裝空間的減小也能實(shí)現(xiàn)。
[0188] 另外，如圖23C所示，實(shí)現(xiàn)熔接部尺寸減小的第一熔接部70被用在其中處理盒5 的熔接部最接近保護(hù)部件16的部分。在將處理盒5附連至裝置主體la或從裝置主體la拆 除的情況下第二熔接部71遵循的路徑由圖23C中的雙點(diǎn)劃線Z4表示。在裝置主體la的 尺寸與圖23A相同的情況下，顯影劑容器21的寬度ZB能夠增大。因此收容的調(diào)色劑t的 量能夠有所增加。相應(yīng)地，通過處理盒5打印的片材數(shù)量能夠增加且無(wú)需增大裝置主體la 的尺寸。
[0189] 以上在設(shè)置于沿寬度方向Μ的一端側(cè)Ml的全部的示例中介紹了第一熔接部70,但 是在將第一熔接部70設(shè)置于沿寬度方向Μ的一端側(cè)Ml的一部分的情況下也可以獲得相同 的優(yōu)點(diǎn)。在將第一熔接部設(shè)置于一部分的情況下，可以使用在其中由中央部通過凸熔接部 或密封部件執(zhí)行熔接或密封且端部作為第一熔接部的構(gòu)造。這是因?yàn)樵诖饲闆r下，沿長(zhǎng)度 方向Μ的位置關(guān)系能夠?yàn)榱撕附觾啥硕谝欢ǔ潭葍?nèi)可調(diào)。
[0190] 在應(yīng)用于顯影單元20的顯影劑單元21的示例中介紹的優(yōu)點(diǎn)在應(yīng)用于感光單元30 的廢調(diào)色劑收容部32a的情況下也能夠獲得。
[0191] 第二實(shí)施例
[0192] 下面將參照?qǐng)D24和圖25介紹第二實(shí)施例。
[0193] 要注意的是，將詳細(xì)介紹本實(shí)施例不同于上述實(shí)施例的構(gòu)造。
[0194] 圖24是描述根據(jù)本實(shí)施例的調(diào)色劑容器蓋229和顯影劑框架224的結(jié)合構(gòu)造的 透視圖。顯影劑容器221被構(gòu)造為使調(diào)色劑容器蓋229的角部229g、229h、229i和229j與 顯影劑框架224的角部224g、224h、224i和224j相匹配。
[0195] 圖25是描述調(diào)色劑容器蓋229和顯影劑框架224的結(jié)合構(gòu)造的透視圖。圖25中 的V-V截面具有相同的截面形狀。
[0196] 如圖24所示，根據(jù)本實(shí)施例的顯影劑容器221的熔接部的構(gòu)造在沿調(diào)色劑容器蓋 229的寬度方向Μ的一個(gè)端側(cè)Ml以及在沿長(zhǎng)度方向N的一個(gè)端側(cè)N1設(shè)有凹熔接部250。另 夕卜，凹端部熔接部250f被設(shè)置于沿凹熔接部250的寬度方向Μ的另一個(gè)端側(cè)M2以及沿長(zhǎng) 度方向Ν的另一個(gè)端側(cè)Ν2。另外，凸熔接部251被設(shè)置于沿寬度方向Μ的另一個(gè)端側(cè)M2以 及沿長(zhǎng)度方向Ν的另一個(gè)端側(cè)Ν2。
[0197] 被熔接凸部260在面對(duì)凹熔接部250的位置被設(shè)置于顯影劑框架224,被熔接凸端 部260f被設(shè)置在面對(duì)凹端部熔接部250f的位置，并且平坦熔接部261被設(shè)置在面對(duì)凸熔 接部251的位置。
[0198] 設(shè)置于沿寬度方向Μ的一個(gè)端側(cè)Ml以及沿長(zhǎng)度方向N的一個(gè)端側(cè)N1的凹熔接部 250沿彼此垂直的方向設(shè)置。
[0199] 利用凹端部熔接部250和被熔接凸端部260f形成的第一端部熔接部270f以及利 用那個(gè)凸熔接部251和平坦熔接部261形成的第二熔接部271不連接，并且其間留有空間 254a和254b。提供了填充在第一端部熔接部270f和第二熔接部271之間的空間254a和 254b中并且防止調(diào)色劑泄漏到顯影劑容器221外部的密封部件255a和255b。密封部件通 過粘合劑例如雙面膠帶等附連至顯影劑框架224的密封部件附連部224e和224f。
[0200] 另外，利用凹熔接部250和被熔接凸部260形成的第一熔接部270以及利用凹端 部熔接部250f和被熔接凸端部260f形成的第一端部熔接部270f的截面形狀均類似于第 一實(shí)施例。另外，利用凸熔接部251和平坦熔接部261形成的第二熔接部271的截面形狀 類似于第一實(shí)施例。
[0201] 下面將參照?qǐng)D25介紹熔接調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24的方法。
[0202] 如圖25所示，熔接邊角接觸面256被設(shè)置于調(diào)色劑容器蓋29的凹熔接部250和 凸熔接部251的背面（在圖25中用虛線表示）。另外，在熔接時(shí)作為第一被接收面的第一 被熔接部224a以及在熔接時(shí)作為第二被接收面的第二被熔接部224b被設(shè)置于顯影劑框架 224。還設(shè)有在熔接時(shí)作為第三被接收面的第三被熔接部224c以及在熔接時(shí)作為第四被接 收面的第四被熔接部224d。
[0203] 在熔接時(shí)，第一被熔接部224a由熔接支架257的第一熔接承受部257a支撐，第二 被熔接部24b由第二熔接承受部257b支撐。另外，第三被熔接部224c由第三熔接承受部 257c支撐，并且第四被熔接部224d由第四熔接承受部257d支撐。
[0204] 接下來(lái)，關(guān)于定位調(diào)色劑容器蓋229和顯影劑框架224的方法，圖25中的V-V截 面具有與如上所述相同的截面形狀，并且其形狀是與圖5所述相同的構(gòu)造。因此本文將省 略對(duì)其的說(shuō)明。
[0205] 根據(jù)圖24和圖25中介紹的構(gòu)造，通過第一熔接部270與無(wú)嵌合間隙的抵接部即 可執(zhí)行調(diào)色劑容器蓋229和顯影劑框架24沿長(zhǎng)度方向N和寬度方向Μ的定位。因此不必 設(shè)置構(gòu)成允許裝配間隙的空間的凸緣，由此能夠減小熔接部的尺寸。
[0206] 另外，因?yàn)榭蚣苤g不存在由調(diào)色劑容器蓋229和顯影劑框架224沿寬度方向Μ 的裝配間隙導(dǎo)致的偏差，所以提高了顯影劑容器221的外觀尺寸精度。
[0207] 根據(jù)第一實(shí)施例，凸塊部52和孔62與沿長(zhǎng)度方向Ν的一個(gè)端側(cè)Ν1的第二熔接部 71相比必須設(shè)置為更向外側(cè)。相反地，根據(jù)本實(shí)施例中的構(gòu)造，用于定位的凸塊部和孔與沿 長(zhǎng)度方向Ν的一個(gè)端側(cè)Ν1的第二熔接部271相比不必設(shè)置為更向外側(cè)。因此，顯影劑容器 221的尺寸能夠進(jìn)一步減小。
[0208] 要注意的是，根據(jù)本實(shí)施例的第一熔接部270被描述為設(shè)置于沿寬度方向Μ的一 端側(cè)Ml的全部和沿長(zhǎng)度方向Ν的另一端側(cè)Ν2的全部的構(gòu)造。但是，為了實(shí)現(xiàn)本實(shí)施例的 預(yù)期優(yōu)點(diǎn)，第一熔接部270可以是被設(shè)置于沿寬度方向Μ的一端側(cè)Ml的一部分和沿長(zhǎng)度方 向N的另一端側(cè)N2的一部分的構(gòu)造。
[0209] 第三實(shí)施例
[0210] 將參照?qǐng)D26介紹第三實(shí)施例。
[0211] 要注意的是，將詳細(xì)介紹本實(shí)施例不同于上述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)。圖26是描述根據(jù)本 實(shí)施例的調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24的結(jié)合構(gòu)造的透視圖。圖26示出了調(diào)色劑容 器蓋29和顯影劑框架24結(jié)合之前的狀態(tài)。在處于調(diào)色劑容器蓋29的角部29g、29h、29i 和29j分別與顯影劑框架24的角部24g、24h、24i和24j相匹配的狀態(tài)時(shí)，兩個(gè)框架通過隨 后介紹的超聲波焊結(jié)合在一起，由此組裝顯影劑容器21。
[0212] 如圖26所示，凹熔接部501和502以形成第一凸調(diào)色劑儲(chǔ)存部21kl和第二凸調(diào) 色劑儲(chǔ)存部21k2的方式在沿寬度方向Μ的一個(gè)端側(cè)Ml被設(shè)置于調(diào)色劑容器蓋29。第一凸 調(diào)色劑儲(chǔ)存部21kl和第二凸調(diào)色劑儲(chǔ)存部21k2被構(gòu)造為使得來(lái)自曝光設(shè)備的激光束能夠 穿過。而且凹熔接部501和502分別具有執(zhí)行顯影劑框架24的定位的定位內(nèi)側(cè)面501a和 502a。
[0213] 根據(jù)本實(shí)施例，凹熔接部501和502的截面形狀被形成為具有相同的形狀。此外， 定位內(nèi)側(cè)面501a和502a被設(shè)置在同一條直線上。
[0214] 另外，凸熔接部512被設(shè)置用于在用于形成激光照射空間的U形部處連接第一凸 調(diào)色劑儲(chǔ)存部21kl和第二凸調(diào)色劑儲(chǔ)存部21k2。凸熔接部511被設(shè)置于沿寬度方向Μ的 另一個(gè)端側(cè)M2以及沿長(zhǎng)度方向Ν的兩個(gè)端側(cè)。
[0215] 另外，執(zhí)行調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿長(zhǎng)度方向Ν的定位的凸塊部52沿 長(zhǎng)度方向Ν在一個(gè)端側(cè)Ν1被設(shè)置在凸熔接部511沿長(zhǎng)度方向Ν的外側(cè)。
[0216] 在通過熔接使顯影劑框架24和調(diào)色劑容器蓋29 -體化的情況下，被熔接凸部601 和602在面對(duì)調(diào)色劑容器蓋29的凹熔接部501和502的位置被設(shè)置于顯影劑框架24。此 夕卜，被熔接凸部601和602具有通過定位內(nèi)側(cè)面501a和502a定位的被定位外側(cè)面601a和 602a〇
[0217] 根據(jù)本實(shí)施例，被熔接凸部601和602的截面形狀被形成為具有相同的形狀。此 夕卜，被定位外側(cè)面601a和602a被設(shè)置在同一條直線上。
[0218] 顯影劑框架24和調(diào)色劑容器蓋29在第一熔接部701和702的兩個(gè)位置處沿寬度 方向N被定位。根據(jù)本實(shí)施例，第一熔接部701和702沿著垂直于顯影劑框架24和調(diào)色劑 容器蓋29的結(jié)合方向的方向被設(shè)置在同一條直線上。因此，在具有多個(gè)定位部的構(gòu)造中這 些定位部之間存在尺寸差異的情況下，顯影劑框架24和調(diào)色劑容器蓋29不會(huì)出現(xiàn)變形。
[0219] 另外，在通過熔接將顯影劑框架24和調(diào)色劑容器蓋29 -體化的情況下，用作第二 熔接結(jié)合部的平坦熔接部611和612被設(shè)置于處在面對(duì)調(diào)色劑容器蓋29的凸熔接部511 和512的位置的顯影劑框架24。此外，平坦熔接部611和612具有平坦部611a和612a。
[0220] 此外，邊緣面601d，602d被設(shè)置于被熔接凸部601和602。根據(jù)本實(shí)施例，邊緣面 601d和602d以及平坦部611a和612a被設(shè)置在同一個(gè)平面上。
[0221] 另外，通過結(jié)合凹熔接部501和502形成的第一熔接部701以及通過結(jié)合被熔接 凸部601和602形成的第一熔接部702被分別形成。另外，用作結(jié)合部的第二熔接部711 和712分別通過凸熔接部511和512以及平坦熔接部611和612形成。
[0222] 還提供了與凸塊部52裝配在一起并且執(zhí)行調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿 長(zhǎng)度方向N的定位的矩形孔62。通過將凸塊部52的長(zhǎng)度方向面52a和52b以及孔62的長(zhǎng) 度方向面62a和62b裝配在一起，確定調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿長(zhǎng)度方向N的 定位。此時(shí)，在凸塊部52的寬度方向面52c和52d以及孔62的寬度方向面62c和62d之 間留有間隔，從而不限制調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿寬度方向Μ的位置。
[0223] 如圖27和圖3Β所示，存在這樣的構(gòu)造，其中顯影劑容器的熔接部處在感光設(shè)備2 和曝光設(shè)備4之間的區(qū)域內(nèi)。在這種構(gòu)造中，第一顯影劑收容部和第二顯影劑收容部被構(gòu) 造在照射空間L1的區(qū)域以外。通過將第一熔接部701和702用作顯影劑儲(chǔ)存部的第一側(cè) 和第二側(cè)的熔接部，調(diào)色劑儲(chǔ)存部即可增大并且與感光單元30之間的間隙能夠減小。由此 即可有效地利用閑置空間。
[0224] 在現(xiàn)有技術(shù)中，即使在設(shè)有第一凸調(diào)色劑儲(chǔ)存部21kl和第二凸調(diào)色劑儲(chǔ)存部 21k2的構(gòu)造中，容積也必然被減小與凸緣部相等的量。但是，通過使用本實(shí)施例，顯影劑容 器21的容積能夠充分地確保比現(xiàn)有技術(shù)中的容積更大，因此顯影劑容器21的尺寸能夠減 小。此外，顯影劑單元20以及包括顯影劑單元20的處理盒5以及可附連和可拆除處理盒 5的裝置主體la都能減小尺寸。相應(yīng)地，尺寸的減小還降低了重量和制造成本。
[0225] 另外，作為沿寬度方向Μ的定位部的第一熔接部701和702被形成為相同的形狀 并且被設(shè)置在同一條直線上。也就是說(shuō)，盡管第一熔接部701和702沿寬度方向Μ被定位 在幾個(gè)位置，但是定位部全都被設(shè)置在同一條直線上。相應(yīng)地，定位部的尺寸沒有差異，因 此框架不會(huì)為了吸收尺寸差異而變形。
[0226] 此外，第二熔接部711由凸起511a和平坦部611a構(gòu)成，并且不具有沿寬度方向Μ 的定位功能。相應(yīng)地，調(diào)色劑容器蓋29沿顯影劑框架24的寬度方向Μ的定位僅通過第一 熔接部701和702的定位功能完成。
[0227] 因此，即使在調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24的第一熔接部701和702以及第 二熔接部711和712之間的尺寸有差異的情況下，尺寸差異的偏差也能通過第二熔接部吸 收。因此，可在不使調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24這兩個(gè)框架不變形的情況下執(zhí)行熔 接。
[0228] 此外，調(diào)色劑容器蓋29被特制為具有蓋的功能以覆蓋顯影劑框架24的開口。另 夕卜，調(diào)色劑容器蓋29被配置為使得從顯影劑框架24的顯影劑刮板23、顯影輥22和防溢出 片25的附連部到調(diào)色劑容器蓋29的結(jié)合部的距離較長(zhǎng)。因此，顯影劑刮板23、顯影輥22 和防溢出片25的相對(duì)位置關(guān)系不受熔接的影響，并且提高了圖像質(zhì)量。
[0229] 上述說(shuō)明是將第一熔接部701和702設(shè)置于沿寬度方向Μ的位置離一個(gè)端側(cè)M2 最遠(yuǎn)的另一端側(cè)Ml的兩條側(cè)邊中整條側(cè)邊的示例，但是即使在僅設(shè)置于其中的一部分側(cè) 邊的情況下也能獲得相同的優(yōu)點(diǎn)。
[0230] 此外，以上介紹了應(yīng)用于顯影劑單元20的顯影劑容器21的示例，但是即使在將容 器和蓋用作感光單元30的清潔容器32的獨(dú)立單元并且應(yīng)用于容器和蓋的熔接部的情況下 也能獲得相同的優(yōu)點(diǎn)。
[0231] 第四實(shí)施例
[0232] 現(xiàn)將參照?qǐng)D28介紹第四實(shí)施例。
[0233] 要注意的是，將詳細(xì)介紹本實(shí)施例不同于上述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)。
[0234] 圖28是描述根據(jù)本實(shí)施例的調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24的結(jié)合構(gòu)造的透 視圖。
[0235] 如圖28所示，凹熔接部50被設(shè)置于調(diào)色劑容器蓋29的沿寬度方向Μ的一個(gè)端側(cè) Ml。凹端部熔接部50f被設(shè)置在凹熔接部50的沿長(zhǎng)度方向Ν的兩個(gè)端側(cè)。另外，凸熔接部 51被連續(xù)地設(shè)置在沿寬度方向Μ的另一個(gè)端側(cè)M2以及沿長(zhǎng)度方向N的兩個(gè)端側(cè)。另外，執(zhí) 行調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿長(zhǎng)度方向Ν的定位的凸塊部52沿長(zhǎng)度方向Ν在一 個(gè)端側(cè)Ν1被設(shè)置于凸熔接部51沿長(zhǎng)度方向Ν的外側(cè)。
[0236] 被熔接凸部60被設(shè)置于顯影劑框架24上面對(duì)凹熔接部50的位置。另外，被熔接 凸端部60f被設(shè)置于面對(duì)凹端部熔接部50f的位置。另外，平坦熔接部61被設(shè)置于面對(duì)凸 熔接部51的位置。另外，提供執(zhí)行調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿長(zhǎng)度方向N的定位 的矩形孔62以用于與凸塊部52裝配。將凸塊部52的長(zhǎng)度方向面52a和52b以及孔62的 長(zhǎng)度方向面62a和62b裝配在一起，由此確定調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿長(zhǎng)度方 向N的位置。此時(shí)，在凸塊部52的寬度方向面52c和52d以及孔62的寬度方向面62c和 62d之間留有間隔，從而不限制調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿寬度方向Μ的位置。
[0237] 此時(shí)，第一熔接部70由凹熔接部50和被熔接凸部60形成。第一端部熔接部70f 由凹端部熔接部50f和被熔接凸端部60f形成。第二熔接部71由凸熔接部51和平坦熔接 部61形成。
[0238] 第一熔接部和第二熔接部的連接部
[0239] 將參照?qǐng)D29和圖30介紹第一熔接部70和第二熔接部71之間的連接部的構(gòu)造。
[0240] 圖29是描述第一熔接部70和第二熔接部71之間的連接部的透視圖。
[0241] 圖30是顯影劑容器24和調(diào)色劑容器蓋29的展開圖。顯影劑框架24的位置VI、 V3、V5和V7與調(diào)色劑容器蓋29的位置V2、V4、V6和V8相匹配，由此構(gòu)造顯影劑容器21。
[0242] 如圖29所示，調(diào)色劑容器蓋29在第一熔接部70的凹熔接部50上具有內(nèi)側(cè)面50b 且在第二熔接部71的凸熔接部50上具有凸起51a，并且由顯影劑容器24的面對(duì)內(nèi)側(cè)面50b 和凸起51a的凸熔接部60和平坦熔接部61組成。沿調(diào)色劑容器蓋29的長(zhǎng)度方向N，第一 熔接部70的內(nèi)側(cè)面50b比第二熔接部71的凸起51a配置得在外側(cè)上更遠(yuǎn)。而且，第二熔 接部71的凸起51a相對(duì)于第一熔接部70的內(nèi)側(cè)面50b在第一熔接部70的凹熔接部50的 端部附近與內(nèi)側(cè)面50b的連接部50f處無(wú)中斷地形成。因此，第一熔接部70的熔融部上的 內(nèi)側(cè)面50b和第二熔接部71的熔融部上的凸起51a以T形連續(xù)地形成。
[0243] 另外，面對(duì)第一熔接部70的凹熔接部50的凸熔接部60以及面對(duì)第二熔接部71 的凸熔接部51的平坦熔接部61通過連接部60e被連續(xù)地形成。
[0244] 而且，凸起51a可以與斜面50d被連續(xù)地形成。
[0245] 將參照?qǐng)D30介紹第一熔接部和第二熔接部重疊的區(qū)域。根據(jù)本實(shí)施例，第一熔接 部被構(gòu)造在從凹熔接部50的一個(gè)端部（E1)到凹熔接部50的另一個(gè)端部的區(qū)域中。另一 方面，第二熔接部被構(gòu)造在從凸熔接部51的一個(gè)端部（E2)到另一個(gè)端部的區(qū)域中。也就 是說(shuō)，圖30示出的區(qū)域是第一熔接部和第二熔接部在其中彼此重疊的區(qū)域。第一熔接部到 第二熔接部通過該區(qū)域連續(xù)地連接，這樣在通過熔接而結(jié)合后就能提供減少顯影劑泄漏的 顯影劑容器。
[0246] 第一熔接部和第二熔接部的連接部的變型
[0247] 可以實(shí)現(xiàn)如上所述的結(jié)合部的變型構(gòu)造，其中凸熔接部51的凸起51a被設(shè)置于顯 影劑框架24。將參照?qǐng)D31介紹這種結(jié)構(gòu)。
[0248] 圖31是顯影劑框架124和調(diào)色劑容器蓋129的透視圖，示出了結(jié)合部的變型。顯 影劑框架124的角S1、S3、S5和S7與調(diào)色劑容器蓋129的角S2、S4、S6和S8相匹配，由此 構(gòu)造顯影劑容器121。
[0249] 如圖31所示，調(diào)色劑容器蓋129由第一熔接部170的凹熔接部150和第二熔接部 171的平坦熔接部161組成。另外，顯影劑框架124由第一熔接部170的被熔接凸部160和 第二熔接部171的凸熔接部151組成。
[0250] 圖31示出了由設(shè)置于沿寬度方向Μ的一個(gè)端側(cè)Ml的第一熔接部170執(zhí)行調(diào)色劑 容器蓋129和顯影劑框架124沿寬度方向Μ的定位。定位不由沿調(diào)色劑容器蓋129的寬度 方向Μ形成在另一個(gè)端側(cè)M2的第二熔接部171執(zhí)行。第二熔接部171在熔接時(shí)能夠允許 在凸起51a和平坦部61a不分離的范圍內(nèi)有少量偏差。因此，即使在調(diào)色劑容器蓋129和 顯影劑框架124的第一熔接部170之間的尺寸有差異的情況下，調(diào)色劑容器蓋129和顯影 劑框架124也能均無(wú)變形地熔接。
[0251] 處理盒5的顯影劑容器121具有附連部用于附連例如顯影劑刮板23的附連部、支 撐顯影輥22的顯影劑軸承28的附連部和防溢出片25的附連部等部件。另外，例如顯影劑 刮板23、顯影輥22和防溢出片25等部件要求很高的定位精度。因此，由于組成顯影劑容 器21的調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24被無(wú)變形地熔接，因此顯影劑刮板23的附連部 不變形。另外，附連例如支撐顯影輥22的顯影劑軸承28的附連部和防溢出片25的附連部 等部件的附連部不變形。因此，顯影劑刮板23、顯影輥22和防溢出片25的相對(duì)位置關(guān)系不 由于熔接而改變，并且提高了圖像質(zhì)量。
[0252] 另外，如圖28所示，調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框架24沿寬度方向Μ的定位由第 一熔接部70執(zhí)行，并且沿長(zhǎng)度方向Ν的定位由沿長(zhǎng)度方向Ν設(shè)置于一個(gè)端側(cè)Ν1的凸塊部 52和孔62執(zhí)行。因此，在根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的結(jié)構(gòu)中，為了執(zhí)行調(diào)色劑容器蓋29和顯影劑框 架24沿寬度方向Μ和長(zhǎng)度方向Ν的定位，凸塊部和孔必須設(shè)置在兩個(gè)位置。相反地，不僅 凸塊部和孔可以僅設(shè)置在一個(gè)位置，而且顯影劑容器21的尺寸也能沿長(zhǎng)度方向Ν減小。
[0253] 根據(jù)本發(fā)明，顯影劑容器的尺寸能夠通過使用作為一體式定位部和熔接部的定位 熔接部而減小。另外，在容器尺寸相同的情況下可以提供具有更大顯影劑容量的顯影劑容 器。
[0254] 盡管已經(jīng)參照示范性實(shí)施例介紹了本發(fā)明，但是應(yīng)該理解本發(fā)明并不局限于公開 的示范性實(shí)施例。所附權(quán)利要求的保護(hù)范圍應(yīng)該與最廣義的解讀相符從而涵蓋所有這樣的 修改以及等價(jià)結(jié)構(gòu)和功能。
【權(quán)利要求】
1. 一種收容顯影劑的顯影劑容器，包括： 具有凹部的第一框架；以及 具有第一凸部的第二框架； 其中所述第一框架和所述第二框架通過第一熔接部和第二熔接部結(jié)合，在所述第一熔 接部中所述凹部和所述第一凸部被焊接在一起，在所述第二熔接部中第二凸部和平坦部被 焊接在一起， 所述凹部具有執(zhí)行所述第一框架和所述第二框架的定位的定位內(nèi)側(cè)面。
2. 如權(quán)利要求1所述的顯影劑容器， 其中所述第二熔接部沿著與通過所述定位內(nèi)側(cè)面執(zhí)行定位的方向交叉的方向設(shè)置。
3. 如權(quán)利要求2所述的顯影劑容器， 其中所述第二熔接部沿著與通過所述定位內(nèi)側(cè)面執(zhí)行定位的方向相垂直的方向設(shè)置。
4. 如權(quán)利要求1所述的顯影劑容器， 其中所述凹部和所述第一凸部中的至少一者具有斜面。
5. 如權(quán)利要求1所述的顯影劑容器， 其中所述第一框架包括所述第二凸部，并且所述第二框架包括所述平坦部。
6. 如權(quán)利要求1所述的顯影劑容器， 其中所述第一框架包括所述平坦部，并且所述第二框架包括所述第二凸部。
7. 如權(quán)利要求1所述的顯影劑容器， 其中所述第一熔接部被構(gòu)造為使得所述第一凸部接觸所述定位內(nèi)側(cè)面以用于確定所 述第一框架和所述第二框架之間的位置關(guān)系。
8. 如權(quán)利要求1所述的顯影劑容器， 其中所述第一熔接部被焊接為共用結(jié)合部。
9. 如權(quán)利要求1所述的顯影劑容器， 其中設(shè)有多個(gè)第一熔接部。
10. 如權(quán)利要求9所述的顯影劑容器， 其中所述多個(gè)第一熔接部被設(shè)置在同一條線上。
11. 如權(quán)利要求1所述的顯影劑容器， 其中設(shè)有一區(qū)域，在所述區(qū)域中一部分所述第一熔接部和一部分所述第二熔接部重 疊。
12. 如權(quán)利要求11所述的顯影劑容器， 所述第一框架和所述第二框架從所述第一熔接部至所述第二熔接部連續(xù)地結(jié)合。
13. -種顯影裝置，包括： 如權(quán)利要求1所述的顯影劑容器；以及 用于承載顯影劑的顯影劑承載部件。
14. 一種清潔裝置，包括： 被構(gòu)造用于去除殘留顯影劑的清潔設(shè)備；以及 如權(quán)利要求1所述的顯影劑容器，所述顯影劑容器用于收容去除的顯影劑。
15. -種處理盒，包括： 如權(quán)利要求1所述的顯影劑容器；以及 用于利用所述顯影劑容器中收容的顯影劑形成顯影圖像的圖像承載部件。
16. -種成像裝置， 其中如權(quán)利要求13所述的顯影裝置能夠被可拆除地安裝。
17. -種制造用于收容顯影劑的顯影劑容器的方法，包括： 將具有凹部的第一框架和具有第一凸部的第二框架熔接在一起； 其中所述烙接處理進(jìn)一步包括： 熔接所述凹部和所述第一凸部的第一處理，所述凹部具有用于在所述凹部?jī)?nèi)定位所述 第一框架和所述第二框架的定位內(nèi)側(cè)面，以及 用于熔接平坦部和第二凸部的第二處理。
【文檔編號(hào)】G03G21/18GK104122780SQ201410169526
【公開日】2014年10月29日 申請(qǐng)日期:2014年4月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月25日
【發(fā)明者】中澤良亮, 白方翔, 河井太刀夫, 長(zhǎng)谷川賢治 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社