顯示面板制造方法、顯示面板和顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明揭示了一種顯示面板制造方法、顯示面板和顯示裝置，顯示面板包括第一基板和第二基板，第一基板和第二基板上均形成有聚酰亞胺膜；該顯示面板制造方法包括：對第一基板和第二基板中的一個基板上的聚酰亞胺膜采用摩擦配向工藝進行配向，對另一個基板上的聚酰亞胺膜采用光配向工藝進行配向。本發(fā)明的顯示面板制造方法將摩擦配向工藝和光配向工藝同時配合使用，可有效改善顯示面板的顯示質(zhì)量，避免單獨使用其中一種配向工藝時導(dǎo)致某項性能出現(xiàn)短板的缺陷。
【專利說明】顯示面板制造方法、顯示面板和顯示裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及TFT-1XD【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及顯示面板制造方法、顯示面板和顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著社會進步及科技發(fā)展，薄膜場效應(yīng)晶體管液晶顯示器(TFT-1XD)已經(jīng)成為當(dāng)今時代顯示領(lǐng)域的主流產(chǎn)品，在工業(yè)生產(chǎn)、日常生活中起到了至關(guān)重要的作用，越來越受到人們的青睞。
[0003]液晶取向是液晶面板生產(chǎn)中的一個必要環(huán)節(jié)，目前TFT-1XD行業(yè)內(nèi)普遍使用摩擦技術(shù)對玻璃基板進行摩擦，使聚酰亞胺分子表面形成一定角度的溝槽，液晶分子沿溝槽進行排布，達到取向的目的。摩擦工藝方法較為簡單、方便，是當(dāng)前的主流技術(shù)，具有非常多的優(yōu)點，如:工藝成熟，摩擦配向穩(wěn)定性好；實施方便，操作性強。但是目前尚存在較多的弊端:摩擦不均造成液晶分子取向不均，影響顯示質(zhì)量；摩擦布對基板實施摩擦?xí)r，容易劃傷基板表面，引起質(zhì)量缺陷；摩擦?xí)r，會產(chǎn)生較多的摩擦碎屑(如聚酰亞胺碎屑，布毛碎屑)污染液晶，引起顯示缺陷如斑紋(Mura)等；IPS類液晶屏對畫質(zhì)要求較高，而摩擦工藝難于滿足高像素顯示器的要求(如對比度較低等)；摩擦產(chǎn)生的靜電易擊穿陣列基板上的顯示元件，造成顯示不良。
[0004]因此，行業(yè)逐漸興起一種液晶取向新技術(shù)一光配向工藝，即通過紫外光(UV)照射，引發(fā)基片上的光取向材料膜發(fā)生光致聚合、光致異構(gòu)或光致分解反應(yīng)，產(chǎn)生表面的各向異性，進而誘導(dǎo)液晶分子取向的方法，此方法是一種非接觸的液晶定向技術(shù)，克服了摩擦取向的缺點。光配向工藝采用非接觸模式曝光，不會對PI膜表面產(chǎn)生損傷，防止漏光發(fā)生，使暗態(tài)時候的亮度更低，而亮態(tài)時候的對比度保持不變，從而達到高對比度要求。光分解的材料也分為兩類，一類為小分子型，進行二次固化工藝即可，但是生產(chǎn)的產(chǎn)品仍然存在較多的不良難以解決，如Mura等。另一類為大分子型，需要進行二次清洗，產(chǎn)品Mura不良較輕微，具有相當(dāng)可觀的前景。然而，對于二次清洗工藝，業(yè)界內(nèi)尚無較為成功的方法能清洗干凈被分解掉的殘留PI (聚酰亞胺)液分子，這極大的影響了產(chǎn)品的對比度等一些性能。光配向工藝的缺陷也使液晶屏幕產(chǎn)生相關(guān)不良，例如顯示器殘像嚴重、信賴性不好等。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005](一 )解決的技術(shù)問題
[0006]針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的是提供一種顯示面板制造方法，能夠在一定程度上克服目前兩種配向工藝單獨使用導(dǎo)致的缺陷，并保留兩種配向工藝帶來的優(yōu)點。
[0007]( 二 )技術(shù)方案
[0008]為了達到以上目的，根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種顯示面板制造方法，顯示面板包括第一基板和第二基板，第一基板和第二基板上均形成有聚酰亞胺膜；該顯示面板制造方法包括:[0009]對第一基板和第二基板中的一個基板上的聚酰亞胺膜采用摩擦配向工藝進行配向，對另一個基板上的聚酰亞胺膜采用光配向工藝進行配向。
[0010]較佳地，該方法還包括:對第一基板和/或第二基板上的聚酰亞胺膜既采用摩擦配向工藝，也采用光配向工藝進行配向。
[0011]其中，在摩擦配向工藝中，使用棉布或人造纖維作為摩擦布。
[0012]其中，在配向前于第一基板和第二基板上形成聚酰亞胺膜時，待采用摩擦配向工藝的基板涂覆普通聚酰亞胺液，待采用光配向工藝的基板涂覆光敏性聚酰亞胺液。
[0013]其中，在光配向工藝中，使用波長為200nm?400nm的紫外光。
[0014]其中，所述紫外光的光積量為30mj/cm2?2000mj/cm2。
[0015]其中，所述光配向工藝還包括:二次清洗、二次加熱固化或二次UV固化。
[0016]其中，對第一基板和第二基板上的聚酰亞胺膜進行配向時，配向角度在±15°之間。
[0017]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種顯示面板，由上述的制造方法制成。
[0018]根據(jù)本發(fā)明的又一方面，提供了 一種顯示裝置，包括上述顯示面板。
[0019](三)有益效果
[0020]本發(fā)明至少有如下有益效果:
[0021]本發(fā)明中，在制造顯示面板時，分別對第一基板和第二基板中的一個采用摩擦配向工藝進行配向，一個采用光配向工藝進行配向，摩擦配向工藝可以提高液晶分子的錨定力，有利于改善光配向工藝容易造成的殘像嚴重、信賴性不好的問題。而光配向工藝由于是非摩擦技術(shù)，可改善漏光，降低液晶分子預(yù)傾角，提高對比度。由于將摩擦配向工藝和光配向工藝同時配合使用，可有效改善顯示面板的顯示質(zhì)量，避免單獨使用其中一種配向工藝時導(dǎo)致某項性能出現(xiàn)短板的缺陷。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0022]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些圖獲得其他的附圖。
[0023]圖1是本發(fā)明的顯示面板制造方法的總體流程圖；
圖2是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的顯示面板制造方法的流程圖；
[0024]圖3是根據(jù)本發(fā)明第二實施例的顯示面板制造方法的流程圖；
[0025]圖4是根據(jù)本發(fā)明第三實施例的顯示面板制造方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0026]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0027]根據(jù)本發(fā)明實施例的顯示面板制造方法中，顯示面板包括第一基板和第二基板，第一基板和第二基板上均形成有聚酰亞胺膜；如圖1所示，該顯示面板制造方法包括如下步驟:步驟SI，對第一基板和第二基板中的一個基板上的聚酰亞胺膜采用摩擦配向工藝進行配向；步驟S2，對另一個基板上的聚酰亞胺膜采用光配向工藝進行配向。下面以三個實施例對該方法進行詳細說明。在這三個實施例中，將第一基板和第二基板具體化為陣列基板和彩膜基板，但本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)知道，這僅是以舉例的方式進行說明。第一基板和第二基板也可能為其他形式的基板，當(dāng)然，無論為何種形式基板，只要滿足權(quán)利要求的限定，均屬于本發(fā)明保護的范圍之內(nèi)。
[0028]參見圖2，第一實施例中的顯示面板制造方法的具體步驟如下:
[0029]步驟Sll:陣列基板上涂覆光敏型聚酰亞胺(PI)液而形成聚酰亞胺(PI)膜。
[0030]其中，PI膜的厚度優(yōu)選為Inm?120nm。
[0031]步驟S12:對陣列基板上形成的PI膜進行光配向。
[0032]本步驟中，光配向具體包括:偏振紫外光照射及二次工藝。且同一基板可進行多次偏振紫外光照射。
[0033]使用的紫外光的波長優(yōu)選為200nm?400nm，且紫外光的光積量優(yōu)選為30mj/cm2 ?2000mj/cm2。
[0034]二次工藝包括三種:1) 二次清洗:使用強氧化性的物質(zhì)，如臭氧氣體等，或雙氧水溶液進行清洗；或使用強溶解性的有機溶劑如異丙醇與水，或者丙二醇甲醚醋酸酯與水的混合溶液；或者使用超聲波裝置，連同使用以上兩類清洗物質(zhì)和容易。2) 二次加熱固化:使用加熱的方式，將光配向后的基板置于加熱爐中，在一定溫度下烘烤一定時間。3) 二次UV固化:在陣列基板與彩膜基板對盒后，進行UV光照射工藝。在實際應(yīng)用中，根據(jù)聚酰亞胺膜材料成分的不同選擇其中一種二次工藝。
[0035]對PI膜進行光配向時，配向角度優(yōu)選為0°?±15°。
[0036]步驟S21:彩膜基板上涂覆普通PI液而形成PI膜。
[0037]PI膜的厚度優(yōu)選為Inm?120nm。
[0038]步驟S22:對彩膜基板上形成的PI膜進行摩擦配向。
[0039]本步驟中，對彩膜基板使用摩擦配向工藝，使用的摩擦布包括:棉布和人造纖維，且同一基板可進行多次摩擦。對PI膜進行摩擦配向時，配向角度優(yōu)選為0°?±15°。
[0040]步驟S3:ODF (液晶滴下)工藝。
[0041]本步驟中，ODF工藝具體包括:液晶注入、封框膠涂覆以及對盒。
[0042]步驟S4:CUT (切割)工藝。
[0043]本步驟中，⑶T工藝具體包括:根據(jù)實際需要，將對盒后形成的大尺寸的顯示面板切割成多塊小尺寸的顯示面板。
[0044]應(yīng)該理解的是，對陣列基板的PI膜進行光配向工藝和對彩膜基板的PI膜進行摩擦配向工藝的處理步驟，可以同時或先后進行。
[0045]也應(yīng)該理解，制造顯示面板還包括其他的工藝步驟，在此不再贅述。
[0046]參見圖3，第二實施例中的顯示面板制造方法的具體步驟如下:
[0047]步驟S51:彩膜基板上涂覆光敏型聚酰亞胺(PI)液而形成PI膜。
[0048]其中，PI膜的厚度優(yōu)選為Inm?120nm。
[0049]步驟S52:對彩膜基板上形成的PI膜進行光配向。[0050]本步驟中，光配向具體包括:偏振紫外光照射及二次工藝。且同一基板可進行多次偏振紫外光照射。
[0051]使用的紫外光的波長優(yōu)選為200nm?400nm，且紫外光的光積量優(yōu)選為30mj/cm2 ?2000mj/cm2。
[0052]二次工藝包括三種:I) 二次清洗:使用強氧化性的物質(zhì)，如臭氧氣體等，或雙氧水溶液進行清洗；或使用強溶解性的有機溶劑如異丙醇與水，或者丙二醇甲醚醋酸酯與水的混合溶液；或者使用超聲波裝置，連同使用以上兩類清洗物質(zhì)和容易。2) 二次加熱固化:使用加熱的方式，將光配向后的基板置于加熱爐中，在一定溫度下烘烤一定時間。3) 二次UV固化:在陣列基板與彩膜基板對盒后，進行UV光照射工藝。在實際應(yīng)用中，根據(jù)聚酰亞胺膜材料成分的不同選擇其中一種二次工藝。
[0053]對PI膜進行光配向時，配向角度優(yōu)選為0°?±15°。
[0054]步驟S61:陣列基板上涂覆普通PI液而形成PI膜。
[0055]PI膜的厚度優(yōu)選為Inm?120nm。
[0056]步驟S62:對陣列基板上形成的PI膜進行摩擦配向。
[0057]本步驟中，對陣列基板使用摩擦配向工藝，使用的摩擦布包括:棉布和人造纖維，且同一基板可進行多次摩擦。對PI膜進行摩擦配向時，配向角度優(yōu)選為0°?±15°。
[0058]步驟S3: ODF 工藝。
[0059]本步驟中，ODF工藝具體包括:液晶注入、封框膠涂覆以及對盒。
[0060]步驟S4:CUT 工藝。
[0061]本步驟中，⑶T工藝具體包括:根據(jù)實際需要，將對盒后形成的大尺寸的顯示面板切割成多塊小尺寸的顯示面板。
[0062]第二實施例與第一實施例相比，不同之處在于彩膜基板和陣列基板采用的配向工藝互換。
[0063]參見圖4，第三實施例中的顯示面板制造方法的具體步驟如下:
[0064]步驟S91:彩膜基板上涂覆光敏型聚酰亞胺(PI)液而形成第一 PI膜。
[0065]步驟S92:對彩膜基板上形成的第一 PI膜進行光配向。
[0066]本步驟中，光配向具體包括:偏振紫外光照射及二次工藝。且同一基板可進行多次偏振紫外光照射。
[0067]使用的紫外光的波長優(yōu)選為200nm?400nm，且紫外光的光積量優(yōu)選為30mj/cm2 ?2000mj/cm2。
[0068]二次工藝包括三種:1) 二次清洗:使用強氧化性的物質(zhì)，如臭氧氣體等，或雙氧水溶液進行清洗；或使用強溶解性的有機溶劑如異丙醇與水，或者丙二醇甲醚醋酸酯與水的混合溶液；或者使用超聲波裝置，連同使用以上兩類清洗物質(zhì)和容易。2) 二次加熱固化:使用加熱的方式，將光配向后的基板置于加熱爐中，在一定溫度下烘烤一定時間。3) 二次UV固化:在陣列基板與彩膜基板對盒后，進行UV光照射工藝。在實際應(yīng)用中，根據(jù)聚酰亞胺膜材料成分的不同選擇其中一種二次工藝。
[0069]對PI膜進行光配向時，配向角度優(yōu)選為0°?±15°。
[0070]步驟S93:彩膜基板上涂覆普通PI液而形成第二 PI膜。
[0071]步驟S94:對彩膜基板上形成的第二 PI膜進行摩擦配向。[0072]本步驟中，對彩膜基板使用摩擦配向工藝，使用的摩擦布包括:棉布和人造纖維，且同一基板可進行多次摩擦。對PI膜進行摩擦配向時，配向角度優(yōu)選為0°?±15°。
[0073]步驟SlOl:陣列基板上涂覆光敏型聚酰亞胺(PI)液而形成第三PI膜。
[0074]步驟S102:對陣列基板上形成的第三PI膜進行光配向。
[0075]本步驟中，光配向具體包括:偏振紫外光照射及二次工藝。且同一基板可進行多次偏振紫外光照射。
[0076]使用的紫外光的波長優(yōu)選為200nm?400nm，且紫外光的光積量優(yōu)選為30mj/cm2 ?2000mj/cm2。
[0077]二次工藝包括三種:1) 二次清洗:使用強氧化性的物質(zhì)，如臭氧氣體等，或雙氧水溶液進行清洗；或使用強溶解性的有機溶劑如異丙醇與水，或者丙二醇甲醚醋酸酯與水的混合溶液；或者使用超聲波裝置，連同使用以上兩類清洗物質(zhì)和容易。2) 二次加熱固化:使用加熱的方式，將光配向后的基板置于加熱爐中，在一定溫度下烘烤一定時間。3) 二次UV固化:在陣列基板與彩膜基板對盒后，進行UV光照射工藝。在實際應(yīng)用中，根據(jù)聚酰亞胺膜材料成分的不同選擇其中一種二次工藝。
[0078]對PI膜進行光配向時，配向角度優(yōu)選為0°?±15°。
[0079]步驟S103:陣列基板上涂覆普通PI液而形成第四PI膜。
[0080]步驟S104:對陣列基板上形成的第四PI膜進行摩擦配向。
[0081]本步驟中，對陣列基板使用摩擦配向工藝，使用的摩擦布包括:棉布和人造纖維，且同一基板可進行多次摩擦。對PI膜進行摩擦配向時，配向角度優(yōu)選為0°?±15°。
[0082]步驟S3: ODF 工藝。
[0083]本步驟中，ODF工藝具體包括:液晶注入、封框膠涂覆以及對盒。
[0084]步驟S4:CUT 工藝。
[0085]本步驟中，⑶T工藝具體包括:根據(jù)實際需要，將對盒后形成的大尺寸的顯示面板切割成多塊小尺寸的顯示面板。
[0086]應(yīng)該理解的是，在第三實施例中，對任一基板的PI膜進行光配向工藝和摩擦配向工藝的先后順序可以互換；另外，可以只對一個基板采用兩種配向工藝，而對另一個基板只米用一種配向工藝。
[0087]基于相同的發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實施例還提供了一種顯示面板，由上述的制造方法制成；以及一種顯示裝置，包括前述的顯示面板。顯示面板和顯示裝置當(dāng)然還包括其他的器件，在此不再贅述。顯示裝置可以為:電子紙、手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。
[0088]本發(fā)明實施例中，摩擦配向工藝可以提高液晶分子的錨定力，有利于改善光配向工藝容易造成的殘像嚴重、信賴性不好的問題。而光配向工藝由于是非摩擦技術(shù)，可改善漏光，降低液晶分子預(yù)傾角，提高對比度。在本發(fā)明中將摩擦配向工藝和光配向工藝同時配合使用，可有效改善顯示器的顯示質(zhì)量，在一定程度上改善兩種配向工藝分別具有的缺陷，并同時具有兩種配向工藝的優(yōu)點。尤其，通過兩種工藝的搭配使用，可以使得顯示面板的性能滿足實際的需求，例如由于其中一種配向工藝的缺點而導(dǎo)致顯示面板的某項性能達不到實際需求時，采用本發(fā)明的方法，僅其中一個基板采用該配向工藝，而另一個基板采用另一種配向工藝，那么其缺陷得到一定程度的彌補，該項性能就可能滿足實際需求。[0089]此外，第三實施例中對彩膜基板和/或陣列基板上的聚酰亞胺膜既采用摩擦配向工藝，也采用光配向工藝進行配向，可以滿足對顯示面板某些性能的特定要求，即由于在其中一個基板或兩個基板上使用兩種配向工藝，使由此制造的面板的某些性能滿足特定要求。
[0090]以上實施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對其限制；盡管參照前述實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解；其依然可以對前述各實施例所記載的技術(shù)方案進行修改，或者對其中部分技術(shù)特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實施例技術(shù)方案的精神和范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種顯示面板制造方法，所述顯示面板包括第一基板和第二基板，第一基板和第二基板上均形成有聚酰亞胺膜，其特征在于，該顯示面板制造方法包括: 對第一基板和第二基板中的一個基板上的聚酰亞胺膜采用摩擦配向工藝進行配向，對另一個基板上的聚酰亞胺膜采用光配向工藝進行配向。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該方法還包括:對第一基板和/或第二基板上的聚酰亞胺膜既采用摩擦配向工藝，也采用光配向工藝進行配向。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，在摩擦配向工藝中，使用棉布或人造纖維作為摩擦布。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，在配向之前于第一基板和第二基板上形成聚酰亞胺膜時，待采用摩擦配向工藝的基板涂覆普通聚酰亞胺液，待采用光配向工藝的基板涂覆光敏性聚酰亞胺液。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，在光配向工藝中，使用波長為200nm~400nm的紫外光。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述紫外光的光積量為30mj/cm2~2000mj/cm2。
7.根據(jù)權(quán)利要 求1或2所述的方法，其特征在于，所述光配向工藝還包括:二次清洗、二次加熱固化或二次UV固化。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，對第一基板和第二基板上的聚酰亞胺膜進行配向時，配向角度在±15°之間。
9.一種顯示面板，其特征在于，由權(quán)利要求1-8其中任一項所述的制造方法制成。
10.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求9所述的顯示面板。
【文檔編號】G02F1/1337GK104020608SQ201410188829
【公開日】2014年9月3日 申請日期:2014年5月6日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月6日
【發(fā)明者】肖印, 劉鋒 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 成都京東方光電科技有限公司