專(zhuān)利名稱(chēng)：永磁體光學(xué)調(diào)整裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬於光學(xué)精密機(jī)械(儀器)領(lǐng)域中的光學(xué)調(diào)整、校準(zhǔn)裝置。
本實(shí)用新型之前，用于調(diào)整、校準(zhǔn)光學(xué)精密機(jī)械(儀器)光路的光學(xué)裝置有若干種，常見(jiàn)的與本實(shí)用新型最為接近的已有技術(shù)是通常所稱(chēng)的拉-頂結(jié)構(gòu)，如圖1所示是由帶有通光孔徑的基體1、頂針2、調(diào)整螺釘3、反射鏡4、鏡座5、外罩6組成的。
這種光學(xué)調(diào)整機(jī)構(gòu)，是通過(guò)調(diào)整頂針2和調(diào)整螺釘3來(lái)確定反射鏡4在光路中的最佳位置，調(diào)整起來(lái)很費(fèi)事、費(fèi)時(shí)間，也不易調(diào)準(zhǔn)，穩(wěn)定性和重復(fù)性都很差，每換一次反射鏡4都要調(diào)整一次，否則光線傳播就要離軸，影響精度。
為了克服上述缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的目的在于光學(xué)調(diào)整簡(jiǎn)單，特別是換反射鏡4時(shí)，可大大減少調(diào)整時(shí)間，甚至不用調(diào)整就能滿(mǎn)足光路的技術(shù)要求，同時(shí)，這種機(jī)構(gòu)體積小，具有很廣泛的實(shí)用價(jià)值。
本實(shí)用新型的詳細(xì)內(nèi)容如圖2所示，是由帶有通光孔徑的基體7、頂針8、永磁體9、反射鏡10、鏡座11、外罩12組成的。
在帶有通光孔徑的基體7上(以下稱(chēng)基體7)，分布有規(guī)格相同的三個(gè)頂針8與基體7用螺紋聯(lián)接，三根頂針8的針尖，在調(diào)整中能高出基體7的基面。
永磁體9是由規(guī)格相同的鑲嵌在基體7上的三塊永磁體組成，三塊永磁體9的端面與基體7的基面在同一個(gè)平面上，鏡座11用磁性材料制成。
反射鏡10裝在鏡座11上，外罩12將反射鏡10和鏡座11罩在里面，并使其在徑向方向沒(méi)有位移，外罩12與基體7用螺釘相連。
原理說(shuō)明鑲嵌在基體7上的三塊永磁體9通過(guò)磁性作用，吸引用磁性材料制成的鏡座12，通過(guò)調(diào)整高出基體7基面的三根頂針8來(lái)確定反射鏡10的位置，三根頂針的針尖頂住反射鏡10，調(diào)好后，三根針尖所構(gòu)成的平面就是反射鏡10的理想位置。
本實(shí)用新型的積極效果光學(xué)調(diào)整簡(jiǎn)單、重復(fù)性好、穩(wěn)定性好，換反射鏡時(shí)，不用再調(diào)整，節(jié)省很多時(shí)間，同時(shí)體積小，特別適合空間位置小的場(chǎng)合。


圖1是已有技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖，摘要附圖采用圖2。
最佳實(shí)施例基體7的材料采用鋁合金、鏡座11的材料采用磁性材料，三根頂針8之間的連線和三塊永磁體9之間的連線都成等邊三角形，本結(jié)構(gòu)特別適用于光學(xué)導(dǎo)光系統(tǒng)中45°轉(zhuǎn)角處的位置。
權(quán)利要求1.永磁體光學(xué)調(diào)整裝置，是由帶有通光孔徑的基體、頂針、反射鏡、鏡座和外罩組成的，其特征在于在帶有通光孔徑的基體7(以下稱(chēng)基體7)上，分布有規(guī)格相同的三根頂針8，與基體7用螺紋聯(lián)接，三根頂針8的針尖在調(diào)整中能高出基體7的基面，鑲嵌在基體7上的三塊規(guī)格相同的永磁體9的端面與基體7的基面在同一個(gè)平面上，鏡座11用磁性材料制成，反射鏡10裝在鏡座11上，外罩12將反射鏡10和鏡座11罩在里面，并使其在徑向方向沒(méi)有位移，外罩12與基體7用螺釘相連。
專(zhuān)利摘要永磁體光學(xué)調(diào)整裝置,采用三根頂針和三塊永磁體吸引鏡座結(jié)構(gòu),而使光學(xué)調(diào)整非常簡(jiǎn)單,換反射鏡時(shí)不用調(diào)整就能滿(mǎn)足光路精度要求,而且重復(fù)性、穩(wěn)定性相當(dāng)好,特別適用導(dǎo)光系統(tǒng)中45°轉(zhuǎn)角處,該結(jié)構(gòu)體積小,在調(diào)校光路的裝置中有廣泛的應(yīng)用前景和使用價(jià)值。
文檔編號(hào)G02B27/00GK2303312SQ97226549
公開(kāi)日1999年1月6日 申請(qǐng)日期1997年9月17日 優(yōu)先權(quán)日1997年9月17日
發(fā)明者孫文才, 李殿軍, 孫杰 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械研究所