直于光軸的方向上具有分量。
9. 根據(jù)權利要求8所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，滿足下述條件表達式： -I.60<f4B/f4C<-0. 50 其中，f4B表示所述第二部分透鏡組的焦距，并且f4C表示所述第三部分透鏡組的焦 距。
10. 根據(jù)權利要求8所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，滿足下述條件表達式： -I.60<f4/f4B<-0. 60 其中，f4表示所述第四透鏡組的焦距，并且f4B表示所述第二部分透鏡組的焦距。
11. 根據(jù)權利要求1所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，所述第二透鏡組按從物體側的 順序，包括負透鏡、具有負屈光力的第一負部分組以及具有負屈光力的第二負部分組，并且 所述第一負部分組和所述第二負部分組分別由正透鏡和負透鏡，即總共兩個透鏡構 成。
12. 根據(jù)權利要求1所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，在所述第一透鏡組和所述第四 透鏡組中的至少一個光學表面上形成防反射涂層，并且 所述防反射涂層包括由濕處理形成的至少一層。
13. 根據(jù)權利要求12所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，所述防反射涂層是多層膜，并 且 由所述濕處理形成的層是構成所述多層膜的層中的最外表面?zhèn)葘印?br>14. 根據(jù)權利要求12所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，假定由所述濕處理形成的層 相對于d線（波長A = 587. 6nm)的折射率為nd，nd為1. 30或更小。
15. 根據(jù)權利要求12所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，提供孔徑光闌，并且 設置有所述防反射涂層的光學表面是從所述孔徑光闌看的凹透鏡表面。
16. 根據(jù)權利要求15所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，從所述孔徑光闌看的凹透鏡 表面是所述第一透鏡組中的透鏡的物體側透鏡表面。
17. 根據(jù)權利要求15所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，從所述孔徑光闌看的凹透鏡 表面是所述第一透鏡組中的透鏡的像側透鏡表面。
18. 根據(jù)權利要求15所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，從所述孔徑光闌看的凹透鏡 表面是所述第四透鏡組中的透鏡的像側透鏡表面。
19. 根據(jù)權利要求12所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，形成有所述防反射涂層的光 學表面是從像側看的凹透鏡表面。
20. 根據(jù)權利要求19所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，所述從像側看的凹透鏡表面 是所述第四透鏡組中從物體側起的第二透鏡的物體側透鏡表面。
21. 根據(jù)權利要求19所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，所述從像側看的凹透鏡表面 是所述第四透鏡組中從像側起的第四透鏡的像側透鏡表面。
22. 根據(jù)權利要求19所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，所述從像側看的凹透鏡表面 是所述第四透鏡組中從像側起的第三透鏡的物體側透鏡表面。
23. -種光學裝置，配備有根據(jù)權利要求1所述的可變放大率光學系統(tǒng)。
24. -種可變放大率光學系統(tǒng)，按從物體側的順序，包括：具有正屈光力的第一透鏡 組；具有負屈光力的第二透鏡組；具有正屈光力的第三透鏡組；和具有正屈光力的第四透 鏡組； 在從廣角端狀態(tài)變焦到遠攝端狀態(tài)時，所述第一透鏡組固定在光軸方向上的位置中， 并且在光軸方向上移動至少所述第二透鏡組和所述第三透鏡組，使得所述第一透鏡組和所 述第二透鏡組之間的距離增加，并且所述第二透鏡組和所述第三透鏡組之間的距離減小； 所述第四透鏡組按從物體側的順序，包括具有正屈光力的第一部分透鏡組、具有負屈 光力的第二部分透鏡組和具有正屈光力的第三部分透鏡組， 移動所述第二部分透鏡組的至少一部分以在垂直于光軸的方向上具有分量；并且 滿足下述條件表達式： -I.60<f4B/f4C<-0. 50 -I.60<f4/f4B<-0. 60 其中，f4表示所述第四透鏡組的焦距，f4B表示所述第二部分透鏡組的焦距，并且f4C 表示所述第三部分透鏡組的焦距。
25. 根據(jù)權利要求24所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，所述可變放大率光學系統(tǒng)中 的最像側透鏡組具有正屈光力，并且在從廣角端狀態(tài)變焦到遠攝端狀態(tài)時固定在光軸方向 上的位置中。
26. 根據(jù)權利要求24所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，所述第二透鏡組的放大率改 變使得跨越等放大率，并且 滿足下述條件表達式： 0. 3〇<0 2wX 0 2t<0. 90 其中，f32w表示廣角端狀態(tài)中的所述第二透鏡組的放大率，并且f32t表示遠攝端狀態(tài) 中的所述第二透鏡組的放大率。
27. 根據(jù)權利要求24所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，滿足下述條件表達式： 0. 290<Nln -Nlp 其中，Nln表示所述第一透鏡組中具有最大折射率的負透鏡的折射率，并且Nlp表示所 述第一透鏡組中具有最小折射率的正透鏡的折射率。
28. 根據(jù)權利要求24所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，滿足下述條件表達式： 0.160<N3n - N3p 其中，N3n表示所述第三透鏡組中具有最大折射率的負透鏡的折射率，并且N3p表示所 述第三透鏡組中具有最小折射率的正透鏡的折射率。
29. 根據(jù)權利要求24所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，所述第二透鏡組按從物體側 的順序，包括負透鏡、具有負屈光力的第一負部分組和具有負屈光力的第二負部分組，并且 所述第一負部分組和所述第二負部分組分別由正透鏡和負透鏡，即總共兩個透鏡構 成。
30. 根據(jù)權利要求24所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，所述第一透鏡組按從物體側 的順序，由具有正屈光力的前組和具有正屈光力的后組構成，并且 在從無限遠物體聚焦到近距離物體時，所述后組移向物體側。
31. 根據(jù)權利要求30所述的可變放大率光學系統(tǒng)，其中，所述第一透鏡組的所述前組 由具有正屈光力的單透鏡構成，并且 所述第一透鏡組的所述后組按從物體側的順序，由負透鏡、正透鏡和正透鏡構成。
32. -種光學裝置，配備有根據(jù)權利要求24所述的可變放大率光學系統(tǒng)。
33. -種用于制造可變放大率光學系統(tǒng)的方法，所述可變放大率光學系統(tǒng)按從物體側 的順序，包括：具有正屈光力的第一透鏡組；具有負屈光力的第二透鏡組；具有正屈光力的 第三透鏡組；和具有正屈光力的第四透鏡組； 所述方法包括步驟： 將所述第一透鏡組至所述第四透鏡組構造成滿足下述條件表達式： -I. 20<fw2/(fl3wXf4)<-0. 20 其中，fl3w表示廣角端狀態(tài)中，所述第一透鏡組至所述第三透鏡組的合成焦距，f4表 示所述第四透鏡組的焦距，并且fw表示廣角端狀態(tài)中，所述可變放大率光學系統(tǒng)的焦距； 將至少所述第二透鏡組和所述第三透鏡組構造為在光軸方向上移動，使得在從廣角端 狀態(tài)變焦到遠攝端狀態(tài)時，所述第一透鏡組固定在光軸方向上的位置中，所述第一透鏡組 和所述第二透鏡組之間的距離增加，并且所述第二透鏡組和所述第三透鏡組之間的距離減 小；以及 將所述第一至所述第四透鏡組的至少一部分構造為移動以在垂直于光軸的方向上具 有分量。
34. 根據(jù)權利要求33所述的用于制造可變放大率光學系統(tǒng)的方法，其中，所述第一透 鏡組按從物體側的順序，由具有正屈光力的前組和具有正屈光力的后組構成，以及 在從無限遠物體聚焦到近距離物體時，所述后組移向物體側。
35. 根據(jù)權利要求33所述的用于制造可變放大率光學系統(tǒng)的方法，其中，所述可變放 大率光學系統(tǒng)中的最像側透鏡組具有正屈光力，并且在從廣角端狀態(tài)變焦到遠攝端狀態(tài)時 固定在光軸方向上的位置中。
36. 根據(jù)權利要求33所述的用于制造可變放大率光學系統(tǒng)的方法，其中，在從廣角端 狀態(tài)變焦到遠攝端狀態(tài)時，所述第二透鏡組的放大率改變使得跨越等放大率，并且 滿足下述條件表達式： 0. 3〇<0 2wX 0 2t<0. 90 其中，f32w表示廣角端狀態(tài)中的所述第二透鏡組的放大率，并且f32t表示遠攝端狀態(tài) 中的所述第二透鏡組的放大率。
37. 根據(jù)權利要求33所述的用于制造可變放大率光學系統(tǒng)的方法，其中，所述第四透 鏡組按從物體側的順序，由具有正屈光力的第一部分透鏡組、具有負屈光力的第二部分透 鏡組和具有正屈光力的第三部分透鏡組構成，并且 移動所述第二部分透鏡組的至少一部分以在垂直于光軸的方向上具有分量。
38. 根據(jù)權利要求37所述的用于制造可變放大率光學系統(tǒng)的方法，其中，滿足下述條 件表達式： -I.60<f4B/f4C<-0. 50 其中，f4B表示所述第二部分透鏡組的焦距，并且f4C表示所述第三部分透鏡組的焦 距。
39. 根據(jù)權利要求37所述的用于制造可變放大率光學系統(tǒng)的方法，其中，滿足下述條 件表達式： -I.60<f4/f4B<-0. 60 其中，f4表示所述第四透鏡組的焦距，并且f4B表示所述第二部分透鏡組的焦距。
40. 根據(jù)權利要求33所述的用于制造可變放大率光學系統(tǒng)的方法，其中，在所述第一 透鏡組和所述第四透鏡組中的至少一個光學表面上形成防反射涂層，并且 所述防反射涂層包括由濕處理形成的至少一層。
41. 根據(jù)權利要求40所述的用于制造可變放大率光學系統(tǒng)的方法，其中，所述防反射 涂層是多層膜，并且 由所述濕處理形成的層是構成所述多層膜的層中的最外表面?zhèn)葘印?br>42. 根據(jù)權利要求40所述的用于制造可變放大率光學系統(tǒng)的方法，其中，假定由所述 濕處理形成的層相對于d線（波長A = 587. 6nm)的折射率為nd，nd為1. 30或更小。
43. 根據(jù)權利要求40所述的用于制造可變放大率光學系統(tǒng)的方法，其中，提供孔徑光 闌，并且 設置有所述防反射涂層的光學表面是從所述孔徑光闌看的凹透鏡表面。
44. 一種用于制造可變放大率光學系統(tǒng)的方法，所述可變放大率光學系統(tǒng)按從物體側 的順序，包括：具有正屈光力的第一透鏡組；具有負屈光力的第二透鏡組；具有正屈光力的 第三透鏡組；和具有正屈光力的第四透鏡組； 所述方法包括步驟： 將所述第四透鏡組構造成按從物體側的順序，包括具有正屈光力的第一部分透鏡組、 具有負屈光力的第二部分透鏡組和具有正屈光力的第三部分透鏡組； 將所述第四透鏡組構造成滿足下述條件表達式： -I.60<f4B/f4C<-0. 50 -I.60<f4/f4B<-0. 60 其中，f4表示所述第四透鏡組的焦距，f4B表示所述第二部分透鏡組的焦距，并且f4C 表示所述第三部分透鏡組的焦距； 將至少所述第二透鏡組和所述第三透鏡組構造成在光軸方向上能夠移動，使得在從廣 角端狀態(tài)變焦到遠攝端狀態(tài)時，所述第一透鏡組固定在光軸方向上的位置中，所述第一透 鏡組和所述第二透鏡組之間的距離增加，并且所述第二透鏡組和所述第三透鏡組之間的距 離減小；以及 將所述第二部分透鏡組的至少一部分構造為移動以在垂直于光軸的方向上具有分量。
45. 根據(jù)權利要求44所述的用于制造可變放大率光學系統(tǒng)的方法，其中，所述可變放 大率光學系統(tǒng)中的最像側透鏡組具有正屈光力，并且在從廣角端狀態(tài)變焦到遠攝端狀態(tài)時 固定在光軸方向上的位置中。
46. 根據(jù)權利要求44所述的用于制造可變放大率光學系統(tǒng)的方法，其中，所述第二透 鏡組的放大率改變使得跨越等放大率，并且 滿足下述條件表達式： 0. 3〇<0 2wX 0 2t<0. 90 其中，f32w表示廣角端狀態(tài)中的所述第二透鏡組的放大率，并且f32t表示遠攝端狀態(tài) 中的所述第二透鏡組的放大率
【專利摘要】提供了可變放大率光學系統(tǒng)，以及可變放大率光學系統(tǒng)的制造方法，其在變焦時抑制像差的變化，并且從廣角端狀態(tài)到遠攝端狀態(tài)具有良好光學性能，這是因為其按從物體側的順序，包括：具有正屈光力的第一透鏡組(G1)；具有負屈光力的第二透鏡組(G2)；具有正屈光力的第三透鏡組(G3)和具有正屈光力的第四透鏡組(G4)；在從廣角端狀態(tài)變焦到遠攝端狀態(tài)時，第一透鏡組(G1)固定在光軸方向上的位置中；在光軸方向上移動至少第二透鏡組(G2)和第三透鏡組(G3)，使得第一透鏡組(G1)和第二透鏡組(G2)之間的距離增加，并且第二透鏡組(G2)和第三透鏡組(G3)之間的距離減??；作為減振透鏡組，移動第一透鏡組(G1)至第四透鏡組(G4)的至少一部分使得在垂直于光軸的方向上具有分量；并且滿足預定條件表達式。
【IPC分類】G02B15-167, G02B1-11, G02B13-18
【公開號】CN104603665
【申請?zhí)枴緾N201380042190
【發(fā)明人】山口悟史, 田中一政
【申請人】株式會社尼康
【公開日】2015年5月6日
【申請日】2013年8月9日
【公告號】EP2884322A1, US20150153550, WO2014025015A1