一種基板靜電測(cè)試裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種基板靜電測(cè)試裝置，屬于顯示裝置制造技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示裝置因具有功耗低、無(wú)輻射等優(yōu)點(diǎn)，現(xiàn)已占據(jù)了平面顯示領(lǐng)域的主導(dǎo)地位?，F(xiàn)有的液晶顯示裝置中液晶面板通常包括相對(duì)設(shè)置的陣列基板和彩膜基板，以及填充在陣列基板和彩膜基板之間的液晶層，其中，陣列基板上設(shè)有多個(gè)薄膜晶體管以及多個(gè)像素電極，像素電極與薄膜晶體管的漏極連接，在彩膜基板上設(shè)有與像素電極對(duì)應(yīng)的公共電極。當(dāng)通過(guò)薄膜晶體管為像素電極充電時(shí)，像素電極和公共電極之間形成電場(chǎng)，從而可控制像素電極對(duì)應(yīng)的液晶區(qū)域內(nèi)的液晶分子偏轉(zhuǎn)，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)液晶顯示功能。
[0003]在液晶顯示裝置的開(kāi)發(fā)技術(shù)反饋、產(chǎn)品評(píng)價(jià)分析等過(guò)程中或在將液晶顯示裝置銷(xiāo)售給用戶(hù)之前，經(jīng)常需要對(duì)裝配完畢的陣列基板經(jīng)過(guò)抗靜電測(cè)試，隨著技術(shù)的進(jìn)步和對(duì)產(chǎn)品抗靜電能力的要求越來(lái)越嚴(yán)格，對(duì)ESD (Electro-Static discharge，靜電釋放)檢測(cè)設(shè)備的要求也在不斷加高。靜電放射角度、放射槍頭與產(chǎn)品距離、放電電壓精準(zhǔn)及穩(wěn)定性均是需要考慮因素。且由于ESD相關(guān)不良解析的要求，對(duì)靜電傳輸路徑的追蹤需求越發(fā)明顯。
[0004]現(xiàn)有打ESD設(shè)備多為手持式，靜電釋放角度與距離人為影響較大，難以準(zhǔn)確控制靜電放射角度、放射槍頭與產(chǎn)品距離、放電電壓等，對(duì)靜電測(cè)試穩(wěn)定性及準(zhǔn)確度較差，實(shí)驗(yàn)重復(fù)性較差。且無(wú)法對(duì)靜電流轉(zhuǎn)路徑進(jìn)行跟蹤顯示，不能滿(mǎn)足對(duì)ESD不良的解析要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是:如何方便精準(zhǔn)重復(fù)檢測(cè)基板的抗靜電性能。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的本發(fā)明提供一種基板靜電測(cè)試裝置，包括基板載臺(tái)、設(shè)置在基板載臺(tái)上方的靜電發(fā)生裝置和控制裝置；
[0007]所述基板載臺(tái)上設(shè)置有靜電感應(yīng)裝置；
[0008]所述靜電發(fā)生裝置和所述靜電感應(yīng)裝置與所述控制裝置通信連接；
[0009]所述控制裝置控制所述靜電發(fā)生裝置放射靜電，所述靜電感應(yīng)裝置感應(yīng)從基板流轉(zhuǎn)的靜電信息并傳輸至所述控制裝置，所述控制裝置根據(jù)所述靜電信息處理并生成靜電檢測(cè)結(jié)果。
[0010]可選地，還包括靜電發(fā)生裝置支架，所述靜電感應(yīng)裝置設(shè)置在所述靜電發(fā)生裝置支架上；
[0011 ] 所述靜電發(fā)生裝置還包括靜電放射調(diào)節(jié)裝置，所述靜電放射調(diào)節(jié)裝置調(diào)節(jié)所述靜電發(fā)生裝置的靜電放射參數(shù)。
[0012]可選地，所述靜電放射調(diào)節(jié)裝置與所述控制裝置通信連接；
[0013]所述靜電放射調(diào)節(jié)裝置根據(jù)所述控制裝置的控制命令調(diào)節(jié)所述靜電放射參數(shù)。
[0014]可選地，所述靜電放射參數(shù)包括:
[0015]靜電放射角度、靜電放射距離、靜電放電次數(shù)、靜電放電電壓、靜電放射位置中的任意一種或多種。
[0016]可選地，所述靜電感應(yīng)裝置是分布在所述基板載臺(tái)表面的多個(gè)靜電探測(cè)器。
[0017]可選地，所述多個(gè)靜電探測(cè)器是均勻分布在所述基板載臺(tái)表面的。
[0018]可選地，還包括基板固定裝置；
[0019]所述基板固定裝置設(shè)置在所述基板載臺(tái)表面。
[0020]可選地，所述基板固定裝置包括設(shè)置在基板載臺(tái)表面的真空吸附吸盤(pán)和與所述真空吸附吸盤(pán)連接的真空吸附管路。
[0021]可選地，所述靜電檢測(cè)結(jié)果是靜電傳輸路徑圖像。
[0022]本發(fā)明提供的基板靜電測(cè)試裝置，可通過(guò)靜電放射調(diào)節(jié)裝置精確調(diào)節(jié)靜電發(fā)生裝置釋放靜電的角度與距離、電壓大小與放電次數(shù)、設(shè)置放電位置等靜電釋放電參數(shù)，滿(mǎn)足測(cè)量穩(wěn)定、準(zhǔn)確、重復(fù)性等要求。通過(guò)檢測(cè)區(qū)域均勻分布靜電探測(cè)器，可檢測(cè)靜電流轉(zhuǎn)路徑，在控制裝置上生成靜電傳輸路徑圖像，便于跟蹤分析。本發(fā)明可檢測(cè)跟蹤靜電傳輸路徑，幫助分析靜電損傷原因，輔助不良解析，對(duì)產(chǎn)品靜電薄弱處改善。
【附圖說(shuō)明】
[0023]圖1是本發(fā)明基板靜電測(cè)試裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖2是本發(fā)明基板載臺(tái)結(jié)構(gòu)不意圖；
[0025]圖3是是本發(fā)明基板固定裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖4是圖3中基板固定裝置的真空盤(pán)俯視不意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0027]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說(shuō)明本發(fā)明，但不用來(lái)限制本發(fā)明的范圍。
[0028]如圖1所示，本發(fā)明提供一種基板靜電測(cè)試裝置，包括用于放置基板5的基板載臺(tái)1、設(shè)置在基板載臺(tái)I上方的靜電發(fā)生裝置2和控制裝置3 ;基板載臺(tái)I上設(shè)置有靜電感應(yīng)裝置4 ;靜電發(fā)生裝置2和靜電感應(yīng)裝置4與控制裝置3通信連接；控制裝置3控制靜電發(fā)生裝置I放射靜電，靜電感應(yīng)裝置4感應(yīng)從基板5流轉(zhuǎn)的靜電信息并傳輸至控制裝置3，控制裝置3根據(jù)靜電信息處理并生成靜電檢測(cè)結(jié)果。下面對(duì)本發(fā)明提供的基板靜電測(cè)試裝置展開(kāi)詳細(xì)的說(shuō)明。
[0029]如圖1所示，本發(fā)明提供的基板靜電測(cè)試裝置還包括靜電發(fā)生裝置支架6，靜電發(fā)生裝置2優(yōu)選設(shè)置在靜電發(fā)生裝置支架6上；靜電發(fā)生裝置2還包括靜電放射調(diào)節(jié)裝置7，靜電放射調(diào)節(jié)裝置7調(diào)節(jié)靜電發(fā)生裝置2的靜電放射參數(shù)。靜電放射調(diào)節(jié)裝置7優(yōu)選設(shè)置在靜電發(fā)生裝置支架6上。如圖1所示，靜電放射調(diào)節(jié)裝置7與控制裝置3通信連接；靜電放射調(diào)節(jié)裝置7根據(jù)控制裝置3的控制命令調(diào)節(jié)靜電放射參數(shù)。靜電放射參數(shù)包括:靜電放射角度、靜電放射距離、靜電放電次數(shù)、靜電放電電壓、靜電放射位置中的任意一種或多種。
[0030]如圖1、圖2所示，靜電感應(yīng)裝置4是分布在基板載臺(tái)I表面的多個(gè)靜電探測(cè)器。多個(gè)靜電探測(cè)器是均勻分布在基板載臺(tái)I表面的。每個(gè)靜電探測(cè)器接收靜電發(fā)生裝置2發(fā)出的各種靜電流轉(zhuǎn)過(guò)基板5的靜電信息。每個(gè)靜電探測(cè)器將接收到的靜電信息傳輸至控制裝置3?？刂蒲b置3根據(jù)每個(gè)靜電探測(cè)器將接收到的靜電信息分析得出靜電檢測(cè)結(jié)果，靜電檢測(cè)結(jié)果優(yōu)選是靜電傳輸路徑圖像，圖像中包括靜電流轉(zhuǎn)路徑。通過(guò)靜電傳輸路徑圖像便于跟蹤分析靜電損傷原因，改善產(chǎn)品性能。
[0031]如圖3所示，本發(fā)明提供的基板靜電測(cè)試裝置，還包括基板固定裝置；基板固定裝置設(shè)置在基板載臺(tái)I的表面，用于在測(cè)試基板的抗靜電性能時(shí)固定基板5。如圖4，優(yōu)選地基板固定裝置包括設(shè)置在基板載臺(tái)I表面的真空吸附吸盤(pán)8和與真空吸附吸盤(pán)連接的真空吸附管路9。如圖3所示，在測(cè)試基板5的抗靜電性能時(shí)，真空吸附管路9向真空吸附吸盤(pán)8抽真空，使基板5穩(wěn)定固定在基板載臺(tái)I上。
[0032]綜上所述，本發(fā)明提供的基板靜電測(cè)試裝置，可通過(guò)靜電放射調(diào)節(jié)裝置精確調(diào)節(jié)靜電發(fā)生裝置釋放靜電的角度與距離、電壓大小與放電次數(shù)、設(shè)置放電位置等靜電釋放電參數(shù)，滿(mǎn)足測(cè)量穩(wěn)定、準(zhǔn)確、重復(fù)性等要求。通過(guò)檢測(cè)區(qū)域均勻分布靜電探測(cè)器，可檢測(cè)靜電流轉(zhuǎn)路徑，在控制裝置上生成靜電傳輸路徑圖像，便于跟蹤分析。本發(fā)明可檢測(cè)跟蹤靜電傳輸路徑，幫助分析靜電損傷原因，輔助不良解析，對(duì)產(chǎn)品靜電薄弱處改善。
[0033]以上實(shí)施方式僅用于說(shuō)明本發(fā)明，而并非對(duì)本發(fā)明的限制，有關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本發(fā)明的范疇，本發(fā)明的專(zhuān)利保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求限定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種基板靜電測(cè)試裝置，其特征在于:包括基板載臺(tái)、設(shè)置在基板載臺(tái)上方的靜電發(fā)生裝置和控制裝置； 所述基板載臺(tái)上設(shè)置有靜電感應(yīng)裝置； 所述靜電發(fā)生裝置和所述靜電感應(yīng)裝置與所述控制裝置通信連接； 所述控制裝置控制所述靜電發(fā)生裝置放射靜電，所述靜電感應(yīng)裝置感應(yīng)從基板流轉(zhuǎn)的靜電信息并傳輸至所述控制裝置，所述控制裝置根據(jù)所述靜電信息處理并生成靜電檢測(cè)結(jié)果O2.如權(quán)利要求1所述的基板靜電測(cè)試裝置，其特征在于，還包括靜電發(fā)生裝置支架，所述靜電感應(yīng)裝置設(shè)置在所述靜電發(fā)生裝置支架上； 所述靜電發(fā)生裝置還包括靜電放射調(diào)節(jié)裝置，所述靜電放射調(diào)節(jié)裝置調(diào)節(jié)所述靜電發(fā)生裝置的靜電放射參數(shù)。3.如權(quán)利要求2所述的基板靜電測(cè)試裝置，其特征在于，所述靜電放射調(diào)節(jié)裝置與所述控制裝置通信連接； 所述靜電放射調(diào)節(jié)裝置根據(jù)所述控制裝置的控制命令調(diào)節(jié)所述靜電放射參數(shù)。4.如權(quán)利要求2所述的基板靜電測(cè)試裝置，其特征在于，所述靜電放射參數(shù)包括: 靜電放射角度、靜電放射距離、靜電放電次數(shù)、靜電放電電壓、靜電放射位置中的任意一種或多種。5.如權(quán)利要求1所述的基板靜電測(cè)試裝置，其特征在于，所述靜電感應(yīng)裝置是分布在所述基板載臺(tái)表面的多個(gè)靜電探測(cè)器。6.如權(quán)利要求5所述的基板靜電測(cè)試裝置，其特征在于，所述多個(gè)靜電探測(cè)器是均勻分布在所述基板載臺(tái)表面的。7.如權(quán)利要求1所述的基板靜電測(cè)試裝置，其特征在于，還包括基板固定裝置； 所述基板固定裝置設(shè)置在所述基板載臺(tái)表面。8.如權(quán)利要求7所述的基板靜電測(cè)試裝置，其特征在于，所述基板固定裝置包括設(shè)置在基板載臺(tái)表面的真空吸附吸盤(pán)和與所述真空吸附吸盤(pán)連接的真空吸附管路。9.如權(quán)利要求1-8任意一項(xiàng)所述的基板靜電測(cè)試裝置，其特征在于，所述靜電檢測(cè)結(jié)果是靜電傳輸路徑圖像。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種基板靜電測(cè)試裝置，包括基板載臺(tái)、設(shè)置在基板載臺(tái)上方的靜電發(fā)生裝置和控制裝置；基板載臺(tái)上設(shè)置有靜電感應(yīng)裝置；靜電發(fā)生裝置和靜電感應(yīng)裝置與控制裝置通信連接；控制裝置控制靜電發(fā)生裝置放射靜電，靜電感應(yīng)裝置感應(yīng)從基板流轉(zhuǎn)的靜電信息并傳輸至控制裝置，控制裝置根據(jù)靜電信息處理并生成靜電檢測(cè)結(jié)果。本發(fā)明可通過(guò)靜電放射調(diào)節(jié)裝置精確調(diào)節(jié)靜電發(fā)生裝置靜電釋放電參數(shù)，滿(mǎn)足測(cè)量穩(wěn)定、準(zhǔn)確、重復(fù)性等要求。本發(fā)明通過(guò)檢測(cè)區(qū)域均勻分布靜電探測(cè)器，可檢測(cè)靜電流轉(zhuǎn)路徑，在控制裝置上生成靜電傳輸路徑圖像，便于跟蹤分析。本發(fā)明可檢測(cè)跟蹤靜電傳輸路徑，幫助分析靜電損傷原因，輔助不良解析，對(duì)產(chǎn)品靜電薄弱處改善。
【IPC分類(lèi)】G02F1/13, G01R31/00
【公開(kāi)號(hào)】CN105158945
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510684858
【發(fā)明人】于剛
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司
【公開(kāi)日】2015年12月16日
【申請(qǐng)日】2015年10月20日