一種液體涂布裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體行業(yè)晶片處理設(shè)備，具體地說是一種用于涂布顯影液的液體涂布裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]半導(dǎo)體集成電路制造過程中需要對曝光后的晶圓進行顯影操作。對于12寸的晶圓，現(xiàn)有的顯影液涂布裝置需要經(jīng)過特定的路徑對晶圓表面進行顯影液涂布。由于路徑限制，顯影液涂布在晶圓表面各處的時間有差異，導(dǎo)致晶圓表面各處的顯影時間不同，顯影不均勻，降低了產(chǎn)品晶圓良率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于提供一種用于涂布顯影液的液體涂布裝置。該液體涂布裝置可同時對整個晶圓表面進行顯影液涂布，避免由于顯影時間不同造成的顯影不均勻現(xiàn)象發(fā)生。
[0004]本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的:
[0005]本發(fā)明包括噴嘴蓋及噴嘴主體，其中噴嘴蓋與噴嘴主體密封連接，中間形成密閉腔室，所述噴嘴蓋上設(shè)有進液口，所述噴嘴主體上開有螺旋狀的流道，該流道內(nèi)設(shè)有排出顯影液的出液孔；由所述進液口流入的顯影液流至所述流道中，并從所述出液孔排出，同時涂布于整個晶圓的表面。
[0006]其中:所述噴嘴蓋上設(shè)有排氣孔；所述進液口的軸向中心線與排氣孔的軸向中心線平行，且分別垂直于所述噴嘴主體；所述出液孔按螺旋狀分布，與所述流道的螺旋狀軌跡相對應(yīng)；所述噴嘴蓋為中空的圓錐狀，其頂端設(shè)有進液口，所述噴嘴蓋下端的邊緣通過密封圈與所述噴嘴主體密封連接。
[0007]本發(fā)明的優(yōu)點與積極效果為:
[0008]1.本發(fā)明的液體涂布裝置具有螺旋狀的流道和出液孔，顯影液通過螺旋狀的流道從出液孔流出，螺旋狀分布的出液孔可將顯影液同時涂布在整個晶圓表面，使晶圓表面顯影均勻，保證了產(chǎn)品晶圓良率。
[0009]2.本發(fā)明的噴嘴蓋上具有排氣孔，避免排氣不暢造成的顯影液不均勻和氣泡。
【附圖說明】
[0010]圖1為本發(fā)明的立體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011]圖2為本發(fā)明的主視剖視圖；
[0012]圖3為本發(fā)明噴嘴主體的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]其中:1為噴嘴蓋，2為進液口，3為排氣孔，4為噴嘴主體，5為密封圈，6為密閉腔室，7為流道,8為出液孔。
【具體實施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步詳述。
[0015]如圖1?3所示，本發(fā)明包括噴嘴蓋1及噴嘴主體4，其中噴嘴蓋1為中空的圓錐狀，其頂端設(shè)有進液口 2，噴嘴蓋1下端的邊緣通過密封圈5與噴嘴主體4密封連接。噴嘴蓋1上設(shè)有排氣孔3，該排氣孔3位于進液口 2的一側(cè)，設(shè)置在噴嘴蓋1軸向截面一側(cè)的斜邊上。進液口 2的軸向中心線與排氣孔3的軸向中心線平行，且分別垂直于噴嘴主體4。
[0016]噴嘴主體4為圓盤狀，外邊緣通過密封圈5與噴嘴蓋1密封連接，中間開成密閉腔室6。噴嘴主體4上開有螺旋狀的流道7，該流道7內(nèi)設(shè)有排出顯影液的出液孔8 ;該出液孔8按螺旋狀分布，與流道(7)的螺旋狀軌跡相對應(yīng)。
[0017]本發(fā)明的工作原理為:
[0018]噴嘴蓋1與噴嘴主體4之間用密封圈5進行密封，形成密閉腔室6，防止顯影液泄漏。顯影液從進液口 2流入密閉腔室6中，流入螺旋狀的流道7內(nèi)，并從螺旋分布的出液孔8排出，同時涂布于整個晶圓的表面。顯影液逐漸布滿密閉腔室6，密閉腔室6內(nèi)原有的氣體從排氣孔3排出。
【主權(quán)項】
1.一種液體涂布裝置，其特征在于:包括噴嘴蓋(1)及噴嘴主體(4)，其中噴嘴蓋(1)與噴嘴主體(4)密封連接，中間形成密閉腔室(6)，所述噴嘴蓋(1)上設(shè)有進液口(2)，所述噴嘴主體(4)上開有螺旋狀的流道(7)，該流道(7)內(nèi)設(shè)有排出顯影液的出液孔(8);由所述進液口(2)流入的顯影液流至所述流道(7)中，并從所述出液孔(8)排出，同時涂布于整個晶圓的表面。2.按權(quán)利要求1所述的液體涂布裝置，其特征在于:所述噴嘴蓋(1)上設(shè)有排氣孔⑶。3.按權(quán)利要求2所述的液體涂布裝置，其特征在于:所述進液口(2)的軸向中心線與排氣孔(3)的軸向中心線平行，且分別垂直于所述噴嘴主體(4)。4.按權(quán)利要求1或2所述的液體涂布裝置，其特征在于:所述出液孔(8)按螺旋狀分布，與所述流道(7)的螺旋狀軌跡相對應(yīng)。5.按權(quán)利要求1或2所述的液體涂布裝置，其特征在于:所述噴嘴蓋(1)為中空的圓錐狀，其頂端設(shè)有進液口(2)，所述噴嘴蓋(1)下端的邊緣通過密封圈(5)與所述噴嘴主體(4)密封連接。
【專利摘要】本發(fā)明涉及半導(dǎo)體行業(yè)晶片處理設(shè)備，具體地說是一種用于涂布顯影液的液體涂布裝置，包括噴嘴蓋及噴嘴主體，其中噴嘴蓋與噴嘴主體密封連接，中間形成密閉腔室，所述噴嘴蓋上設(shè)有進液口，所述噴嘴主體上開有螺旋狀的流道，該流道內(nèi)設(shè)有排出顯影液的出液孔；由所述進液口流入的顯影液流至所述流道中，并從所述出液孔排出，同時涂布于整個晶圓的表面；所述噴嘴蓋上設(shè)有排氣孔。本發(fā)明的液體涂布裝置具有螺旋狀的流道和出液孔，顯影液通過螺旋狀的流道從出液孔流出，螺旋狀分布的出液孔可將顯影液同時涂布在整個晶圓表面，使晶圓表面顯影均勻，保證了產(chǎn)品晶圓良率；本發(fā)明的噴嘴蓋上具有排氣孔，避免排氣不暢造成的顯影液不均勻和氣泡。
【IPC分類】B05C11/06, G03F7/30, B05C5/02
【公開號】CN105487353
【申請?zhí)枴緾N201410538091
【發(fā)明人】尹寧
【申請人】沈陽芯源微電子設(shè)備有限公司
【公開日】2016年4月13日
【申請日】2014年10月13日