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      改善磁控管電磁兼容性能的真空管的制作方法

      文檔序號(hào):2967990閱讀:257來(lái)源:國(guó)知局
      專(zhuān)利名稱(chēng):改善磁控管電磁兼容性能的真空管的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型是一種真空管,特別是一種改善磁控管電磁兼容性能的真空管,屬于真空管的改造技術(shù)。
      2、背景技術(shù)現(xiàn)有用于磁控管的真空管中,端引片4焊接在陶瓷支撐件2上,陶瓷支撐件2焊接在管殼1上,管殼1焊接在陽(yáng)極筒5上,引線(xiàn)31、32依次穿過(guò)陽(yáng)極筒5、管殼1、陶瓷支撐件2焊接在端引片4上,如圖1所示,這種結(jié)構(gòu)存在的缺點(diǎn)是諧振腔內(nèi)產(chǎn)生的有害高次諧波能夠從管殼1的開(kāi)孔11通過(guò)并穿透陶瓷支承件2,造成微波泄漏,所以其EMC性能(電磁兼容性)較差。

      發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服上述缺點(diǎn)而提供一種避免微波泄漏,有效改善磁控管電磁兼容性能的真空管。
      本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖如圖2所示,包括有端引片、陶瓷支撐件、管殼、陽(yáng)極筒、引線(xiàn),其中端引片焊接在陶瓷支撐件上,陶瓷支撐件焊接在管殼上,管殼焊接在陽(yáng)極筒上,引線(xiàn)依次穿過(guò)陽(yáng)極筒、管殼、陶瓷支撐件焊接在端引片上,其中管殼的開(kāi)孔部位向管殼的內(nèi)腔拉延一扼流圈。
      上述扼流圈長(zhǎng)度為h=λ/4,其中λ為波長(zhǎng)。
      本實(shí)用新型由于管殼的開(kāi)孔部位向管殼的內(nèi)腔拉延一扼流圈,可以削減除去諧振腔內(nèi)產(chǎn)生的有害高次諧波,避免微波泄漏,有效改善了磁控管電磁兼容性能。


      圖1為現(xiàn)有技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;具體實(shí)施方式
      實(shí)施例本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖如圖2所示,包括有端引片4、陶瓷支撐件2、管殼1、陽(yáng)極筒5、引線(xiàn)31、32,其中端引片4焊接在陶瓷支撐件2上,陶瓷支撐件2焊接在管殼1上,管殼1焊接在陽(yáng)極筒5上,引線(xiàn)31、32依次穿過(guò)陽(yáng)極筒5、管殼1、陶瓷支撐件2焊接在端引片4上,其中管殼1的開(kāi)孔部位12向管殼1的內(nèi)腔拉延一扼流圈13;上述扼流圈13的長(zhǎng)度為h=λ/4,其中λ為波長(zhǎng)。
      權(quán)利要求1.一種改善磁控管電磁兼容性能的真空管,包括有端引片(4)、陶瓷支撐件(2)、管殼(1)、陽(yáng)極筒(5)、引線(xiàn)(31)、(32),其中端引片(4)焊接在陶瓷支撐件(2)上,陶瓷支撐件(2)焊接在管殼(1)上,管殼(1)焊接在陽(yáng)極筒(5)上,引線(xiàn)(31)、(32)依次穿過(guò)陽(yáng)極筒(5)、管殼(1)、陶瓷支撐件(2)焊接在端引片(4)上,其特征在于管殼(1)的開(kāi)孔部位(12)向管殼(1)的內(nèi)腔拉延一扼流圈(13)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善磁控管電磁兼容性能的真空管,其特征在于上述扼流圈(13)的長(zhǎng)度為h=λ/4,其中λ為波長(zhǎng)。
      專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型是一種改善磁控管電磁兼容性能的真空管,包括有端引片(4)、陶瓷支撐件(2)、管殼(1)、陽(yáng)極筒(5)、引線(xiàn)(31)、(32),其中端引片(4)焊接在陶瓷支撐件(2)上,陶瓷支撐件(2)焊接在管殼(1)上,管殼(1)焊接在陽(yáng)極筒(5)上,引線(xiàn)(31)、(32)依次穿過(guò)陽(yáng)極筒(5)、管殼(1)、陶瓷支撐件(2)焊接在端引片(4)上,其中管殼(1)的開(kāi)孔部位(12)向管殼(1)的內(nèi)腔拉延一扼流圈(13);本實(shí)用新型由于管殼的開(kāi)孔部位向管殼的內(nèi)腔拉延一扼流圈,可以削減除去諧振腔內(nèi)產(chǎn)生的有害高次諧波,避免微波泄漏,有效改善磁控管電磁兼容性能。
      文檔編號(hào)H01J23/00GK2800482SQ20052005721
      公開(kāi)日2006年7月26日 申請(qǐng)日期2005年4月20日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月20日
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