專(zhuān)利名稱(chēng)：平面光源裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明關(guān)于一種平面光源裝置，特別是一種能減少發(fā)光暗點(diǎn)或暗帶的平面光源結(jié)構(gòu)，以提高整體的發(fā)光均勻性。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)平面光源(FFL)裝置在制作時(shí)，是將前板和后板玻璃封合并將該兩板間的封合空間抽成真空狀，但為在該封合空間中區(qū)隔出多個(gè)放電空間以均勻發(fā)光，且避免抽真空時(shí)外部大氣壓力壓迫導(dǎo)致玻璃破裂，在前板和后板兩平面中間必須加上數(shù)個(gè)間隙物(Spacer)以支撐裝置結(jié)構(gòu)。該平面光源裝置的發(fā)光原理，是借由一些惰性氣體(如氖、氪、氙、氬等)放入各放電空間中流動(dòng)；當(dāng)施以極性電壓于該流動(dòng)氣體時(shí)，會(huì)使氣體放電形成等離子體，該等離子體會(huì)進(jìn)一步釋放出紫外光以激發(fā)各放電空間中的熒光涂層，使熒光涂層產(chǎn)生一可見(jiàn)光朝兩板玻璃射出。但是由于前后板間的間隙物存在，使得該平面光源裝置在發(fā)光時(shí)，前板玻璃上相對(duì)于間隙物之處會(huì)呈現(xiàn)暗點(diǎn)或暗帶。如圖1A所示，為以光度計(jì)測(cè)量該平面光源裝置在發(fā)光時(shí)各區(qū)域輝度的簡(jiǎn)示圖，其中顏色愈深的區(qū)域代表其輝度愈高，反之則愈低。因該裝置中的每一間隙物呈一柱狀結(jié)構(gòu)，使其輝度較低(即圖中顏色最淡者)而呈暗點(diǎn)10分布。另如圖1B所示的一光源裝置，因其間隙物呈多個(gè)互為平行的條狀結(jié)構(gòu)，故在光源發(fā)光時(shí)會(huì)出現(xiàn)多條暗帶120分布(即圖中顏色較暗者)，這些暗點(diǎn)或暗帶均使該光源裝置發(fā)光的均勻性(uniformity)變差，由此可知如果需要的間隙物數(shù)量越多，則整體的發(fā)光均勻性(uniformity)就更差。
部份傳統(tǒng)平面光源裝置雖有將前板表面施以霧化處理，但不規(guī)則及不對(duì)稱(chēng)的霧化分布，較難以控制光源的射出方向以減少暗帶，故仍使整體的發(fā)光均勻性不佳。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種平面光源裝置，是對(duì)前板玻璃或一置于前板玻璃上的透光板執(zhí)行表面處理加工，使其形成特殊光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)，所述光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)能折射光線(xiàn)導(dǎo)向暗帶或暗點(diǎn)，故能減少該平面光源裝置發(fā)光時(shí)所產(chǎn)生的暗帶或暗點(diǎn)，進(jìn)而使該平面光源裝置整體達(dá)到最佳的發(fā)光均勻性。
為達(dá)到上述的目的，依據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例提供一平面光源裝置，包括可透光的第一基板及第二基板、多個(gè)支撐部及放電腔體位于該第一基板以及第二基板之間，以及多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)。該放電腔體產(chǎn)生可見(jiàn)光射入該第一基板，但是由于支撐部的存在而使該支撐部上方第一基板上相對(duì)應(yīng)的位置形成一遮蔽區(qū)。該多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)，設(shè)于第一基板上并沿前述遮蔽區(qū)的周?chē)鷮?duì)應(yīng)分布，當(dāng)該可見(jiàn)光自該放電腔體射入該第一基板時(shí)，至少部份光源會(huì)經(jīng)由該光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)的折射，導(dǎo)向前述遮蔽區(qū)而射出，使該平面光源裝置均勻發(fā)光。該多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)包括至少兩個(gè)棱鏡結(jié)構(gòu)以遮蔽區(qū)為中心分置于前述遮蔽區(qū)周?chē)鷥蓚?cè)，使該兩棱鏡結(jié)構(gòu)的形狀互呈左右對(duì)稱(chēng)；至少一棱鏡結(jié)構(gòu)是以遮蔽區(qū)為中心配置，使該結(jié)構(gòu)兩側(cè)形狀呈左右對(duì)稱(chēng)；以及一柱鏡結(jié)構(gòu)。
依據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例中，該多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)包括至少兩個(gè)半凹鏡結(jié)構(gòu)以遮蔽區(qū)為中心，使其形狀互呈左右對(duì)稱(chēng)排列。在本發(fā)明的第三實(shí)施例中，該多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)包括至少兩組各具多個(gè)氣泡結(jié)構(gòu)的群組以遮蔽區(qū)為一空間坐標(biāo)的中心，分置于前述遮蔽區(qū)周?chē)淖笥覂蓚?cè)，且該兩氣泡結(jié)構(gòu)群組的氣泡排列位置在此空間上互呈左右對(duì)稱(chēng)。
在本發(fā)明的第四實(shí)施例中進(jìn)一步包括一透光板，設(shè)置于該第一基板之上，且使其具有前述多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)以正對(duì)該遮蔽區(qū)周?chē)?。?dāng)該可見(jiàn)光源經(jīng)由該第一基板射入該透光板時(shí)，至少部份光源會(huì)經(jīng)該透光板的幾何結(jié)構(gòu)的折射，朝向前述遮蔽區(qū)并自該透光板射出，以使該平面光源裝置均勻發(fā)光。
圖1A為一光度計(jì)測(cè)量圖，以顯示一傳統(tǒng)平面光源裝置各處的透光均勻性。
圖1B為另一傳統(tǒng)平面光源裝置的發(fā)光俯視圖。
圖2為依據(jù)本發(fā)明的平面光源裝置的俯視圖。
圖3A為依據(jù)圖2A-A’剖線(xiàn)的側(cè)面剖視圖，顯示本發(fā)明第一實(shí)施例的平面光源裝置。
圖3B為依據(jù)圖3A中標(biāo)號(hào)3B的放大圖。
圖4A為依據(jù)圖2A-A’剖線(xiàn)的側(cè)面剖視圖，顯示本發(fā)明第二實(shí)施例的平面光源裝置。
圖4B為依據(jù)圖4A中標(biāo)號(hào)4B的放大圖。
圖5A為依據(jù)圖2A-A’剖線(xiàn)的側(cè)面剖視圖，顯示本發(fā)明第三實(shí)施例的平面光源裝置。
圖5B為依據(jù)圖5A中標(biāo)號(hào)5B的放大圖。
圖6A為依據(jù)圖2A-A’剖線(xiàn)的側(cè)面剖視圖，顯示本發(fā)明第四實(shí)施例的平面光源裝置。
圖6B為依據(jù)圖6A中標(biāo)號(hào)6B的放大圖。
圖7為利用一激光聚焦技術(shù)制作本發(fā)明的平面光源裝置的示意圖。
主要組件符號(hào)說(shuō)明10 暗點(diǎn) 40透光板2，3，4，5，6平面光源裝置 32，42，52，62第一基板34，44，54，64 放電腔體 36，46，56，66第二基板38，48，58，68 支撐部70電射光束72 聚焦光學(xué)鏡頭 120 暗帶320，400，520，620 光學(xué)幾何結(jié)構(gòu) 322，326 三角棱鏡結(jié)構(gòu)324，526 柱鏡結(jié)構(gòu) 340，440，540，640熒光層522，524 半凹透鏡結(jié)構(gòu) 622，624 氣泡結(jié)構(gòu)具體實(shí)施方式
如圖2所示，為依據(jù)本發(fā)明的一種平面光源裝置2的上視圖，其中以一A-A’剖面線(xiàn)進(jìn)行側(cè)向剖視，依不同的實(shí)施方式分別呈現(xiàn)在圖3A、圖4、圖5A及圖6中。如圖3A即顯示本發(fā)明的第一實(shí)施例的平面光源裝置3，包括可透光的第一基板(即前板)32、可透光的第二基板(即后板)36，以及多個(gè)支撐部38設(shè)于第一基板32及第二基板36之間。這些支撐部38即如前述的間隔物(Spacer)，為緊貼該第一基板32下表面，當(dāng)一可見(jiàn)光源的入射光線(xiàn)從一放電腔體34射向該第一基板32時(shí)，因該支撐部38會(huì)阻礙部份光線(xiàn)自該第一基板32向外射出，該支撐部38的存在使該支撐部38上方第一基板32上的相對(duì)應(yīng)位置形成一遮蔽區(qū)，亦即如圖2所呈現(xiàn)的數(shù)條暗帶。需注意的是，該遮蔽區(qū)可能形成在支撐部38上方對(duì)應(yīng)第一基板32及/或覆在第一基板32上各板的相對(duì)應(yīng)位置。
需注意的是，在制作過(guò)程中，該多個(gè)支撐部38可以為利用例如噴砂，蝕刻等加工方式，在第一基板32表面形成凹槽而得；或如圖3所示，多個(gè)支撐部38亦可以形成在第二基板36表面。在另一個(gè)實(shí)施例中，支撐部38亦可以是設(shè)置于該兩基板32及36之間額外設(shè)置的個(gè)體。
多個(gè)斷面呈凹槽的放電腔體34形成在該支撐部38、該第一基板32及第二基板36之間，該放電腔體34內(nèi)置入氣體及其腔體內(nèi)表面涂覆一熒光層340。但在其它運(yùn)用上，該支撐部38可進(jìn)一步將該放電腔體34間隔成數(shù)個(gè)相通或是不相通的腔體。
誠(chéng)如圖1A的測(cè)量結(jié)果，在平面光源的放電中，以放電腔體34中央的亮度最亮，然后逐漸向外遞減，而以支撐部38上方組件，例如第一基板32，相對(duì)應(yīng)的位置形成的遮蔽區(qū)最暗。因此在本實(shí)施例中，請(qǐng)參考圖3A以及圖3B，該第一基板32(如玻璃材質(zhì))被施以表面加工技術(shù)(如壓模、噴砂、涂布、激光加工、蝕刻加工等)，使其對(duì)應(yīng)至支撐部38的遮蔽區(qū)的周?chē)纬苫蛟O(shè)置多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)320，該結(jié)構(gòu)320是由多個(gè)具不同折射率的結(jié)構(gòu)所組成，其中如以對(duì)應(yīng)至支撐部38的遮蔽區(qū)中央作為一空間坐標(biāo)的原點(diǎn)中心，在第一基板32的平面上布置多對(duì)三角棱鏡結(jié)構(gòu)，每一對(duì)是由兩個(gè)幾何形狀互為左右對(duì)稱(chēng)的三角棱鏡結(jié)構(gòu)322(如左三角形及右三角形)組成，分置于前述遮蔽區(qū)的周?chē)鷥蓚?cè)，以及一個(gè)幾何形狀呈左右對(duì)稱(chēng)的三角棱鏡結(jié)構(gòu)326，置于前述遮蔽區(qū)中心，以及一位在遮蔽區(qū)周?chē)鷥蓚?cè)的柱鏡結(jié)構(gòu)324。只是，在其它實(shí)施上，該多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)320亦可形成或設(shè)置于該第二基板36上。借此如圖3B所示，當(dāng)該可見(jiàn)光源的入射光線(xiàn)自放電腔體34發(fā)出，射向該第一基板32時(shí)，利用此光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)320上不同的折射率將該放電腔體34中央的光線(xiàn)折射導(dǎo)向遮蔽區(qū)(即暗帶部分)射出，即可增加該平面光源裝置3各處均勻發(fā)光，進(jìn)而提高整個(gè)平面光源的均勻性，減少擴(kuò)散板(Diffuser Plate)及擴(kuò)散片(Diffuser Sheet)的使用數(shù)量，可減少整體背光模塊的厚度。
圖4A及圖4B顯示本發(fā)明第二實(shí)施例的平面光源裝置4，與前述第一實(shí)施例不同之處在于，該平面光源裝置4多加了一透光板40置于可透光的第一基板42上，而該多個(gè)具不同折射率的光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)400形成或設(shè)置在透光板40上，但該結(jié)構(gòu)400的組成及排列配置均與第一實(shí)施例相同，均沿該第一基板42的遮蔽區(qū)周?chē)鷮?duì)稱(chēng)分布。當(dāng)可見(jiàn)光源的入射光線(xiàn)從放電腔體44發(fā)出，經(jīng)穿透第一基板42，射向該透光板40時(shí)，至少部份光線(xiàn)會(huì)經(jīng)由該光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)400的不同折射，朝向前述遮蔽區(qū)射出，以使該平面光源裝置4各處均勻發(fā)光。該透光板40可為一透明壓克力材質(zhì)，以更方便施行前述結(jié)構(gòu)的表面加工。在其它實(shí)施方式上，該透光板40亦可設(shè)于該第一基板42及第二基板46之間，使該可見(jiàn)光源的光線(xiàn)自該放電腔體44射入該透光板40時(shí)，至少部份光源會(huì)經(jīng)該光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)的導(dǎo)引，朝向第一基板42的遮蔽區(qū)射出。
圖5A顯示本發(fā)明第三實(shí)施例的平面光源裝置5，與前述第一實(shí)施例不同之處在于，其多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)520為多個(gè)具不同折射率且形狀近似半凹透鏡的結(jié)構(gòu)(如圖5A及圖5B所示)所組成，如以支撐部58上方第一基板52的相對(duì)應(yīng)位置形成的遮蔽區(qū)中央作為一空間坐標(biāo)的原點(diǎn)中心，在第一基板52平面上布置多對(duì)近似半凹透鏡結(jié)構(gòu)，每一對(duì)是由兩個(gè)形狀互為左右對(duì)稱(chēng)的半凹透鏡結(jié)構(gòu)522(如左凹陷狀及右凹陷狀)組成，分布于前述遮蔽區(qū)的周?chē)鷥蓚?cè)，以及一個(gè)幾何形狀呈左右對(duì)稱(chēng)的近似半凹透鏡結(jié)構(gòu)524，置于前述遮蔽區(qū)中心，以及一位于該遮蔽區(qū)周?chē)鷥蓚?cè)的柱鏡結(jié)構(gòu)526。借此如圖5B所示，當(dāng)該可見(jiàn)光源的入射光線(xiàn)自放電腔體54發(fā)出，射向該第一基板52時(shí)，利用此光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)520依據(jù)snell’s law規(guī)則使得放電腔體54中央的光線(xiàn)折射導(dǎo)向遮蔽區(qū)(即暗帶部分)以射出，使該平面光源裝置5各處均勻發(fā)光。但在其它實(shí)施上，該多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)520可改設(shè)在第二基板56上，或者設(shè)置在一外加的透光板，然后該透光板再置于第一基板52之上。
圖6A及圖6B顯示本發(fā)明第四實(shí)施例的平面光源裝置6，與前述第三實(shí)施例不同之處在于，其多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)620為多個(gè)具不同折射率且形狀近似氣泡狀的結(jié)構(gòu)(如圖6A所示)所組成，其中如以前述支撐部68上方第一基板62的相對(duì)應(yīng)位置形成的遮蔽區(qū)中央作為一空間坐標(biāo)的原點(diǎn)中心，在第一基板62平面上布置多對(duì)氣泡狀結(jié)構(gòu)群組，每一對(duì)是由兩組各具多個(gè)氣泡結(jié)構(gòu)的群組622及624構(gòu)成，分置于前述遮蔽區(qū)周?chē)鷥蓚?cè)，使該兩組氣泡結(jié)構(gòu)群組的氣泡排列位置在此空間坐標(biāo)上互為左右對(duì)稱(chēng)，且愈接近該放電腔體64中央(亮度最高)，該氣泡排列的數(shù)量密度也就愈高。借此，如圖6B所示，利用控制這些氣泡結(jié)構(gòu)的分布，可對(duì)放電腔體64射出的光線(xiàn)產(chǎn)生漫射，以導(dǎo)向遮蔽(即暗帶或暗點(diǎn))區(qū)域，并從第一基板62表面散出。本發(fā)明的光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)的加工技術(shù)可參考圖7的方式制作。如圖7所示，為制造第一、二及三實(shí)施例所提的光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)的示意圖，其是利用一激光束70經(jīng)光學(xué)鏡頭72聚焦在第一基板玻璃62表面，借由控制光束能量而在基板玻璃62制得所要求的光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)。而在制造第四實(shí)施例的氣泡狀結(jié)構(gòu)的加工技術(shù)中，激光束70經(jīng)光學(xué)鏡頭72可聚焦在第一基板玻璃62內(nèi)部，使內(nèi)部因受熱而產(chǎn)生氣泡結(jié)構(gòu)。需注意的是，本發(fā)明的光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)的制造方法并不限于上述的激光技術(shù)，凡是可以制得符合本發(fā)明光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)的技術(shù)，均可應(yīng)用于本發(fā)明光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)的制造上。
是以，依據(jù)本發(fā)明各實(shí)施例的各型光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)及對(duì)稱(chēng)排列，均以暗帶及暗點(diǎn)的中心為原點(diǎn)向周?chē)鷶U(kuò)散分布，因此可使光源裝置整體發(fā)光的均勻性達(dá)到最佳的效果。
綜上所述，以上所述者僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，業(yè)內(nèi)人士在援依本發(fā)明精神架構(gòu)下所做的等效修飾或變化，均應(yīng)包括于本發(fā)明范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種平面光源裝置，包括可透光的第一基板及第二基板；至少一支撐部，位于該第一基板以及第二基板之間；至少一放電腔體，形成在該至少一支撐部、第一基板及第二基板之間，該支撐部上方的位置形成一遮蔽區(qū)；以及多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)，位于該支撐部以及該放電腔體的上方，沿前述遮蔽區(qū)的周?chē)鷮?duì)應(yīng)分布。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面光源裝置，其特征在于，當(dāng)一可見(jiàn)光自該放電腔體射入該第一基板時(shí)，至少部份可見(jiàn)光會(huì)經(jīng)由該光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)的折射，導(dǎo)向前述遮蔽區(qū)聚光及射出，使該平面光源裝置各處均勻透光。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面光源裝置，其特征在于，進(jìn)一步具有一透光板設(shè)置于該第一基板之上，并設(shè)有前述多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面光源裝置，其特征在于，該多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)位于第一基板及第二基板兩者其中之一上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面光源裝置，其特征在于，該多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)包括至少兩個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)以遮蔽區(qū)為中心分置于前述遮蔽區(qū)周?chē)鷥蓚?cè)，使該兩光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)的形狀互呈左右對(duì)稱(chēng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的平面光源裝置，其特征在于，該兩光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)為兩個(gè)形狀互呈左右對(duì)稱(chēng)的棱鏡結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面光源裝置，其特征在于，該多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括至少一光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)其以遮蔽區(qū)為中心配置，使該結(jié)構(gòu)兩側(cè)形狀呈左右對(duì)稱(chēng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的平面光源裝置，其特征在于，該兩光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)為兩個(gè)形狀互呈左右對(duì)稱(chēng)的半凹鏡結(jié)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面光源裝置，其特征在于，該多個(gè)幾何結(jié)構(gòu)包括至少兩組各具多個(gè)氣泡結(jié)構(gòu)的群組，以遮蔽區(qū)為一空間坐標(biāo)的中心，分置于前述遮蔽區(qū)周?chē)淖笥覂蓚?cè)，且該兩氣泡結(jié)構(gòu)群組的氣泡排列位置在此空間上互呈對(duì)稱(chēng)。
10.一種平面光源裝置，包括可透光的第一基板及第二基板；至少一支撐部，位于該第一基板以及第二基板之間；至少一放電腔體，形成在該至少一支撐部、第一基板及第二基板之間，該支撐部上方的位置形成一遮蔽區(qū)；以及一透光板，具有多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)，位于該支撐部以及該放電腔體的上方，以沿對(duì)應(yīng)該遮蔽區(qū)周?chē)植肌?br>
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的平面光源裝置，其特征在于，當(dāng)一可見(jiàn)光射入該透光板時(shí)，至少部份可見(jiàn)光會(huì)經(jīng)該透光板的特定光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)的折射，朝向前述遮蔽區(qū)，聚光并自該透光板射出，以使該平面光源裝置各處均勻透光。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的平面光源裝置，其特征在于，該透光板可設(shè)于該第一基板上，當(dāng)一可見(jiàn)光經(jīng)由第一基板射入該透光板時(shí)，至少部份可見(jiàn)光會(huì)經(jīng)該光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)的導(dǎo)引，朝向前述遮蔽區(qū)射出。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的平面光源裝置，其特征在于，該透光板可設(shè)于該第一基板及第二基板之間，當(dāng)一可見(jiàn)光射入該透光板時(shí)，至少部份可見(jiàn)光會(huì)經(jīng)該光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)的導(dǎo)引，朝向前述遮蔽區(qū)射出。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的平面光源裝置，其特征在于，該多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)包括至少兩個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)以遮蔽區(qū)為中心分置于前述遮蔽區(qū)周?chē)鷥蓚?cè)，使該兩光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)的形狀互呈左右對(duì)稱(chēng)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的平面光源裝置，其特征在于，該兩光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)為兩個(gè)形狀互呈左右對(duì)稱(chēng)的棱鏡結(jié)構(gòu)。
16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的平面光源裝置，其特征在于，該多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括至少一光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)其以遮蔽區(qū)為中心配置，使該結(jié)構(gòu)兩側(cè)形狀呈左右對(duì)稱(chēng)。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的平面光源裝置，其特征在于，該兩光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)為兩個(gè)形狀互呈左右對(duì)稱(chēng)的半凹鏡結(jié)構(gòu)。
18.根據(jù)權(quán)利要求10所述的平面光源裝置，其特征在于，該多個(gè)幾何結(jié)構(gòu)包括至少兩組各具多個(gè)氣泡結(jié)構(gòu)的群組，以遮蔽區(qū)為一空間坐標(biāo)的中心，分置于前述遮蔽區(qū)周?chē)淖笥覂蓚?cè)，且該兩氣泡結(jié)構(gòu)群組的氣泡排列位置在此空間上互呈對(duì)稱(chēng)。
全文摘要
本發(fā)明有關(guān)一種平面光源裝置，包括可透光的第一基板及第二基板、多個(gè)支撐部及放電腔體，以及多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)。當(dāng)該放電腔體產(chǎn)生可見(jiàn)光射入該第一基板時(shí)，會(huì)使該支撐部上方第一基板的相對(duì)應(yīng)位置上形成一遮蔽區(qū)。利用表面加工技術(shù)在第一基板上形成的多個(gè)光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)，因?yàn)槭且栽撜诒螀^(qū)為中心沿前述遮蔽區(qū)的周?chē)鷮?duì)應(yīng)分布，所以使部份光線(xiàn)會(huì)借由該光學(xué)幾何結(jié)構(gòu)的折射，導(dǎo)向前述遮蔽區(qū)射出，而使該平面光源裝置各處均勻發(fā)光。
文檔編號(hào)H01J61/00GK1877784SQ20061010541
公開(kāi)日2006年12月13日 申請(qǐng)日期2006年7月6日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月6日
發(fā)明者許弘儒, 王志麟 申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司