專利名稱：發(fā)光模塊的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種發(fā)光模塊，尤其涉及一種發(fā)光模塊的結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)階段之發(fā)光模塊中，含有線性凹溝或凸條之微結(jié)構(gòu)圖案之導(dǎo)光板系統(tǒng)中，其一面間隔地配置有多個(gè)線性凹溝或凸條之微結(jié)構(gòu)圖案。由于導(dǎo)光板發(fā)光時(shí)，出光面對應(yīng)各線性凹溝或凸條之位置，會顯示出多條對應(yīng)之線性亮紋，導(dǎo)致出光面整體之出光不均勻，必須使用更多的光學(xué)覆蓋片來彌補(bǔ)，相當(dāng)耗費(fèi)材料成本，有待加以進(jìn)一步改良。為此，若能提供一種發(fā)光模塊的設(shè)計(jì)，可滿足上述之需求，或至少為具有此缺陷提供一種解決之道，即成為亟待解決之一重要課題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明需要解決的技術(shù)問題是提供了一種發(fā)光模塊，旨在解決上述的問題。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的本發(fā)明包括一第一光源；以及一導(dǎo)光板；所述的導(dǎo)光板包括一出光面；該出光面包括多個(gè)線性立體單元相互平行且間隔地配置于該出光面上；一反射面；該反射面與該出光面相互對立；一第一入光面；該第一入光面介于該出光面及該反射面之間，該第一入光面平行每一該些線性立體單元，該第一光源朝該第一入光面發(fā)光；多個(gè)第一立體單元群；該多個(gè)第一立體單元群分別一對一地位于該反射面對應(yīng)此些線性立體單元之一垂直投影位置內(nèi)，每一該些第一立體單元群包含多個(gè)相互平行之第一線性微結(jié)構(gòu)，該些第一線性微結(jié)構(gòu)皆平行該些線性立體單元；以及一第二立體單元群；該第二立體單元群位于該反射面上除了該些第一立體單元群以外之其它區(qū)域，該第二立體單元群是由多個(gè)相互平行之第二線性微結(jié)構(gòu)所組成，該些第二線性微結(jié)構(gòu)皆平行該些線性立體單元，該些第二線性微結(jié)構(gòu)于該反射面上之垂直落差、 最大寬度及分布密度至少其中之一是隨著該些第二線性微結(jié)構(gòu)分別與該第一入光面之距離大小成正比；該些第一線性微結(jié)構(gòu)不同于該些第二線性微結(jié)構(gòu)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是可以改善導(dǎo)光板出光面非預(yù)期的線性亮紋，從而均勻化導(dǎo)光板出光面的出光亮度。


第1圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊之立體示意圖。第2A圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第一實(shí)施例在一變化下之側(cè)視圖。第2B圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第一實(shí)施例在另一變化下之側(cè)視圖。第2C圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第一實(shí)施例在又一變化下之側(cè)視圖。
第3A圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第二實(shí)施例在一變化下之側(cè)視圖。第;3B圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第二實(shí)施例在另一變化下之側(cè)視圖。第3C圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第二實(shí)施例在又一變化下之側(cè)視圖。第4A圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第三實(shí)施例在一變化下之側(cè)視圖。第4B圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第三實(shí)施例在另一變化下之側(cè)視圖。第4C圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第三實(shí)施例在又一變化下之側(cè)視圖。第5A圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第四實(shí)施例在一變化下之側(cè)視圖。第5B圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第四實(shí)施例在另一變化下之側(cè)視圖。第5C圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第四實(shí)施例在又一變化下之側(cè)視圖。第6A圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第五實(shí)施例在一變化下之側(cè)視圖。第6B圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第五實(shí)施例在另一變化下之側(cè)視圖。第6C圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊于第五實(shí)施例于又一變化下之側(cè)視圖。第7圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第六實(shí)施例之側(cè)視圖。第8A圖-第8D圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊之線性立體單元或線性微結(jié)構(gòu)之多種外型變化示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖與具體實(shí)施方式
對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述本發(fā)明所提供之一種發(fā)光模塊，包含一第一光源及一導(dǎo)光板。導(dǎo)光板包含一第一入光面、一出光面、一反射面、多個(gè)第一立體單元群及一第二立體單元群。第一光源朝第一入光面發(fā)光。出光面包含多個(gè)線性立體單元相互平行且間隔地配置于出光面上。反射面與出光面相互對立。第一入光面介于出光面及反射面之間，第一入光面平行各線性立體單元。 第一立體單元群分別一對一地位于反射面對應(yīng)此些線性立體單元之一垂直投影位置內(nèi)，各第一立體單元群包含多個(gè)相互平行之第一線性微結(jié)構(gòu)，第一線性微結(jié)構(gòu)皆并行線性立體單元。第二立體單元群位于反射面上除了第一立體單元群以外之其它區(qū)域。第二立體單元群是由多個(gè)相互平行之第二線性微結(jié)構(gòu)所組成，第二線性微結(jié)構(gòu)皆并行線性立體單元，第二線性微結(jié)構(gòu)于反射面上之垂直落差、最大寬度及分布密度至少其中之一是隨著第二線性微結(jié)構(gòu)分別與第一入光面之距離大小成正比。第一線性微結(jié)構(gòu)不同于第二線性微結(jié)構(gòu)。請參照第1圖所示，第1圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第一實(shí)施例下之立體示意圖。第一實(shí)施例中，發(fā)光模塊100包含一第一光源200及一導(dǎo)光板300。第一光源200 例如是發(fā)光二極管燈條(LED light bar)，包含多個(gè)發(fā)光二極管組件210。導(dǎo)光板300包含相互對立之一出光面320及一反射面330，以及環(huán)繞其出光面320與反射面330之多個(gè)側(cè)邊，其中任一側(cè)邊的面積小于出光面320或反射面330之面積，且介于出光面320及反射面 330之間。其中一側(cè)邊可當(dāng)作一第一入光面310，以使第一光源200配置于第一入光面310 之一旁，而可供朝第一入光面310發(fā)光。出光面320上平行且間隔地配置有多個(gè)線性立體單元321。線性立體單元321共同之長軸走向(如Y軸方向)與第一入光面310之長軸走向(如Y軸方向)平行。線性立體單元321于此實(shí)施例中為凸條(如V型凸條600B)，然而，本發(fā)明在此實(shí)施例中并不限線性立體單元為凸條或凹溝。線性立體單元321具有一垂直落差V及一最大寬度T及一分布密度。線性立體
5單元321之垂直落差V即凸條之垂直最高高度或凹溝之垂直最深深度。線性立體單元321 之最大寬度T即凸條或凹溝之截面績之最大寬度。此些線性立體單元321之分布密度例如可視任二相鄰線性立體單元321間之距離S大小，其距離越小，密度越大，反之，小其距離越大，密度越小。線性立體單元321之垂直落差V、最大寬度T與分布密度(如距離S)至少其中之一彼此皆相同，此實(shí)施例中，線性立體單元321之垂直落差V、最大寬度T與分布密度(如距離幻彼此皆相同。導(dǎo)光板300之反射面330更包含多個(gè)第一立體單元群400及一第二立體單元群500。此些第一立體單元群400分別一對一地充分位于此些線性立體單元321分別對應(yīng)于反射面330之垂直投影位置330P內(nèi)。各第一立體單元群400是由多個(gè)第一線性微結(jié)構(gòu)410所組成。此些第一線性微結(jié)構(gòu)410之長軸走向(如Y軸方向)相互平行，且也與線性立體單元321及第一入光面310之長軸走向(如Y軸方向)相互平行。此些第一線性微結(jié)構(gòu)410具有多種第一亮度影響變量，亮度影響變量意指可影響反射光線于反射面330之亮度的因子。第一亮度影響變量之種類例如包含此些第一線性微結(jié)構(gòu)410在反射面330上之垂直落差及最大寬度及分布密度。此實(shí)施例中，各第一立體單元群400中之此些第一線性微結(jié)構(gòu)410之第一亮度影響變量皆一致，即各第一立體單元群 400中之此些第一線性微結(jié)構(gòu)410于反射面330上之垂直落差H、最大寬度W及分布密度 (如間距G)彼此皆一致(參閱第2A圖)。第二立體單元群500位于反射面330上除了此些第一立體單元群400之其它區(qū)域。第二立體單元群500是由多個(gè)相互平行之第二線性微結(jié)構(gòu)510所組成。第二線性微結(jié)構(gòu)510之長軸走向(如Y軸方向)皆與此些線性立體單元321、第一線性微結(jié)構(gòu)410及第一入光面310之長軸走向(如Y軸方向)相互平行。請參照第1圖所示，此些第二線性微結(jié)構(gòu)510具有多種第二亮度影響變量，亮度影響變量意指可影響反射光線于反射面330之亮度的因子。第二亮度影響變量之種類例如包含此些第二線性微結(jié)構(gòu)510于反射面330上之垂直落差及最大寬度及分布密度。此些第二亮度影響變量其中之一是隨著第二線性微結(jié)構(gòu)510與第一入光面310之距離大小成正比， 也就是，第二線性微結(jié)構(gòu)510與第一入光面310之距離越大，此第二亮度影響變量之值越大，可供反射光線之亮度越大，詳見后文。請參照第2A圖-第2C圖所示，第2A圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊IOla于第一實(shí)施例在一變化下之側(cè)視圖；第2B圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊IOlb在第一實(shí)施例在另一變化下之側(cè)視圖；以及第2C圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊IOlc在第一實(shí)施例于又一變化下之側(cè)視圖。參閱第2A圖所示，此些第二線性微結(jié)構(gòu)510a在反射面330上之垂直落差系隨著此些第二線性微結(jié)構(gòu)510a分別與第一入光面310之距離大小成正比，也就是，沿著X軸方向，越遠(yuǎn)離第一入光面310之第二線性微結(jié)構(gòu)510a，其垂直落差將逐漸增大。舉例來說，較接近第一入光面310之一個(gè)第二線性微結(jié)構(gòu)510a之一垂直落差Hl小于較遠(yuǎn)離第一入光面 310之一個(gè)第二線性微結(jié)構(gòu)510a之一垂直落差H2，而此垂直落差H2小于更遠(yuǎn)離第一入光面310之其中一個(gè)第二線性微結(jié)構(gòu)510a之垂直落差H3，即垂直落差Hl <垂直落差H2 <垂直落差H3。此外，各第一立體單元群400之此些第一線性微結(jié)構(gòu)410之垂直落差皆小于第二立體單元群500之第二線性微結(jié)構(gòu)510a之垂直落差。參閱第2B圖所示，此些第二線性微結(jié)構(gòu)510b在反射面330上之最大寬度是隨著此些第二線性微結(jié)構(gòu)510b分別與第一入光面310之距離大小成正比，意即，沿著X軸方向，越遠(yuǎn)離第一入光面310之第二線性微結(jié)構(gòu)510b，其最大寬度逐漸增大。舉例來說，較接近第一入光面310之一個(gè)第二線性微結(jié)構(gòu)510b之一最大寬度Wl小于較遠(yuǎn)離第一入光面310之一個(gè)第二線性微結(jié)構(gòu)510b之一最大寬度W2，而此最大寬度W2小于更遠(yuǎn)離第一入光面310 之其中一個(gè)第二線性微結(jié)構(gòu)510b之最大寬度W3，即最大寬度W1 <最大寬度W2 <最大寬度 W3。此外，各第一立體單元群400之此些第一線性微結(jié)構(gòu)410之最大寬度皆小于第二立體單元群500之第二線性微結(jié)構(gòu)之最大寬度510b。參閱第2C圖所示，此些第二線性微結(jié)構(gòu)510c在反射面330上之分布密度是隨著此些第二線性微結(jié)構(gòu)510c分別與第一入光面310之距離大小成正比，也就是，沿著X軸方向，越遠(yuǎn)離第一入光面310之第二線性微結(jié)構(gòu)510c，其分布密度將逐漸轉(zhuǎn)變密集。舉例來說，較接近第一入光面310之二第二線性微結(jié)構(gòu)510c之間距Gl大于較遠(yuǎn)離第一入光面310 之二第二線性微結(jié)構(gòu)510c之間距G2，而此間距G2大于更遠(yuǎn)離第一入光面310之其中二第二線性微結(jié)構(gòu)510c之間距G3，即間距Gl >間距G2 >間距G3。此外，各第一立體單元群 400之此些第一線性微結(jié)構(gòu)410之間距皆大于第二立體單元群500之第二線性微結(jié)構(gòu)510c 之最大寬度，也就是，各第一立體單元群400之此些第一線性微結(jié)構(gòu)410之分布密度皆小于第二立體單元群500之第二線性微結(jié)構(gòu)510c之分布密度。如此，由于此些第一線性微結(jié)構(gòu)之多種第一亮度影響變量其中之一小于此些第二線性微結(jié)構(gòu)之多種第二亮度影響變量其中之一，使得相對出光面之線性立體單元之其它部份便顯得較為相對明亮，此時(shí)，出光面之線性立體單元之線性亮紋便顯得較為淡化，進(jìn)而產(chǎn)生均勻化出光面整體之亮度。請參照第3A圖至第3C圖所示，第3A圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊 10 在第二實(shí)施例在一變化下之側(cè)視圖；第;3B圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊102b在第二實(shí)施例在另一變化下之側(cè)視圖；第3C圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊102c在第二實(shí)施例在又一變化下之側(cè)視圖。第二實(shí)施例中，發(fā)光模塊100包含一第一光源200及一導(dǎo)光板300。導(dǎo)光板300包含一出光面320、一反射面330及第一入光面310，出光面320包含多個(gè)線性立體單元321。 導(dǎo)光板300之反射面330更包含多個(gè)第一立體單元群400及一第二立體單元群500。各第一立體單元群400是由多個(gè)第一線性微結(jié)構(gòu)411a-411c所組成。第二立體單元群500是由多個(gè)相互平行之第二線性微結(jié)構(gòu)510a-510c所組成。第二實(shí)施例之第一光源200之特征、導(dǎo)光板300之特征、線性立體單元321之排列及第二線性微結(jié)構(gòu)510a-510c之排列皆與第一實(shí)施例大致相同，以下僅就不同之處加以描述，其相同之處便不再加以贅述。此第二實(shí)施例中，此些第一亮度影響變量其中之一是隨著第一線性微結(jié)構(gòu)411a-411c與第一入光面310之距離大小成正比，意即，第一線性微結(jié)構(gòu) 411a-411c與第一入光面310之距離越大，此第一亮度影響變量之值越大，可供反射光線之亮度越大。也就是，此些第一線性微結(jié)構(gòu)411a-411c在反射面330上之垂直落差、最大寬度及分布密度至少其中之一是隨著第一線性微結(jié)構(gòu)411a-411c與第一入光面310之距離大小成正比。參閱第3A圖所示，此些第一線性微結(jié)構(gòu)411a在反射面330上之垂直落差是隨著此些第一線性微結(jié)構(gòu)411a分別與第一入光面310之距離大小成正比，也就是，沿著X軸方向，越遠(yuǎn)離第一入光面310之第一線性微結(jié)構(gòu)411a，其垂直落差將逐漸增大。舉例來說，較接近第一入光面310之一個(gè)第一線性微結(jié)構(gòu)411a之一垂直落差H4小于較遠(yuǎn)離第一入光面310之一個(gè)第一線性微結(jié)構(gòu)411a之一垂直落差H5，而此垂直落差H5小于更遠(yuǎn)離第一入光面310之其中一個(gè)第一線性微結(jié)構(gòu)411a之垂直落差H6，即垂直落差H4 <垂直落差H5 <垂直落差H6。此外，各第一立體單元群400之此些第一線性微結(jié)構(gòu)411a之垂直落差皆小于其兩相對側(cè)之第二立體單元群500內(nèi)的此些第二線性微結(jié)構(gòu)510a之垂直落差。參閱第;3B圖所示，此些第一線性微結(jié)構(gòu)411b在反射面330上之最大寬度是隨著此些第一線性微結(jié)構(gòu)411b分別與第一入光面310之距離大小成正比，也就是，沿著X軸方向，越遠(yuǎn)離第一入光面310之第一線性微結(jié)構(gòu)411b，其最大寬度逐漸增大。舉例來說，較接近第一入光面310之一個(gè)第一線性微結(jié)構(gòu)411b之一最大寬度W4小于較遠(yuǎn)離第一入光面 310之一個(gè)第一線性微結(jié)構(gòu)411b之一最大寬度W5，而此最大寬度W5小于更遠(yuǎn)離第一入光面310之其中一個(gè)第一線性微結(jié)構(gòu)411b之最大寬度W6，即最大寬度W4 <最大寬度W5 <最大寬度W6。此外，各第一立體單元群400之此些第一線性微結(jié)構(gòu)411b之最大寬度皆小于其兩相對側(cè)之第二立體單元群500內(nèi)的此些第二線性微結(jié)構(gòu)510b之最大寬度。參閱第3C圖所示，此些第一線性微結(jié)構(gòu)411c在反射面330上之分布密度是隨著此些第一線性微結(jié)構(gòu)411c分別與第一入光面310之距離大小成正比，也就是，沿著X軸方向，越遠(yuǎn)離第一入光面310之第一線性微結(jié)構(gòu)411c，其分布密度將逐漸轉(zhuǎn)變密集。舉例來說，較接近第一入光面310之二第一線性微結(jié)構(gòu)411c之間距G4大于較遠(yuǎn)離第一入光面310 之二第一線性微結(jié)構(gòu)411c之間距G5，而此間距G5大于更遠(yuǎn)離第一入光面310之其中二第一線性微結(jié)構(gòu)411c之間距G6，即間距G4 >間距G5 >間距G6。各第一立體單元群400之此些第一線性微結(jié)構(gòu)411c之分布密度皆大于其兩相對側(cè)之第二立體單元群500內(nèi)的此些第二線性微結(jié)構(gòu)510c之分布密度。請參照第4A圖至第4C圖所示，第4A圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊103a在第三實(shí)施例在一變化下之側(cè)視圖；第4B圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊10 在第三實(shí)施例在另一變化下之側(cè)視圖；以及第3C圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊103c在第三實(shí)施例于在一變化下之側(cè)視圖。第三實(shí)施例中，發(fā)光模塊100包含一第一光源200及一導(dǎo)光板300。導(dǎo)光板300包含一出光面320、一反射面330及第一入光面310，出光面320包含多個(gè)線性立體單元321。 導(dǎo)光板300之反射面330更包含多個(gè)第一立體單元群400及一第二立體單元群500。各第一立體單元群400是由多個(gè)第一線性微結(jié)構(gòu)412a-412c所組成。第二立體單元群500是由多個(gè)相互平行之第二線性微結(jié)構(gòu)510a-510c所組成。第三實(shí)施例之第一光源200之特征、導(dǎo)光板300之特征、線性立體單元321之排列及第二線性微結(jié)構(gòu)510之排列皆與第一實(shí)施例大致相同，以下僅就不同之處加以描述，其相同之處便不再加以贅述。此第三實(shí)施例中，各第一立體單元群400中之所有該些第一線性微結(jié)構(gòu) 41h-412c之此些第一亮度影響變量其中之一是以位于中間地址之第一線性微結(jié)構(gòu) 412a-412c分別朝其兩旁第一線性微結(jié)構(gòu)412a_412c之方向產(chǎn)生遞減。也就是，各第一立體單元群400中之所有平行排列之第一線性微結(jié)構(gòu)41h-412c (如N個(gè))中之一中間順位 (N/2或(N/2)+l)之第一線性微結(jié)構(gòu)41h-412c，例如此第一立體單元群400之所有平行排列之第一線性微結(jié)構(gòu)412a-412c為N個(gè)，中間順位之第一線性微結(jié)構(gòu)為第N/2或(N/2)+l 個(gè)。具體來說，此些第一線性微結(jié)構(gòu)412a-412c在反射面330上之垂直落差V、最大寬度T 及分布密度至少其中之一是隨著中間順位之第一線性微結(jié)構(gòu)412a-412c分別朝其兩旁第一線性微結(jié)構(gòu)412a-412c之方向產(chǎn)生遞減。此些第二線性微結(jié)構(gòu)510a-510c在反射面330 上之垂直落差、最大寬度及分布密度至少其中之一仍隨著第二線性微結(jié)構(gòu)510a-510c與第一入光面310之距離大小成正比。參閱第4A圖所示，任一第一立體單元群400中之此些第一線性微結(jié)構(gòu)41 在反射面330上之垂直落差是隨著中間順位之第一線性微結(jié)構(gòu)41 分別朝其兩旁第一線性微結(jié)構(gòu)41 之方向產(chǎn)生遞減，也就是，此些第一線性微結(jié)構(gòu)41 中越遠(yuǎn)離位于中間順位(位于一通過線性立體單元321頂點(diǎn)之假想中線C)之第一線性微結(jié)構(gòu)412a，其垂直落差越小。 舉例來說，中間順位之第一線性微結(jié)構(gòu)41 之垂直落差H7大于其一旁之第一線性微結(jié)構(gòu) 41 之垂直落差H8。參閱第4B圖所示，任一第一立體單元群400中之此些第一線性微結(jié)構(gòu)412b在反射面330上之最大寬度是隨著中間順位之第一線性微結(jié)構(gòu)412b分別朝其兩旁第一線性微結(jié)構(gòu)412b之方向產(chǎn)生遞減，也就是，此些第一線性微結(jié)構(gòu)412b中越遠(yuǎn)離位于中間順位(位于一通過線性立體單元321頂點(diǎn)之假想中線C)之第一線性微結(jié)構(gòu)412b，其最大寬度越小。 舉例來說，中間順位之第一線性微結(jié)構(gòu)412b之最大寬度W7大于其一旁之第一線性微結(jié)構(gòu) 412b之最大寬度W8。參閱第4C圖所示，任一第一立體單元群400中之此些第一線性微結(jié)構(gòu)412c于反射面330上之分布密度是隨著中間順位之二第一線性微結(jié)構(gòu)412c分別朝其兩旁第一線性微結(jié)構(gòu)412c之方向產(chǎn)生遞減，也就是，此些第一線性微結(jié)構(gòu)412c相鄰彼此間的間距中，越遠(yuǎn)離位于中間順位(位于一通過線性立體單元321頂點(diǎn)之假想中線C)之第一線性微結(jié)構(gòu) 412c，其間距越大。舉例來說，中間順位之二第一線性微結(jié)構(gòu)412c之間距G7小于其一旁之二第一線性微結(jié)構(gòu)之間距G8。請參照第5A圖至第5C圖所示，第5A圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊10 在第四實(shí)施例于一變化下之側(cè)視圖；第5B圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊104b于第四實(shí)施例在另一變化下之側(cè)視圖；以及第5C圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊l(Mc在第四實(shí)施例在又一變化下之側(cè)視圖。第四實(shí)施例中，發(fā)光模塊100包含一第一光源200及一導(dǎo)光板300。導(dǎo)光板300包含一出光面320、一反射面330及第一入光面310，出光面320包含多個(gè)線性立體單元321。 導(dǎo)光板300之反射面330更包含多個(gè)第一立體單元群400及一第二立體單元群500。各第一立體單元群400是由多個(gè)第一線性微結(jié)構(gòu)410所組成。第二立體單元群500是由多個(gè)相互平行之第二線性微結(jié)構(gòu)510所組成。第四實(shí)施例之第一光源200之特征、導(dǎo)光板300之特征、第一線性微結(jié)構(gòu)410之排列及第二線性微結(jié)構(gòu)510之排列皆與第一實(shí)施例大致相同，以下僅就不同之處加以描述， 其相同之處便不再加以贅述。此實(shí)施例中，此些線性立體單元32h-322c之垂直落差V、最大寬度T與分布密度 (如距離S)至少其中之一系隨著線性立體單元32h-322c分別與第一入光面310之距離大小成正比。參閱第5A圖所示，此些線性立體單元32 在發(fā)光面320上之垂直落差是隨著此些線性立體單元32 分別與第一入光面310之距離大小成正比，也就是，沿著X軸方向，越遠(yuǎn)離第一入光面310之線性立體單元32 ，其垂直落差將逐漸增大。舉例來說，較接近第一入光面310之一個(gè)線性立體單元32 之垂直落差Vl小于較遠(yuǎn)離第一入光面310之一個(gè)線
9性立體單元32 之垂直落差V2，而此垂直落差V2小于更遠(yuǎn)離第一入光面310之其中一個(gè)線性立體單元32 之垂直落差V3，即垂直落差Vl <垂直落差V2 <垂直落差V3。參閱第5B圖所示，此些線性立體單元322b在發(fā)光面320上之最大寬度是隨著此些線性立體單元322b分別與第一入光面310之距離大小成正比，也就是，沿著X軸方向，越遠(yuǎn)離第一入光面310之線性立體單元322b，其最大寬度將逐漸增大。舉例來說，較接近第一入光面310之一個(gè)線性立體單元322b之最大寬度Tl小于較遠(yuǎn)離第一入光面310之一個(gè)線性立體單元322b之最大寬度T2，而此最大寬度T2小于更遠(yuǎn)離第一入光面310之其中一個(gè)線性立體單元322b之最大寬度T3，即最大寬度Tl <最大寬度T2 <最大寬度T3。參閱第5C圖所示，此些線性立體單元322c在發(fā)光面320上之分布密度是隨著此些線性立體單元322c分別與第一入光面310之距離大小成正比，也就是，沿著X軸方向，越遠(yuǎn)離第一入光面310之此些線性立體單元322c，其分布密度將逐漸密集。舉例來說，較接近第一入光面310之二個(gè)線性立體單元322c之距離S 1大于較遠(yuǎn)離第一入光面310之二個(gè)線性立體單元322c之距離S2，而此距離S2大于更遠(yuǎn)離第一入光面310之其中二個(gè)線性立體單元322c之距離S3,即距離Sl <距離S2 <距離S3。請參照第6A圖至第6C圖所示，第6A圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊10 在第五實(shí)施例在一變化下之側(cè)視圖；第6B圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊10 在第五實(shí)施例在另一變化下之側(cè)視圖；以及第6C圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊105c在第五實(shí)施例在又一變化下之側(cè)視圖。第五實(shí)施例中，發(fā)光模塊100包含一第一光源200及一導(dǎo)光板300。導(dǎo)光板300 包含一出光面320、一反射面330及第一入光面310，出光面320包含多個(gè)線性立體單元 322a-322c0導(dǎo)光板300之反射面330更包含多個(gè)第一立體單元群400及一第二立體單元群500。各第一立體單元群400是由多個(gè)第一線性微結(jié)構(gòu)412a-412c所組成。第二立體單元群500是由多個(gè)相互平行之第二線性微結(jié)構(gòu)510a-510c所組成。第五實(shí)施例之第一光源200之特征、導(dǎo)光板300之特征、第一線性微結(jié)構(gòu)410之排列及第二線性微結(jié)構(gòu)510之排列皆與第三實(shí)施例大致相同，以下僅就不同之處加以描述， 其相同之處便不再加以贅述。此實(shí)施例中，此些線性立體單元32h-322c之垂直落差V、最大寬度T與分布密度(如距離S)至少其中之一是隨著線性立體單元32h-322c分別與第一入光面310之距離大小成正比。參閱第6A圖所示，此些線性立體單元32 于發(fā)光面320上之垂直落差系隨著此些線性立體單元32 分別與第一入光面310之距離大小成正比，也就是，沿著X軸方向，越遠(yuǎn)離第一入光面310之線性立體單元32 ，其垂直落差將逐漸增大。可參考第5A圖之例子來說，較接近第一入光面310之一個(gè)線性立體單元32 之垂直落差Vl小于較遠(yuǎn)離第一入光面310之一個(gè)線性立體單元32 之垂直落差V2，而此垂直落差V2小于更遠(yuǎn)離第一入光面310之其中一個(gè)線性立體單元32 之垂直落差V3，即垂直落差Vl <垂直落差V2 <垂直落差V3。參閱第6B圖所示，此些線性立體單元于發(fā)光面上之最大寬度系隨著此些線性立體單元分別與第一入光面310之距離大小成正比，也就是，沿著X軸方向，越遠(yuǎn)離第一入光面310之線性立體單元，其最大寬度將逐漸增大。可參考第5B圖之例子來說，較接近第一入光面310之一個(gè)線性立體單元322b之最大寬度Tl小于較遠(yuǎn)離第一入光面310之一個(gè)線性立體單元322b之最大寬度T2，而此最大寬度T2小于更遠(yuǎn)離第一入光面310之其中一個(gè)線性立體單元322b之最大寬度T3，即最大寬度Tl <最大寬度T2 <最大寬度T3。參閱第6C圖所示，此些線性立體單元在發(fā)光面上之分布密度是隨著此些線性立體單元分別與第一入光面310之距離大小成正比，也就是，沿著X軸方向，越遠(yuǎn)離第一入光面310之此些線性立體單元，其分布密度將逐漸密集?？蓞⒖嫉?C圖之例子來說，較接近第一入光面310之二個(gè)線性立體單元322c之距離Sl大于較遠(yuǎn)離第一入光面310之二個(gè)線性立體單元322c之距離S2，而此距離S2大于更遠(yuǎn)離第一入光面310之其中二個(gè)線性立體單元322c之距離S3,即距離Sl <距離S2 <距離S3。請參照第7圖所示，第7圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊在第六實(shí)施例之側(cè)視圖。發(fā)光模塊106包含一導(dǎo)光板300、一第一光源200及一第二光源220。第一光源 200與第二光源220例如是發(fā)光二極管燈條(LED light bar)，包含多個(gè)發(fā)光二極管組件 210a(同第1圖所示)。導(dǎo)光板300包含相互對立之一出光面320及一反射面330，以及環(huán)繞其出光面320與反射面330之多個(gè)側(cè)邊，其中任一側(cè)邊的面積小于出光面320或反射面 330之面積，且介于出光面320及反射面330之間。其中兩相對側(cè)邊可當(dāng)作一第一入光面 310以及第二入光面312。第一光源200配置于第一入光面310之一旁，而可供朝第一入光面310發(fā)光。第二光源220配置于第二入光面312之一旁，而可供朝第二入光面312發(fā)光。 出光面320上平行且間隔地配置有多個(gè)線性立體單元321。導(dǎo)光板300之反射面330更包含多個(gè)第一立體單元群400及一第二立體單元群 500。各第一立體單元群400是由多個(gè)第一線性微結(jié)構(gòu)410所組成。第二立體單元群500 是由多個(gè)相互平行之第二線性微結(jié)構(gòu)510所組成。此些線性立體單元321彼此皆相同，即此些線性立體單元321之垂直落差、最大寬度與分布密度彼此皆相同。各第一立體單元群 400中之所有第一線性微結(jié)構(gòu)410彼此皆相同，即各第一立體單元群400中之所有第一線性微結(jié)構(gòu)410之垂直落差、最大寬度與分布密度彼此皆相同。此些第二線性微結(jié)構(gòu)510之亮度影響變量(例如垂直落差、最大寬度及分布密度至少其中之一)由出光面320之一假想中分線K分別朝第一入光面310與第二入光面312之方向逐漸遞減，也就是，越接近第一入光面310與第二入光面312之此些第二線性微結(jié)構(gòu)510，其亮度影響變量越小，可供反射光線之亮度越小。上述假想中分線K是指出光面上與X軸方向垂直之一中心線，且此中心線分別至第一入光面與第二入光面之距離一致。舉例來說，最接近假想中分線K之一個(gè)第二線性微結(jié)構(gòu)510所具之垂直落差H9便大于較遠(yuǎn)離假想中分線K之另一個(gè)第二線性微結(jié)構(gòu) 510所具之垂直落差H10。 此外，各第一立體單元群400之第一線性微結(jié)構(gòu)410之垂直落差(如Hl 1，第7圖) 小于第二線性微結(jié)構(gòu)510之垂直落差(如H10，第7圖)；或者/以及，各第一立體單元群 400之第一線性微結(jié)構(gòu)410之最大寬度小于第二線性微結(jié)構(gòu)510之最大寬度(圖中未示)； 或者/以及，各第一立體單元群400之第一線性微結(jié)構(gòu)410之分布密度小于第二線性微結(jié)構(gòu)510之分布密度(圖中未示)。第六實(shí)施例之第一光源200之特征、第二光源200之特征、導(dǎo)光板300之特征、第一線性微結(jié)構(gòu)410之排列及第二線性微結(jié)構(gòu)510之排列皆與第一實(shí)施例大致相同，以下便不再加以贅述。請參照第8A圖-第8D圖所示，第8A圖-第8D圖繪示本發(fā)明發(fā)光模塊之線性立體單元或線性微結(jié)構(gòu)之多種外型變化示意圖。
1
上述各實(shí)施例中之線性立體單元、第一線性微結(jié)構(gòu)或第二線性微結(jié)構(gòu)皆屬相同種類之線性光學(xué)微結(jié)構(gòu)，其外型不限凸出線性光學(xué)微結(jié)構(gòu)與凹陷之線性光學(xué)微結(jié)構(gòu)。凸出線性光學(xué)微結(jié)構(gòu)例如可為一 V型凸條600B或U型凸條600C(第8C圖)，然而，本發(fā)明不限于此。凹陷之線性光學(xué)微結(jié)構(gòu)例如可一 V型凹溝600A(第8A圖)或U型凹溝600D(第8D 圖)，然而，本發(fā)明不限于此。此外，復(fù)請參閱第8A圖所示，V型凹溝600A之兩相對內(nèi)壁呈凸弧狀，或著，復(fù)請參閱第8B圖所示，本發(fā)明線性立體單元之另一種外型，例如V型凸條600B之兩相對側(cè)壁呈凹弧狀。需了解到，以下定義沿用于上述各實(shí)施例中此些第一線性微結(jié)構(gòu)(或第二線性微結(jié)構(gòu)、線性立體單元)在反射面或出光面上所呈現(xiàn)出之垂直落差，是指此些第一線性微結(jié)構(gòu)(或第二線性微結(jié)構(gòu)、線性立體單元)自反射面或出光面表面朝其最遠(yuǎn)凹/凸點(diǎn)之垂直距離。此些第一線性微結(jié)構(gòu)(或第二線性微結(jié)構(gòu)、線性立體單元)于反射面或出光面上所呈現(xiàn)出之最大寬度，系指此些第一線性微結(jié)構(gòu)(或第二線性微結(jié)構(gòu)、線性立體單元)之截面積之最大寬度距離。此些第一線性微結(jié)構(gòu)(第二線性微結(jié)構(gòu)或線性立體單元)在反射面或出光面上所呈現(xiàn)出之分布密度，是指單位面積下所具有相同數(shù)量之網(wǎng)點(diǎn)彼此之疏密程度，當(dāng)此些第一線性微結(jié)構(gòu)(第二線性微結(jié)構(gòu)或線性立體單元)在反射面上之分布密度越大，此些第一線性微結(jié)構(gòu)(第二線性微結(jié)構(gòu)或線性立體單元)彼此之間越擁擠，彼此之間距越小；反之，當(dāng)此些第一線性微結(jié)構(gòu)(第二線性微結(jié)構(gòu)或線性立體單元)在反射面上之分布密度越小，此些第一線性微結(jié)構(gòu)(第二線性微結(jié)構(gòu)或線性立體單元)彼此之間越疏遠(yuǎn)，彼此之間距越大。本發(fā)明所揭露如上之各實(shí)施例中，并非用以限定本發(fā)明，任何熟習(xí)此技藝的，在不脫離本發(fā)明之精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種之更動(dòng)與潤飾，因此本發(fā)明之保護(hù)范圍當(dāng)視后附的權(quán)利要求范圍所界定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種發(fā)光模塊，包括一第一光源；以及一導(dǎo)光板；其特征在于所述的導(dǎo)光板包括一出光面；該出光面包括多個(gè)線性立體單元相互平行且間隔地配置于該出光面上；一反射面；該反射面與該出光面相互對立；一第一入光面；該第一入光面介于該出光面及該反射面之間，該第一入光面平行每一該些線性立體單元，該第一光源朝該第一入光面發(fā)光；多個(gè)第一立體單元群；該多個(gè)第一立體單元群分別一對一地位于該反射面對應(yīng)此些線性立體單元之一垂直投影位置內(nèi)，每一該些第一立體單元群包含多個(gè)相互平行之第一線性微結(jié)構(gòu)，該些第一線性微結(jié)構(gòu)皆平行該些線性立體單元；以及一第二立體單元群；該第二立體單元群位于該反射面上除了該些第一立體單元群以外之其它區(qū)域，該第二立體單元群是由多個(gè)相互平行之第二線性微結(jié)構(gòu)所組成，該些第二線性微結(jié)構(gòu)皆平行該些線性立體單元，該些第二線性微結(jié)構(gòu)于該反射面上之垂直落差、最大寬度及分布密度至少其中之一是隨著該些第二線性微結(jié)構(gòu)分別與該第一入光面之距離大小成正比；該些第一線性微結(jié)構(gòu)不同于該些第二線性微結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光模塊，其特征在于每一該些第一立體單元群之該些第一線性微結(jié)構(gòu)之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一小于該些第二線性微結(jié)構(gòu)之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光模塊，其特征在于該些線性立體單元之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一彼此皆相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)光模塊，其特征在于每一該些第一立體單元群中之所有該些第一線性微結(jié)構(gòu)之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一彼此皆相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)光模塊，其特征在于每一該些第一立體單元群中之所有該些第一線性微結(jié)構(gòu)之垂直落差、最大寬度及分布密度至少其中之一是隨著該些第一線性微結(jié)構(gòu)分別與該第一入光面之距離大小成正比。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)光模塊，其特征在于每一該些第一立體單元群中之所有該些第一線性微結(jié)構(gòu)之垂直落差、最大寬度及分布密度至少其中之一是以位于中間地址之該一第一線性微結(jié)構(gòu)分別朝其兩旁該些第一線性微結(jié)構(gòu)之方向產(chǎn)生遞減。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光模塊，其特征在于該些線性立體單元之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一是隨著該些線性立體單元分別與該第一入光面之距離大小成正比。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的發(fā)光模塊，其特征在于該些第二線性微結(jié)構(gòu)于該反射面上之垂直落差是隨著該些第二線性微結(jié)構(gòu)分別與該第一入光面之距離大小成正比。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的發(fā)光模塊，其特征在于每一該些第一立體單元群中之所有該些第一線性微結(jié)構(gòu)之垂直落差、最大寬度及分布密度至少其中之一是以位于中間地址之該一第一線性微結(jié)構(gòu)分別朝其兩旁之該些第一線性微結(jié)構(gòu)之方向產(chǎn)生遞減。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光模塊，其特征在于還包括一第二光源，且該導(dǎo)光板還包括一第二入光面；該第二入光面相對該第一入光面，且該第二光源朝該第二入光面發(fā)光。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的發(fā)光模塊，其特征在于該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面及該第二入光面之長軸走向相互平行，且該些線性立體單元之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一彼此皆相同，每一該些第一立體單元群中之所有該些第一線性微結(jié)構(gòu)之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一彼此皆相同，且每一該些第一立體單元群之該些第一線性微結(jié)構(gòu)之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一小于該些第二線性微結(jié)構(gòu)之垂直落差、最大寬度與分布密度至少其中之一。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光模塊，其特征在于每一該些線性立體單元為一V型凹溝或U型凹溝。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光模塊，其特征在于每一該些第一線性微結(jié)構(gòu)為一V型凹溝或U型凹溝。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光模塊，其特征在于每一該些第二線性微結(jié)構(gòu)為一V型凹溝或U型凹溝。
15.根據(jù)權(quán)利要求12或者13或者14所述的發(fā)光模塊，其特征在于該V型凹溝之兩相對內(nèi)壁呈凸弧狀。
16.根據(jù)權(quán)利要求12或者13或者14所述的發(fā)光模塊，其特征在于該V型凸條之兩相對側(cè)壁呈凹弧狀。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種發(fā)光模塊，包括一光源及一導(dǎo)光板。光源朝導(dǎo)光板之一入光面發(fā)光。導(dǎo)光板之出光面上配置有多個(gè)線性立體單元。導(dǎo)光板之反射面包含多個(gè)第一立體單元群及一第二立體單元群。第一立體單元群分別位于反射面對應(yīng)線性立體單元之垂直投影位置內(nèi)，各別包含多個(gè)并行線性立體單元之第一線性微結(jié)構(gòu)。第二立體單元群位于反射面上第一立體單元群以外之區(qū)域，由多個(gè)第二線性微結(jié)構(gòu)所組成。第一、第二線性微結(jié)構(gòu)不相同，皆并行線性立體單元及入光面。第二線性微結(jié)構(gòu)之垂直落差、最大寬度及分布密度至少其中之一系隨其與入光面之距離大小成正比?？梢愿纳茖?dǎo)光板出光面非預(yù)期的線性亮紋，從而均勻化導(dǎo)光板出光面的出光亮度。
文檔編號F21S8/00GK102425745SQ20111038284
公開日2012年4月25日 申請日期2011年11月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月25日
發(fā)明者葉鈞皓 申請人:上海向隆電子科技有限公司