一種改進(jìn)型粉體材料表面等離子體處理裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種改進(jìn)型粉體材料表面等離子體處理裝置，包括外殼、電極組件、等離子發(fā)生器和氣體分布板，外殼頂部設(shè)置有用于排出氣體的抽氣口，外殼底部設(shè)置有用于通入反應(yīng)氣體的氣體入口，外殼內(nèi)設(shè)置有反應(yīng)腔室，電極組件設(shè)置于反應(yīng)腔室外表面上，氣體分布板設(shè)置于反應(yīng)腔室內(nèi)，電極組件設(shè)置于氣體分布板上方，氣體分布板上設(shè)置有若干用于反應(yīng)氣體進(jìn)入的氣孔，電極組件與等離子發(fā)生器電連接。本發(fā)明氣體入口通入反應(yīng)氣體，反應(yīng)氣體從氣體分布板的氣孔進(jìn)入反應(yīng)腔室內(nèi)并同時(shí)吹送粉體材料向上運(yùn)動(dòng)，電極組件通電形成高頻電場(chǎng)將反應(yīng)氣體電離對(duì)粉體材料表面處理，避免了粉體材料堆積無法完全均勻的處理，處理效果好，提高工作效率。
【專利說明】一種改進(jìn)型粉體材料表面等離子體處理裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及等離子體處理裝置，尤其涉及一種改進(jìn)型粉體材料表面等離子體處理
>J-U裝直。
【背景技術(shù)】
[0002]低溫等離子體表面處理是:在負(fù)壓(真空)下，給反應(yīng)氣體環(huán)境施加高頻電場(chǎng)，氣體在高頻電場(chǎng)的激勵(lì)下電離，產(chǎn)生等離子體。等離子體是物質(zhì)的第四態(tài)，其中含有大量的電子、離子和自由基等各種活性粒子，活性粒子與材料表面發(fā)生物理和化學(xué)反應(yīng)，從而使材料表面的結(jié)構(gòu)、成分和基團(tuán)發(fā)生變化，得到滿足實(shí)際要求的表面。等離子體反應(yīng)速度快、處理效率高，而且改性僅發(fā)生在材料表面，對(duì)材料內(nèi)部本體材料的性能沒有影響，是理想的表面改性手段。
[0003]粉體是一種干燥、分散的固體顆粒組成的細(xì)微粒子?，F(xiàn)有技術(shù)中，等離子體處理裝置在處理粉體表面時(shí)，由于粉體堆積，微粒間的團(tuán)聚使得沒有暴露在等離子體氣氛中的表面得不到處理，難以實(shí)現(xiàn)微粒表面全部處理，導(dǎo)致處理不完全、不均勻，處理效果差。
[0004]因此，亟需一種處理效果好的粉體材料表面等離子體處理裝置。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，提供一種改進(jìn)型粉體材料表面等離子體處理裝置。
[0006]實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的的技術(shù)方案是:一種改進(jìn)型粉體材料表面等離子體處理裝置，包括外殼、電極組件、等離子發(fā)生器和氣體分布板，所述外殼頂部設(shè)置有用于排出氣體的抽氣口，所述外殼底部設(shè)置有用于通入反應(yīng)氣體的氣體入口，所述外殼內(nèi)設(shè)置有反應(yīng)腔室，所述電極組件設(shè)置于所述反應(yīng)腔室外表面上，所述氣體分布板設(shè)置于所述反應(yīng)腔室內(nèi)，所述電極組件設(shè)置于所述氣體分布板上方，所述氣體分布板上設(shè)置有若干用于反應(yīng)氣體進(jìn)入的氣孔，所述電極組件與所述等離子發(fā)生器電連接。
[0007]進(jìn)一步的，所述電極組件為螺旋狀電極。
[0008]進(jìn)一步的，所述螺旋狀電極為立體螺旋狀電極或平面螺旋狀電極。
[0009]進(jìn)一步的，所述等離子發(fā)生器包括用于調(diào)節(jié)所述電極組件功率的電源和與所述電源連接的匹配器，所述匹配器還與所述電極組件電連接。
[0010]進(jìn)一步的，還包括用于排出氣體的氣泵，所述氣泵與所述抽氣口連接，氣泵與抽氣口之間還設(shè)置有過濾器。
[0011]進(jìn)一步的，還包括用于提供反應(yīng)氣體的氣源，所述氣源與所述氣體入口連接。
[0012]本發(fā)明具有積極的效果:本發(fā)明氣體入口通入反應(yīng)氣體，反應(yīng)氣體從氣體分布板的氣孔進(jìn)入反應(yīng)腔室內(nèi)并同時(shí)吹送粉體材料向上運(yùn)動(dòng)，電極組件通電形成高頻電場(chǎng)將反應(yīng)氣體電離對(duì)粉體材料表面處理，避免了粉體材料堆積無法完全均勻的處理，處理效果好，提
高工作效率?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0013]為了使本發(fā)明的內(nèi)容更容易被清楚地理解，下面根據(jù)具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明，其中:
圖1為本發(fā)明第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為本發(fā)明第一實(shí)施例中電極組件的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3為本發(fā)明第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]其中:1、氣源，2、氣體入口，3、氣體分布板，4、電極組件，5、過濾器，6、氣泵，7、匹配器，8、供電等離子發(fā)生器，9、抽氣口，10、外殼。
【具體實(shí)施方式】
[0015]實(shí)施例1
如圖1至圖2所示，本發(fā)明第一實(shí)施例提供一種改進(jìn)型粉體材料表面等離子體處理裝置，包括外殼10、電極組件4、等離子發(fā)生器和氣體分布板3，外殼10頂部設(shè)置有用于排出氣體的抽氣口 9，外殼10底部設(shè)置有用于通入反應(yīng)氣體的氣體入口 2，外殼10內(nèi)設(shè)置有反應(yīng)腔室(圖中未示出)，電極組件4設(shè)置于反應(yīng)腔室外表面上，氣體分布板3設(shè)置于反應(yīng)腔室內(nèi)，電極組件4設(shè)置于氣體分布板3上方，氣體分布板3上設(shè)置有若干用于反應(yīng)氣體進(jìn)入的氣孔(圖中未示出)，電極組件4為平面螺旋狀電極，等離子發(fā)生器包括用于調(diào)節(jié)電極組件4功率的電源8和與電源8連接的匹配器7，匹配器還與電極組件4連接。
[0016]本實(shí)施例氣體入口 2通入反應(yīng)氣體，反應(yīng)氣體從氣體分布板3的氣孔進(jìn)入反應(yīng)腔室內(nèi)并同時(shí)吹送粉體材料向上運(yùn)動(dòng)，平面螺旋狀電極通電并在附近形成高頻電場(chǎng)將反應(yīng)氣體電離對(duì)粉體材料表面處理，避免了粉體材料堆積無法完全均勻的處理，處理效果好，提高工作效率；匹配器7可以根據(jù)需求調(diào)節(jié)電極組件4的功率，從而調(diào)節(jié)反應(yīng)氣體的電離效果。
[0017]實(shí)施例2
如圖2所示，其余與實(shí)施例1相同，不同之處在于，本實(shí)施例還包括用于排出氣體的氣泵6和用于提供反應(yīng)氣體的氣源I，氣泵6與抽氣口 9連接，氣泵6與抽氣口 9之間還設(shè)置有過濾器5，氣源I與氣體入口 2連接，螺旋狀電極為立體螺旋狀電極。
[0018]本實(shí)施例增加過濾器5可以有效防止反應(yīng)腔室內(nèi)的粉體材料被抽出；立體螺旋狀電極可以增大聞?lì)l電場(chǎng)空間，提聞工作效率。
[0019]以上所述的具體實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本發(fā)明的具體實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種改進(jìn)型粉體材料表面等離子體處理裝置，其特征在于，包括外殼、電極組件、等離子發(fā)生器和氣體分布板，所述外殼頂部設(shè)置有用于排出氣體的抽氣口，所述外殼底部設(shè)置有用于通入反應(yīng)氣體的氣體入口，所述外殼內(nèi)設(shè)置有反應(yīng)腔室，所述電極組件設(shè)置于所述反應(yīng)腔室外表面上，所述氣體分布板設(shè)置于所述反應(yīng)腔室內(nèi)，所述電極組件設(shè)置于所述氣體分布板上方，所述氣體分布板上設(shè)置有若干用于反應(yīng)氣體進(jìn)入的氣孔，所述電極組件與所述等離子發(fā)生器電連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進(jìn)型粉體材料表面等離子體處理裝置，其特征在于，所述電極組件為螺旋狀電極。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的改進(jìn)型粉體材料表面等離子體處理裝置，其特征在于，所述螺旋狀電極為立體螺旋狀電極或平面螺旋狀電極。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的改進(jìn)型粉體材料表面等離子體處理裝置，其特征在于，所述等離子發(fā)生器包括用于調(diào)節(jié)所述電極組件功率的電源和與所述電源連接的匹配器，所述匹配器還與所述電極組件電連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的改進(jìn)型粉體材料表面等離子體處理裝置，其特征在于，還包括用于排出氣體的氣泵，所述氣泵與所述抽氣口連接，氣泵與抽氣口之間還設(shè)置有過濾器。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的改進(jìn)型粉體材料表面等離子體處理裝置，其特征在于，還包括用于提供反應(yīng)氣體的氣源，所述氣源與所述氣體入口連接。
【文檔編號(hào)】H01J37/32GK103594317SQ201310607204
【公開日】2014年2月19日 申請(qǐng)日期:2013年11月27日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月27日
【發(fā)明者】沈文凱, 王紅衛(wèi) 申請(qǐng)人:蘇州市奧普斯等離子體科技有限公司