本發(fā)明涉及到電火花加工電極領(lǐng)域，特別是涉及到一種新型的薄片隊列微電極。

背景技術(shù)：

現(xiàn)今通過薄片隊列微電極微電火花加工可獲得三維微結(jié)構(gòu)。但是在實施的過程中存在以下問題：①在微細(xì)電火花加工的過程中，第一個薄片微電極的加工介質(zhì)更新和電蝕產(chǎn)物的排出最差，因此第一個薄片微電極的損耗最大，隨后的薄片微電極的損耗則會逐漸減小。薄片微電極損耗遞減的現(xiàn)象會對微電電火花加工結(jié)果的形狀精度和尺寸精度產(chǎn)生不利影響；②薄片隊列微電極微細(xì)電火花加工微型腔時，微型腔的直壁特征會又有一定的錐度，該錐度會對微型腔的直壁特征產(chǎn)生不利影響。

綜上所述，為了提高薄片隊列微電極微細(xì)電火花加工的精度，需要減小薄片隊列微電極損耗的遞減效應(yīng)和薄片隊列微電極微細(xì)電火花加工結(jié)果的邊緣錐度。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的主要目的為提供一種可以減小微細(xì)電火花加工的過程中薄片隊列微電極損耗的遞減效應(yīng)的新型的薄片隊列微電極。

本發(fā)明提出一種新型的薄片隊列微電極，包括電極本體和薄片電極；電極本體為條形；薄片電極設(shè)有多個，多個薄片電極成隊列的固定連接電極本體的一側(cè)邊；薄片電極為條形薄片，其一端固定連接電極本體，相對的另一端為自由端；自由端的端面為加工端面；薄片電極厚度方向設(shè)有貫穿薄片電極的隨形孔。

進(jìn)一步地，加工端面設(shè)有內(nèi)凹的微結(jié)構(gòu)加工槽或外凸的微結(jié)構(gòu)加工凸起。

進(jìn)一步地，當(dāng)加工端面設(shè)有內(nèi)凹的微結(jié)構(gòu)加工槽時，微結(jié)構(gòu)加工槽底部與隨形孔側(cè)壁相重疊部分的形狀相同，使微結(jié)構(gòu)加工槽底部與隨形孔側(cè)壁相重疊的部分間的距離相等；

當(dāng)加工端面設(shè)有外凸的微結(jié)構(gòu)加工凸起時，微結(jié)構(gòu)加工凸起與隨形孔側(cè)壁相重疊部分的形狀相同，使微結(jié)構(gòu)加工凸起與隨形孔側(cè)壁相重疊的部分間的距離相等。

進(jìn)一步地，加工端面為平面或斜面。

進(jìn)一步地，新型的薄片隊列微電極為一體構(gòu)件。

進(jìn)一步地，薄片電極的兩個側(cè)壁分別設(shè)有阻反應(yīng)凹槽；阻反應(yīng)凹槽為開口邊大于凹槽底部的梯形槽；阻反應(yīng)凹槽的深度距離大于放電間隙。

進(jìn)一步地，薄片電極的兩個側(cè)壁上的兩個阻反應(yīng)凹槽相互對稱。

本發(fā)明新型的薄片隊列微電極不但設(shè)有隨形孔，可以將微細(xì)電火花加工的過程中產(chǎn)生的電蝕產(chǎn)物及時排出，進(jìn)而有效的減小新型的薄片隊列微電極損耗的遞減效應(yīng)；而且還設(shè)有阻反應(yīng)凹槽，可以減小新型的薄片隊列微電極微細(xì)電火花加工結(jié)果的邊緣錐度問題，提高加工微型腔有側(cè)壁為直壁的情況下的加工精度。

附圖說明

圖1為本發(fā)明新型的薄片隊列微電極一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1中圓圈a中的結(jié)構(gòu)放大示意圖；

圖3為圖1中薄片電極另一實施例的結(jié)構(gòu)放大示意圖；

圖4為圖1中薄片電極第三實施例的結(jié)構(gòu)放大示意圖。

本發(fā)明目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結(jié)合實施例，參照附圖做進(jìn)一步說明。

具體實施方式

應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

參照圖1-2，一種新型的薄片隊列微電極，包括電極本體11和薄片電極12；電極本體11為條形；薄片電極12設(shè)有多個，多個薄片電極12成隊列的固定連接電極本體11的一側(cè)邊；薄片電極12為條形薄片，其一端固定連接電極本體11，相對的另一端為自由端；自由端的端面為加工端面122；薄片電極12厚度方向設(shè)有貫穿薄片電極12的隨形孔121。

新型的薄片隊列微電極設(shè)有隨形孔121，可以有效改善加工介質(zhì)的更新，還可以將微細(xì)電火花加工的過程中產(chǎn)生的電蝕產(chǎn)物及時排出，進(jìn)而有效的減小新型的薄片隊列微電極損耗的遞減效應(yīng)。

參照圖2-3，加工端面122設(shè)有內(nèi)凹的微結(jié)構(gòu)加工槽123或外凸的微結(jié)構(gòu)加工凸起125。

參照圖2，當(dāng)加工端面122設(shè)有內(nèi)凹的微結(jié)構(gòu)加工槽123時，微結(jié)構(gòu)加工槽123底部與隨形孔121側(cè)壁相重疊部分的形狀相同，使微結(jié)構(gòu)加工槽123底部與隨形孔121側(cè)壁相重疊的部分間的距離相等；

參照圖3，當(dāng)加工端面122設(shè)有外凸的微結(jié)構(gòu)加工凸起125時，微結(jié)構(gòu)加工凸起125與隨形孔121側(cè)壁相重疊部分的形狀相同，使微結(jié)構(gòu)加工凸起125與隨形孔121側(cè)壁相重疊的部分間的距離相等。該重疊部分的形狀均勻，可以使電腐蝕的效果均勻，保證加工的微結(jié)構(gòu)外部形狀的加工精度。

參照圖2，在本實施例中，加工端面122設(shè)有內(nèi)凹的微結(jié)構(gòu)加工槽123；微結(jié)構(gòu)加工槽123為弧形可以加工表面具有弧形凸起的微結(jié)構(gòu)。

參照圖4，在一些實施例中，加工端面122為平面或斜面?？梢韵鄳?yīng)的加工微細(xì)的平面結(jié)構(gòu)和斜面。

參照圖1，在本實施例中，新型的薄片隊列微電極為一體構(gòu)件。電極本體11和薄片電極12為一體構(gòu)件，薄片電極12與電極本體11間連接穩(wěn)固，工作效果更穩(wěn)定，不易出現(xiàn)薄片電極12錯位導(dǎo)致的加工精度下降的情況，而且新型的薄片隊列微電極的加工個更加方便。

參照圖2，在本實施例中，薄片電極12的兩個側(cè)壁分別設(shè)有阻反應(yīng)凹槽124；阻反應(yīng)凹槽124為開口邊大于凹槽底部的梯形槽；阻反應(yīng)凹槽124的深度距離大于放電間隙。

由于阻反應(yīng)凹槽124的深度距離大于放電間隙，在微細(xì)電火花加工的過程中，加工腔側(cè)壁不會被放電腐蝕，避免出項加工腔側(cè)壁由錐度的情況。

在本實施例中，薄片電極12的兩個側(cè)壁上的兩個阻反應(yīng)凹槽124相互對稱。對稱的設(shè)計可以保證微細(xì)電火花加工的效果更對稱，也更符合現(xiàn)今的對稱審美。

本發(fā)明新型的薄片隊列微電極不但設(shè)有隨形孔121，可以將微細(xì)電火花加工的過程中產(chǎn)生的電蝕產(chǎn)物及時排出，進(jìn)而有效的減小新型的薄片隊列微電極損耗的遞減效應(yīng)；而且還設(shè)有阻反應(yīng)凹槽124，可以減小新型的薄片隊列微電極微細(xì)電火花加工結(jié)果的邊緣錐度問題，提高加工微型腔有側(cè)壁為直壁的情況下的加工精度。

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明揭示了一種新型的薄片隊列微電極，包括電極本體和薄片電極；電極本體為條形；薄片電極設(shè)有多個，多個薄片電極成隊列的固定連接電極本體的一側(cè)邊；薄片電極為條形薄片，其一端固定連接電極本體，相對的另一端為自由端；自由端的端面為加工端面；薄片電極中部設(shè)有貫穿薄片電極的隨形孔。本發(fā)明新型的薄片隊列微電極不但設(shè)有隨形孔，可以將微細(xì)電火花加工的過程中產(chǎn)生的電蝕產(chǎn)物及時排出，進(jìn)而有效的減小薄片隊列微電極損耗的遞減效應(yīng)；而且還設(shè)有阻反應(yīng)凹槽，可以減小新型的薄片隊列微電極微細(xì)電火花加工結(jié)果的邊緣錐度問題，提高加工微型腔有側(cè)壁為直壁的情況下的加工精度。

技術(shù)研發(fā)人員：徐斌;伍曉宇;雷建國;梁雄;趙航;程蓉;郭登極;阮雙琛
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：2017.05.16
技術(shù)公布日：2017.08.22