專利名稱：表面處理系統(tǒng)及其方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在產(chǎn)品表面形成沉積層的表面處理系統(tǒng)及其方法，更具體地講，涉及一種施加到所述的表面處理系統(tǒng)的表面處理物體上的電源，所述的物體經(jīng)表面處理形成沉積層。
背景技術(shù)：
通常，表面處理指的是制造由一種材料，例如外觀美觀的金屬，構(gòu)成產(chǎn)品表面，或者是改善表面，使其具有耐熱、耐腐蝕、耐磨損等性能，使得可以根據(jù)產(chǎn)品的使用條件改進(jìn)該產(chǎn)品的功能。也就是說，表面處理通過對金屬表面的適當(dāng)處理對內(nèi)在的缺陷等進(jìn)行遮蔽。
表面處理包括在飾品表面上電鍍、在黃銅上鍍鉻、或鐵板鍍錫，等等。
表面處理方法包括用于通過制造氧化膜保護(hù)被表面處理的物體的內(nèi)部的氧化鋁膜處理、利用涂料的抗腐蝕涂覆、化學(xué)汽相沉積(CVD)反應(yīng)、或物理汽相沉積(PVD)反應(yīng)。
同時，用于空調(diào)器、電冰箱、加熱裝置等的熱交換器是一種用于通過傳熱壁從高溫的流體向低溫的流體傳遞熱量的裝置。此時，流體的流動根據(jù)傳熱壁表面的特性變得不同，并且傳熱壁表面的特性大大地影響了熱交換器的熱交換效率。
因此，熱交換器的散熱器表面需要根據(jù)熱交換器的性能進(jìn)行具有各種不同特點的表面處理。為此，熱交換器的散熱片是通過對具有被處理的表面的板進(jìn)行加工處理，以改善親水性，疏水性，或耐腐蝕性，來制造的。
此外，用于加工換熱器的散熱片的板要接受一種使用化學(xué)汽相沉積反應(yīng)或物理汽相沉積反應(yīng)在板的表面上形成一個沉積層的表面處理。
同時，為了進(jìn)行表面處理，在一個沉積室中注入反應(yīng)氣，而后向其中施加能量，以進(jìn)行沉積反應(yīng)。用于施加能量的方法包括對該沉積反應(yīng)要進(jìn)行表面處理的物體施加能量的方法。
在PCT公開文本W(wǎng)O992157中所描述的常規(guī)表面處理方法中，能量直接施加到已注入反應(yīng)氣的一個聚合室中的要進(jìn)行表面處理的物體上，以產(chǎn)生等離子體聚合反應(yīng)，從而在進(jìn)行表面處理的物體的表面上形成沉積層。
然而，在所述的方法中，在沉積室中的沉積反應(yīng)、沉積層的形成、以及所形成的沉積層的特性都大大地受到用于向接受表面處理的物體施加能量的方法的影響。
特別是，在對表面處理的物體進(jìn)行大量處理的情況下，能量必須適當(dāng)?shù)厥┘拥奖砻嫣幚淼奈矬w上，以便不影響沉積反應(yīng)或在表面上形成的沉積層。
同時，需要進(jìn)行表面處理的產(chǎn)品要根據(jù)條件或形狀進(jìn)行處理，然后在表面處理之后加工。這進(jìn)行所述的處理時，切削面或沉積層可能受到損傷，并且可能產(chǎn)生另外一些未經(jīng)表面處理的產(chǎn)品。
也就是說，在表面經(jīng)大量處理的物體通過模制或裝配加工時，表面可能受損傷。此外，不具備所需要的特性的另外一些產(chǎn)品可能會降低表面處理的效果。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的一個目的是提供一種通過對安裝在一支架上的表面處理物體施加能量，在一沉積室中進(jìn)行沉積反應(yīng)以形成沉積層的表面處理系統(tǒng)及其方法。
為了實現(xiàn)上述目的，提供了一種表面處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括一沉積室；一用于安裝和傳送表面處理物體的支座；以及一用于通過對沉積室中的物體提供電能形成沉積反應(yīng)、以便在表面處理物體的表面上形成一沉積層的供電單元，在其中，供電單元包括一被安裝在沉積室中并與外部電源相連接的固定的供電單元和一個被安裝在所述的支座上的可移動的供電單元，所述的可移動的供電單元用于以可移動的方式在其上安裝有表面處理物體的支座進(jìn)入沉積室時與固定的供電單元電連接并從而通過與其接觸將電能供給表面處理物體。
為實現(xiàn)這些目的，還提供一種表面處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括一沉積室；一用于安裝和傳送表面處理物體的支座；以及一用于通過對沉積室中的物體供電形成沉積反應(yīng)、以便在表面處理物體的表面上形成一沉積層的供電單元，在其中，供電單元包括一被安裝在沉積室中并與外部電源相連接的固定的供電單元和一個用于在進(jìn)行沉積反應(yīng)時可移動地將該固定的供電單元與裝在該支座上的表面處理物體電連接的滑動接觸裝置。


圖1是顯示根據(jù)本發(fā)明的一個表面處理系統(tǒng)的縱向剖面圖；圖2是圖1的橫向剖面圖；以及圖3是顯示圖1的表面處理系統(tǒng)的位置故地裝置的透視圖。
具體實施例方式
以下將參考

根據(jù)本發(fā)明的表面處理系統(tǒng)和一種表面處理方法。
圖1是顯示根據(jù)本發(fā)明的一種表面處理系統(tǒng)的縱剖面圖，而圖2是圖1的橫剖面圖。
如圖1和圖2所示，根據(jù)本發(fā)明的表面處理系統(tǒng)包括一個沉積室100，用于支撐和攜帶一個表面處理物體900的載體910，以及一個通過把電源加到沉積室100中的物體900上、以便在表面處理表面物體900上形成一個沉積層的用于沉積反應(yīng)的供電單元。
所述的沉積室使用化學(xué)汽相沉積(CVD)反應(yīng)或物理汽相沉積(PVD)反應(yīng)在所述的表面上形成一個沉積層，在這里出供電單元之外用于沉積反應(yīng)的必要的單元包括一個反應(yīng)器入口和一個反應(yīng)器出口，為簡單起見在附圖中未示出。
載體910利用一個傳輸器件130支撐和攜帶表面處理的物體900。首先，載體910支撐表面處理物體900并傳輸?shù)匠练e室100，結(jié)果通過沉積反應(yīng)在表面處理物體900的表面上行成一個沉積層。然后，載體910將表面處理物體900從沉積室100中移出。
尤其是，載體910連續(xù)并且順序的排列，使得表面處理系統(tǒng)可以順序地完成表面處理。
供電單元包括安裝在沉積室100中并與一個外部電源210相連接的一個固定的供電單元220；以及一個安裝在載體910上用于可移動的與固定供電單元210接觸的可移動的供電單元230，該可移動供電單元安裝在載體910上用于可移動的與固定供電單元220接觸，以便在其上安裝有表面處理物體910的載體910進(jìn)入沉積室100進(jìn)行沉積反應(yīng)時與其電連接并且借此通過與物體900接觸將電能施加到表面物體處理900上。
利用一個絕緣器件222將固定供電單元220絕緣地安裝在沉積室100的內(nèi)壁110上。雖然最好是將固定供電單元220安裝在沉積室100的上側(cè)或者下側(cè)，但是其位置仍可以根據(jù)沉積室110而改變。
固定供電單元220包括一個從外部電源210插入到沉積室100的供電線211，以及與供電線211相連接并與可移動供電單元230相接觸的導(dǎo)電器件221。
如圖2所示，導(dǎo)電器件221包括一個與供電線211相連結(jié)并利用與沉積室100的內(nèi)壁絕緣的器件222安裝在沉積室100的上壁110上的第一導(dǎo)電器件221a，以及一個與第一導(dǎo)電器件221a電連接并且與可移動供電單元230相接觸的第二導(dǎo)電器件221b。
如圖2所示，第一導(dǎo)電器件221a是一個在載體910的前進(jìn)方向上被設(shè)置在沉積室100的上側(cè)的導(dǎo)電棒。
如圖2所示，第二導(dǎo)電器件221b通過固定于其上的方式與第一導(dǎo)電器件221a電連接，并且與以后將要說明的載體910的可移動供電單元230的接觸器件231相接觸。
同時，可移動供電單元230包括被安裝在載體910上并且與第一導(dǎo)電器件221a相接觸的接觸器件231，以及一個安裝在載體910上并且與接觸器件231相接觸以便將電能加到表面處理物體900上的安裝器件232。
接觸器件231包括作為一對輥的第二導(dǎo)電器件221b，并且包括一個朝向被傳輸方向安裝到載體910上并被插在所述的這對輥之間的諸如圓棒的桿。借此，接觸器件231與外部電源210電連接。
同時，固定供電單元220和接觸器件231對沉積反應(yīng)產(chǎn)生影響。如圖1和圖2所示，可以額外地將一個用絕緣材料做成的防護(hù)器件120安裝在沉積室100中的固定供電單元220和可移動供電單元230之間的一接觸部分上。
安裝器件232包括一個利用一個用絕緣材料包覆的電源連接線233與接觸器件231電連接的固定棒。
載體910帶有一個用于固定表面處理物體900的位置的固定器件。該位置固定器件包括一個形成在安裝器件232上的懸掛部分232a使得表面處理物體900可以懸掛在安裝器件232上。
位置固定器件同時起到一個用于將表面處理物體900安裝到載體910上的安裝器件的作用。
此外，所述的位置固定器件還額外包括一個形成在表面處理物體900上的懸掛部分920，使得可以將表面處理物體900懸掛在懸掛部分230a上，這最好是在表面處理物體900的量非常之大且連續(xù)不斷的情況下。
圖3是顯示圖1的表面處理系統(tǒng)的一個位置固定器件的透視圖。
如圖3所示，所述的位置固定器件包括一個形成在固定棒232的一側(cè)的環(huán)形槽240，以及一個按照與沿固定棒232的縱向的槽具有預(yù)定的間隔安裝的可滑動的止動器250，所述的預(yù)定間隔與表面處理物體900的相應(yīng)的懸掛部分920的寬度相同。
止動器250包括一個按照與槽240的預(yù)定間隔安裝在固定棒232上的第一止動器251，以及一個可滑動地安裝在固定棒232上的第二止動器252。
此外，可以在第一止動器251和第二止動器252之間額外地安裝一個用于固定表面處理物體900的彈性器件253。
第一止動器251和第二止動器252最好分別包括用于懸掛表面處理物體900的相應(yīng)的懸掛部分的環(huán)形槽251a和252a。
此外，可以在載體910上額外地安裝用于支撐以電絕緣狀態(tài)懸掛在懸掛部分232a上的表面處理物體900的絕緣支撐器件930，從而防止與載體910或沉積室100電連接。
以下，將說明根據(jù)本發(fā)明的表面處理系統(tǒng)的操作。
首先，將表面處理物體900安裝在被設(shè)置在載體910上的安裝器件232上進(jìn)行傳送。
表面處理物體900被傳送到沉積室910，以便在表面處理物體的表面上形成沉積層。當(dāng)載體910進(jìn)入沉積室100時，安裝在載體910上的可移動供電單元230的接觸器件231也進(jìn)入沉積室100，從而與固定供電單元220的第二導(dǎo)電器件221a可移動地接觸，即啟動了一次滑動接觸。
通過固定供電單元220和可移動供電單元230之間的滑動接觸被傳送的表面處理物體900與外部電源210電接觸。當(dāng)載體910完全進(jìn)入沉積室后，用一個開關(guān)門(未示出)和密封器件關(guān)閉并密封。
接下去，借助于一個控制單元(未示出)利用來自外部電源的供電單元施加電能。，從而，在表面處理物體900的表面上形成沉積層。
當(dāng)在表面處理物體的表面上通過沉積反應(yīng)形成所述的沉積層時，載體910將表面處理物體900從沉積室100中傳送出來。
特別是，在本發(fā)明中，使用了多個載體，所以安裝有另外的表面處理物體的另外的載體接連不斷地和順序地進(jìn)入沉積室，形成沉積層，并被傳送出去。當(dāng)重復(fù)所述的過程時，可以大量地對表面處理物體進(jìn)行連續(xù)不斷地表面處理。
本發(fā)明提供了這樣一種表面處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)通過借助于滑動觸點將電能加到表面處理物體上利用沉積反應(yīng)形成沉積層，從而連續(xù)不斷地進(jìn)行大量的表面處理而不影響由沉積反應(yīng)形成的沉積層。
對本領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員來說，顯而易見，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的前提下，在本發(fā)明中可以作出各種不同的改進(jìn)和變化。因此，本發(fā)明意在涵蓋所附權(quán)利要求書及其等效物的范圍內(nèi)的對本發(fā)明所作的所有的改進(jìn)和變化。
權(quán)利要求
1.一種表面處理系統(tǒng)，包括一沉積室；一個或多個載體，用于通過將一表面處理物體安裝于其上而攜帶所述的表面處理物體；一供電單元，用于通過將電能加到所述的沉積室中的所述的物體上利用一沉積反應(yīng)在所述的表面處理物體的表面上形成一沉積層；其中，所述的供電單元包括一被安裝在所述的沉積室內(nèi)并且與一外部電源相連接的固定供電單元；以及一被安裝在所述的載體上的可移動的供電單元，所述的可移動的供電單元用于當(dāng)其上安裝有所述的表面處理物體的所述的載體進(jìn)入所述的沉積室時與所述的固定供電單元可移動地電連接并且借此通過與其接觸將電能施加到被安裝在所述的載體上的表面處理物體上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述的固定供電單元被絕緣地安裝在所述的沉積室的一壁上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述的固定供電單元被安裝在所述的沉積室的上側(cè)或下側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述的固定供電單元包括一進(jìn)入所述的沉積室并與一外部電源相連接的供電線，以及一與所述的供電線相連接并且與所述的可移動的供電單元相接觸的導(dǎo)電器件。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述的可移動的供電單元包括一被安裝在所述的載體上并且與所述的第一導(dǎo)電器件相連接的接觸器件，以及一被安裝在所述的載體上并且與用于將電能加到所述的表面處理物體上的所述的接觸器件電連接的安裝器件。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其中所述的載體帶有一用于固定所述的表面處理物體的位置的位置固定器件。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中所述的位置固定器件包括一形成在所述的安裝器件上以便可以懸掛所述的表面處理物體的懸掛部分。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其中所述的位置固定器件還額外地包括一形成在所述的表面處理物體上以便可以將所述的表面處理物體懸掛在所述的懸掛部分上的相應(yīng)的懸掛部分。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的系統(tǒng)，其中所述的載體還額外地包括一用于支撐以電絕緣狀態(tài)被懸掛在的所述的懸掛部分上的表面處理物體的絕緣支撐器件。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其中所述的安裝器件包括一通過一電連接線與所述的接觸器件電連接的固定棒。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其中所述的位置固定器件包括一形成在所述的固定棒的一側(cè)的環(huán)形槽，以及一按照沿所述的固定棒的縱向與所述的槽具有預(yù)定的間隔安裝的可滑動的止動器，所述的預(yù)定的間隔與所述的表面處理物體的所述的相應(yīng)的懸掛部分的寬度相同。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述的供電單元還額外地包括一防護(hù)器件，該防護(hù)器件包括用于防止所述的供電單元影響沉積反應(yīng)的絕緣材料、并且被安裝在所述的沉積室內(nèi)用于防護(hù)所述的固定供電單元和所述的可移動供電單元之間的一接觸部分。
13.一種表面處理系統(tǒng)，包括一沉積室；一載體，用于通過將一表面處理物體安裝于其上而攜帶該表面處理物體；一供電單元，用于通過將電能加到所述的沉積室中的所述的物體上，以便在所述的表面處理物體的表面上形成一沉積層；在其中，所述的供電單元包括一被安裝在所述的沉積室內(nèi)并且與一外部電源相連接的固定供電單元；以及一用于將所述的固定供電單元和在進(jìn)行沉積反應(yīng)時被可移動地安裝在所述的載體上的表面處理物體電連接的滑動接觸器件。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，其中還包括一與所述的滑動接觸器件電連接并且被安裝在所述的載體上、用于將電能加到被安裝在所述的載體上的表面處理物體上的可移動的供電單元。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的系統(tǒng)，其中所述的滑動接觸器件包括一被安裝在所述的載體上的第一可移動接觸器件，以及一通過利用一嚙合器件與所述的固定供電單元相固定和電連接來與所述的第一可移動的接觸器件電連接和可移動地接觸的第二可移動接觸器件。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的系統(tǒng)，其中所述的第一可移動接觸器件包括一與所述的載體的移動方向平行排列的導(dǎo)電桿，而所述的第二可移動接觸器件包括一對與位于其間的所述的桿接觸的輥。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中所述的固定的供電單元與一從所述的外部電源進(jìn)入沉積室的外部電源連接線相連接、并且以絕緣狀態(tài)被固定在所述的沉積室的一內(nèi)側(cè)表面上。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的系統(tǒng)，其中所述的一對輥通過嚙合器件被安裝到所述的固定供電單元上。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的系統(tǒng)，其中所述的桿是圓柱形的棒。
20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述的供電單元還包括一防護(hù)器件，所述的防護(hù)器件包括用于防止所述的供電單元影響沉積反應(yīng)的絕緣材料，并且被安裝在所述的沉積室內(nèi)用于防護(hù)所述的固定供電單元。
全文摘要
一種表面處理系統(tǒng)，包括用于在表面處理物體(900)的表面上形成沉積層的沉積室(100)；用于通過將一表面處理物體(900)安裝于其上而攜帶該表面處理物體的載體(910)，用于通過將電能施加到沉積室(100)中的物體上形成沉積層的供電單元，在其中，供電單元包括被安裝在沉積室(100)內(nèi)并且與一個外部電源(210)相連接的固定供電單元(220)；以及被安裝在載體(910)上的可移動的供電單元(230)，可移動的供電單元(230)用于當(dāng)其上安裝有表面處理物體的載體進(jìn)入沉積室時與固定供電單元可移動地電連接并且借此通過與其接觸將電能施加到被安裝在載體上的表面處理物體上。
文檔編號C23C16/54GK1543513SQ02816130
公開日2004年11月3日 申請日期2002年12月28日 優(yōu)先權(quán)日2002年3月29日
發(fā)明者曹川壽, 尹東植, 李鉉旭, 河三喆, 田賢佑 申請人:Lg電子株式會社