專利名稱：研磨體以及使用此研磨體的水漬去除裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種研磨體以及使用此研磨體的水漬去除裝置，且特別是涉及一種能
夠增進(jìn)研磨效率的研磨體以及使用此研磨體的水漬去除裝置。
背景技術(shù)：
捷運(yùn)、公車等各型大眾運(yùn)輸車輛的車體使用玻璃、不銹鋼、玻璃纖維強(qiáng)化塑膠 (FRP)、鋁合金等材料而構(gòu)成，為了讓車內(nèi)的采光良好，因此在車體使用不少的玻璃材料， 一般而言，玻璃材質(zhì)大都為硅鈉玻璃，而此硅鈉玻璃經(jīng)過水的氫氧基與硅鈉玻璃的鈉離子 的交換作用后，會(huì)在玻璃內(nèi)產(chǎn)生堿性腐蝕液，此堿性腐蝕液會(huì)侵蝕玻璃內(nèi)層，在經(jīng)過一段 時(shí)間后玻璃內(nèi)層的腐蝕層擴(kuò)大，而擴(kuò)大的腐蝕層由玻璃外面看來為白霧狀，即所謂的水漬 (stains)。 關(guān)于水漬的去除，例如是可采用火焰法(以高溫火焰槍熔化玻璃表面)、輪磨法 (grinding ;以鉆石砂輪研磨玻璃表面)、腐蝕法(使用稀釋的氫氟酸腐蝕玻璃表面)或是 研磨法(lapping ;以具研磨能力的研磨顆粒研削玻璃表面)，但是，在經(jīng)由對(duì)上述各方法進(jìn) 行評(píng)估以及考量大眾運(yùn)輸車輛車體現(xiàn)場清潔作業(yè)之后，以研磨法去除玻璃的水漬是最為可 行的方法。 在研磨法中，為了使研磨顆粒能夠研削玻璃表面以去除水漬，一般而言是在玻璃 表面施加含有研磨顆粒的研磨液，并使用研磨頭在玻璃表面上轉(zhuǎn)動(dòng)并移動(dòng)，由此使研磨顆 粒發(fā)揮研磨玻璃表面的功能。然而，現(xiàn)有的研磨頭為平面的結(jié)構(gòu)，所以必須將研磨液噴涂在 玻璃表面，如果將研磨液置于研磨頭上，會(huì)因?yàn)檠心ヮ^的轉(zhuǎn)動(dòng)而產(chǎn)生離心力，無法有效的使 大量的研磨顆粒附著于其上，導(dǎo)致研磨液的損耗，另外在施工上現(xiàn)有的平面結(jié)構(gòu)的研磨頭 會(huì)增加水平面的施工阻力，并減弱研磨的力量，因此，現(xiàn)有的研磨頭具有研磨效率不佳的問 題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種研磨體以及利用此研磨體的水漬去除裝置，能夠提升 對(duì)于水漬的研磨效率。 本發(fā)明提出一種研磨體，適用于去除基材上的水漬，其中研磨體具有凹部。
本發(fā)明提出一種水漬去除裝置，包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、底座、研磨頭以及手持部。底座連 接至驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其中此底座通過驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)，研磨頭連接至底座，并且手持部連 接至驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。其中研磨頭至少包括研磨體，并且研磨體具有凹部。 本發(fā)明提出另一種水漬去除裝置，包括最少兩個(gè)以上的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、最少兩個(gè)以上 的底座、多個(gè)研磨頭、共同連接部以及手持部。底座個(gè)別連接至驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其中底座個(gè)別通 過驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)，研磨頭個(gè)別連接至底座，共同連結(jié)部將驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)結(jié)合為一體，并 且手持部連接至共同連結(jié)部。其中研磨頭個(gè)別至少包括研磨體，且研磨體具有凹部。
在上述水漬去除裝置中，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與底座之間更設(shè)置有伸縮變形元件，以使得研磨頭可因應(yīng)被研磨面的曲面變化而伸縮。 在上述水漬去除裝置中，更設(shè)置有速度控制模塊，用以控制研磨頭的旋轉(zhuǎn)速度。
在上述水漬去除裝置中，更包括在研磨頭周圍設(shè)置噴濺防止元件，用以防止研磨時(shí)液體的噴濺。 在上述水漬去除裝置中，更包括在前述水漬去除裝置上設(shè)置手持部。 在上述水漬去除裝置中，更設(shè)置有研磨液或冷卻液供給裝置，用以分別或同時(shí)提
供研磨液與冷卻液至研磨體。 在上述水漬去除裝置中，更包含氣壓式、彈簧式或油壓式的省力裝置。 在上述研磨體與水漬去除裝置中，凹部的半徑為r，且研磨體的半徑為R時(shí)，r =
1/10R 4/5R。 在上述研磨體與水漬去除裝置中，凹部的半徑為r，且研磨體的半徑為R時(shí)，r =1/15R 4/5R。 在上述研磨體與水漬去除裝置中，凹部的深度為h，且研磨體的高度為H時(shí)，h =1/10H 9/10H。 在上述研磨體與水漬去除裝置中，研磨體的材質(zhì)包括纖維或布料。 在上述研磨體與水漬去除裝置中，纖維包括動(dòng)物毛纖維、人造纖維、植物性纖維或
是纖維的混合纖維。在上述研磨體與水漬去除裝置中，纖維的直徑為0. 01mm 0. 3mm。在上述研磨體與水漬去除裝置中，纖維的直徑為0. 01mm 0. 03mm。 在上述研磨體與水漬去除裝置中，纖維的長度為5mm 150mm。 在上述研磨體與水漬去除裝置中，纖維的長度為15mm 25mm。 本案通過研磨體中所形成的凹部，能夠增加研磨切削力量并減少水平方向與垂直
方向的施工阻力，而且，雖然本發(fā)明的研磨體的研磨面與基材的接觸面積變小，但是是以較
有效的研磨面來進(jìn)行研磨作業(yè)，因此能夠增加研磨效率。 此外，由于本發(fā)明的研磨體采用纖維材料或布料，在研磨制作工藝中不僅能夠利
用凹部儲(chǔ)存研磨液，并且也能夠利用凹部以外的凸部的纖維纏繞研磨液中的研磨顆粒，因
此能夠通過形成凹部的形成及纖維纏繞研磨液中的研磨顆粒而達(dá)成緩釋研磨液的功效，提
高在有效的研磨面保留較多的研磨顆粒，以發(fā)揮研磨液中的研磨顆粒的研磨功能。 為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并配合所附
附圖，作詳細(xì)說明如下。


圖1A為依照本發(fā)明一實(shí)施例所繪示的研磨體的上視示意 圖IB為沿著圖1A中的I-I'線段的剖面示意圖； 圖2為本發(fā)明的研磨體在施工研磨后，利用光學(xué)顯微鏡(0M)于特定位置取像所得到的研磨顆粒在研磨體上的分布情形0M圖，圖2A為中心間處的0M圖，圖2B為1/2R 2/3R處的0M圖，圖2C為4/5R R處的0M圖； 圖3為現(xiàn)有的研磨體在施工研磨后，利用OM于特定位置取像所得到的研磨顆粒在研磨體上的分布情形OM圖，圖3A為中心間處的OM圖，圖3B為1/2R 2/3R處的OM圖，圖
53C為4/5R R處的0M圖；圖4為利用本發(fā)明的研磨體的水漬去除裝置的側(cè)視圖；圖5A為在研磨頭的周圍裝設(shè)噴濺防止元件的上視示意圖；圖5B為沿著圖5A中的II-II'線段的剖面示意圖；圖6A為依照本發(fā)明另一實(shí)施例的多研磨頭水漬去除裝置的上視6B為圖6A的多研磨頭水漬去除裝置的側(cè)視圖。主要元件符號(hào)說明110 :研磨體120 :凹部122 :底面124 :側(cè)面130 :研磨面200 :水漬去除裝置210 :驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)220 :底座230 :手持部240 :伸縮變形元件250 :噴濺防止元件300 :多研磨頭水漬去除裝置310:共同連結(jié)部320 :共同連結(jié)部h:凹部深度H :研磨體高度r :凹部半徑R :研磨體半徑
具體實(shí)施例方式
1研磨體 圖1A為依照本發(fā)明一實(shí)施例所繪示的研磨體的上視示意圖。圖1B為沿著圖1A 中的I-I'線段的剖面示意圖。 請(qǐng)參照?qǐng)DIA，在研磨體110中具有凹部120，此處值得注意的是，本發(fā)明的研磨體 110與凹部120并不限定為特定的形狀，只要是在研磨體中形成有凹部即可，因此研磨體以 及位于其中的凹部可為任意的適當(dāng)形狀。而在圖IA所示的實(shí)施例中，適用于研磨水漬的研 磨體110例如是一個(gè)圓形的結(jié)構(gòu)，并且比前述凹部120高的研磨面130為環(huán)狀，也就是說， 從上視的角度來看研磨體110，凹部120與環(huán)狀的研磨面130例如是共同構(gòu)成一個(gè)同心圓的 結(jié)構(gòu)。 請(qǐng)繼續(xù)同時(shí)參照?qǐng)D1A與圖1B，在研磨體110的半徑截面上，當(dāng)設(shè)凹部120的半徑 為r，且設(shè)研磨體110的半徑為R時(shí)，凹部120的半徑r例如是1/10R 4/5R，較佳為1/5R 4/5R。另一方面，當(dāng)設(shè)凹部120的深度為h，且設(shè)研磨體110的厚度為H時(shí)，凹部120的深度h例如是1/10H 9/10H。 而且，為了使本發(fā)明的研磨體110中能夠盡量的纏繞有研磨顆粒，研磨體110的材
質(zhì)較佳是纖維或布料，而適于使用的纖維例如是可舉出動(dòng)物毛纖維、人造纖維、植物性纖維
或是前述纖維混合而成的混合纖維等。而且，前述纖維的直徑例如是O. 01mm 0. 5mm，較佳
為0. 01mm 0. 05mrn，前述纖維的長度例如是5mm 250mm，較佳為15mm 25mm。 本發(fā)明的研磨體110的形成方法，例如是對(duì)于具有完整研磨面的本體(未圖示)，
以半徑r、深度h的移除條件，由研磨面的中心移除部分的研磨體構(gòu)成材料，由此形成具有
圓形凹部120以及圓形環(huán)狀研磨面130的研磨體110。由于本發(fā)明的研磨體的構(gòu)成材料主
要為纖維或布料，因此上述移除構(gòu)成材料的方法例如是可采用適當(dāng)?shù)那谐ɑ蚣舫▉磉_(dá)成。 此外，凹部在研磨體中的個(gè)數(shù)并沒有特別的限制，凹部數(shù)量只要能在研磨運(yùn)轉(zhuǎn)達(dá)
到平衡，凹部的位置其范圍落在1/10R 4/5R，較佳的范圍為1/5R 4/5R。 而且，雖然本案圖IB中凹部120的底面122為平坦的形狀，且凹部120的側(cè)面124
為垂直于底面，但是本發(fā)明并不限定于此，本發(fā)明也可以視實(shí)際需要而將底面122設(shè)計(jì)為
對(duì)稱于中心點(diǎn)的曲面或斜面，并且也可以將側(cè)面124設(shè)計(jì)為非垂直的傾斜面。 此處值得注意的是，由于本案的研磨體110已通過形成凹部120而將容易造成水
平施工阻力的中心部分去除，因此本發(fā)明的研磨體110的研磨面130與被研磨基材的接觸
面積變小，而且是以此研磨效率較高的研磨面130來進(jìn)行研磨作業(yè)，因而在操作上能夠較
為省力。 此外，由于本發(fā)明的研磨體110采用纖維材料或布料等軟式材質(zhì)，并且已通過形 成凹部120而將容易造成研磨液損耗的中心部分去除，在研磨制作工藝中不僅能夠利用凹 部120儲(chǔ)存研磨液，并且也能夠利用凹部120以外的凸部的纖維纏繞研磨液中的研磨顆粒， 因此與現(xiàn)有研磨液很快飛散的情況相較之下，本發(fā)明能夠通過形成凹部120而達(dá)成緩釋研 磨液(以及其中的研磨顆粒)的功效，從而提高研磨的效率。 為了證明將本發(fā)明的研磨體的研磨顆粒纏繞作用，以本發(fā)明的內(nèi)凹式研磨體與 現(xiàn)有的研磨體以在相同回轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速、切削條件下進(jìn)行研磨施工，其后以光學(xué)顯微鏡(Optical Microscope OLYPUS BX51)分別對(duì)本發(fā)明的研磨體與現(xiàn)有的研磨體進(jìn)行取像。
圖2為本發(fā)明的研磨體在施工研磨后，利用OM于特定位置取像所得到的研磨顆粒 在研磨體上的分布情形0M圖，圖2A為中心間處的0M圖，圖2B為1/2R 2/3R處的0M圖， 圖2C為4/5R R處的0M圖，并且0M的放大倍率為50X。由圖2可知本發(fā)明的研磨體的中 心間處在研磨施工后仍留有研磨顆粒，在1/2R 2/3R處有較多的研磨顆粒，但在4/5R R 處的研磨顆粒更多。由此可知雖然離心力作用確會(huì)將研磨顆粒甩開，但是如果本發(fā)明的內(nèi) 凹式研磨體，則會(huì)有較多的研磨液中的研磨顆粒附著在未去除的纖維上，有較多的研磨顆 粒附著在纖維上則會(huì)發(fā)揮較大的研磨力，達(dá)成預(yù)期的目標(biāo)。 圖3為現(xiàn)有的研磨體在施工研磨后，利用OM于特定位置取像所得到的研磨顆粒在 研磨體上的分布情形OM圖，圖3A為中心間處的OM圖，圖3B為1/2R 2/3R處的OM圖，圖 3C為4/5R R處的OM圖。由圖3可以發(fā)現(xiàn)只有部分的研磨顆粒附著在纖維上，亦即在研 磨顆粒發(fā)揮作用前，大部分的研磨顆粒就已經(jīng)被離心力甩離出研磨體之外，從而使得研磨 顆粒的利用效果不佳，研磨能力較為低落。
2.水漬去除裝置 圖4為利用本發(fā)明的研磨頭的水漬去除裝置的側(cè)視圖，本發(fā)明的水漬去除裝置適 用于去除多種基材上的水漬，其中基材例如是玻璃、鋼板或是壓克力板等。請(qǐng)參照?qǐng)D4，本發(fā) 明的水漬去除裝置200至少包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)210、底座220、手持部230以及研磨頭，研磨頭包 括研磨體110以及墊片(未圖示)，至于研磨體110的構(gòu)成已描述如上述實(shí)施例，因此在此 不再贅述，而墊片則是用來連接研磨體110與底座220。底座220連接至驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)210，并 且底座220能夠通過驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)210所提供的動(dòng)力而進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，手持部230設(shè)置于水漬去除 裝置200上，以使得操作者能夠手持此水漬去除裝置200進(jìn)行研磨作業(yè)，在本實(shí)施例中，手 持部230例如是固定于驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)210的外殼上。研磨頭則固定于底座220上，并能夠隨著 底座220 —起旋轉(zhuǎn)。因此，通過上述構(gòu)成，本發(fā)明的水漬去除裝置能夠通過驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)210使 研磨頭旋轉(zhuǎn)，以對(duì)玻璃進(jìn)行移除水漬的研磨作業(yè)。 在上述構(gòu)成中，其中研磨頭包括有研磨體110與墊片，但是本發(fā)明并不限定于此， 在能夠直接將研磨體110固定在底座220的情況下，也可以不使用墊片并將研磨體110本 身當(dāng)作研磨頭來使用。 本發(fā)明的水漬去除裝置200除了上述構(gòu)成之外，也可具有伸縮變形元件，請(qǐng)參照 圖4，伸縮變形元件240例如是裝設(shè)在底座220與驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)210之間，當(dāng)被研磨面的曲率產(chǎn) 生變化而具有高低起伏時(shí)，底座220將能夠順應(yīng)被研磨面的起伏而進(jìn)行伸縮，從而使得研 磨頭總是能夠貼合于被研磨面上以進(jìn)行研磨。 而且，本發(fā)明的水漬去除裝置200也可以具有旋轉(zhuǎn)速度控制模塊(未圖示)，通過 此旋轉(zhuǎn)速度控制模塊控制驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)速度，從而使得操作者能夠?qū)⒀心ヮ^的旋轉(zhuǎn)速度 控制為所希望的速度。 而且，本發(fā)明的水漬去除裝置200也可以具有噴濺防止元件250。圖5A為在研磨 頭的周圍裝設(shè)噴濺防止元件的上視示意圖，圖5B為沿著圖5A中的II-II'線段的剖面示意 圖。請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D5A與圖5B，研磨頭固定于底座220上，而噴濺防止元件250則圍繞研磨 頭的周圍而設(shè)置，其中此噴濺防止元件250例如是可采用海綿、纖維材質(zhì)、布類材質(zhì)等具有 吸附能力的材質(zhì)，通過此噴濺防止元件250吸附被離心力甩出的研磨液或冷卻液等液體， 從而能夠防止液體的飛濺。 而且，本發(fā)明的水漬去除裝置200也可以具有研磨液或冷卻液供給裝置(未圖 示)，用以將研磨液或是冷卻液同時(shí)或是分別供給至研磨頭，或是利用流道的設(shè)計(jì)使其能夠 將研磨液或冷卻液帶至研磨體的凹處。其中研磨液或冷卻液供給裝置的液體供應(yīng)方式例如 是包括手動(dòng)供給方式或自動(dòng)供給方式，并且在研磨液或冷卻液供給裝置與研磨頭之間也可 以設(shè)置有流道，用以將研磨液或冷卻液平均的分散至研磨頭。 此外，本發(fā)明的水漬去除裝置200也可以進(jìn)一步的連接至省力裝置(未圖示)，其 主要目的為降低垂直面的施工阻力以及地心引力，其省力裝置可為彈簧、油壓或是氣壓式 的平衡裝置。 上述圖4所述的水漬去除裝置200是由單一的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)210以及研磨頭所構(gòu)成， 但是本發(fā)明并不限定于此，本發(fā)明的水漬去除裝置也可以由多個(gè)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)搭配多個(gè)研磨頭 而構(gòu)成。 3.多研磨頭水漬去除裝置
8
圖6A為依照本發(fā)明另一實(shí)施例的多研磨頭水漬去除裝置的上視圖，圖6B為圖6A 的多研磨頭水漬去除裝置的側(cè)視圖。請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D6A與圖6B，本實(shí)施例的多研磨頭水漬 去除裝置300例如是通過共同連結(jié)部310以及共同連結(jié)部320將4個(gè)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)210結(jié)合為 一體，而4個(gè)底座220個(gè)別安裝于4個(gè)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)210上，且4個(gè)研磨頭個(gè)別安裝于4個(gè)底座 220上。手持部230設(shè)置于多研磨頭水漬去除裝置300上，以使得操作者能夠手持此多研 磨頭水漬去除裝置300進(jìn)行研磨作業(yè)，在本實(shí)施例中，手持部230例如是裝設(shè)于共同連結(jié)部 310上。 而且，本實(shí)施例的多研磨頭水漬去除裝置300也可以如同前述實(shí)施例所述，在水 漬去除裝置300上安裝伸縮變形元件240、旋轉(zhuǎn)速度控制模塊、噴濺防止元件250或是研磨 液或冷卻液供給裝置。特別是本實(shí)施例的多研磨頭水漬去除裝置300的重量較重，因此較 佳是連接于前述省力裝置，以減輕作業(yè)人員的負(fù)擔(dān)。 此處值得注意的是，由于在本實(shí)施例中將4組單機(jī)的水漬去除裝置200結(jié)合為一 體而形成多研磨頭水漬去除裝置300，因此能夠增大研磨面積，增加去除水漬的速度，并能 夠增加研磨時(shí)的穩(wěn)定度。 綜上所述，由于本發(fā)明的研磨體已通過形成凹部而將容易造成水平施工阻力的中 心部分去除，因此本發(fā)明的研磨頭的研磨面與玻璃的接觸面積變小，而且是以此研磨效率 較高的研磨面來進(jìn)行研磨作業(yè)，因而在操作上能夠較為省力。 此外，由于本發(fā)明的研磨頭采用纖維材料或布料等材質(zhì)，并且已通過形成凹部而 將容易造成研磨液損耗的中心部分去除，在研磨制作工藝中不僅能夠利用凹部儲(chǔ)存研磨 液，并且也能夠利用凹部以外的凸部的纖維以纏繞研磨液中的研磨顆粒，因此能夠通過形 成凹部而達(dá)成緩釋研磨液的功效，提高研磨的效率。 雖然結(jié)合以上較佳實(shí)施例揭露了本發(fā)明，然而其并非用以限定本發(fā)明，任何所屬 技術(shù)領(lǐng)域中熟悉此技術(shù)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，可作些許的更動(dòng)與潤飾，因此 本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以附上的權(quán)利要求所界定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
一種研磨體，適用于去除水漬，其中前述研磨體具有凹部。
2. 如權(quán)利要求1所述的研磨體，其中前述凹部的半徑為r，且前述研磨體的半徑為R 時(shí)，r = 1/10R 4/5R。
3. 如權(quán)利要求1所述的研磨體，其中前述凹部的半徑為r，且前述研磨體的半徑為R 時(shí)，r = 1/5R 4/5R。
4. 如權(quán)利要求1所述的研磨體，其中前述凹部的深度為h，且前述研磨體的高度為H 時(shí)，h = 1/10H 9/10H。
5. 如權(quán)利要求1所述的研磨體，其中前述研磨體的材質(zhì)包括纖維或布料。
6. 如權(quán)利要求5所述的研磨體，其中前述纖維包括動(dòng)物毛纖維、人造纖維、植物性纖維 或是前述纖維的混合纖維。
7. 如權(quán)利要求5所述的研磨體，其中前述纖維的直徑為0. 01mm 0. 5mm。
8. 如權(quán)利要求5所述的研磨體，其中前述纖維的直徑為0. 01mm 0. 05mm。
9. 如權(quán)利要求5所述的研磨體，其中前述纖維的長度為5mm 250mm。
10. 如權(quán)利要求5所述的研磨體，其中前述纖維的長度為15mm 25mm。
11. 一種水漬去除裝置，包括 驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；底座，連接至前述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其中此底座通過前述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)；以及 研磨頭，連接至前述底座，其中前述研磨頭至少包括研磨體，并且前述研磨體具有凹部。
12. 如權(quán)利要求11所述的水漬去除裝置，其中在前述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與前述底座之間還設(shè)置 有伸縮變形元件，以使得前述研磨頭可因應(yīng)被研磨面的曲面變化而伸縮。
13. 如權(quán)利要求11所述的水漬去除裝置，其中還設(shè)置有速度控制模塊，用以控制前述 研磨頭的旋轉(zhuǎn)速度。
14. 如權(quán)利要求11所述的水漬去除裝置，其中還包括在前述研磨頭周圍設(shè)置噴濺防止 元件，用以防止研磨時(shí)液體的噴濺。
15. 如權(quán)利要求11所述的水漬去除裝置，其中還包括在前述水漬去除裝置上設(shè)置手持部。
16. 如權(quán)利要求11所述的水漬去除裝置，其中還設(shè)置有研磨液或冷卻液供給裝置，用 以分別或同時(shí)提供研磨液與冷卻液至前述研磨頭。
17. 如權(quán)利要求11所述的水漬去除裝置，其中還包含氣壓式、彈簧式或油壓式的省力裝置。
18. 如權(quán)利要求11所述的水漬去除裝置，其中前述凹部的半徑為r，且前述研磨體的半 徑為R時(shí)，r = 1/10R 4/5R。
19. 如權(quán)利要求11所述的水漬去除裝置，其中前述凹部的半徑為r，且前述研磨體的半 徑為R時(shí)，r = 1/5R 4/5R。
20. 如權(quán)利要求11所述的水漬去除裝置，其中前述凹部的深度為h，且前述研磨體的高 度為H時(shí)，h = 1/10H 9/10H。
21. 如權(quán)利要求11所述的水漬去除裝置，其中前述研磨體的材質(zhì)包括纖維或布料。
22. 如權(quán)利要求21所述的水漬去除裝置，其中前述纖維包括動(dòng)物毛纖維、人造纖維、植物性纖維或是前述纖維的混合纖維。
23. 如權(quán)利要求21所述的水漬去除裝置，其中前述纖維的直徑為0. 01mm 0. 5mm。
24. 如權(quán)利要求21所述的水漬去除裝置，其中前述纖維的直徑為0. 01mm 0. 05mm。
25. 如權(quán)利要求21所述的水漬去除裝置，其中前述纖維的長度為5mm 250mm。
26. 如權(quán)利要求21所述的水漬去除裝置，其中前述纖維的長度為15mm 25mm。
27. —種水漬去除裝置，包括最少兩個(gè)以上的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；最少兩個(gè)以上的底座，個(gè)別連接至前述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其中前述底座個(gè)別通過前述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)；多個(gè)研磨頭，個(gè)別連接至前述底座；以及共同連結(jié)部，將前述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)結(jié)合為一體，其中前述研磨頭個(gè)別包括本體，并于前述本體具有凹部。
28. 如權(quán)利要求27所述的水漬去除裝置，其中在前述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與前述底座之間還設(shè)置有伸縮變形元件，以使得前述研磨頭可因應(yīng)被研磨面的曲面變化而伸縮。
29. 如權(quán)利要求27所述的水漬去除裝置，其中還設(shè)置有速度控制模塊，用以控制前述研磨頭的旋轉(zhuǎn)速度。
30. 如權(quán)利要求27所述的水漬去除裝置，其中還包括在前述研磨頭周圍設(shè)置噴濺防止元件，用以防止研磨時(shí)液液體的噴濺。
31. 如權(quán)利要求27所述的水漬去除裝置，其中還包括在前述水漬去除裝置上設(shè)置手持部。
32. 如權(quán)利要求27所述的水漬去除裝置，其中還設(shè)置有研磨液或冷卻液供給裝置，用以分別或同時(shí)提供研磨液與冷卻液至前述研磨頭。
33. 如權(quán)利要求27所述的水漬去除裝置，其中還包含氣壓式、彈簧式或油壓式的省力裝置。
34. 如權(quán)利要求27所述的水漬去除裝置，其中前述凹部的半徑為r，且前述本體的半徑為R時(shí)，<formula>formula see original document page 3</formula>
35. 如權(quán)利要求27所述的水漬去除裝置，其中前述凹部的半徑為r，且前述本體的半徑為R時(shí)，<formula>formula see original document page 3</formula>
36. 如權(quán)利要求27所述的水漬去除裝置，其中前述凹部的深度為h，且前述本體的高度為H時(shí)，<formula>formula see original document page 3</formula>
37. 如權(quán)利要求27所述的水漬去除裝置，其中前述本體的材質(zhì)包括纖維或布料。
38. 如權(quán)利要求37所述的水漬去除裝置，其中前述纖維包括動(dòng)物毛纖維、人造纖維、植物性纖維或是前述纖維的混合纖維。
39. 如權(quán)利要求37所述的水漬去除裝置，其中前述纖維的直徑為0. 01mm 0. 5mm。
40. 如權(quán)利要求37所述的水漬去除裝置，其中前述纖維的直徑為0. 01mm 0. 05mm。
41. 如權(quán)利要求37所述的水漬去除裝置，其中前述纖維的長度為5mm 250mm。
42. 如權(quán)利要求37所述的水漬去除裝置，其中前述纖維的長度為15mm 25mm。
全文摘要
本發(fā)明公開一種研磨體以及使用此研磨體的水漬去除裝置。該研磨體用于去除水漬，其包含纖維材料或布料，其中研磨體具有凹部，使其能達(dá)到緩釋研磨液與省力的功能。
文檔編號(hào)B24B27/033GK101767305SQ20081019038
公開日2010年7月7日 申請(qǐng)日期2008年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月31日
發(fā)明者周文漢, 鄭鴻鉸, 魏宇昆 申請(qǐng)人:財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院