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      表面涂布方法和其用途的制作方法

      文檔序號(hào):3425482閱讀:2263來源:國知局
      專利名稱:表面涂布方法和其用途的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本申請案涉及涂布表面的方法以及由此得到的經(jīng)涂布表面。
      背景技術(shù)
      處理金屬或陶瓷表面的方法一般可以分成幾種不同類別。這些方法包括 改變現(xiàn)有表面的物理和或化學(xué)性質(zhì)的方法
      去除現(xiàn)有表面,產(chǎn)生具有不同的化學(xué)和或物理特征的新表面的方法 通過在現(xiàn)有表面上沉積材料,產(chǎn)生新表面的方法。用于改變現(xiàn)有裝置表面的化學(xué)性質(zhì)的方法包括例如,用于使金屬裝置氮化、滲 碳和碳氮化以硬化金屬表面,由此使所述裝置更耐磨粒磨損的方法。目前,主要有四種 使鈦、鈦合金和鋼氮化的方法。這些方法為等離子體氮化(plasma nitriding) (Rie等 人,1995)、離子束氮化(ion-beam nitriding) (Chen 和 Juang, 1997)、激光氮化(laser nitriding) (Xue等人,1997)和氣體氮化(Gil等人,2002)。這些方法之所以有效,主 要是因?yàn)槠浔憷诘謩e擴(kuò)散到鈦和鋼合金的鈦和鐵素體相中。使鋼(以及在較低程度上, 鈦和鈦合金)滲碳的主要方法為等離子體滲碳(plasma carburising) (Dong等人,2006)、 ^t1 {φ0^(gas carburising) (Li 禾口 Manory, 1995)禾口貞空(vacuum carburising) (Chen 和 Liu, 2003)。噴丸處理(Shot peening)是一種能改變現(xiàn)有裝置表面的物理性質(zhì)的方法。在噴 丸處理過程中,借助于濕或干的載體流體(通常分別為水和空氣)高速推動(dòng)固體微粒,由此 沖擊目標(biāo)襯底(通常為金屬襯底)的表面。很久以前,就已經(jīng)將噴丸處理確定為一種誘導(dǎo)金 屬裝置表面的所需應(yīng)力特性的方式,其中撞擊粒子充當(dāng)扁頭錘(peening hammer),引起所 述表面局部塑性變形,從而使其不太易于破裂和受到腐蝕。除產(chǎn)生很大壓力外,在沖擊附近 的表面,還局部產(chǎn)生大量熱能,據(jù)報(bào)導(dǎo),瞬時(shí)溫度高達(dá)IOOiTC。通過去除例如氧化物等表面材料來改變表面化學(xué)性質(zhì)的方法中還包括化學(xué)蝕刻
      electro-dissolution treatment)> %IMτ ;^bS(electro-polishing treatment)。磨粒處理也屬于此類,例如噴鋼砂處理(grit blasting)和噴砂處理(sand blasting treatment)。噴鋼砂和噴砂是利用流體流將微米尺寸的硬磨粒高速傳遞到表面 的處理。當(dāng)這些粒子沖擊表面時(shí),粒子的高動(dòng)能將使裝置表面上局部產(chǎn)生高溫和高壓。此 法還導(dǎo)致去除表面的晶粒,使先前位于主體內(nèi)的原子現(xiàn)位于表面上。在流體流是空氣,并且 襯底是反應(yīng)性金屬的噴鋼砂法中,先前位于主體中的這些原子將與氧氣迅速反應(yīng),由此在 表面形成新的氧化物層。在表面沉積新材料的方法包括例如化學(xué)氣相沉積法(Chemical VaporD印0siti0n,CVD)、電鍍法、電聚合、溶膠-凝膠技術(shù)(sol gel technique)和噴涂法。噴涂 是一種使液體霧化并噴灑于襯底上的技術(shù)。一般說來,霧化方法是使用高壓氣流碎裂待霧 化的物質(zhì),使其分裂成小液滴的方法。隨后,這些液滴被氣流攜帶到表面。霧化的物質(zhì)通常 含有在表面作為溶質(zhì)或作為懸浮粒子沉積的材料。在聚合物情況下,隨著載液的蒸發(fā),這些 材料通常通過例如硅烷鍵聯(lián)、環(huán)氧基鍵聯(lián)和交聯(lián)劑等復(fù)雜化學(xué)偶聯(lián)劑附著于表面,或在溶 膠-凝膠沉積的陶瓷涂層的情況下,通過例如并入長期暴露于熱的固化處理附著于表面。在表面科學(xué)中,廣泛使用噴丸處理和磨粒處理作為清潔和整理表面以準(zhǔn)備進(jìn)行進(jìn) 一步處理的方式。已知噴丸處理方法可同時(shí)清潔襯底并涂漆(Kik和Schuurink,1985)。 此法的優(yōu)點(diǎn)在于,消除了清潔與涂漆之間的延時(shí),由此使涂覆油漆之前,清潔過的金屬表面 的再氧化減到最少。Gruss和Shapiro (1987)描述一種涂布印刷電路板的方法,其中使用 噴丸處理清潔和整理表面以為接下來的涂布作準(zhǔn)備。最近,公開了多項(xiàng)技術(shù),使用噴丸處理或磨粒處理的方式,通過將所需固體材料埋 入表面中來改變金屬和其它襯底的表面化學(xué)性質(zhì)/組成,而且這些技術(shù)可分成三種截然不 同的方法。在第一種方法中,使用單一類型的單相固體微粒作為敲擊或磨粒介質(zhì)。在本方法 中,微粒碎片在沖擊時(shí)埋入金屬表面中。由于所述粒子須具有足夠硬的尺寸和質(zhì)量來磨損 或敲擊表面,故所述方法主要用于埋入陶瓷材料。實(shí)例包括二氧化硅、氧 化鋁或磷酸鈣陶瓷 等,參見 Arola 和 McCain 的專利(Arola 和 McCain, 2003)以及 Kuo 的專利(Kuo, 1995)。第二種方法也包含使用單一類型的固體粒子作為敲擊或磨粒介質(zhì),但這些粒子本 身包含多種組分,通常有賦予粒子質(zhì)量和密度的硬組分以及需要在沖擊時(shí)埋入表面中或附 著于表面的較軟的組分。實(shí)例見于(Muller和Berger,2004 ;Bru_Maginez等人,2002; Hisada 和 Kihira, 2004 ;Omori 和 Kieffer, 2000)以及用于牙科植入物的 RocatekTM 粘 結(jié)系統(tǒng)。第三種方法是將不同類型的固體微粒介質(zhì),即初級(jí)磨?;蚯脫舨牧弦约奥袢牖驍U(kuò) 大表面所需的第二材料,混入同一流體流中,以致其同時(shí)撞擊表面。此方法的實(shí)例可見于 (Babecki 禾口 Haehner, 1971 ;Chu 禾口 Staugaitis, 1985 ;Spears, 1988 ;Vose, 2006 ;Enbio Ltd.等人,2008),其中提出此類方法,以利用包括塑料、陶瓷和金屬在內(nèi)的多種材料改變 多種襯底的表面組成。W0/2008/033867教示噴鋼砂處理的用途,在標(biāo)準(zhǔn)噴鋼砂處理期間,磨 損作用使表面氧化物碎裂,而當(dāng)所述表面氧化物重新形成時(shí),將較小/較軟的固體微粒夾 帶入所述氧化物中,由此將傳遞到表面的固體粒子注入金屬氧化物層中。這些改進(jìn)的噴丸處理方法因多種原因而展現(xiàn)有限的表面改性能力。首先,擴(kuò)大表 面化學(xué)性質(zhì)的物質(zhì)局限于固體材料。此外,擴(kuò)大的表面層是一種含有埋入的微粒和重新形成的目標(biāo)金屬氧化物的組合 物。盡管此法提供擴(kuò)大金屬表面層的可能性,但相關(guān)金屬襯底上的天然氧化物層局限于具 有大致相等厚度的層。在例如鈦、鋁和其合金等許多金屬中,所述層本身可為約納米級(jí),通 常限制了所需可并入所述薄表面層中的微粒的濃度和性質(zhì)。此外,擴(kuò)大表面所需的固體微粒的尺寸可為亞微米或納米級(jí),故處理這些 會(huì)產(chǎn)生呼吸以及其它健康和安全危險(xiǎn)的固態(tài)粒子,將引起健康和安全問題。

      發(fā)明內(nèi)容
      本申請案試圖解決現(xiàn)有技術(shù)的這些限制,并且提出一種使多種襯底的表 面改性的涂布方法。所述方法包含用粒子轟擊表面,同時(shí)在所述表面上提供氣霧劑,以便與 轟擊粒子協(xié)作,將氣霧劑中提供的前期材料在表面上轉(zhuǎn)化成附著涂層。所述方法類似于亞 微米級(jí)的動(dòng)態(tài)壓實(shí)(dynamic compaction)??衫脟娡杼幚砘蝾愃铺幚硗瑫r(shí)傳遞氣霧劑與 轟擊粒子,將提供明顯優(yōu)于現(xiàn)有技術(shù)的改進(jìn)。前期組合物可以是凝膠;懸浮液;膠體;聚合物、有機(jī)物或無機(jī)物溶液。所 述方法可以在室溫下進(jìn)行??梢允褂萌魏魏线m的溶劑,包括例如水。相比之下,先前利用噴丸處理使物件表面改性的技術(shù)僅教示氧化物層的 注入。本申請案解決了與現(xiàn)有技術(shù)有關(guān)的許多問題。本申請案使截然不同的層附著于物件 表面。此外,通過使用氣霧劑抑制微粒子塵霧的形成,也解決了健康和安全問 題。而且,還消除了由亞微米級(jí)干燥微粒流體化所引起的問題。此外,許多前期組合物,尤 其聚合物粒子,可以懸浮液形式提供,并且消除了難以獲得具有正確物理特性的干燥微粒 物質(zhì)的問題。
      在一個(gè)布置中,在表面上形成涂層的方法包含用氣流內(nèi)夾帶的粒子轟擊 表面的步驟,其中轟擊粒子具有足夠能量,以在沖擊時(shí)去除表面的材料。例如,可以使用 以下一種或多種裝置轟擊表面干噴丸機(jī)(dry shot peening machine)、干噴砂機(jī)(dry blaster)、砂輪(wheel abrader)、噴鋼砂機(jī)(grit blaster)、噴砂機(jī)(sand blaster)或微 研磨噴砂機(jī)(micro-blaster)。轟擊粒子宜為彈丸、鋼砂或其組合,而且可以是陶瓷、金屬、 金屬合金、聚合物或其組合。轟擊粒子在到達(dá)表面時(shí),需要0. 001皮焦耳(Pico-joule)或 更高動(dòng)能來去除表面的材料,但這將視表面材料而定。在用粒子轟擊表面的同時(shí),將氣霧劑傳遞到表面。所述氣霧劑可與轟擊粒 子在同一氣流內(nèi)傳遞,或在單獨(dú)的氣流內(nèi)傳遞。氣霧劑成分與轟擊粒子的沖擊性質(zhì)協(xié)作,形 成涂層。所述涂層的前期材料可至少部分由氣霧劑的一種或多種成分提供。此外,所述涂 層還可能完全由所述成分形成。在氣霧劑成分貢獻(xiàn)部分的情況下,轟擊粒子和\或其它粒 子可貢獻(xiàn)前期涂層材料的剩余部分。例如,轟擊粒子可具有軟材料外層包圍硬核心,其中所 述外層是一種前期涂層材料。應(yīng)理解,由于前期涂層材料可能因化學(xué)反應(yīng)或其它反應(yīng)而轉(zhuǎn) 化,故所述前期材料可能不同于所得涂層材料。氣霧劑可通過霧化以下一者或多者而產(chǎn)生液體、溶液、懸浮液、凝膠或溶 膠,和膠體。最適宜者將視所需涂層的性質(zhì)以及特定形式的涂層成分的可用性而定。氣霧劑可使用常規(guī)裝置產(chǎn)生,所述裝置包括例如Bernoulli霧化器、 壓力霧化器、雙流體霧化器、超聲波霧化器、改進(jìn)的噴霧干燥器、改進(jìn)的噴涂機(jī)、噴槍 (airbrush)、電Kelectro spray atomiser同 $由· · 且 ^f牛(coaxial nozzle assembly)以及根據(jù)氣體透鏡原理操作的同軸噴嘴組件。一般說來,此類霧化器將使用霧化 氣體。小心選擇傳遞氣霧劑和轟擊粒子的氣體,可獲得某些益處。因此,在一些情況下,可 能需要氧化性氣體,而在其它情況下,將需要?dú)怏w中實(shí)質(zhì)上不含氧氣,在此情況下,例如所 述氣體可能包含包括氨氣和氮?dú)獾暮獨(dú)怏w;包括氦和氬的惰性氣體;包括一氧化碳、二 氧化碳和烴的含碳?xì)怏w;包括一氧化硫、二氧化硫和三氧化硫的含硫氣體;含商素氣體;和\或氫氣。因此,例如,在形成涂層之前,或在形成涂層期間,表面可能氮化。所述方法允許使用多種前期材料形成涂層,所述材料包括例如以下一者 或多者聚合物、陶瓷、玻璃、生物玻璃、金屬、金屬合金、活性劑、單體、離子、溶劑或有機(jī)金 屬絡(luò)合物。在聚合物的情況下,所述聚合物可包含熱塑性、熱固性塑料、生物相容性聚合物, 和\或殺生物或抑菌聚合物。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明方法允許前期涂層材料包括活性劑。因此,例 如,前期涂層材料內(nèi)可包括以下一者或多者藥物、抗生素、抗再狹窄劑、抗炎劑、抗血栓劑、 蛋白質(zhì)、寡肽、膠體金屬或有機(jī)金屬物質(zhì)、N-鹵胺(N-halamine)或四級(jí)離子(quaternary ion),由此所述一者或多者可存在于所得涂層中。涂布過的表面可經(jīng)歷后續(xù)處理,以擴(kuò)大涂層的特性。所述處理可為以下一 者或多者從涂層中溶出材料以擴(kuò)大其形態(tài);將材料沉淀到涂層中或沉淀到涂層上;微粒 轟擊以將微粒埋入涂層中;通過離子交換法再補(bǔ)充組分;清洗處理以去除碎屑物;和或再 補(bǔ)充活性劑;和或極化處理,包括例如電或磁極化處理。所述方法特別適于處理醫(yī)療裝置、特別是可植入醫(yī)療裝置的表面。在這些 情況下,所述方法可使表面具有殺生物或抑菌性。類似地,涂層可提供載體基質(zhì),在所述載 體基質(zhì)內(nèi),可粘結(jié)、吸附或夾帶活性劑。因此,以下一種或多種活性劑可提供于醫(yī)療裝置的 表面上抗再狹窄劑、免疫抑制劑、抗炎劑、抗癌劑、抗生素、抗血栓劑、蛋白質(zhì)、骨形態(tài)發(fā)生 蛋白(bone morphogenic protein)、酶、磷酸鈣或寡肽。載體基質(zhì)可含有以下一者或多者 磷酸鈣、二氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、硫酸鈣、生物玻璃、氧化鋯、穩(wěn)定氧化鋯、鑭系元素氧化 物、碳酸氫鈉或生物相容性聚合物。另一方面,使用本文所述的方法,可提供殺生物表面,附著的聚合物涂層 為至少0. 1微米厚并且與所述表面的粘結(jié)強(qiáng)度為至少1. 5兆帕。殺生物表面的涂層可含有 以下一者或多者聚酰胺_酰亞胺、聚酰胺、聚氨基甲酸酯、聚丙烯腈,或丙烯腈共聚物,側(cè) 接胺、酰胺或酰亞胺基團(tuán)的聚合物,而且其中通過使涂布表面暴露于含商素溶液,可使所述 表面呈現(xiàn)或再呈現(xiàn)殺生物性。含鹵素溶液可為以下一者或多者次氯酸、次溴酸、漂白劑、次 氯酸鹽、高氯酸鹽、次溴酸鹽、高溴酸鹽、鹵化水溶液、二氯甲烷、二溴甲烷或鹵烷烴溶液。另一方面,可提供生物活性表面,附著涂層為至少0. 1微米厚并且與所述 表面的粘結(jié)強(qiáng)度為至少1. 5兆帕,所述附著涂層包含聚合物和膠體金屬。在此方面,所述聚 合物可選自以下一者聚四氟乙烯或聚四氟乙烯衍生物、聚乙烯、聚丙烯酸系物、聚碳酸酯、 聚酰胺、聚酰亞胺或聚氨基甲酸酯,和\或所述膠體金屬可為銀、錫、鎳或其組合。所述表面 可具有殺生物性、抑菌性或其組合。另一方面,可提供一種可植入物體,附著的多孔涂層包含載體基質(zhì)和活性 劑,其中所述涂層為至少0. 1微米厚,而且涂層中均勻分布有每立方毫米涂層介于1皮克 (picogram)與20毫克之間的活性劑??芍踩胛矬w的載體基質(zhì)可為以下一者或多者磷酸 鈣、二氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、二氧化鈦、硫酸鈣、磷酸鈣玻璃、生物玻璃、氧化鋯、穩(wěn)定氧化 鋯、鑭系元素氧化物、碳酸氫鈉或生物相容性聚合物。而活性劑可為以下一者或多者抗再 狹窄劑、免疫抑制劑、抗炎劑、抗血栓劑、抗生素、抗癌劑、蛋白質(zhì)、骨形態(tài)發(fā)生蛋白、酶、磷酸 鈣或寡肽。這些和其它益處將從下文的描述和權(quán)利要求書獲悉。


      現(xiàn)根據(jù)下文的描述和隨附圖式,將更為清楚地了解本申請案,其中
      圖1是根據(jù)本申請案第一方面,適于將前期組合物和初級(jí)轟擊粒子同時(shí)傳遞 到表面的同軸噴嘴的圖式。圖2是用于將前期組合物和初級(jí)轟擊粒子同時(shí)傳遞到裝置表面的多噴嘴系 統(tǒng)的圖式。
      圖3是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的未經(jīng)處理鈦試樣的X射線衍射(X-ray Diffraction, XRD)圖。圖4是根據(jù)下文所述方法(實(shí)例1)經(jīng)歷氮化的鈦試樣的XRD圖。圖5是根據(jù)實(shí)例1方法沉積的PTFE材料附著層的聚焦離子束(Focused ion beam, FIB)影像。圖6是根據(jù)另一例示性方法(下文實(shí)例2)附著的PTFE材料層中氟區(qū)的窄區(qū) 掃描 X 身寸線光電子會(huì)邑譜(narrow scan X-ray photoelectron spectrum)0圖7是根據(jù)另一例示性方法(下文實(shí)例3)附著的羥磷灰石層中鈣區(qū)的窄區(qū)掃 描X射線光電子能譜。圖8是根據(jù)另一例示性方法(下文實(shí)例4)附著的羥磷灰石層中鈣區(qū)的窄區(qū)掃 描X射線光電子能譜。圖9是根據(jù)實(shí)例4方法附著的羥磷灰石層中磷區(qū)的窄區(qū)掃描X射線光電子 能譜。圖10是根據(jù)另一例示性方法(實(shí)例5)處理的鈦試樣的抗生素釋放分析。圖11是根據(jù)例示性方法,涂布特富龍(Teflon)銀組合物的鈦試樣上F Is區(qū)的窄 區(qū)掃描X射線光電子能譜。圖12是根據(jù)例示性方法,涂布特富龍/銀組合物的鈦試樣上Ag 3d區(qū)的窄區(qū)掃描 X射線光電子能譜。
      具體實(shí)施例方式在噴鋼砂處理金屬期間,可完全去除表面晶粒或其上的氧化物層,由此暫時(shí)暴露 出未鈍化并且具有高反應(yīng)性的金屬襯底。在用磨粒進(jìn)行噴砂處理期間,當(dāng)出現(xiàn)此暫時(shí)表面 狀態(tài)時(shí),如果存在反應(yīng)性物質(zhì),那么此暴露的表面特別易于發(fā)生化學(xué)反應(yīng),并提供一種改變 金屬表面化學(xué)性質(zhì)的機(jī)制。類似地,已知噴丸處理可誘導(dǎo)金屬表面的所需應(yīng)變特征和或形 態(tài)(表面粗糙度),其中具有足夠尺寸、密度和速度的粒子將沖擊所述表面,引起局部塑性變 形,由此增強(qiáng)表面的機(jī)械特性,使其不太易于受應(yīng)力而破裂和受到腐蝕。然而,噴丸或磨粒 沖擊還會(huì)在表面上的沖擊部位局部產(chǎn)生極大壓力和熱能。盡管此能量很快被消耗掉,但由 所述沖擊產(chǎn)生的熱和壓力提供另一種促進(jìn)多種所需物質(zhì)在所述處理期間于表面上反應(yīng)的 潛在機(jī)制。本申請案利用在用具有足夠能量的粒子轟擊表面期間產(chǎn)生的瞬時(shí)熱和壓力,并且 針對利用此能量,以一種受控制、安全而有效的方式便利表面涂布。具體說來,用粒子轟擊 待涂布表面,同時(shí)將氣霧劑提供于表面上。用此方式提供于表面上的涂層的前期材料通過沖擊粒子與氣霧劑的共同作用而轉(zhuǎn)化成附著涂層。前期材料可包含多種成分,包括分散液、 溶膠、凝膠和\或樹脂。前期材料還宜包含一種或多種活性劑(例如,治療性藥物和蛋白質(zhì)), 而且所述方法特別適于將活性涂層附著于表面。因此,本申請案可用于涂覆領(lǐng)域,一般說來,包括為醫(yī)療裝置提供活性涂層,以及 為表面提供殺生物涂層。目前,所述活性涂層被廣泛用于醫(yī)療植入物部分中,其中將例如抗 再狹窄劑或骨形態(tài)發(fā)生蛋白等活性劑吸附于可植入醫(yī)療裝置的表面上所涂布的合適載體 基質(zhì)(通常為聚合物或磷酸鈣陶瓷)上。植入后,所述涂層將立即釋放活性劑。所述活性劑 可發(fā)揮多種生物功能,包括例如降低平滑肌細(xì)胞增殖或促進(jìn)骨整合,其中所述活性劑例如 為抗再狹窄劑或骨形態(tài)發(fā)生蛋白,并且分別并入藥物洗脫心血管支架和硬組織植入物中所 用的涂層中。然而,所述應(yīng)用中習(xí)慣使用的涂布方法為多步驟方法,即使用化學(xué)和熱處理使 合適載體基質(zhì)附著于植入物表面。在接下來的步驟中,隨后利用單獨(dú)(通常為吸附)步驟,使 載體基質(zhì)裝載活性劑。相比之下,本申請案允許利用單一步驟方法,在多個(gè)表面產(chǎn)生活性涂 層,其中所述涂層中實(shí)現(xiàn)活性劑的最佳分布。在本申請案中,粒子沖擊表面提供的能量,將促進(jìn)前期材料發(fā)生反應(yīng),而在表面上 形成附著涂層。動(dòng)態(tài)壓實(shí)是包含使用加速活塞沖擊粒狀無機(jī)材料壓塊;由沖擊波產(chǎn)生的壓 力和熱透過材料傳播,從而使所述粒子燒結(jié)在一起的方法(Stuivinga等人,2002)。從所 利用的能量來源于動(dòng)能來看,本發(fā)明方法可視為類似于動(dòng)態(tài)壓實(shí)。然而,在本申請案中,能 量是來源于粒子(與動(dòng)態(tài)壓實(shí)過程中的單一大塊物質(zhì)一活塞相對)的沖擊,而且易于控制, 并能通過改變粒子本身的特性以及其沖擊表面的速度和密度來定制。為了將前期材料轉(zhuǎn)化成涂層,在反應(yīng)中須消耗掉表面足夠的能量。這主要是由沖 擊粒子的質(zhì)量和速度(即,其動(dòng)能)決定。在本申請案中,根據(jù)對表面所起的作用,可以區(qū)分 開不同類型的粒子
      1. 轟擊粒子是撞擊表面并消耗足夠能量來促進(jìn)涂層前期材料發(fā)生反應(yīng)的粒子。2. 復(fù)合轟擊粒子包含前期材料外層在核心轟擊粒子上,并且起到雙重作用其 也撞擊表面,并消耗足夠能量來促進(jìn)前期材料發(fā)生反應(yīng),但除此之外,還通過上文略述的機(jī) 制,使前期材料在表面上發(fā)生反應(yīng)。3. 前期粒子包含并入涂層中,通常利用不足的能量傳遞到表面以致無法產(chǎn)生 任何顯著壓力或熱的粒狀物質(zhì),實(shí)例包括低密度材料,例如聚合物。例示性轟擊粒子包括在噴丸處理或磨粒處理中慣用作彈丸或鋼砂的材料,并且可 以是陶瓷、聚合物、金屬或其組合物。這些粒子通常是微米級(jí)或更大尺寸,而且可包含例如 二氧化硅、氧化鋁、氧化鋯、鈦酸鹽、氧化鈦、玻璃、生物相容性玻璃、鉆石、碳化硅、碳化硼、 碳化鎢、磷酸鈣陶瓷、碳酸鈣、金屬彈丸、金屬線、碳纖維復(fù)合材料、硬聚合物、聚合復(fù)合材 料、鈦、不銹鋼、硬化鋼和鉻合金等材料?,F(xiàn)有技術(shù)中曾公開過復(fù)合轟擊粒子,包括包含硬材料核心和陶瓷或聚合物性質(zhì)外 層的粒子。沖擊時(shí),外層與核心粒子之間的界面破裂,外層材料將能夠通過上文略述的機(jī)制 發(fā)生反應(yīng)。先前公開的復(fù)合粒子包含的外層材料包括二氧化鈦、二氧化硅和多種聚合物材 料(Muller 和 Berger, 2004 ;Bru_Maginez 等人,2002 ;Hisada 和 Kihira, 2004 ;0mori 和 Kieffer, 2000)和Rocatek 粘結(jié)系統(tǒng)),所述公開內(nèi)容以引用的方式并入本文中。其它例 示性外層材料可包括例如磷酸鈣、氧化鋯、磷酸鈣玻璃和聚合物樹脂。這些外層可進(jìn)一步加有活性劑。一般說來,彈丸的磨損性不如鋼砂,并且當(dāng)發(fā)射到表面時(shí),與形狀不規(guī)則的鋼砂相 比較,將具有較高的壓力/壓實(shí)作用。因此,在本申請案中使用形狀規(guī)則、優(yōu)選球狀彈丸作 為轟擊粒子,將更符合需要。在本申請案中,可使用原態(tài)標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備或改進(jìn)過的標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備。易于利用噴鋼砂機(jī)、噴 砂機(jī)、噴丸機(jī)、微研磨噴砂機(jī)等將含粒子的氣流傳遞到表面,并且所述設(shè)備通常能控制粒子 沖擊表面的能量。沖擊時(shí),增加轟擊粒子撞擊表面的速度,將會(huì)在表面局部產(chǎn)生較高壓力和 溫度。此外,在指定速度下,增加氣流中轟擊粒子的密度,將增加撞擊表面的壓實(shí)粒子的流 量。所屬領(lǐng)域技術(shù)人員將了解例如操作壓力、文氏管配置(venturi configuration)等參 數(shù)對所述設(shè)備所傳遞的粒子的能量和密度的影響。另外,還應(yīng)理解,易于通過實(shí)驗(yàn)確定特定 應(yīng)用的最佳條件。在本申請案中,粒子轟擊與氣霧劑使用相組合。轟擊粒子與氣霧劑的共同作用因 多種原因而為有益的
      1. 許多不易以微粒形式得到的所需材料可以在氣霧劑內(nèi)傳遞到表面,并形成涂層, 所述材料包括大量聚合物、陶瓷和金屬材料的前體分散液、溶膠、凝膠、樹脂和懸浮液。2. 使用液相將防止產(chǎn)生過量的熱,否則過量的熱會(huì)使各種醫(yī)療裝置中所使用 的薄金屬襯底(例如支架、導(dǎo)管和薄金屬外殼)變形,或?qū)е禄钚詣┙到狻?. 氣霧劑液相起到截留未附著于襯底表面的粒子的作用,由此防止產(chǎn)生可能 構(gòu)成健康危險(xiǎn)的粒狀物質(zhì)有害塵霧。4. 所用氣霧劑溶劑的選擇具有極大靈活性,可選擇適合附著于表面的材料的 特定化學(xué)性質(zhì)的溶劑,具體說來,前期材料在表面上所呈現(xiàn)的物理_化學(xué)特征(即,作為溶 質(zhì)、懸浮粒子、凝膠、樹脂或溶膠)主要是由前期組分于溶劑中的溶解度決定。值得注意的是,使用氣霧劑與轟擊粒子的組合將比利用液體載劑推動(dòng)微粒到達(dá) 表面的液體噴丸處理有益,例如,如美國專利6,502,442 (Arola和McCain, 2003)和 TO/2008/033867 (Enbio Ltd.等人,2008)中所公開。在這些方法中,利用載液高速推動(dòng) 粒子到達(dá)表面,致使個(gè)別粒子注入表面。以此方式埋入的各個(gè)粒子相對于其尺寸而分開相 當(dāng)大的距離,并隨機(jī)分布于表面上,而且已知過量的液體流量在表面上提供的材料密度不 夠,以致無法通過上文略述的機(jī)制發(fā)生反應(yīng),故這些方法不會(huì)形成連續(xù)涂層。相比之下,在本申請案中使用霧化\氣霧劑與轟擊粒子的組合將允許形成所述涂 層。控制氣霧劑中液滴的尺寸和密度對于使前期材料在表面轉(zhuǎn)變成涂層最優(yōu)化特別 重要。許多類型的霧化器可用于本申請案中。在大部分雙流體霧化器中,可控制氣液比以 及流速,而且所屬領(lǐng)域技術(shù)人員將意識(shí)到例如文氏管設(shè)計(jì)、氣體壓力、液體特性、液體流速 等參數(shù)對此類霧化器所產(chǎn)生的液滴的密度和尺寸的影響。超聲波霧化器也可用于減小液滴 尺寸。類似地,在液相中也可以使用揮發(fā)性有機(jī)溶劑,例如烴??赏ㄟ^改變霧化液相中溶質(zhì)、懸浮粒子或前體的濃度,來控制涂層的組成。當(dāng)昂貴 的藥劑成為涂層的一部分時(shí),這將特別合乎需要??墒褂枚喾N噴嘴設(shè)計(jì)將粒子和氣霧劑傳遞到襯底表面。類似地,噴嘴可使用包括 塑料、金屬和陶瓷在內(nèi)的多種材料,用于將霧化物質(zhì)傳遞到襯底表面。用于將粒子傳遞到表面的噴嘴通常包含相對堅(jiān)固的材料,例如陶瓷,例如碳化硼或碳化硅??捎糜诒旧暾埌钢械膬煞N主要的噴嘴配置為
      1. 利用實(shí)質(zhì)上同一氣流將粒子和氣霧劑傳遞到表面的配置。2. 利用來自多個(gè)噴嘴的多股氣流將粒子和氣霧劑傳遞到表面上實(shí)質(zhì)上相同的 區(qū)域的配置。上述配置1包括同軸噴嘴配置,以及利用含粒子載氣,通過伯努利效應(yīng) (Bernoulli effect)霧化液相的配置,此類配置的實(shí)例顯示于圖1中。使用同軸噴嘴,其中 粒子(4)由內(nèi)層(2)或外層(1)文氏管中的氣流攜帶。所述氣流具有雙重功能。首先,其使 存在于另一文氏管中的液相(3)霧化;其次,其將粒子和氣霧劑攜帶到表面(5)。當(dāng)然,視所 用配置而定,噴嘴的至少一部分應(yīng)為例如碳化硅等硬材料,以便能經(jīng)受住轟擊粒子的磨損 作用。噴嘴還可以并入超聲波特征,以振動(dòng)噴嘴,從而增強(qiáng)霧化。配置2的實(shí)例示意性顯示于圖2中,其中使用獨(dú)立噴嘴將粒子(5)和氣霧劑(4)傳 遞到表面(6)。獨(dú)立噴嘴的優(yōu)勢在于,所用標(biāo)準(zhǔn)噴嘴可與噴丸處理設(shè)備(3)和\或標(biāo)準(zhǔn)霧化 器一起使用。此外,霧化器噴嘴布置也可包含同軸噴嘴,所述噴嘴包含能分別傳遞液相和霧 化氣體的內(nèi)層(2)和外層(1)文氏管。用于產(chǎn)生氣霧劑的其它例示性噴嘴系統(tǒng)包括引導(dǎo)氣流越過連接到通過伯努利效 應(yīng)霧化的液體的儲(chǔ)集器的文氏管的系統(tǒng)。另一可能的噴嘴配置為從噴嘴噴出液流并利用 氣體射流霧化任一側(cè)的液流的配置。可利用預(yù)成膜噴嘴,使毛細(xì)管在標(biāo)準(zhǔn)噴嘴尖處沉積液 體薄膜,由此產(chǎn)生小液滴(Nguyen和Rhodes,1998)。可以將超聲波并入噴嘴設(shè)計(jì)中,以幫 助霧化。另一類噴嘴是使用氣體透鏡集中液流以產(chǎn)生小液滴的噴嘴類型(Ganan-Calvo, 2001)。所有這些噴嘴之前也都可以放置密閉式混合機(jī)(Nguyen和Rhodes,1998),由此使 液體在從噴嘴排出之前于小室中霧化,以便降低液滴尺寸。這些公開內(nèi)容都是以引用的方 式并入本文中。一般說來,可使用易于獲得的自動(dòng)化設(shè)備和計(jì)算機(jī)數(shù)控(computer numerical control, CNC)軟件,以自動(dòng)化方式配置本申請案中所用的噴嘴組件,以符合表面輪廓。所 屬領(lǐng)域技術(shù)人員將意識(shí)到,如何將例如電動(dòng)機(jī)、步進(jìn)電動(dòng)機(jī)、多軸遙控裝置(multiple-axis robot)等多種自動(dòng)化部件與CNC軟件組合,以使噴嘴組件自動(dòng)移動(dòng)?;蛘?,應(yīng)理解,可將噴 嘴固定,并以類似方式使表面自動(dòng)移動(dòng)。還應(yīng)了解,可通過此類噴嘴組件橫過表面的速度和重復(fù)性,控制涂層的厚度。此外,可在受控制的環(huán)境中提供此類自動(dòng)操作,例如與一般周圍環(huán)境分開的小室 或機(jī)柜中。在某些應(yīng)用中,所述環(huán)境(environ)接近潔凈室環(huán)境將是有益的,尤其是所涂布 的表面是用于醫(yī)療裝置的情形。所屬領(lǐng)域技術(shù)人員將意識(shí)到,如何將例如空氣過濾器、高效 微??諝膺^濾器(hepa-filter)、紫外線殺菌器、其它殺菌設(shè)備等部件并入所述小室或機(jī)柜 中。所述小室或機(jī)柜連接到抽運(yùn)系統(tǒng)以去除工藝副產(chǎn)物、噴出的粒子、液體等,并將其 傳遞到合適的廢物儲(chǔ)存容器,也是有益的。所述環(huán)境中還可并入溫度控制,而且所屬領(lǐng)域技術(shù)人員將理解,環(huán)境溫度與霧化 過程中所用的液相之間的關(guān)系是如何影響提供到表面的氣霧劑的液滴尺寸的。本發(fā)明技術(shù)的另一特征在于,可通過小心選擇用于氣霧劑的氣體和\或傳遞粒子,來控制表面的環(huán)境。具體說來,除了能使用本申請案中所用的氣體傳遞粒子和氣霧劑 外,其還可用于誘導(dǎo)表面的所需特性,尤其是所涂布表面為金屬的情形。通過使用實(shí)質(zhì)上不 含氧氣的氣體作為微粒載體以及霧化氣體,實(shí)現(xiàn)此目標(biāo)。上文略述的機(jī)制可促進(jìn)載氣與表 面的反應(yīng),由此產(chǎn)生鈍化的金屬鹽層。當(dāng)氣流含氮并且具有還原性(例如氮?dú)?時(shí),可將金屬 表面氮化。當(dāng)氣流含碳并且具有還原性(例如,含一氧化碳的惰性氣體,例如氬)時(shí),金屬表 面可滲碳。當(dāng)氣流為含氮?dú)怏w與含碳?xì)怏w的混合物(例如,含一氧化碳和氮?dú)獾臍?時(shí),金屬 表面將碳氮化。由此可涂布金屬表面,同時(shí)將底層金屬硬化和\或鈍化。可使用本申請案的技術(shù)使多種聚合物質(zhì)、無機(jī)物質(zhì)和金屬物質(zhì)在表面形成涂層, 所述涂層中宜加有或并入不同類型的活性劑,由此在表面上提供附著的活性涂層,其中所 述涂層中并入載體基質(zhì)和活性劑?;钚詣┛烧辰Y(jié)到或吸附于載體基質(zhì)組分上,或簡單地夾 帶于其中。所述載體基質(zhì)可以是陶瓷、玻璃、金屬、聚合物或其組合。此外,聚合物可以是生 物相容性、抗菌性或天然存在的生物聚合物。在某些應(yīng)用中,可能需要陶瓷、金屬或玻璃具 有生物相容性。應(yīng)理解,可使用多種聚合物材料作為形成涂層的前期材料的一部分,或?qū)嶋H上作 為形成涂層的前期材料。例示性前期聚合物材料可包括以下各物的微粒、溶液、凝膠、溶膠 和樹脂丙烯酸系物,聚(丙烯酸)、聚(丙烯酸鈉鹽)、聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)、聚 (甲基丙烯酸酯)(PMA)、聚(甲基丙烯酸羥基乙酯)(HEMA)、聚(丙烯腈)、丙烯腈(PBAN)、 聚丙烯酸鈉、聚丙烯酰胺(PAM)、乙烯丙烯酸正丁酯、聚乙二醇甲基醚甲基丙烯酸酯、聚(丙 烯酸)偏鈉鹽-接枝-聚(氧化乙烯)、聚(丙烯酸-共-順丁烯二酸)、由二羧基封端的 聚(丙烯腈-共_ 丁二烯-共-丙烯酸)、聚(丙烯腈-共_ 丁二烯-共-丙烯酸)、由二羧 基封端的甲基丙烯酸縮水甘油酯二酯、聚(乙烯-共-丙烯酸)、聚(乙烯_共-丙烯酸甲 酯-共-丙烯酸)、聚(2-乙基丙烯酸)、聚(2-丙基丙烯酸)、聚(丙二醇)甲基丙烯酸酯、 聚(丙二醇)甲基醚丙烯酸酯、聚(丙二醇)4-壬基苯基醚丙烯酸酯、聚(丙烯酸-共-丙 烯酰胺)鉀鹽、聚(N-異丙基丙烯酰胺)、聚(丙烯酰胺-共-丙烯酸)、丙烯酸共聚物、任 何其它聚丙烯酸酯;聚碳酸酯類,聚碳酸酯、聚酯碳酸酯;聚乙烯類,聚(乙烯醚)、聚(甲基 乙烯基醚)、聚(乙烯醇)、乙烯乙烯醇、聚(乙二醇)_嵌段-聚(丙二醇)_嵌段聚(乙 二醇)、聚(乙烯醇-共-乙烯)、聚(乙烯醇-共-乙酸乙烯酯-共-衣康酸)、聚(氯乙 烯-共-乙酸乙烯酯-共-乙烯醇)、聚(乙烯醇縮丁醛-共-乙烯醇-共-乙酸乙烯酯)、 聚(4-乙烯基苯酚)、聚(乙烯酮)、聚(乙烯腈)、聚(乙烯酯)、聚(乙酸乙烯酯)、聚乙烯乙 酸乙烯酯、聚(乙烯基吡啶)、聚(2-乙烯基吡啶)、聚(5-甲基-2-乙烯基吡啶)、聚(4-乙 烯基吡啶)、聚(4-乙烯基吡啶_共-苯乙烯)、聚乙烯吡咯烷酮、聚氯乙烯類(聚氯乙烯、聚 偏二氯乙烯、聚(乙烯基苯甲基氯))、聚(偏二氟乙烯)、乙烯乙烯基共聚物;聚苯乙烯類, 聚苯乙烯(PS)、丙烯腈丁二烯苯乙烯(ABS)、高抗沖聚苯乙烯(HIPS)、擠塑聚苯乙烯(XPS)、 膨脹性聚苯乙烯珠粒、聚(苯乙烯磺酸鈉)、任何其它聚苯乙烯;聚二烯類,聚丁二烯;聚酰 胺類,聚酰胺(PA)、聚(聚鄰苯二甲酰胺KPPA)、聚鄰苯二甲酰胺、聚(雙順丁烯二酰亞胺) (BMI)、聚(脲甲醛)(UF)、聚脲、尼龍(nylon)、無定形尼龍、11型尼龍、12型尼龍、46型尼 龍、6型尼龍、6/66型尼龍共聚物、610型尼龍、66型尼龍、69型尼龍、尼龍/聚丙烯合金、 聚谷氨酸、芳香族聚酰胺類(aramid)(間位芳香族聚酰胺類、對位芳香族聚酰胺類,凱夫拉 (kevlar)、聚間苯二甲酰間苯二胺、聚對苯二甲酰對苯二胺、Technora、Sulfron 3000)、氰白(Cyamelide)、聚(天冬氨酸)鈉、任何其它聚酰胺;聚酰胺-酰亞胺;聚酯_酰亞胺 ’聚芳 基醚;聚芳基醚酮;聚砜類,聚砜(PSU)、聚芳基砜(PAS)、聚醚砜(PES)、聚苯基砜(PPS)、聚 (1-癸烯-砜)、聚(1-十二碳烯-砜)、聚(1-十六碳烯-砜)、聚(1-己烯-砜)、聚(1-辛 烯-砜)、聚(1-十四碳烯_砜)、任何其它聚砜;聚酯類,聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚 丁酸酯、醇酸類(alkydXCapilene、鄰苯二甲酸甘油酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚己內(nèi)酯、聚 二氧雜環(huán)己酮、聚萘二甲酸乙二酯、聚乙交酯、聚羥基烷酸酯類(聚羥基丁酸酯、聚羥 基丁酸酯_戊酸酯、聚羥基丁酸酯、聚羥基戊酸酯、聚羥基己酸酯、聚羥基辛酸酯)、聚乳酸、 聚對苯二甲酸丙二酯、聚間苯二甲酸二烯丙酯、聚鄰苯二甲酸二烯丙酯;聚丙烯酰胺類;聚 酮類,聚醚醚酮(PEEK)、聚醚酮(PEK)、任何其它聚酮;聚醚酰亞胺類;聚烯烴類;聚酰亞胺 類;含氟聚合物類,聚四氟乙烯(PTFE、特富龍)、聚全氟烷氧基聚合物樹脂(PFA)、聚氟化乙 烯-丙烯(FEP)、聚乙烯四氟乙烯(ETFE、Tefzel、Fluon)、聚三氟氯乙烯、(ECTFE、Turcite、 Halar)、聚偏 二氟乙烯(PVDF、Kynar)、FFKM (Kalrez、Tecnoflon FFKM)、FKM (Viton、 Tecnoflon)、聚(六氟環(huán)氧丙烷)、聚(六氟環(huán)氧丙烷-共-全氟甲醛)、聚三氟氯乙烯、任 何其它氟化聚合物;聚氨基甲酸酯類,聚氨基甲酸酯(PU)、聚異氰脲酸酯(PIR)、任何其它 聚氨基甲酸酯;聚烯烴,聚乙烯(PE)、低密度聚乙烯(LDPE)、高密度聚乙烯(HDPE)、交聯(lián)聚 乙烯(XLPE)、聚丙烯(PP)、聚丁烯(PB)、聚甲基戊烯、聚異丁烯(PIB)、雙軸取向聚丙烯、膨 脹性聚烯烴珠粒、Tyvek、聚_(草酰胺-N,N' - 二乙酸乙二酯)、聚_(草酰胺_N,N' - 二乙酸 乙二酯)與金屬離子的絡(luò)合物、任何其它聚烯烴;聚環(huán)氧化物類;聚醚類,聚醚醚酮、聚二氧 雜環(huán)己酮、聚乙二醇、聚(六氟環(huán)氧丙烷)、聚甲醛、聚乙二醇、Techron、基于苯醚(PP0/PPE) 的樹脂 ’聚(烯丙基胺);聚苯硫醚(PPS);主鏈中具有含氮雜環(huán)的縮聚物;聚酰胼類;聚三 唑類;聚氨基-三唑類;聚噁二唑類;聚噻吩類;聚苯胺;多酚類;聚(四氫呋喃);離聚物 類(IonomershSpectralon熱塑性樹脂;液晶聚合物;增塑溶膠類(Plasticisols);有機(jī)溶 膠類;DCPD樹脂;呋喃;蜜胺;聚硅氧烷類;陽離子型聚合物,聚(4-羥基-L-脯氨酸酯)、 聚(¥-(4-氨基丁基)-1^-乙醇酸)、聚(氨基酯)、胱氨雙丙烯酰胺類、聚(酰胺基胺)類、 主鏈中含有聚(乙二醇)的聚氨基甲酸酯、聚(L-賴氨酸)類、聚(L-賴氨酸)-聚(乙二 醇)_聚(乳酸_共-乙醇酸)雜化聚合物、聚(L-賴氨酸)_聚(乙二醇)嵌段共聚物、聚 (乙烯亞胺)、聚(膦腈)、聚(磷脂)、聚(氨基磷酸酯)、磷酰膽堿、polyfelycolode)、聚 (乙交酯)、聚(乳酸)、聚(L-丙交酯)、聚(0丄-丙交酯)、聚(己內(nèi)酯)、聚(酐)、聚(氰 基丙烯酸烷酯)、聚(2-氰基丙烯酸乙酯)、聚(氰基丙烯酸丁酯)、聚(氰基丙烯酸己酯)、 聚(氰基丙烯酸辛酯)、聚己內(nèi)酯二醇、聚(丙交酯-共_乙交酯)、聚(D,L-丙交酯-共-乙 交酯)、聚(丙交酯-共_己內(nèi)酯)、聚(2-乙基-2-噁唑啉)-嵌段-聚(己內(nèi)酯)、聚(氧 化乙烯)-聚(DL-乳酸-共-乙醇酸)共聚物、聚(L-丙交酯-共-己內(nèi)酯-共-乙交酯)、 聚(DL-丙交酯-共-乙交酯)、聚[(R)-3-羥基丁酸]、聚(己二酸1,4-丁二酯-共-聚己 內(nèi)酯)、聚(DL-丙交酯-共-己內(nèi)酯)、聚(3-羥基丁酸-共-3-羥基戊酸)、用1,6_ 二異 氰酸根合己烷延伸的聚(己二酸1,4- 丁二酯-共-琥珀酸1,4- 丁二酯)、用1,6- 二異氰 酸根合己烷延伸的聚(琥珀酸1,4_ 丁二酯)、尼龍6、聚(乙二醇)、聚(丙二醇)、基于聚 (乙二醇)的聚合物、二 [聚(乙二醇)]己二酸酯、聚(丙二醇)雙(2-氨基丙基醚)、由 甲苯2,4-二異氰酸酯封端的聚(丙二醇)、聚(丙二醇)二縮水甘油基醚、聚(丙二醇)單 丁基醚、六甘醇、五甘醇、聚乙烯-嵌段-聚(乙二醇)、聚(乙二醇)丙烯酸酯、由雙(3-氨基丙基)封端的聚(乙二醇)、聚(乙二醇)雙(羧甲基)醚、聚(乙二醇)丁基醚、聚(乙 二醇)二丙烯酸酯、聚(乙二醇)二甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基醚、聚乙二醇二硬脂酸 酯、聚(乙二醇)二乙烯基醚、聚(乙二醇)乙基醚甲基丙烯酸酯、聚(乙二醇)2_[乙基 [(十七氟辛基)磺?;鵠氨基]乙基醚、聚(乙二醇)2-乙基[(十七氟辛基)磺?;鵠氨 基]乙基甲基醚、由順丁烯二酰亞氨基丙酰胺--甲?;舛说木?乙二醇)、聚(乙二 醇)甲基丙烯酸酯、聚(乙二醇)甲基醚、聚(乙二醇)甲基醚-嵌段-聚(e_己內(nèi)酯)、 聚(乙二醇)甲基醚_嵌段-聚丙交酯、聚(乙二醇)甲基醚甲基丙烯酸酯、聚(乙二醇) 十四烷基動(dòng)物脂醚、聚(乙二醇)4-壬基苯基醚丙烯酸酯、聚(乙二醇)苯基醚丙烯酸酯、 聚(乙二醇)與雙酚A二縮水甘油基醚的反應(yīng)物、聚(乙二醇)四氫呋喃基醚、聚(氧化乙 烯)、四臂聚(氧化乙烯)_嵌段-聚己內(nèi)酯、四臂聚(氧化乙烯)_嵌段-聚丙交酯、由胺 封端、羧酸封端、羥基封端、琥珀酰亞氨基戊二酸酯封端、琥珀酰亞氨基琥珀酸酯封端、硫醇 封端的四臂聚(氧化乙烯)、由羥基封端的六臂聚(氧化乙烯)、四乙二醇二甲基醚、聚(乙 二醇)_聚(丙二醇)共聚物、聚(乙二醇)_嵌段-聚(丙二醇)_嵌段聚(乙二醇)、聚 (乙二醇-ran-丙二醇)、聚(乙二醇-ran-丙二醇)單丁基醚、聚(丙二醇)_嵌段-聚 (乙二醇)-嵌段聚(丙二醇)、聚(丙二醇)_嵌段-聚(乙二醇)_嵌段聚(丙二醇)雙 (2-氨基丙基醚)、聚(異丁烯-共-順丁烯二酸)、木質(zhì)磺酸鈉鹽、聚[(異丁烯-alt-順丁 烯二酸)銨鹽)_共_ (異丁烯-alt-順丁烯二酸酐)]、聚(異丁烯-alt-順丁烯二酸酐)、 聚[(異丁烯-alt-順丁烯二酰亞胺)_共_(異丁烯-alt-順丁烯二酸酐)]、聚(甲基乙烯 基醚-alt-順丁烯二酸酐)。在技術(shù)方案91的方法中,生物聚合物為(但不限于)多糖、淀 粉、藻類淀粉(Algal starch)、糖原、基于纖維素的生物聚合物、乙酸纖維素、纖維素醚、乙 酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、乙酸丙酸纖維素、乙基纖維素、丙酸纖維素、乙酸鄰苯二甲酸纖 維素、甲基纖維素、羥乙基纖維素、羥丙基甲基纖維素、羧甲基纖維素、乙酸丁酸(丙烯酰氨 基甲基)纖維素、乙酸丙酸(丙烯酰氨基甲基)纖維素、乙酸偏苯三酸纖維素、氰基乙基化 纖維素、硝酸纖維素、纖維素粉末、三乙酸纖維素、乙氧基化季銨化羥乙基纖維素、疏水性修 飾的2-羥乙基纖維素、2-羥乙基淀粉、羥丙基纖維素、(羥丙基)甲基纖維素、鄰苯二甲酸 羥丙基甲基纖維素、甲基2-羥乙基纖維素、羧甲基纖維素鈉、幾丁質(zhì)、殼聚糖、殼聚糖寡糖 乳酸、果膠、酸性多糖、黃原膠、葡聚糖、結(jié)冷膠(gellan gum)、普魯蘭多糖(pullulan)、角叉 菜膠、軟骨素、糊精棕櫚酸酯、麥芽糊精、瓊脂、褐藻酸鈉鹽;明膠;膠原蛋白;褐藻酸鹽;透 明質(zhì)酸;褐藻酸;樹脂;多烯;樹膠;蛋白質(zhì);多肽;核酸 ’聚-3-羥基丁酸酯;角質(zhì),或上述 各物的組合和共聚物。類似地,例示性前期陶瓷、金屬和玻璃材料包括氧化物、氮化物、硝酸鹽、碳化物、 碳酸鹽、硫酸鹽、商化物和磷酸鹽的微粒、溶液、懸浮液、凝膠、溶膠和膠體。所述前期組合物 還可以包含有機(jī)金屬物質(zhì),包括金屬的羧酸鹽、醇鹽和酯,尤其鈣、磷、鈦、硅、鋁、硫、鎳、釩、 鋯、釔、貴金屬和鑭系元素的羧酸鹽、醇鹽和酯。本申請案的方法的合適應(yīng)用是針對活性涂層附著于可植入醫(yī)療裝置。在此類應(yīng)用 中,涂層包含生物相容性載體基質(zhì)和活性劑。前期組合物以及最終涂層中可包括的活性劑 包括抗生素、抗再狹窄劑、免疫抑制劑、抗炎劑、降血脂藥、抗血栓劑、蛋白質(zhì)、寡肽等??刹⑷氲幕钚詣槔绨被擒疹悾⒚卓ㄐ?Amikacin)、慶大霉素 (Gentamicin)、卡那霉素(Kanamycin)、新霉素(Neomycin)、奈替米星(Netilmicin)、鏈霉素(Str印tomycin)、妥布霉素(Tobramycin)、巴龍霉素(Paromomycin)、安沙霉素 (Ansamycin)、苯醌安莎霉素(Geldanamycin)、除莠霉素(Herbimycin)、碳頭孢烯 (Carbac印hem)、勞拉頭孢(Loracarbef);碳青霉烯類(Carbapenem),厄他培南 (Ertapenem)、多尼培南(Doripenem)、亞胺培南(Imipenem)/ 西司他丁(Cilastatin)、美羅 培南(Meropenem);頭孢菌素類(Cephalosporin),第一代頭孢菌素頭孢羥胺芐 (Cefadroxil)、頭孢唑林(Cefazolin)、頭孢噻吩(Cefalotin)、頭孢胺節(jié)(Cefalexin),第 二代頭孢菌素頭孢克洛(Cefaclor)、頭孢孟多(Cefamandole)、頭孢西丁(Cefoxitin)、頭 孢丙烯(Cefprozil)、頭孢呋辛(Cefuroxime),第三代頭孢菌素頭孢克肟(Cefixime)、頭 孢地尼(Cefdinir)、頭孢托侖(Cefditoren)、頭孢哌酮(Cefoperazone)、頭孢噻肟 (Cefotaxime)、頭孢泊肟(Cefpodoxime)、頭孢他啶(Ceftazidime)、頭孢布烯 (Ceftibuten)、頭孢唑月虧(Ceftizoxime)、頭孢曲松(Ceftriaxone)、頭孢地尼(Cefdinir), 第四代頭孢菌素頭孢吡肟(Cef印ime);糖肽類,替考拉寧(Teicoplanin)、萬古霉素 (Vancomycin)、達(dá)巴萬星(Dalbavancin)、泰拉萬星(Telavancin);大環(huán)內(nèi)酯類 (Macrolide),阿奇霉素(Azithromycin)、克拉霉素(Clarithromycin)、地紅霉素 (Dirithromycin)、紅霉素(Erythromycin)、羅紅霉素(Roxithromycin)、醋竹桃霉素 (Troleandomycin)、泰利霉素(Telithromycin)、大觀霉素(Spectinomycin);單環(huán) 0 -內(nèi)酰 胺類(Monobactam),胺曲南(Aztreonam);青霉素類(Penicillin),阿莫西林 (Amoxicillin)、氨芐西林(Ampicillin)、阿洛西林(Azlocillin)、羧芐西林 (Carbenicillin)、氯唑西林(Cloxacillin)、雙氯西林(Dicloxacillin)、氟氯西林 (Flucloxacillin)、美洛西林(Mezlocillin)、甲氧西林(Meticillin)、萘夫西林 (Nafcillin)、苯唑西林(Oxacillin)、青霉素(Penicillin)、哌拉西林(Piperacillin)、替 卡西林(Ticarcillin);多肽類,桿菌肽(Bacitracin)、多粘菌素E (Colistin)、多粘菌素B (Polymyxin B);喹諾酮類(Quinolone),環(huán)丙沙星(Ciprofloxacin)、依諾沙星(Enoxacin)、 加替沙星(Gatifloxacin)、左氧氟沙星(Levofloxacin)、洛美沙星(Lomefloxacin)、莫西 沙星(Moxifloxacin)、諾氟沙星(Norfloxacin)、氧氟沙星(Ofloxacin)、曲伐沙星 (Trovafloxacin);磺胺類,百浪多息(Prontosil)、乙酰磺胺(Sulfacetamide)、磺胺甲二唑 (Sulfamethizole)、磺胺(Sulfanamide)、柳氮磺胺吡啶(Sulfasalazine)、磺胺異噁唑 (Sulfisoxazole)、甲氧芐氨嘧啶(Trimethoprim)、甲氧芐氨嘧啶-磺胺喹噁啉 (Sulfamethoxazole)(復(fù)方磺胺甲噁唑(Co-trimoxazole)) (TMP-SMX);四環(huán)素類 (Tetracycline),去氧環(huán)素(Doxycycline)、強(qiáng)力霉素(Vibramycin)、米諾環(huán)素 (Minocycline)、美滿霉素(Minocin)、氧四環(huán)素(Oxytetracycline)、土霉素(Terracin)、 四環(huán)素(Tetracycline);芳基 N_ 嗎啉基酸類(arylmorpholinoacid,AMPA)、S-芳基 N-嗎 啉基酸類、N-甲基AMPA、N, N- 二甲基AMPA、胂凡納明(Arsphenamine)、氯霉素 (Chloramphenicol)、克林達(dá)霉素(Clindamycin)、林可霉素(Lincomycin)、乙胺 丁酉享 (Ethambutol)、磷霉素(Fosfomycin);類固醇抗生素類(steroid antibiotic)、枝鏈孢酸 (Fusidicacid)、呋喃唑酮(Furazolidone)、異煙胼(Isoniazid)、利奈唑胺(Linezolid); 咪唑衍生物,甲硝唑(Metronidazole)、替硝唑(Tinidazole)、奧硝唑(ornidazole);硝基 呋喃衍生物(ni trofuran der i vat i ve ),硝化呋喃妥因(ni trofuranto in )、硝呋妥因醇 (nifurtoinol)、莫匹羅星(Mupirocin)、硝化呋喃妥因(Nitrofurantoin);平板霉素(Platensimycin)、吡嗪酰胺(Pyrazinamide)、奎奴普 丁(Quinupristin) / 達(dá)福普丁 (Dalfopristin),利福平(Rifampicin);多粘菌素、多粘菌素E、多粘菌素B ;希波酚
      (xibornol )>(clofoctol )> 4^^nnn (methenamine)>(mandelic acid)、
      硝羥喹啉(Nitroxoline)、達(dá)托霉素(daptomycin)、日立霉素(Hitachimycin);抗病毒劑 干擾素;侵入抑制劑,馬拉韋羅(Maraviroc)、恩福韋地(Enfuvirtide)、表沒食子兒茶素沒 食子酸酯(Epigallocatechin gallate)、吉瑞弗辛(Griffithsin);整合酶抑制劑;蛋白酶 抑制劑,沙奎那韋(Saquinavir)、利托那韋(Ritonavir)、茚地那韋(Indinavir)、奈非那韋 (Nelfinavir)、安普那韋(Amprenavir)、洛匹那韋(Lopinavir)、阿扎那韋(Atazanavir)、 佛沙普那韋(Fosamprenavir)、替拉那韋(Tipranavir)、地瑞那韋(Darunavir);核苷類似 物,脫氧腺苷類似物(去羥肌苷(Didanosine)、阿糖腺苷(Vidarabine))、脫氧胞苷類似物 (阿糖胞苷(Cytarabine)、恩曲他濱(Emtricitabine)、拉米夫定(Lamivudine)、扎西他濱 (Zaicitabine))、脫氧鳥苷類似物(阿巴卡韋(Abacavir))、(脫氧_)胸苷類似物(司他夫定 (Stavudine)、齊多夫定(Zidovudine))、脫氧尿苷類似物(碘苷(Idoxuridine)、曲氟尿苷 (Trifluridine));逆轉(zhuǎn)錄酶抑制劑,核苷類似物逆轉(zhuǎn)錄酶抑制劑(齊多夫定、去羥肌苷、扎 西他濱、司他夫定、拉米夫定、阿巴卡韋、恩曲他濱)、核苷酸類似物逆轉(zhuǎn)錄酶抑制劑(替諾福 韋(Tenofovir)、阿德福韋(Adefovir))、非核苷類逆轉(zhuǎn)錄酶抑制劑(Non-nucleoside reverse transcriptase inhibitors)衣發(fā)韋倉(Efavirenz)、奈韋拉平(Nevirapine)、i也 拉韋唆(Delavirdine)、依曲韋林(Etravirine));混合抑制齊(portmanteau inhibitor), 阿昔洛韋(Aciclovir)、阿昔洛韋(Acyclovir)、金剛烷胺(Amantadine)、阿比朵爾 (Arbidol )、阿曲普拉(Atripla)、溴夫定(Brivudine)、西多福韋(Cidofovir)、可比韋 (Combivir)、多可沙諾(Docosano 1)、依度尿苷(Edoxudine)、恩福韋地(Enfuvirtide)、恩 福韋地、泛昔洛韋(Famciclovir)、福米韋生(Fomivirsen)、膦甲酸(Foscarnet)、膦乙醇 (Fosfonet)、更昔洛韋(Ganciclovir)、嘉德西爾(Gardasil)、伊巴他濱(Ibacitabine)、異 丙肌苷(Imunovir)、咪喹莫特(Imiquimod)、肌苷、洛韋胺(Loviride)、MK-0518、馬拉韋羅 (Maraviroc)、嗎啉胍(Moroxydine)、多吉美(Nexavir)、奧司他韋(Oseltamivir)、噴昔洛 韋(Penciclovir)、帕拉米韋(Peramivir)、普可那利(Pleconaril )、鬼臼毒素 (Podophyllotoxin)、利巴韋林(Ribavirin)、金剛乙胺(Rimantadine)、替諾福韋酯 (Tenofovir disoproxil)、三協(xié)唯(Trizivir)、曲金剛胺(Tromantadine)、特魯瓦達(dá) (Truvada)、伐昔洛韋(Valaciclovir)、纈更昔洛韋(Valganciclovir)、馬拉維若 (Vicriviroc)、韋拉米啶(Viramidine)、扎那米韋(Zanamivir);抗逆轉(zhuǎn)錄病毒劑協(xié)同增強(qiáng) 齊(synergistic enhancers of antiretroviral )、氣(Chloroquine) / 木類抗_疾藥 物(quinoline antimalarial )、羥基脲(Hydroxyurea)、來氟米特(Leflunomide)、霉酚酸 (Mycophenolic acid)、白藜蘆醇(Resveratrol)、利托那韋(Ritonavir);抗真菌劑,多烯抗 真菌劑(那他霉素(Natamycin)、龜裂殺菌素(Rimocidin)、非律平(Filipin)、制霉菌素 (Nystatin)、兩性霉素B (Amphotericin B))、咪唑和三唑抗真菌劑(咪康唑(Miconazole)、 酮康唑(Ketoconazole)、克霉唑(Clotrimazole)、益康唑(Econazole)、聯(lián)苯芐唑 (Bifonazole)、布康唑(Butoconazole)、芬替康唑(Fenticonazole)、異康唑 (Isoconazole)、奧昔康唑(Oxiconazole)、舍他康唑(Sertaconazole)、硫康唑 (Sulconazole)、噻康唑(Tioconazole)、氟康唑(Fluconazole)、伊曲康唑(Itraconazole)、艾沙康唾(Isavuconazole)、拉夫康唾(Ravuconazole)、泊沙康唾 (Posaconazole)、伏立康唑(Voriconazole)、特康唑(Terconazole))、烯丙基胺類(特比萘 芬(Terbinafine)、阿莫羅芬(Amorolfine)、萘替芬(Naftifine)、布替萘芬 (Butenafine))、棘白霉素類(Echinocandin)(阿尼芬凈(Anidulafungin)、卡泊芬凈 (Caspofungin)、米卡芬凈(Micafungin))、苯甲酸組合角質(zhì)溶解劑(Benzoic Acid combined with a keratolytic agent)(環(huán)口比酮(Ciclopirox)、氟胞啼唆(Flucytosine)、 灰黃霉素(Griseofulvin)、龍膽紫(Gentian Violet)、鹵普羅近(Haloprogin)、托萘酯 (Tolnaftate)、^^一烯酸(Undecylenic acid)、茶樹油、香芽油(Citronella oil)、檸檬草、 橙油、玫瑰草油(palmarosa oil)、廣藿香(patchouli)、檸檬香桃葉(lemon myrtle)、印度 楝樹籽油(Neem seed oil)、椰子油);抗寄生蟲藥,抗滴蟲劑(Antinematode)(甲苯達(dá)唑 (Mebendazole)、雙羥萘酸噻嘧啶(Pyrantel pamoate)、噻苯達(dá)唑(Thiabendazole)、二乙 基卡巴嗪(Diethycarbazine))、抗絳蟲劑(Anticestode)(氯硝柳胺(Niclosamide)、吡喹 酮(Praziquantel))、抗血吸蟲劑(Antitrematode)(吡喹酮)、抗阿米巴藥(Antiamoebic) (利福平、兩性霉素B)、抗原蟲藥(Antiprotozoal)(美拉胂醇類(Melarsoprol));單烷基化 劑類和二烷基化劑類;氮芥類(nitrogen mustard),苯丁酸氮芥(chlorambucil)、氮芥 (chlormethine)、環(huán)磷酰胺(cyclophosphamide)、異環(huán)磷酰胺(ifosfamide)、美法侖 (melphalan)、烏拉莫司汀(uramustine)、氮芥(mechlorethamine);亞硝基脲化合物,卡莫 司汀(carmustine)、福莫司汀(fotemustine)、洛莫司汀(lomustine)、鏈佐星 (streptozocin);鉬化合物,卡鉬(carboplatin)、順鉬(cisplatin)、奧沙利鉬 (oxaliplatin)、BBR3464、撒塔鉬(satraplatin)、白消安(busulfan)、達(dá)卡巴嗪 (dacarbazine)、丙卡巴餅(procarbazine)、替莫唑胺(temozolomide)、塞替派 (thioTEPA)、曲奧舒凡(treosulfan)、六甲蜜胺(hexamethylmelamine);抗代謝物 (antimetabolite),葉酸類似物(氨基喋呤(aminopterin)、甲氨喋呤(methotrexate)、培 美曲塞(pemetrexed)、雷替曲賽(raltitrexed)、三甲氧節(jié)啶(trimethoprim)、乙胺嘧啶 (pyrimethamine))、嘌呤類似物(克拉屈濱(cladribine)、氯法拉濱(clofarabine)、氟達(dá) 拉濱(fludarabine)、磷酸氟達(dá)拉濱(fludarabine phosphate)、巰基嘌呤 (mercaptopurine)、噴司他 丁(pentostatin)、硫鳥嘌呤(thioguanine)、硫唑嘌呤 (azathioprine))、嘧啶類似物(卡培他濱(capecitabine)、阿糖胞苷(cytarabine)、氟尿 嘧啶(打1101~011儀(^1)、5-氟尿嘧啶、氟尿苷(打(《111^(11116)、吉西他賓(86111(^{31^116));道 諾霉素(daunorubicin)、多柔比星(doxorubicin)、表柔比星(印irubicin);植物生物堿, 長春生物堿類(vinca alkaloid)(長春花堿(vinblastine)、硫酸長春花堿(vinblastine sulphate)、長春新堿(vincristine)、硫酸長春新堿、長春地辛(vindesine)、長春瑞賓 (vinorelbine)、鬼臼毒素(podophyllotoxin))、紫杉烷類(taxane)(多烯紫杉醇 (docetaxel)、紫杉醇(paclitaxel)、Abraxane、7_脫氧紫杉酚、10-脫乙酰氧基紫杉酚、具 有鄰位和間位取代的芳?;〈淖仙即碱愃莆镆约八衅渌仙即佳苌?;類萜類; 拓?fù)洚悩?gòu)酶抑制劑拓?fù)洚悩?gòu)酶I和拓?fù)洚悩?gòu)酶II抑制劑,伊立替康(irinotecan)、拓?fù)?替康(topotecan)、喜樹堿(camptothecin)和片螺素 D (lamellarin D)、安吖啶 (amsacrine)、依托泊苷(etoposide)、磷酸依托泊苷、替尼泊苷(teniposide)和多柔比星, 氟喹諾酮類;細(xì)胞毒性/抗腫瘤抗生素,伊達(dá)比星(idarubicin)、米托蒽醌(mitoxantrone)> 匹杉瓊(pixantrone)、伐柔比星(valrubicin)、方文線菌素 (actinomycin)、博來霉素(bleomycin)、絲裂霉素(mitomycin)、絲裂霉素C、普卡霉素 (plicamycin)、羥基脲、更生霉素(dactinomycin);單克隆抗體,西妥昔單抗(cetuximab)、 盤尼圖單抗(panitumumab)、曲妥珠單抗(trastuzumab)、利妥昔單抗(rituximab)、托西莫 單 ifl(tositumomab)> 阿倉單抗(alemtuzumab)、貝伐單抗(bevacizumab)、吉妥單抗 (gemtuzumab);酪氨酸激酶抑制劑,西地尼布(cediranib)、達(dá)沙替尼(dasatinib)、爾洛替 尼(erlotinib)、吉非替尼(gefitinib)、伊馬替尼(imatinib)、拉帕替尼(lapatinib)、尼 勒替尼(nilotinib)、索拉非尼(sorafenib)、舒尼替尼(sunitinib)、凡德他尼 (vandetanib);光敏劑,氨基酮戊酸(aminolevulinic acid)、氨基酮戊酸甲酯、嚇吩姆鈉 (porfimer sodium)、維替泊芬(vert印orfin);類維生素A類(retinoid),阿里維A酸 (alitretinoin)、維A酸(tretinoin);其它抗腫瘤劑,六甲密胺、安吖啶、阿那格雷 (anagre 1 ide)、二石串(arsenic trioxide)、^#酉先月安_(士咅門(pegaspargase))、 蓓薩羅丁(bexarotene)、硼替佐米(bortezomib)、地尼白介素(denileukin diftitox)、雌 莫司汀(estramustine)、伊沙匹隆(ixab印ilone)、馬索羅酚(masoprocol)、米托坦 (mitotane),睪內(nèi)酯(testolactone)、錦雞菌素(helenalin);糖皮質(zhì)激素類,可的松 (cortisone)、可的索(Cortisol)、阿氯米松(alclometasone)、安西奈德(amcinonide)、倍 氯米松(bee lometasone)、倍他米松(betamethasone)、 布地奈德(budesonide)、環(huán)索奈德 (ciclesonide)、氯倍他索(clobetasol)、氯倍他松(clobetasone)、氯可托龍 (clocortolone)、氯潑尼醇(cloprednol)、可的伐唑(cortivazol)、地夫可特 (deflazacort)> 月兌 ft & M SI (deoxycorticosterone)、 jft ^ H(desonide)、 * U f 豐公 (desoximetasone)、地塞米松(dexamethasone)、二氟拉松(diflorasone)、二 氟可龍 (diflucortolone)、二氟潑尼酯(difluprednate)、氟氯縮松(fluclorolone)、氟氫可的松 (fludrocortisone)、氟氧縮松(fludroxycortide)、氟米松(flumetasone)、氟尼縮松 (flunisolide)、氟輕松(fluocinolone acetonide)、醋酸氟輕松(fluocinonide)、氟可丁 (fluocortin)、氟可龍(fluocortolone)、氟米龍(fluorometholone)、氟培龍 (fluperolone)、氟潑尼定(fluprednidene)、氟替卡松(fluticasone)、福莫可他 (formocortal)、哈西奈德(halcinonide)、鹵米松(halometasone)、醋丙 S 可的松 (hydrocortisone aceponate)、丁酸氧化可的松(hydrocortisone buteprate)、丁酸氧化 可的松、氯替潑諾(lot印rednol)、甲羥松(medrysone)、甲潑尼松(m印rednisone)、甲潑尼 ^(methylprednisolone)>|||S] ^^M^fc(methylprednisolone aceponate)、|i酸莫米他 松(mometasone furoate)> 中白拉米松(paramethasone)、撥尼卡酉旨(prednicarbate)、撥尼 松(prednisone)、撥尼龍(prednisolone)、撥尼立定(prednylidene)、禾丨J 美索龍 (rimexolone)、替可的松(tixocortol)、曲安西龍(triamcinolone)、烏倍他索 (ulobetasol),以及所述糖皮質(zhì)激素的所有衍生物;抗體,多克隆抗體、單克隆抗體(抗T細(xì) 胞受體單克隆抗體;IL-2受體單克隆抗體,英利昔單抗(infliximab)、巴利昔單抗 (basiliximab)、阿昔單抗(abciximab)、達(dá)克珠單抗(daclizumab)、帕利珠單抗 (palivizumab)、依那西普(etanerc印t)、西妥昔單抗、盤尼圖單抗、曲妥珠單抗、利妥昔單 抗、托西莫單抗、阿侖單抗、貝伐單抗、吉妥單抗;TNF抑制劑類,阿達(dá)木單抗(adalimumab)、 賽妥珠單抗(certolizumab pegol)、阿非莫單抗(afelimomab)、阿塞珠單抗(aselizumab)、阿他珠單抗(atlizumab)、阿托木單抗(atorolimumab)、貝禾lj單抗 (belimumab)、柏替木單抗(bertilimumab)、西利珠單抗(cedelizumab)、克立昔單抗 (clenoliximab)、阿托度單抗(dorlimomab aritox)、多立珠單抗(dorlixizumab)、艾庫組 單抗(eculizumab)、依法利株單抗(efalizumab)、艾西莫單抗(elsilimomab)、厄利珠單抗 (erlizumab)、法拉莫單抗(faralimomab)、芳妥珠單抗(fontolizumab)、加利昔單抗 (galiximab)、格特魯單抗(gantenerumab)、加維莫單抗(gavilimomab)、戈利木單抗 (golimumab)、古米昔單抗(gomiliximab)、伊貝珠單抗(ibalizumab)、伊諾莫單抗 (inolimomab)、匹利莫單抗(ipilimumab)、凱利昔單抗(keliximab)、利伯珠單抗 (lebrilizumab)、樂德木單抗(lerdelimumab)、魯昔單抗(lumiliximab)、馬司莫單抗 (maslimomab)、美泊禾單抗(mepolizumab)、美替木單抗(metelimumab)、莫羅木單抗 (moro 1 imumab )、莫羅單抗 _CD3 (muromonab-CD3 )、那他珠單抗(natal izumab )、奈瑞莫單抗 (nerelimomab)、奧利珠單抗(ocrelizumab)、奧度莫單抗(odulimomab)、奧馬珠單抗 (omalizumab)、奧特利珠單抗(otelixizumab)、帕考珠單抗(pascolizumab)、派利珠單抗 (pexelizumab)、瑞利珠單抗(reslizumab)、羅維珠單抗(rovelizumab)、魯利單抗 (ruplizumab)、希普利珠單抗(siplizumab)、他利珠單抗(talizumab)、阿替莫單抗 (telimomab aritox)、替奈昔單抗(teneliximab)、特普利珠單抗(teplizumab)、托西珠單 抗(tocilizumab)、托利珠單抗(toralizumab)、伐利昔單抗(vapaliximab)、維帕莫單抗 (vepalimomab)、維西珠單抗(visilizumab)、扎木單抗(zanolimumab)、齊拉木單抗 (ziralimumab)、阿佐莫單抗(zolimomab aritox);針對人類的抗體類;鼠科抗體;人化抗 體;嵌合抗體);對免疫親和素起作用的藥物,環(huán)孢素(cyclosporine)、他克莫司 (tacrolimus)、西羅莫司(sirolimus);干擾素類,IFN-0、IFN-y ;鴉片樣物質(zhì),天然鴉片樣 物質(zhì)(嗎啡(morphine)、可待因(codeine)、蒂巴因(thebaine)、罌粟堿(papaverine)、那可 丁(noscapine)、奧列巴因(oripavine))、半合成鴉片樣物質(zhì)(氫嗎啡酮(hydromorphone)、 氧可酮(hydrocodone)、輕考酮(oxycodone)、雙氧可待因(dihydrocodeine)、尼可嗎啡 (nicomorphine)、羥嗎啡酮(oxymorphone))、合成鴉片樣物質(zhì)(苯胺基哌啶類 (Anilidopiperidine),芬太尼(Fentanyl)、阿芬太尼(Alfentanil)、舒芬太尼 (Sufentanil)、瑞芬太尼(Remifentanil)、卡芬太尼(Carfentanyl)、羥甲芬太尼 (Ohmefentanyl);苯基哌啶類(Phenylpiperidine),哌替啶(Pethidine)、凱托米酮 (Ketobemidone)、烯丙羅定(Allylprodine)、羅定(prodine) ; 二苯基丙胺衍生物類 (Diphenylpropylamine derivative), 丙 氧 芬(Propoxyphene)、 右丙 氧芬 (Dextropropoxyphene )、@fe月安(Dextromoramide )、JJ1H牛寺(Bez itramide )、口;!月青f 牛寺 (Piritramide)、美沙酮(Methadone)、地匹哌酮(Dipipanone)、左旋a -乙酰美沙酮 (Levo-alphacetylmethadol)、洛喊丁胺(Loperamide)、地芬諾酉旨(Diphenoxylate);苯并嗎 啡燒衍生物類(Benzomorphan derivative),噴他佐辛(Pentazocine)、非那佐辛 (Phenazocine);奧歹ijELISt]1 生物類(Oripavine derivative), 丁丙i若同樣(Buprenorphine)、 ±矣托啡(Etorphine);嗎啡烷衍生物類(Morphinan derivative),布托啡諾(butorphanol)、 納布啡(nalbuphine)、左啡諾(levorphanol)、左美沙芬(levomethorphan)、地佐辛 (Dezocine)、利非他明(Lefetamine)、美普他酚(M印tazinol)、替利定(Tilidine)、曲馬多 (Tramado 1)、他噴他多(Tapentado 1)、納美芬(Nalmefene)、納洛酮(Naloxone)、納曲酮(Naltrexone);內(nèi)源性鴉片樣物質(zhì));其它免疫抑制劑,0 _2’ -脫氧硫鳥苷、鹽酸比生群 (bisantrene HC1)、硫酸博來霉素(bleomycin sulfate)、丁硫氨酸-亞砜亞胺 (buthionine sulfoximine)、BWA 773U82、BW 502U83. HC1、甲磺酸 BW 7U85、神經(jīng)酰胺 (ceracemide), + 貞 # _ (carbet imer)、 it ft Rf _ 石黃月安 (chloroquinoxaline-sulfonamide)>M S (chlorozotocin)>'^5^' A3 (chromomycin A3)、皮質(zhì)類固醇(corticosteroid)、短棒狀桿菌(Corynebacterium parvum)、CPT_ll、克立 那托(crisnatol )、環(huán)胞苷(cyclocytidine)、色他巴(cytembena)、順丁烯二酸達(dá)比斯 (dabis maleate)> 月兌 _ 胃 ^(deazauridine)> 胃 ^(dexrazoxane)> 月兌 tR HI f II (dianhydrogalactitol)、j;也口丫酉昆(diaziquone)、二夕臭月兌氧己^酉享(dibromodulcitol)、月莫 海鞘素B (didemnin B)、二乙基二硫代氨基甲酸鹽(diethyldithiocarbamate)、二乙醇醛 (diglycoaldehyde)> 二 M, 氣雜胞 ^(dihydro-5-azacytidine)> M 9 M (echinomycin)、依達(dá)曲沙(edatrexate)、依地福新(edelfosine)、依氟鳥氨酸 (eflornithine)、Elliott 溶液、依沙聲星(elsamitrucin)、依索比星(esorubicin)、磷酸 flS^B]tT(estramustine phosphate)>I^#^(estrogen)^j^fM^(etanidazole)>^^ 磷酸(ethiofos)、法屈唑(fadrazole)、法扎拉濱(fazarabine)、芬維 A 胺(fenretinide)、 非格司亭(filgrastim)、非那雄胺(finasteride)、黃酮乙酸(flavone acetic acid)、 5_ 氟尿嘧啶、氟索.RTM. (Fluosol. RTM.)、氟他胺(flutamide)、硝酸鎵(gallium nitrate)、吉西他賓(gemcitabine)、乙酸戈舍瑞林(goserelin acetate)、海普索法 (h印sulfam)、六亞甲基二乙酉先胺(hexamethylene bisacetamide)、高三尖杉酉旨?jí)A (homoharringtonine)、硫酸胼、4-羥基雄烯二酮、羥基脲(hydrozyurea)、干擾素a、干擾 素3、干擾素、、白細(xì)胞介素-1 a和0、白細(xì)胞介素-3、白細(xì)胞介素-4、白細(xì)胞介素-6、 4-甘薯苦醇(4-ipomeanol)、異丙鉬(iproplatin)、異維 A 酸(isotretinoin)、亞葉酸鈣 (leucovorin calcium)、乙酸亮丙立德(leuprolide acetate)、左方寵咪唑(levamisole)、柔 紅霉素脂質(zhì)體(liposomal daunorubicin)、脂質(zhì)體包裝的多柔比星(liposome encapsulated doxorubicin)、氣尼達(dá)明(lonidamine)> 美登素(maytansine)> 美 i若立爾 (menogaril)、麥爾巴隆(merbarone)、美司鈉(mesna)、卡介苗的甲醇提取殘余物 (methanol extraction residue of Bacillus calmette-guerin)>N-甲基甲酉先月安、米 酮(mif印ristone)、米托胍腙(mitoguazone)、單核細(xì)胞/巨噬細(xì)胞群落刺激因子、大麻隆 (nabilone)、萘福昔定(nafoxidine)、新制癌菌素(neocarzinostatin)、乙酸奧曲肽 (octreotide acetate)、奧馬鉬(ormaplatin)、奧沙利鉬(oxaliplatin)、紫杉醇、帕拉 (口818)、喊嚷二麗(口土口6『82[116(1
      1811)、比柔比星(pirarubicin)、 口比曲克辛(piritrexim)、鹽酸吡羅蒽醌(piroxantrone hydrochloride)、PIXY-321、卟吩 姆鈉、潑尼莫司汀(prednimustine)、丙卡巴胼(procarbazine)、孕激素類(progestin)、吡 唑呋喃菌素(pyrazofurin)、雷佐生(razoxane)、沙格司亭(sargramostim)、司莫司汀 (semustine)、鍺螺胺(spirogermanium)、螺莫司汀(spiromustine)、鏈黑霉素 (streptonigrin)、磺氯苯脲(sulofenur)、舒拉明鈉(suramin sodium)、他莫昔芬 (tamoxifen)、歐洲紫杉醇(taxotere)、替加氟(tegafur)、替尼泊苷(teniposide)、對苯二 甲脒(ter印hthalamidine)、替羅昔隆(teroxirone)、塞替派(thiot印a)、胸苷注射液 (thymidine injection)、噻唑呋林(tiazofurin)、托瑞米芬(toremifene)、鹽酸三氟拉嗪(trifluoperazine hydrochloride)、 曲氟尿 苷(trifluridine)、三 甲曲沙 (trimetrexate)、腫瘤壞死因子、尿嘧啶氮芥(uracil mustard)、長春利定(vinzolidine)、 Yoshi 864、左柔比星(zorubicin)、TNF結(jié)合蛋白、霉酚酸酯(mycophenolate)、芬戈莫德 (fingolimod)、芥子酶(myrocin)、依維莫司(Everolimus)、胍立莫司(Gusperimus)、美克 莫其jf (Pimecrolimus)、西羅莫司、佐他莫司(Zotarolimus)、他克莫司(Tacrolimus)、西羅 莫司脂化物(Temsirolimus)、阿巴西普(Abatac印t)、阿法賽特(Alefac^pt)、比拉塔普 (Belatac印t)、TNF抑制劑(依那西普(Etanerc印t))、阿那白滯素(Anakinra)、硫唑嘌呤 (Azathioprine)、環(huán)孢素(Ciclosporin)、來氟米特(Leflunomide)、甲氨喋呤、霉酚酸、沙 立度胺(Thalidomide)、阿西維辛(acivicin)、阿柔比星(aclarubicin)、阿考達(dá)唑 (acodazole)、阿克羅寧(acronycine)、阿多來新(adozelesin)、阿拉諾新(alanosine)、阿 地白介素(aldesleukin)、別嘌醇鈉(allopurinol sodium)、氨魯米特 (aminoglutethimide )、氨萘非特(amonafide )、阿普林津(amp 1 igen )、雄激素類、安歸啶 (anguidine)>W#S(aphidicolin glycinate)、畠MSI^ 肉 ^^(asaley)>
      5-阿扎胞苷、卡介苗(Bacillus calmette-guerin, BCG)、貝氏抗葉酸藥(Baker’ s Antifol)(可溶性)、類固醇藥物、糖皮質(zhì)激素類(可的松、可的索、阿氯米松、安西奈德、倍氯 米松、倍他米松、布地奈德、環(huán)索奈德、氯倍他索、氯倍他松、氯可托龍、氯潑尼醇、可的伐唑、 地夫可特、脫氧皮質(zhì)酮、地奈德、去羥米松、地塞米松、二氟拉松、二氟可龍、二氟潑尼酯、氟 氯縮松、氟氫可的松、氟氫縮松、氟米松、氟尼縮松、氟輕松、醋酸氟輕松、氟可丁、氟可龍、氟 米龍、氟培龍、氟潑尼定、氟替卡松、福莫可他、哈西奈德、鹵米松、醋丙氫化可的松、丁丙氫 化可的松、丁酸氫化可的松、氯替潑諾、甲羥松、甲潑尼松、甲潑尼龍、醋丙甲潑尼龍、糠酸莫 米他松、帕拉米松、潑尼卡酯、潑尼松、潑尼龍、潑尼立定、利美索龍、替可的松、曲安西龍、烏 倍他索以及所述糖皮質(zhì)激素的所有衍生物);非類固醇抗炎藥,環(huán)加氧酶抑制劑、水楊酸鹽 類(乙酰水楊酸、安西普林(Amoxiprin)、貝諾酯(Benorilate)、水楊酸膽堿鎂(Choline magnesium salicylate)、二氟尼柳(Diflunisal)、法斯拉明(Faislamine)、水楊酸甲酯、水 楊酸鎂、水楊酸水楊酯(salicyl salicylate))、芳基烷酸類(雙氯芬酸(Diclofenac)、醋 氯芬酸(Aceclofenac)、阿西美辛(Acemetacin)、溴芬酸(Bromfenac)、依托度酸 (Etodolac)、吲哚美辛(Indometacin)、萘丁美酮(nabumetone)、舒林酸(sulindac)、托美 丁( tolmetin))、芳基丙酸類(芬布芬(Fenbufen)、非諾洛芬(Fenoprofen)、氟比洛芬 (Flurbiprofen)、酮洛芬(Ketoprofen)、酮洛酸(Ketorolac)、洛索洛芬(Loxoprofen)、布 洛芬(ibuprofen)、卡洛芬(carprofen)、蔡普生(naproxen)、奧夕少普秦(oxaproz in)、嚷洛 芬酸(tiaprofenic acid)、舒洛芬(suprofen))、N-芳基氨茴酸類(甲芬那酸(Mefenamic acid)、甲氯芬那酸(Meclofenamic acid))、吡咯烷衍生物類(保泰松(Phenylbutazone)、 阿扎丙宗(Azapropazone)、安乃近(Metamizole)、羥基保泰松(Oxyphenbutazone)、磺吡酮 (Sulfinpyrazone))、昔康類(Oxicam) (口比羅昔康(Piroxicam)、氣諾昔康(Lornoxicam)、美 洛昔康(Meloxicam)、替諾昔康(Tenoxicam))、C0X-2抑制劑類(塞來昔布(Celecoxib)、 NS-398、RS-57067、依托昔布(Etoricoxib)、氟舒胺(flosulid)、APHS、羅美昔布 (Lumiracoxib)、美洛昔康(meloxicam)、SC-57666、帕瑞昔布(Parecoxib)、S-2474、羅非昔 布(Rofecoxib)、依托度酸(etodolac)、JTE-522、DuP-697、伐地考昔(Valdecoxib)、塞來昔 布(celecoxib)、SC-58125)、磺酰苯胺類(L-745337、L-748780、L-761066、尼美舒利(Nimesulide)、伐地考昔(valdecoxib)、抑制C0X的一氧化氮供體(氟丙喹宗 (Fluproquazone)、利克菲隆(Licofelone))、《 _3脂肪酸類、草藥提取物(牛膝草、生姜、姜 黃、山金車(Arnica montana)、倍半萜內(nèi)酯(sesquiterpene lactone)和柳皮的提取物、錦 雞菌素、辣椒辣素(capsaicin))、溶栓藥類(thrombolytics)、抗凝血?jiǎng)?anticoagulant)、 抗血小板藥(antiplatelet drug)、維生素K拮抗劑、醋硝香豆素(Acenocoumarol)、氯茚二 酮(Clorindione)、殺鼠醚(Coumatetralyl)、雙香豆素(Dicumarol)、 二 苯茚酮 (Diphenadione)、雙香豆乙酉旨(Ethyl biscoumacetate)、苯丙香豆素(Phenprocoumon)>^ 茚二酮(Phenindione)、噻氯香豆素(Tioclomarol)、華法令(Warfarin)、肝素類(h 印 arin) (抗凝血酶III (Antithrombin III)、達(dá)那肝素(Danaparoid)、肝素、舒洛地特 (Sulodexide);低分子量肝素,貝米肝素(Bemiparin)、達(dá)肝素(Dalt印arin)、依諾肝素 (Enoxaparin)、那屈肝素(Nadroparin)、中白肝素(Parnaparin)、瑞肝素(Reviparin)、亭扎 肝素(Tinzaparin))、糖蛋白Ilb/IIIa抑制劑類(阿昔單抗(Abciximab)、埃替菲巴肽 (Eptifibatide)、替羅非班(Tirofiban))、ADP 受體抑制劑類(氯吡格雷(Clopidogrel)、噻 氯匹定(Ticlopidine)、普拉格雷(Prasugrel))、前列腺素類似物(貝前列素(Beraprost)、 前列環(huán)素(Prostacyclin)、羅普斯特(lloprost)、曲前列尼爾(Tr印rostinil))、酶(纖溶 BIJ^^^IJ (plasminogen activator), H^s1 ! (Alteplase)/(Reteplase)/# ^ 胃 g|(Tenecteplase)> # g|(Streptokinase)> ^ # g|(Urokinase) / f^ p ^ M (Saruplase)、阿尼普酶(Anistr印lase);絲氨酸內(nèi)肽酶(serine endop印tidase),安克洛 酶(Ancrod)、多曲克吉 a (Drotrecogin alfa)/蛋白質(zhì) C、纖溶酶(Fibrinolysin)、纖維蛋 白酶(Brinase))、直接凝血酶抑制劑(阿加曲班(Argatroban)、比伐盧定(bivalirudin)、 達(dá)比加群I^(Dabigatran),地西盧定(Desirudin)、水蛭素(Hirudin)、來匹盧定 (L印irudin)、美拉加群(Melagatran)、希美加群(Ximelagatran)、乙酰水楊酸、阿洛普令 (Aloxiprin)、地他唑(Ditazole)、卡巴匹林鈣(Carbasalate calcium)、氯克羅孟 (Cloricromen)、雙嘧達(dá)莫(Dipyridamole)、吲哚布芬(Indobufen)、吡啶甲酰胺 (Picotamide)、三氟柳(Triflusal)、阿匹沙班(Apixaban)、去纖苷(Defibrotide)、硫酸皮 膚素(Dermatan sulfate)、方達(dá)珀魯(Fondaparinux)、利伐沙班(Rivaroxaban)、組織纖溶 酶原活化劑)、他汀類(statin)(阿托伐他汀(Atorvastatin)、西立伐他汀(Cerivastatin)、 氟伐他汀(Fluvastatin)、洛伐他汀(Lovastatin)、美伐他汀(Mevastatin)、匹伐他汀 (Pitavastatin)、普伐他汀(Pravastatin)、羅蘇伐他汀(Rosuvastatin)、辛伐他汀 (Simvastatin))、貝特類(fibrate)(氯貝特(Clofibrate)、苯扎貝特(Bezafibrate)、氯貝 特鋁(Aluminium clof ibrate)、吉非貝齊(Gemfibrozil )、非諾貝特(Fenof ibrate)、雙貝 特(Simfibrate)、氯煙貝特(Ronifibrate)、環(huán)丙貝特(Ciprofibrate)、依托貝特 (Etof ibrate)、氯貝胺(Clof ibride))、煙酸(niacin)、煙酸衍生物(戊四煙酯 (Niceritrol)、尼可呋糖(Nicofuranose)、煙酸鋁(Aluminium nicotinate)、煙醇 (Nicotinyl alcohol)、阿昔莫司(Acipimox))、膽汁酸多價(jià)螯合劑(bile acid sequesterant)(考來烯胺(Colestyramine)、考來替泊(Colestipol)、考來糖酐 (Colextran)、考來維倫(Colesevelam)、依澤替米貝(ezetimibe))、植物脂醇類 (phytosterols)(植物固醇(cholestatin)、菜油固醇(campesterol)、豆固醇 (stigmasterol )> ^ ff |S| I (brassicasterol )> 3 _ # @ 酉享(3 —sitosterol )、胃 _ M II(ergosterol))、CETP抑制劑(鯊稀合成酶抑制劑(squalene synthase inhibitor)、ApoA_l 米蘭(ApoA-1 Milano)、AGI-1067、右甲狀腺素(Dextrothyroxine)、普羅布考(Probucol)、 硫地醇(Tiadeno 1)、苯氟雷司(Benfluorex)、美格魯托(Megluto 1) )、w -3-甘油三酸酯 (5_ 5粦酸口比口多 H 谷氛酸 I美(Magnesium pyridoxal 5-phosphate glutamate)、普禾lj 醇 (Policosanol)、依澤替米貝)、工程改造反義敲除原癌基因c-myc的藥劑(agents which engineer the Antisense knockdown of the protooncogene c_myc)、N_ 嗎琳基寡妝 (Morpholino oligonucleotide)、免疫抑制劑和抗癌藥物西羅莫司/雷帕霉素 (rapamycin)、他克莫司、依維莫司、佐他莫司、紫杉醇、多烯紫杉醇、紫杉醇衍生物、曲尼司 特(tranilast)等、酶類(新陳代謝、分解代謝、DNA復(fù)制、DNA修復(fù)、RNA合成、其它蛋白質(zhì)翻 譯后修飾相關(guān)性酶);結(jié)構(gòu)蛋白(F-肌動(dòng)蛋白、a-微管蛋白和微管蛋白、III類微 管蛋白、微管蛋白、S和£微管蛋白、微管蛋白的微管、膠原蛋白、彈性蛋白、軟骨、角蛋 白)、運(yùn)動(dòng)蛋白(骨形態(tài)發(fā)生蛋白;骨生成相關(guān)性蛋白,肝素、肌球蛋白、驅(qū)動(dòng)蛋白(kinesin)、 纖動(dòng)蛋白(dynein));細(xì)胞信號(hào)傳導(dǎo)和信號(hào)轉(zhuǎn)導(dǎo)相關(guān)性蛋白;配體轉(zhuǎn)運(yùn)相關(guān)性蛋白、膜蛋白; 跨膜蛋白;離子通道蛋白;抗體;人核糖核酸;以及人脫氧核糖核酸等。
      在另一應(yīng)用中,可使用當(dāng)前的涂布方法將殺生物或抑菌性涂層附著于通常有細(xì)菌 定植風(fēng)險(xiǎn)的表面。具體說來,可使醫(yī)療設(shè)備、手術(shù)儀器的表面以及通常暴露于衛(wèi)生保健環(huán)境 中的表面呈現(xiàn)殺生物性??膳c載體基質(zhì)組合用于此類應(yīng)用的合適活性劑包括抗微生物聚合 物、N-鹵胺、含氮聚合物、四級(jí)離子和膠體金屬。實(shí)例包括聚(4-丙烯酰胺基-N-(5-甲 基-3-異噁唑基)苯磺酰胺)、聚(4-甲基丙烯酰胺基-N-(5-甲基-3-異噁唑基)-苯磺酰 胺)、聚(N-[4-磺酰胺基-N-(5-甲基-3-異噁唑基)苯基]-順丁烯二酰亞胺、聚0V-三正丁 基錫順丁烯二酰亞胺-共-苯乙烯-共-間丙烯酰氨基_ (苯甲酸三正丁基錫)、聚(甲基丙 烯酸2-羥基-3- (5-甲基-1,3,4-噻二唑-2-基)硫丙酯)、聚(1-乙基-6-氟-7- {4-[2-羥 基-3-) 2-甲基丙烯酰氧基)丙基]哌嗪-1-基}_4_氧代-1,4-二氫喹啉-3-甲酸)、 聚(2,4,4’ -三氯-2’ -丙烯酰氧基二苯基醚)、聚(2,4,4’ -三氯-2’ -丙烯酰氧基二苯基 醚-共_甲基丙烯酸甲酯)、聚(2,4,4’ -三氯-2’ -丙烯酰氧基二苯基醚-共-苯乙烯)、 聚(2,4,4’ -三氯-2’ -丙烯酰氧基二苯基醚-共-丙烯酸)、聚(乙酸烯丙基對羥基苯酯)、 聚(乙酸對羥基苯酯)、聚(對-2-丙烯氧基苯酚)、聚(乙酸對苯基羧基酯)、聚(鄰羧 基苯甲酸3-丙烯酰氧基丙酯)、聚(乙酸3-甲基丙烯酰氧基對羥基苯酯)、N-環(huán)鹵胺、含 氯漂白用聚合物、含氯漂白用聚(1-丙烯?;鵢2,2,5,5-四甲基咪唑烷-4-酮-共-丙烯 腈)、含氯漂白用聚(1-丙烯?;鵢2,2,5,5-四甲基咪唑烷-4-酮-共-甲基丙烯酸甲酯)、 含氯漂白用聚(1-丙烯?;鵢2,2,5,5-四甲基咪唑烷-4-酮-共-乙烯醇)、聚(丙烯酸 5-氯-8-喹啉酯)、聚(丙烯酸-共-丙烯酸5-氯-8-喹啉酯)、聚(丙烯酰胺-共-丙烯 酸5-氯-8-喹啉酯)、聚0V-乙烯基-2-吡咯烷酮-共-丙烯酸5-氯-8-喹啉酯)、聚(四 氟硼酸對乙烯基苯甲基四亞甲基锍)、聚(四氟硼酸對乙基苯甲基四亞甲基锍)、聚(溴化 甲基丙烯酰氧基十二烷基吡啶)、聚(溴化甲基丙烯酰氧基十二烷基吡啶-共-丙烯酸)、 聚(甲基丙烯酸四級(jí)胺-共-甲基丙烯酸2-羥基乙酯)、聚(氯化三烷基-3-乙烯基苯甲 基]磷)、聚(氯化三烷基-4-乙烯基苯甲基]磷)、聚(丙烯酸2,4-二氯苯酯)、聚(丙 烯酸2,4- 二氯苯酯-共-乙酸乙烯酯)、聚(3-三乙氧基硅烷基丙基-5,5- 二甲基乙內(nèi)酰 脲)、聚(乙烯基苯甲基氯-共-2-氯乙基乙烯基醚)、用三苯基膦和三乙胺四級(jí)化的聚(乙烯基苯甲基氯-共-甲基丙烯酸甲酯);用對羥基苯甲酸處理的RAAS-4G、2,4-二羥基苯甲 酸和3,4,5-三羥基苯甲酸;偶聯(lián)2-苯并咪唑氨甲?;糠值木?乙烯-共-乙烯醇); 聚(苯乙烯-共-順丁烯二酸酐)偶聯(lián)氨芐西林;聚(苯乙烯-共_順丁烯二酸酐)偶聯(lián) 4_氨基苯酚;聚(氯化甲基丙烯酰氧基乙基三辛基磷-共-N-異丙基丙烯酰胺);磺丙基甜 菜堿共聚物;聚[氯化4-(2-三丁基磷鐺基乙基)苯乙烯-共-4-(2-氯乙基)-苯乙烯]; 聚[氯化4-(3-三丁基磷鐺基丙基)-苯乙烯-共-4-(3-氯丙基)苯乙烯];依次用氯化 氫以及三乙胺或N,N- 二甲基辛胺或N,N- 二甲基十二烷胺或化二甲基十六烷胺處理的 甲基丙烯酸縮水甘油酯-1,4- 二乙烯基苯共聚物;依次用氯化氫以及三乙基膦或三丁基膦 或三辛基膦處理的甲基丙烯酸縮水甘油酯-1,4- 二乙烯基苯共聚物;苯乙烯-7% 二乙烯基 苯共聚物的磷鹽;甲基丙烯酸縮水甘油酯聚合物的磷鹽和銨鹽;用三乙胺、三苯基膦和三 丁基膦四級(jí)化的聚(甲基丙烯酸縮水甘油酯-共-甲基丙烯酸2-羥基乙酯);四級(jí)銨官能 化的聚(丙烯亞胺);四級(jí)磷官能化的聚(丙烯亞胺) ’聚(乙二醇-N-乙內(nèi)酰脲);聚(乙 二醇-N-咪唑烷-4-酮);聚苯乙烯乙內(nèi)酰脲;聚苯乙烯三嗪二酮;聚[1,3,5-三氯-6-甲 基_6_(4’乙烯基苯基)_1,3,5-三嗪-2,4-二酮];氯甲基化聚苯乙烯珠粒偶聯(lián)5,5-二甲 基乙內(nèi)酰脲鉀鹽;氯甲基化聚苯乙烯珠粒偶聯(lián)二甲基十二烷胺;氯甲基化聚苯乙烯珠粒偶 聯(lián)隊(duì)隊(duì)^州’-四甲基乙二胺;N-鹵化聚(苯乙烯乙內(nèi)酰脲);聚[3-(5,5_二甲基乙內(nèi)酰脲 基丙基)硅氧烷-共-氯化3-二甲基十二烷基銨丙基硅氧烷];聚[3-(5,5-二甲基乙內(nèi)酰 脲基丙基)羥基硅氧烷];殼聚糖-褐藻酸水凝膠;用三乙胺或三苯基膦或三丁基膦四級(jí)化 的聚(2-氯乙基乙烯基醚-共-乙烯基苯甲基氯);四級(jí)化聚(乙烯基吡啶)、聚乙二醇甲 基醚甲基丙烯酸酯(PEGMA)與甲基丙烯酸羥基乙酯(HEMA)和四級(jí)化聚(乙烯基吡啶)的共 聚物、四級(jí)化N-烷基殼聚糖;用碘甲烷四級(jí)化的N-烷基殼聚糖;殼聚糖接枝的聚(對苯二 甲酸乙二酯);四級(jí)化殼聚糖接枝的聚(對苯二甲酸乙二酯);磷酸殼聚糖-g_單(2-甲基 丙烯酰氧基乙基)酸;殼聚糖-g_乙烯基磺酸鈉鹽;氯化N-(2-羥基)丙基-3-三甲基銨殼 聚糖;二吡啶基葡聚糖結(jié)合物;N-苯甲基二吡啶基葡聚糖結(jié)合物;N-正辛基二吡啶基葡聚 糖結(jié)合物;Loofah纖維接枝的氯化甲基丙烯酰氧基乙基三甲基銨、Loofah纖維接枝的氯化 三丁基-4-乙烯基苯甲基磷;Loofah纖維接枝的甲基丙烯酸2,3-環(huán)硫丙酯;用三乙烯四胺 四級(jí)化的Loofah纖維接枝的甲基丙烯酸2,3-環(huán)硫丙酯;用三乙烯四胺四級(jí)化的Loofah纖 維接枝的甲基丙烯酸2,3-環(huán)硫丙酯與銀離子的絡(luò)合物、N-甲基芳基嗎啉酸(AMPA)、N,N-二 甲基AMPA、聚-(乙二酰二胺_N,N’_ 二乙酸酯)、聚-(乙二酰二胺_N,N’_ 二乙酸酯)與 金屬離子的絡(luò)合物、聚(4-[(4_羥基苯亞甲基)氨基]苯酚)、由單體丙烯酸2,4-二氯苯 酯和甲基丙烯酸8-喹啉酯合成的聚合物和共聚物、2-丙烯酰胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸 /順丁烯二酸的共聚物、四級(jí)銨鹽(QAS)修飾的聚硅氧烷、聚(巴豆酸-共-2-丙烯酰胺 基-2-甲基-1-丙烷磺酸)-金屬與銅(II)、鈷(II)和鎳(II)的絡(luò)合物、扁桃酸縮聚物、 SAMMA、N-((4-氨磺酰基)苯基)丙烯酰胺(APA)、N-((4-氨磺酰基)苯基)丙烯酰胺(APA) 與丙烯酸2-羥基乙酯(HEA)和丙烯酸(AA)的共聚物、具有烷基溴修飾的叔胺基的聚(甲基 丙烯酸2-( 二甲基氨基)乙酯)、聚[(y (3)-N-乙?;?L-組氨酸根基-k N-4,0 0 0')銀(I)]、多酚、聚[(2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮)丙烯]樹脂、N-四級(jí)化殼聚糖和殼 寡糖(chitooligomer)、酰基化殼聚糖、硫基羧酸銀(I)和四級(jí)化聚乙烯亞胺、膠體錫、鎳或 銀等。
      在所述涂層的抗微生物活性是由聚合物附著有n-鹵胺或其鹵化前體而產(chǎn)生的情 況下,液相中可另外加有例如二氯甲烷、次氯酸鹽漂白劑和其它此類鹵素源等鹵素化合物。人們可理解獲取通??捎玫姆勰┬问剿芰弦约澳軌蛞栽瓨永眠@些塑料以通過 本申請案的方法形成涂層的益處。還可以理解,能夠在受控制或封閉環(huán)境中,使用現(xiàn)有技術(shù) 中公開的已知復(fù)雜而危險(xiǎn)的合成途徑,增加具有殺生物官能團(tuán)的通??捎玫姆勰┬问降木?合物,以及隨后能夠在不宜使用危險(xiǎn)化學(xué)方法的環(huán)境中,利用本發(fā)明使由此衍生化的粒子 形成涂層,例如醫(yī)院、工業(yè)、家庭和食品加工環(huán)境中的表面,將是有益的。在一種應(yīng)用中,相關(guān)表面可以是建筑材料的表面,例如墻上的灰泥、水泥漿或混凝 土,而應(yīng)用所述方法所使用的機(jī)械是可移動(dòng)的,例如合適改進(jìn)過的可移動(dòng)噴砂器等,并且所 述方法可應(yīng)用于已建成建筑物的現(xiàn)有表面。在其它殺生物涂層應(yīng)用中,表面為金屬表面,例如手術(shù)儀器;門邊或門上的嵌板、 把手和其它經(jīng)常接觸的表面;入口和出口點(diǎn);水槽;盥洗池;干燥器;工作臺(tái)等。本申請案提供多種優(yōu)于現(xiàn)有方法的益處,可利用活性劑和涂層改進(jìn)表面
      1. 盡管在表面產(chǎn)生熱,但所述熱高度局域化并且在氣霧劑液相幫助下迅速消散,由 此所并入的活性劑在所述處理中保持完整。2. 在單步驟方法中,活性劑結(jié)合載體基質(zhì)以一種受控制并且定制的方式均勻 分散于所并入的涂層內(nèi)。3. 所述方法使表面上足夠密度的前期材料形成尺寸超過1納米的連續(xù)涂層, 避免了先前公開案的濃度限制。4. 所述方法避免使用例如交聯(lián)劑、穩(wěn)定劑、引發(fā)劑、硅烷或環(huán)氧基偶聯(lián)劑等復(fù) 雜化學(xué)添加劑,以及與其它涂布方法相關(guān)聯(lián)的為促進(jìn)涂層組合物的固有反應(yīng)和與襯底表面 的反應(yīng)而進(jìn)行的固化處理。所有此類因素都能影響涂層內(nèi)的化學(xué)和所需功能,包括抗微生 物或治療功能。5. 所述方法使多種材料能夠附著,包括通過常規(guī)噴灑或涂漆施用通常無法形 成附著涂層的材料即,聚合物和陶瓷,當(dāng)在常規(guī)溫度下簡單地涂漆或噴灑于表面上時(shí),其 不具有相互發(fā)生固有反應(yīng)或與襯底反應(yīng)的化學(xué)官能團(tuán)。隨后可通過進(jìn)一步處理改變襯底表面的附著涂層,由此使附著涂層增加與特定功 能有關(guān)的化學(xué)和物理性質(zhì)。所述處理包括改進(jìn)的噴丸或噴鋼砂處理、噴砂處理、蝕刻處理、 沉淀處理、溶解處理或清洗處理。例如,目前利用高溫處理,例如等離子體噴灑和熱濺鍍,使羥磷灰石沉積于植入物 表面。在所述處理中,利用超過1200°C的溫度,使羥磷灰石粒子在途中部分熔融于表面。這 些粒子凝固,由此在表面上形成涂層。所述處理致使羥磷灰石主要因羥基(結(jié)構(gòu)水)喪失,而 部分降解成為其它磷酸鈣。宜使用本申請案,在無水喪失的情況下將羥磷灰石涂布于表面 上,尤其是氣霧劑中所用液相至少部分包含水的情形。接著,活性劑可吸附于此類羥磷灰石 層中。在其它情況下,宜從涂層中溶出涂層中所含組分,以定制其形態(tài)。例如,如果前期 組合物和最終的涂層含有碳酸氫鈉,那么通過暴露于溫和酸性溶液或水溶液,易于從表面 溶出所述組分,由此工程改造涂層的孔隙率備用。一種特別適用于涂層為聚合物涂層的情形的處理是后續(xù)轟擊處理。例如,通過本發(fā)明方法,易于將常規(guī)溫度下利用當(dāng)前方法不易附著于表面的軟塑料(例如PTFE、低密度聚 乙烯等)涂布于表面上,達(dá)到所需厚度。所述表面暴露于推動(dòng)到表面上的微??墒顾鑫⒘?埋入聚合物涂層中。宜使用噴鋼砂或噴丸設(shè)備,將膠體金屬和其它潛在活性劑埋入所述涂 層中,以進(jìn)一步擴(kuò)大涂層特性,在銀的特定情況下,能使涂層呈現(xiàn)抑菌性??梢灶愃品绞綌U(kuò) 大其它此類聚合物涂層。本申請案特別適于用載體基質(zhì)(例如生物可降解聚合物、生物相容性陶瓷或其組 合)涂布醫(yī)療植入物的表面。此涂層中可并入治療劑(例如抗再狹窄藥、抗血栓藥和抗微生 物藥)。適于此技術(shù)的植入物的實(shí)例將包括硬組織植入物、牙科和矯形植入物、支架、起搏 器、除纖顫器、導(dǎo)線和導(dǎo)管。在此布置中,將使用市售彈丸或磨損用鋼砂,對植入物進(jìn)行噴丸 或噴鋼砂處理,同時(shí)將霧化的載體基質(zhì)懸浮液傳遞到表面。例如,可通過同軸文氏管布置或 多噴嘴布置,將磨?;驈椡枰约皻忪F劑傳遞到植入物表面,所述同軸形式的實(shí)例顯示于圖1 (經(jīng)設(shè)計(jì)的載體基質(zhì)/溶劑在外側(cè)的裝備),使用標(biāo)準(zhǔn)噴鋼砂機(jī)使彈丸或鋼砂在內(nèi)部文氏管 中流體化。所述彈丸或鋼砂的粒度宜在1微米到1000微米的范圍內(nèi)。載體基質(zhì)是懸浮于合 適溶劑中。流體射流是空氣。流體射流以與植入物表面成至少5度的角度撞擊所述表面。 文氏管與植入物表面的距離宜保持在500毫米內(nèi)。隨后,在后續(xù)處理中,治療劑可吸附于載體基質(zhì)上,或可另外包括治療劑作為前期 組合物的組分。在另一布置中,載體基質(zhì)前體的溶膠例如為磷酸鈣凝膠。通常,此類陶瓷溶膠通過 長期暴露于熱(燒結(jié))而轉(zhuǎn)變成其結(jié)晶對應(yīng)物,但這特別不適于所需磷酸鈣是羥磷灰石的情 形。當(dāng)前的方法不包含長期暴露于高溫來促進(jìn)所述溶膠-凝膠反應(yīng)。由此,可將活性劑并 入凝膠中,同時(shí)沉積于表面,而另一益處是,所述活性劑可均勻分配于涂層中。在植入物是支架的情況下,本發(fā)明方法可用于傳遞用于吸收由MRI掃描所產(chǎn)生的 能量的材料以及磨?;驈椡韬蜌忪F劑。用于吸收由MRI掃描所產(chǎn)生的能量的材料宜懸浮于 氣霧劑液體中。本申請案的方法的功效現(xiàn)將參考一些實(shí)例進(jìn)行描述。實(shí)例1
      使用Vaniman噴鋼砂機(jī),用平均粒徑為100微米的氧化鋁粗砂對1厘米X 1厘米工業(yè) 純鈦試樣進(jìn)行噴鋼砂處理。噴嘴與表面保持20毫米距離,并且噴嘴保持與所述表面垂直。 壓力為7巴(bar)的實(shí)質(zhì)上不含氧氣的氮?dú)庥米鬏d體流體。碳化硅噴嘴的孔徑為1毫米。 對所述表面進(jìn)行4次傳遞(pass)。比較鈦試樣的XRD圖(圖3)與如上述處理的鈦試樣(圖 4),顯示在經(jīng)處理氮化鈦試樣特征中,在43. 5 2處出現(xiàn)峰值,但在鈦或氧化鈦中未發(fā)現(xiàn)。使用Vaniman噴鋼砂機(jī),利用氧化鋁對所述試樣進(jìn)行進(jìn)一步噴鋼砂處理。在噴鋼 砂處理期間,將霧化的聚四氟乙烯(PTFE)納米粒子于乙醇中的分散液導(dǎo)向所述表面上的同 一點(diǎn)。氧化鋁的平均粒徑為100微米,而PTFE粒子的平均粒徑為200納米。通過孔徑為1 毫米的碳化硅噴嘴傳遞氧化鋁,同時(shí)利用連接到標(biāo)準(zhǔn)壓縮機(jī)的噴漆器傳遞氣霧劑。壓力為 5巴的實(shí)質(zhì)上不含氧氣的氮?dú)庥米餮趸X的載體流體。鈦試樣與所述噴嘴的距離保持在60 毫米內(nèi)。對所述表面進(jìn)行4次傳遞。隨后,利用超聲波清洗試樣20分鐘。接著在空氣流下干燥表面。圖5是在完成所有處理后附著的特富龍層的經(jīng)研磨部分的聚焦離子束(FIB)影像。所述層為至少5微米深, 并且明顯不同于試樣本身。此外,附著的特富龍層具有納米孔隙度。實(shí)例2
      用氧化鋁粗砂以及霧化的PTFE粉末于乙醇中的分散液轟擊1厘米X 1厘米工業(yè)純鈦 試樣。氧化鋁的平均粒徑為100微米,而PTFE粒子的平均粒徑為200納米。使用Vaniman 噴鋼砂機(jī),通過孔徑為1毫米的碳化硅噴嘴將氧化鋁粗砂傳遞到表面。載氣是壓力為5巴 的空氣。使用噴槍產(chǎn)生PTFE于乙醇中的氣霧劑。通過文氏管傳遞壓力為5巴的空氣流越 過連接到含PTFE納米粒子的乙醇儲(chǔ)集器的第二文氏管,經(jīng)由伯努利效應(yīng)產(chǎn)生氣霧劑。攜帶 氧化鋁粗砂的空氣流以及攜帶氣霧劑的空氣流都集中于鈦試樣上。鈦試樣與所述噴嘴的距 離保持在60毫米內(nèi)。將鈦試樣放于此點(diǎn)。對所述表面進(jìn)行4次傳遞。隨后,利用超聲波清洗試樣20分鐘。接著在空氣流下干燥表面。圖6是在完成所 有處理后獲得的具有結(jié)合能的氟區(qū)的窄區(qū)掃描X射線光電子能譜。此能譜清楚顯示出試樣 表面上存在氟,表明存在PTFE。實(shí)例3
      用氧化鋁粗砂以及霧化的羥磷灰石納米結(jié)晶于乙醇中的分散液轟擊1厘米X 1厘米工 業(yè)純鈦試樣。氧化鋁的平均粒徑為100微米。使用Vaniman噴鋼砂機(jī),通過孔徑為1毫米 的碳化硅噴嘴將氧化鋁粗砂傳遞到表面。載氣是壓力為5巴的空氣。使用噴槍產(chǎn)生霧化的 羥磷灰石于乙醇中的分散液。通過文氏管傳遞壓力為5巴的空氣流越過連接到含羥磷灰石 的乙醇儲(chǔ)集器的第二文氏管,經(jīng)由伯努利效應(yīng)產(chǎn)生氣霧劑。攜帶氧化鋁粗砂的空氣流以及 攜帶氣霧劑的空氣流都集中于鈦試樣上。鈦試樣與所述噴嘴的距離保持在60毫米內(nèi)。對 所述表面進(jìn)行4次傳遞。隨后,利用超聲波清洗試樣20分鐘。接著在空氣流下干燥表面。圖7是在完成所 有處理后獲得的具有結(jié)合能的鈣區(qū)的窄區(qū)掃描X射線光電子能譜。此能譜清楚顯示出試樣 表面上存在鈣,表明存在羥磷灰石。實(shí)例4
      用氧化鋁粗砂以及霧化的羥磷灰石納米結(jié)晶于去離子水中的分散液轟擊1厘米X 1厘 米工業(yè)純鈦試樣。氧化鋁的平均粒徑為100微米。使用Vaniman噴鋼砂機(jī),通過孔徑為1 毫米的碳化硅噴嘴將氧化鋁粗砂傳遞到表面。載氣是壓力為5巴的空氣。使用噴漆器產(chǎn)生 霧化的羥磷灰石于水中的分散液。使用壓力為5巴的空氣流,經(jīng)由伯努利效應(yīng),從儲(chǔ)集器中 汲取分散于水中的羥磷灰石。從噴嘴噴出分散液,同時(shí)從所述射流任一側(cè)噴出空氣流,產(chǎn)生 氣霧劑。攜帶氧化鋁粗砂的空氣流以及攜帶氣霧劑的空氣流都集中于鈦試樣上。鈦試樣與 所述噴嘴的距離保持在60毫米內(nèi)。對所述表面進(jìn)行4次傳遞。隨后,利用超聲波清洗試樣20分鐘。接著在空氣流下干燥表面。圖8和圖9是在 完成所有處理后獲得的具有結(jié)合能的鈣區(qū)和磷區(qū)的窄區(qū)掃描X射線光電子能譜。此能譜清 楚顯示出試樣表面上存在鈣,表明存在羥磷灰石。實(shí){列 5
      用氧化鋁粗砂以及霧化的由4克羥磷灰石納米結(jié)晶和100毫升含1克慶大霉素的去離 子水組成的液體,轟擊三個(gè)1厘米X 1厘米工業(yè)純鈦試樣。所述液體是在處理試樣前24小 時(shí)制備,并持續(xù)攪拌。氧化鋁的平均粒徑為100微米。使用Vaniman噴鋼砂機(jī),通過孔徑為1毫米的碳化硅噴嘴將氧化鋁粗砂傳遞到表面。載氣是壓力為5巴的空氣。使用噴漆器霧 化液體膠體。使用壓力為5巴的空氣流,經(jīng)由伯努利效應(yīng),從儲(chǔ)集器中汲取所述液體。從噴 嘴噴出所述液體,同時(shí)從霧化的射流任一側(cè)噴出空氣流,產(chǎn)生氣霧劑。攜帶氧化鋁粗砂的空 氣流以及攜帶氣霧劑的空氣流都集中于鈦試樣上。鈦試樣與所述噴嘴的距離保持在60毫 米內(nèi)。對各試樣的表面進(jìn)行4次傳遞。在去離子水中超聲波處理各試樣,各5分鐘。使用紙片瓊脂擴(kuò)散法(agar disc diffusion method),評(píng)估各試樣針對大腸桿菌 的抗菌活性。在37°C下,使來自儲(chǔ)備培養(yǎng)物的細(xì)菌在腦心浸液(brain heart infusion, BHI)瓊脂上生長16小時(shí),并使用分離菌落以將新鮮培養(yǎng)物接種于10毫升Luria肉湯中。 在37°C下再振蕩培育16小時(shí)后,用Mueller Hint0n(MH)肉湯稀釋這些培養(yǎng)物,使得在600 納米波長下光學(xué)密度(optical density,0D)為0.05。將350 ylt此細(xì)菌懸浮液劃線于含 有MH瓊脂的培養(yǎng)板上,達(dá)到4毫米深度。將用慶大霉素處理過的試樣放到瓊脂上,并倒置 培養(yǎng)板,并在37°C下培育24小時(shí)。結(jié)果顯示于圖10中。在慶大霉素試樣周圍看到明顯抑 制區(qū),表明慶大霉素已并入所述表面中,并且經(jīng)過處理過程仍保留活性。實(shí)例6
      用氧化鋁粗砂以及霧化的包含2克PTFE納米微粒和0. 2克銀納米微粒于100毫升乙 醇中的分散液,轟擊1厘米XI厘米工業(yè)純鈦試樣。氧化鋁的平均粒徑為100微米。使用 Vaniman噴鋼砂機(jī),通過孔徑為1毫米的碳化硅噴嘴將氧化鋁粗砂傳遞到表面。載氣是壓力 為5巴的空氣。使用噴漆器產(chǎn)生霧化的分散液。使用壓力為5巴的空氣流,經(jīng)由伯努利效 應(yīng),從儲(chǔ)集器中汲取分散于乙醇中的納米粒子。從噴嘴噴出分散液,同時(shí)從所述射流任一側(cè) 噴出空氣流,產(chǎn)生氣霧劑。攜帶氧化鋁粗砂的空氣流以及攜帶氣霧劑的空氣流都集中于鈦 試樣上。鈦試樣與所述噴嘴的距離保持在60毫米內(nèi)。對所述表面進(jìn)行4次傳遞。隨后,利用超聲波清洗試樣20分鐘。接著在空氣流下干燥表面。圖10和圖11是 在完成所有處理后獲得的氟Is和銀3d區(qū)各自的窄區(qū)掃描X射線光電子能譜。能譜清楚顯 示出試樣表面上存在PTFE和夾帶的銀。應(yīng)理解,盡管已經(jīng)提供某些技術(shù)實(shí)例,但視用于特定應(yīng)用的表面所需材料的特定 組合而定,可改變本發(fā)明的構(gòu)造和設(shè)計(jì)。因此,本發(fā)明不限于所述實(shí)施例,而且可針對同時(shí) 傳遞轟擊微粒和氣霧劑以提供表面涂層而改變構(gòu)造及細(xì)節(jié),其中所述涂層是由微粒與氣霧 劑的共同作用提供。引用的參考文獻(xiàn)
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      一種在表面上形成涂層的方法,所述方法包含將氣霧劑傳遞到所述表面,同時(shí)用一股或多股含有粒子的氣流轟擊所述表面,由此通過所述粒子撞擊所述表面與存在所述氣霧劑的共同作用,將所述氣流內(nèi)提供的所述涂層的前期材料轉(zhuǎn)化成所述涂層。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述粒子包含附著于材料外層的粒子,其中所述 材料外層部分地包含所述涂層的前期材料。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1至2所述的方法,其中所述粒子包含當(dāng)?shù)竭_(dá)所述表面時(shí)動(dòng)能為 0. 001皮焦耳或更高的轟擊粒子。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1至3所述的方法,其中使用以下一者或多者,通過載氣流將所述粒子 傳遞到所述表面干噴丸機(jī)、干噴砂機(jī)、砂輪、噴鋼砂機(jī)、噴砂機(jī)或微研磨噴砂機(jī)。
      5.根據(jù)權(quán)利要求3至4中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述轟擊粒子是彈丸、鋼砂或 其組合。
      6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述轟擊粒子是陶瓷粒子、金 屬粒子、金屬合金粒子、聚合物粒子或其組合。
      7.7. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述氣霧劑是通過霧化以 下一者或多者而產(chǎn)生a.液體b.溶液c.懸浮液d.凝膠或溶膠e.膠體。
      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其中所述氣霧劑含有所述涂層的前期材料。
      9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的方法,其中所述氣霧劑是由以下一者或多者產(chǎn)生 Bernoulli霧化器、壓力霧化器、雙流體霧化器、超聲波霧化器、改進(jìn)的噴霧干燥器、改進(jìn)的 噴涂機(jī)、噴槍、電噴霧器、同軸噴嘴組件和根據(jù)氣體透鏡原理操作的同軸噴嘴組件。
      10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述霧化器使用霧化氣體。
      11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述氣體具氧化性。
      12.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述氣體實(shí)質(zhì)上不含氧氣。
      13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法,其中所述氣體包含以下一者或多者a.含氮?dú)怏w,包括氨氣和氮?dú)鈈.惰性氣體,包括氦和氬c.含碳?xì)怏w,包括一氧化碳、二氧化碳和烴d.含硫氣體,包括一氧化硫、二氧化硫和三氧化硫e.含鹵素氣體f.氫氣。
      14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,其中所述表面包含金屬,并且所述氣體與所述表 面反應(yīng),形成氮化物、碳化物、硫化物、商化物、氫化物或其組合。
      15.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述前期材料包含以下一者或多者聚合物、陶瓷、玻璃、生物玻璃、金屬、金屬合金、活性劑、單體、離子、溶劑或有機(jī) 金屬絡(luò)合物。
      16.根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述前期材料包含聚合 物,所述聚合物包含以下一者或多者a.熱塑性聚合物b.熱固性塑料聚合物c.生物相容性聚合物d.殺生物或抑菌聚合物。
      17.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述前期材料包含選自以 下一者或多者的活性劑a.藥物b.抗生素c.抗再狹窄劑d.抗炎劑e.抗血栓劑f.蛋白質(zhì)g.寡肽h.膠體金屬或有機(jī)金屬物質(zhì)i.N-鹵胺j.四級(jí)離子。
      18.根據(jù)前述權(quán)利要求所述的方法,其中所述粒子和所述氣霧劑是由實(shí)質(zhì)上同一氣 流攜帶至所述表面。
      19.根據(jù)權(quán)利要求1至17中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述粒子和所述氣霧劑是 通過多股氣流導(dǎo)向所述表面上實(shí)質(zhì)上相同的區(qū)域。
      20.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述粒子和所述氣霧劑是 通過噴嘴組件導(dǎo)向所述表面。
      21.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法,其中所述噴嘴組件自動(dòng)移動(dòng),以符合線、表面的 輪廓;以關(guān)于至少一條軸旋轉(zhuǎn);或其組合。
      22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法,其中所述自動(dòng)操作是通過布置電動(dòng)機(jī)、步進(jìn)電動(dòng) 機(jī)、兩軸遙控裝置、三軸遙控裝置或其組合而提供。
      23.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述方法是應(yīng)用于實(shí)質(zhì)上與 周圍環(huán)境分開的小室或機(jī)柜中的表面。
      24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的方法,其中所述小室或機(jī)柜的環(huán)境保持不超過800°C的溫度。
      25.根據(jù)權(quán)利要求23或24所述的方法,其中所述小室或機(jī)柜并入或連接到以下一者或 多者a.過濾系統(tǒng)b.抽運(yùn)系統(tǒng)c.廢物儲(chǔ)集器d.滅菌設(shè)備。
      26.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的方法,其中涂布過的表面經(jīng)歷后續(xù)處 理以擴(kuò)大所述涂層的特性。
      27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的方法,其中所述后續(xù)處理是以下一者或多者a.從所述涂層中溶出材料以擴(kuò)大其形態(tài)b.將材料沉淀到所述涂層中或沉淀到所述涂層上c.微粒轟擊以將微粒埋入所述涂層中d.通過離子交換法再補(bǔ)充組分e.清洗處理以去除碎屑物,和或再補(bǔ)充活性劑f.極化處理,包括例如電或磁極化處理。
      28.根據(jù)權(quán)利要求26所述的方法,其中所述涂層是聚合物涂層,而且所述后續(xù)處理 包含用微粒轟擊所述涂層,由此將所述微粒埋入所述聚合物涂層中。
      29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的方法,其中所述微粒是活性劑。
      30.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述表面包含以下材料中 的一者或多者a.金屬或金屬合金b.陶瓷或玻璃c.聚合物。
      31.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述表面是醫(yī)療裝置的表
      32.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述表面是可植入醫(yī)療裝 置的表面。
      33.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述表面呈現(xiàn)殺生物性或 抑菌性。
      34.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述涂層包含載體基質(zhì)。
      35.根據(jù)權(quán)利要求34所述的方法,其中活性劑粘結(jié)到或吸附于所述載體基質(zhì)上。
      36.根據(jù)權(quán)利要求34所述的方法,其中活性劑是夾帶于所述載體基質(zhì)內(nèi)。
      37.根據(jù)權(quán)利要求35或36所述的方法,其中所述活性劑是以下一者或多者抗再狹 窄劑、免疫抑制劑、抗炎劑、抗癌劑、抗生素、抗血栓劑、蛋白質(zhì)、骨形態(tài)發(fā)生蛋白、酶、磷酸鈣 或寡肽。
      38.根據(jù)權(quán)利要求34至37中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述載體基質(zhì)含有以下一 者或多者磷酸鈣、二氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、硫酸鈣、生物玻璃、氧化鋯、穩(wěn)定氧化鋯、鑭系 元素氧化物、碳酸氫鈉或生物相容性聚合物。
      39.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述表面包含金屬,并且所 述表面在形成所述涂層之前或在形成所述涂層期間氮化。
      40.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的方法,其中所述涂層的前期材料含有 以下一者或多者a.鈣、磷、硫、鈦、釩、鎳、鋁、鋯、釔、硅、鉭、鉺、鑭、鉬、金或銀的離子或溶膠;b.有機(jī)金屬物質(zhì),包括鈣、磷、亞磷酸鹽、硫、鈦、釩、鎳、鋁、鋯、釔、硅、鉭、鉺、鑭、鉬、金或銀的羧酸鹽、醇鹽和酯;C.磷酸鈣、硫酸鈣、二氧化硅、二氧化硅玻璃、磷酸鈣玻璃、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、穩(wěn) 定氧化鋯、鑭系元素和貴金屬的氧化物、膠體金屬或金屬合金;d.抗再狹窄劑、免疫抑制劑、抗炎劑、抗癌劑、抗生素、抗血栓劑、蛋白質(zhì)、酶或寡肽;e.生物相容性聚合物,或生物相容性聚合物的溶膠。
      41.根據(jù)權(quán)利要求35或36所述的方法,其中所述載體基質(zhì)是以下一者或多者聚合 物、玻璃或陶瓷。
      42.根據(jù)權(quán)利要求41所述的方法,其中所述活性劑是以下一者或多者n-鹵胺部 分、胺、酰亞胺、酰胺、含有氮-氫鍵的聚合物、四級(jí)銨離子、四級(jí)锍離子、四級(jí)磷離子、有機(jī) 金屬物質(zhì)、膠體金屬或其組合。
      43.根據(jù)權(quán)利要求41所述的方法,其中所述活性劑是胺、酰胺、酰亞胺或含有氮-氫 鍵的聚合物中的一者或多者,并且通過將所述涂層暴露于含鹵素溶劑以在所述涂層中產(chǎn)生 氮-鹵素鍵,而使所述表面呈現(xiàn)殺生物性。
      44.根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法,其中所述含鹵素溶液是以下一者或多者次氯酸、 次溴酸、漂白劑、次氯酸鹽、高氯酸鹽、次溴酸鹽、高溴酸鹽、鹵化水溶液、二氯甲烷、二溴甲 烷或商烷烴溶液。
      45.一種具有涂布表面的產(chǎn)品,所述表面是由根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所 述的方法提供。
      46.根據(jù)權(quán)利要求45所述的產(chǎn)品,其中所述產(chǎn)品為可植入物體。
      47.根據(jù)權(quán)利要求46所述的可植入物體,其中所述物體是以下一者a.醫(yī)療裝置b.支架c.起搏器d.除纖顫器e.硬組織植入物f.導(dǎo)管。
      48.一種根據(jù)權(quán)利要求1至44中任一權(quán)利要求所述的方法制造的殺生物表面。
      49.一種殺生物表面,其上附著的聚合物涂層為至少0. 1微米厚,并且與所述表面 的粘結(jié)強(qiáng)度為至少1.5兆帕。
      50.根據(jù)權(quán)利要求49所述的殺生物表面,其中所述涂層含有以下一者或多者聚酰 胺-酰亞胺、聚酰胺、聚氨基甲酸酯、聚丙烯腈,或丙烯腈共聚物,側(cè)接胺、酰胺或酰亞胺基 團(tuán)的聚合物,并且其中通過將所述涂布表面暴露于含鹵素溶液,而使所述表面呈現(xiàn)或再呈 現(xiàn)殺生物性。
      51.根據(jù)權(quán)利要求50所述的殺生物表面,其中所述含鹵素溶液是以下一者或多者次 氯酸、次溴酸、漂白劑、次氯酸鹽、高氯酸鹽、次溴酸鹽、高溴酸鹽、商化水溶液、二氯甲烷、二 溴甲烷或商烷烴溶液。
      52.根據(jù)權(quán)利要求50或51所述的表面,其中所述含鹵素化合物的溶液是通過電化學(xué)方 式或電解方式產(chǎn)生。
      53.—種生物活性表面,其附著涂層為至少0. 1微米厚,并且與所述表面的粘結(jié)強(qiáng)度為至少1. 5兆帕,所述附著涂層包含聚合物和膠體金屬。
      54.根據(jù)權(quán)利要求53所述的生物活性表面,其中所述聚合物是選自以下一者聚四 氟乙烯或聚四氟乙烯衍生物、聚乙烯、聚丙烯酸系物、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亞胺或聚氨基 甲酸酯。
      55.根據(jù)權(quán)利要求53或54所述的生物活性表面,其中所述膠體金屬是銀、錫、鎳或其組I=I ο
      56.根據(jù)權(quán)利要求53至57中任一權(quán)利要求所述的表面,其中所述生物活性表面具有 殺生物性、抑菌性或其組合。
      57.一種可植入物體,其具有附著的多孔涂層,所述涂層包含載體基質(zhì)和活性劑。
      58.根據(jù)權(quán)利要求57所述的可植入物體,其中所述載體基質(zhì)是以下一者或多者磷酸 鈣、二氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、二氧化鈦、硫酸鈣、磷酸鈣玻璃、生物玻璃、氧化鋯、穩(wěn)定氧化 鋯、鑭系元素氧化物、碳酸氫鈉或生物相容性聚合物。
      59.根據(jù)權(quán)利要求57或58所述的可植入物體,其中所述活性劑是以下一者或多者抗 再狹窄劑、免疫抑制劑、抗炎劑、抗血栓劑、抗生素、抗癌劑、蛋白質(zhì)、骨形態(tài)發(fā)生蛋白、酶、磷 酸鈣或寡肽。
      60.根據(jù)權(quán)利要求57至59中任一權(quán)利要求所述的可植入物體,其中所述涂層為至少 0. 1微米厚,并且所述涂層中均勻分布有每立方毫米涂層介于1皮克與2毫克之間的活性 劑。
      61.根據(jù)權(quán)利要求57至60所述的可植入物體,其中所述物體是以下一者a.醫(yī)療裝置b.支架c.起搏器d.除纖顫器e.硬組織植入物f.導(dǎo)管。
      全文摘要
      本申請案涉及涂布表面的方法,并且提供一種在表面上形成涂層的方法。所述方法包含用具有足夠能量的粒子轟擊表面來去除表面材料。同時(shí),將氣霧劑傳遞到所述表面。所述粒子撞擊所述表面與存在所述氣霧劑的共同作用將有助于在所述表面上形成涂層。
      文檔編號(hào)B24C1/10GK101883663SQ200880118241
      公開日2010年11月10日 申請日期2008年10月16日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月16日
      發(fā)明者丹查·哈弗蒂, 布蘭登·肯尼迪 申請人:Hkpb科技有限公司
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