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      真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶的制作方法

      文檔序號(hào):3353583閱讀:290來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明與真空鍍膜旋轉(zhuǎn)靶有關(guān),特別與采用磁流體密封的真空鍍膜磁控濺射旋轉(zhuǎn) 靶有關(guān)。
      背景技術(shù)
      已有的真空鍍膜磁控濺射旋轉(zhuǎn)靶端頭密封采用的是普通的橡膠密封圈或迷宮型 密封圈,由于真空鍍膜磁控濺射旋轉(zhuǎn)靶工作時(shí)所用功率很大,電流也很大,發(fā)熱量也很大, 對(duì)旋轉(zhuǎn)靶用端頭中的密封件損傷很大,大大地降低了密封件的密封效果和密封件的使用壽 命,增加了真空鍍膜生產(chǎn)線停機(jī)檢修時(shí)間,增加了生產(chǎn)成本。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的目的是為了克服以上不足,提供一種密封效果好和密封件的使用壽命 長(zhǎng)、對(duì)密封件冷卻效果好、制造容易、生產(chǎn)成本低的真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶。本發(fā)明的目的是這樣來(lái)實(shí)現(xiàn)的本發(fā)明真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,包括旋轉(zhuǎn)靶管,位于旋轉(zhuǎn)靶管內(nèi)的 帶冷卻水通道的磁鋼組件,電源引入電極,裝于旋轉(zhuǎn)靶管至少一端上的旋轉(zhuǎn)靶用端頭,位于 旋轉(zhuǎn)靶用端頭中的支撐軸承,其特征是旋轉(zhuǎn)靶用端頭中有與磁鋼組件中冷卻水通道相通的 旋轉(zhuǎn)空心軸,磁流體密封件套在旋轉(zhuǎn)空心軸上并與旋轉(zhuǎn)空心軸緊密貼合,旋轉(zhuǎn)空心軸上有 與旋轉(zhuǎn)靶管連接接的卡端。將磁流體密封件引入旋轉(zhuǎn)靶用端頭中,并將磁流體密封件套在 旋轉(zhuǎn)空心軸上并與旋轉(zhuǎn)空心軸緊密貼合,使通過(guò)空心軸的冷卻水直接對(duì)磁流體密封件冷 卻,不但密封效果好,而且冷卻效果好,提高了磁流體密封件的使用壽命。上述的真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,采用內(nèi)表面有粘結(jié)劑的熱收縮膜將 磁鋼組件表面全包覆。磁鋼組件包括磁鋼、磁鋼座、冷卻水管長(zhǎng)期泡在冷卻水中,由于磁場(chǎng)、 電流等作用,產(chǎn)生電腐蝕,大大的縮短了磁鋼組件的使用壽命,已有的技術(shù)方案是用不銹鋼 管或套將磁鋼組件包覆,占用空間大且增加了磁鋼組件重量,由于密封不嚴(yán)防腐效果也不 好,而采用熱收縮膜,可將磁鋼組件表面緊密全包覆,隔氣、隔水,結(jié)構(gòu)緊湊,重量輕,防腐效 果很好。上述的真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,旋轉(zhuǎn)靶兩端均有旋轉(zhuǎn)靶用端頭,其 中一個(gè)旋轉(zhuǎn)靶用端頭中有冷卻水入口接口,另一個(gè)旋轉(zhuǎn)靶用端頭中有冷卻水出口接口和電 源引入電極。對(duì)于大面積的玻璃或薄膜進(jìn)行真空磁控濺射鍍膜,旋轉(zhuǎn)靶很長(zhǎng),兩端均有旋轉(zhuǎn) 靶用端頭作支撐,剛性好,密封效果好。上述的真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,旋轉(zhuǎn)靶一端為旋轉(zhuǎn)靶用端頭,端頭 中有冷卻水入口接口、冷卻水出口接口和電源引入電極。上述的旋轉(zhuǎn)靶另一端懸空布置或用支架或軸承支撐。旋轉(zhuǎn)靶一端有旋轉(zhuǎn)靶用端 頭,另一端懸空布置,可用在小面積的玻璃或薄膜進(jìn)行真空磁控濺射鍍膜,簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu),降低 成本。
      上述的真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,支撐軸承為徑向支撐軸承和/或軸 向支撐軸承。采用了軸向支撐軸承,旋轉(zhuǎn)靶可用于立式真空磁控濺射鍍膜機(jī)。上述的真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,旋轉(zhuǎn)空心軸上有帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)空心軸和 旋轉(zhuǎn)靶旋轉(zhuǎn)的皮帶或鏈條或齒輪機(jī)構(gòu)。上述的卡端與旋轉(zhuǎn)空心軸為一整體,將旋轉(zhuǎn)空心軸上的卡端與旋轉(zhuǎn)空心軸做成一 整體零件,結(jié)構(gòu)緊湊,旋轉(zhuǎn)靶管及端頭安裝方便。本發(fā)明真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,封水、封氣效果好,冷卻水通過(guò)旋轉(zhuǎn) 空心軸直接對(duì)磁流體密封件進(jìn)行冷卻,冷卻效果好,提高了磁流體密封件及旋轉(zhuǎn)靶的使用
      壽命ο


      圖1為本發(fā)明旋轉(zhuǎn)靶結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖1中A-A剖視圖。圖3為圖1中左端旋轉(zhuǎn)靶用端頭放大結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為圖1中右端旋轉(zhuǎn)靶用端頭放大結(jié)構(gòu)示意圖。圖5為本發(fā)明旋轉(zhuǎn)靶用于立式真空磁控濺射鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖。圖6為圖5中旋轉(zhuǎn)靶用端頭磁流體密封件結(jié)構(gòu)示意圖。圖7為圖5中旋轉(zhuǎn)靶用端頭磁流體密封件另一結(jié)構(gòu)示意圖。圖8為本發(fā)明旋轉(zhuǎn)靶用于立式真空磁控濺射鍍膜機(jī)另一結(jié)構(gòu)示意圖。圖9為本發(fā)明旋轉(zhuǎn)靶磁鋼組件表面全包覆熱收縮膜結(jié)構(gòu)示意圖。
      具體實(shí)施例方式實(shí)施例1 圖1、圖2、圖3、圖4給出了本發(fā)明實(shí)施例1結(jié)構(gòu)示意圖。參見圖1,本發(fā)明旋轉(zhuǎn)靶 包括有冷水通道17的磁鋼組件1,旋轉(zhuǎn)靶管2,電源引入電極3,帶冷卻水入口接口 9的左端 旋轉(zhuǎn)靶用端頭4,帶冷卻水出口接口 10的右端旋轉(zhuǎn)靶用端頭5,支撐軸承11。旋轉(zhuǎn)靶端頭 4、5中采用磁流體密封件6密封。旋轉(zhuǎn)靶用端頭4、5中有與冷卻水通道相通的通冷卻水對(duì) 磁流體密封件冷卻的旋轉(zhuǎn)空心軸7,磁流體密封件6套在旋轉(zhuǎn)空心軸7上并與旋轉(zhuǎn)空心軸緊 密貼合在一起。旋轉(zhuǎn)空心軸上有與旋轉(zhuǎn)靶管連接的卡端8,卡端8與旋轉(zhuǎn)空心軸7做成一整 體零件。左端旋轉(zhuǎn)靶用端頭4有帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)空心軸和旋轉(zhuǎn)靶旋轉(zhuǎn)的皮帶機(jī)構(gòu)12。將磁流體密 封件引入旋轉(zhuǎn)靶用端頭中,并將磁流體密封件套在旋轉(zhuǎn)空心軸上并與旋轉(zhuǎn)空心軸緊密貼合 在一起,使通過(guò)空心軸的冷卻水直接對(duì)磁流體密封件冷卻,不但密封效果好,而且冷卻效果 好,提高了磁流體密封件及旋轉(zhuǎn)靶的使用壽命,將旋轉(zhuǎn)空心軸上的卡端與旋轉(zhuǎn)空心軸做成 一整體零件,結(jié)構(gòu)緊湊,旋轉(zhuǎn)靶管及端頭安裝方便。實(shí)施例2 圖5、圖6、圖7給出了本實(shí)施例2圖。本實(shí)施例2基本與實(shí)施例1同,不同處是在 旋轉(zhuǎn)靶用端頭中采用了軸向支撐軸承13,旋轉(zhuǎn)靶用于立式真空磁控濺射鍍膜機(jī),旋轉(zhuǎn)靶在 濺射室16中由靶安裝架15固定,電機(jī)14通過(guò)皮帶機(jī)構(gòu)12帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)空心軸和旋轉(zhuǎn)靶旋轉(zhuǎn)。實(shí)施例3
      圖8給出了本實(shí)施例3圖。本實(shí)施例3基本與實(shí)施例2同,不同處是旋轉(zhuǎn)靶一端 有旋轉(zhuǎn)靶用端頭,另一端懸空布置,可用在小面積的玻璃或薄膜進(jìn)行真空磁控濺射鍍膜,簡(jiǎn) 化結(jié)構(gòu),降低成本。實(shí)施例4 圖9給出了本實(shí)施例4圖。本實(shí)施例4基本與實(shí)施例1同。不同處是采用內(nèi)表面 有粘結(jié)劑的熱收縮膜14將磁鋼組件1表面全包覆。磁鋼組件包括磁鋼15、磁鋼座16、冷卻 水通道17長(zhǎng)期泡在冷卻水中,由于磁場(chǎng)、電流等作用,產(chǎn)生電腐蝕,大大的縮短了磁鋼組件 的使用壽命,已有的技術(shù)方案是用不銹鋼管或套將磁鋼組件包覆,占用空間大且增加了磁 鋼組件重量,由于密封不嚴(yán)防腐效果也不好,而采用熱收縮膜,可將磁鋼組件表面緊密全包 覆,隔氣、隔水,結(jié)構(gòu)緊湊,重量輕,防腐效果很好。上述各實(shí)施例是對(duì)本發(fā)明的上述內(nèi)容作進(jìn)一步的說(shuō)明,但不應(yīng)將此理解為本發(fā)明 上述主題的范圍僅限于上述實(shí)施例。凡基于上述內(nèi)容所實(shí)現(xiàn)的技術(shù)均屬于本發(fā)明的范圍。
      權(quán)利要求
      1.真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,包括旋轉(zhuǎn)靶管,位于旋轉(zhuǎn)靶管內(nèi)的帶冷卻水 通道的磁鋼組件,電源引入電極,裝于旋轉(zhuǎn)靶管至少一端上的旋轉(zhuǎn)靶用端頭,位于旋轉(zhuǎn)靶用 端頭中的支撐軸承,其特征在于旋轉(zhuǎn)靶用端頭中有與磁鋼組件中冷卻水通道相通的旋轉(zhuǎn)空 心軸,磁流體密封件套在旋轉(zhuǎn)空心軸上并與旋轉(zhuǎn)空心軸緊密貼合,旋轉(zhuǎn)空心軸上有與旋轉(zhuǎn) 靶管連接接的卡端。
      2.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,其特征在于采用內(nèi)表面 有粘結(jié)劑的熱收縮膜將磁鋼組件表面全包覆。
      3.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,其特征在于旋轉(zhuǎn)靶管兩 端分別有旋轉(zhuǎn)靶用端頭,其中一個(gè)旋轉(zhuǎn)靶用端頭中有冷卻水入口接口,另一個(gè)旋轉(zhuǎn)靶用端 頭中有冷卻水出口接口和電源引入電極。
      4.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,其特征在于旋轉(zhuǎn)靶一端 有旋轉(zhuǎn)靶用端頭,旋轉(zhuǎn)靶用端頭中有冷卻水入口接口、冷卻水出口接口和電源引入電極。
      5.如權(quán)利要求4所述的真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,其特征在于旋轉(zhuǎn)靶另一 端懸空布置或用支架或軸承支撐。
      6.如權(quán)利要求1 5之一所述的真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,其特征在于支 撐軸承為徑向支撐軸承和/或軸向支撐軸承。
      7.如權(quán)利要求1 5之一所述的真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,其特征在于旋 轉(zhuǎn)空心軸上有帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)空心軸和旋轉(zhuǎn)靶旋轉(zhuǎn)的皮帶或鏈條或齒輪機(jī)構(gòu)。
      8.如權(quán)利要求1 5之一所述的真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,其特征在于卡 端與旋轉(zhuǎn)空心軸為一整體。
      全文摘要
      本發(fā)明提供了一種真空鍍膜磁控濺射磁流體密封旋轉(zhuǎn)靶,包括旋轉(zhuǎn)靶管,位于旋轉(zhuǎn)靶管內(nèi)的帶冷卻水通道的磁鋼組件,電源引入電極,裝于旋轉(zhuǎn)靶管至少一端上的旋轉(zhuǎn)靶用端頭,位于旋轉(zhuǎn)靶用端頭中的支撐軸承,其特征是旋轉(zhuǎn)靶用端頭中有與磁鋼組件中冷卻水通道相通的旋轉(zhuǎn)空心軸,磁流體密封件套在旋轉(zhuǎn)空心軸上并與旋轉(zhuǎn)空心軸緊密貼合,旋轉(zhuǎn)空心軸上有與旋轉(zhuǎn)靶管連接的卡端。本發(fā)明旋轉(zhuǎn)靶磁控濺射面積大,端頭封水、封氣效果好,冷卻水通過(guò)旋轉(zhuǎn)空心軸直接對(duì)磁流體密封件進(jìn)行冷卻,冷卻效果好。
      文檔編號(hào)C23C14/35GK102108489SQ200910263570
      公開日2011年6月29日 申請(qǐng)日期2009年12月25日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月25日
      發(fā)明者甘國(guó)工 申請(qǐng)人:甘國(guó)工
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