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      一種柔性薄膜太陽電池用光吸收層材料及其制備方法

      文檔序號:3365868閱讀:158來源:國知局
      專利名稱:一種柔性薄膜太陽電池用光吸收層材料及其制備方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明屬于光電材料與新能源技術(shù)領(lǐng)域,涉及用作柔性薄膜太陽電池光吸收層的 一種新型化合物半導(dǎo)體薄膜材料及其制備方法。
      背景技術(shù)
      發(fā)展太陽電池是解決日益惡化的能源危機和環(huán)境污染的有效途徑。各類太陽電池 中,CuIn1^xGaxSe2(CIGS)薄膜太陽電池以其優(yōu)良的光伏特性被認為是最重要和最具發(fā)展前 景的太陽電池之一。然而,CuIrvxGaxSe2化合物中的In和Ga是稀散金屬,價格昂貴且儲量有 限。其中,In具有稀缺性與戰(zhàn)略性特點,目前In的全球產(chǎn)量僅約為300t/a,主要用于平板顯 示鍍膜、信息材料、超導(dǎo)材料、高性能合金等眾多高科技領(lǐng)域,這些領(lǐng)域?qū)n的需求正不斷 增長;即使將In全部用于太陽電池領(lǐng)域,如此小的產(chǎn)量也只能制造出15GWc的CuIrvxGaxSe2 太陽電池組件。因此,按當(dāng)前技術(shù)估算,20年內(nèi)CIGS薄膜太陽電池的發(fā)展將會由于In的 短缺而受到嚴重的制約。除In以外,Ga的供應(yīng)同樣不容樂觀。Ga的豐度雖然并不低(高 于“五金”之一的Sn),但在自然界的分布極其分散,幾乎沒有單獨存在的Ga礦,因而提取困 難。因此,從降低成本、節(jié)約資源和保護環(huán)境等角度來看,探尋具有廉價與環(huán)保特點的新型 光吸收層薄膜材料來替代CuIrvxGaxSe2已成為擺在我們面前的重要課題。必須指出的是,為了實現(xiàn)太陽電池的大規(guī)模實際應(yīng)用,從基底材料選擇來看,采用 柔性基底來替代傳統(tǒng)的剛性基底,可以擴大電池的應(yīng)用領(lǐng)域,而且可以大大降低成本?;?選擇要符合許多物理化學(xué)性能,以能夠和吸收層材料相匹配為原則,符合條件的有聚亞酰 胺、不銹鋼箔、鈦箔、鉬箔,其中聚亞酰胺是有機物,不導(dǎo)電,因此還需沉積一層導(dǎo)電電極即 鉬背接觸層;從光吸收層材料來看,其光吸收層材料除了要求廉價與環(huán)保外,還應(yīng)當(dāng)具備能 與CuIrvxGaxSe2相比擬的優(yōu)良性能,包括合適(1. 2 1. 5eV)且可調(diào)的帶隙,可見光范圍 內(nèi)較大的光吸收系數(shù),高的電子遷移率,特別是對缺陷和晶界具有較好的電學(xué)容忍度等。根 據(jù)能帶結(jié)構(gòu)與缺陷理論,在以CuIrvxGaxSe2為代表的黃銅礦結(jié)構(gòu)硫?qū)倩衔锏闹苽溥^程中,
      成分偏離理想化學(xué)計量所引起的缺陷和晶格失配主要是由銅空位_ (由于Cu3d-S3p或 Se4p雜化態(tài)形成反鍵價帶,_形成能小)和電荷補償缺陷靜電誘導(dǎo)形成)組成
      的缺陷對(2 _+iiyii)。這種缺陷對是電惰性的,不會對材料的電學(xué)性能產(chǎn)生顯著影響,所
      以CuIni_xGaxSe2等硫?qū)倩衔飳Ρ菊魅毕蒿@示出極大的電學(xué)容忍度(濃度可高達)。但 由于稀有金屬的銦、鎵的使用明顯限制了其應(yīng)用領(lǐng)域,如何避免使用或降低其使用量也是
      一項重要課題。第一種替代方式是采用兩種不同族元素組成等電子偶來替代In和Ga。先前研 究較多的是采用個IIB族原子(Zn或Cd)和個IVA族或IVB族原子(Sn、Ge、Si、 &或Ti)替代1個In原子?!皬念^計算”表明,在這些可能化合物中只有Cu2ZnSnS4或 CuZna5Sna5S2 (簡稱CZTS,Eg = 1. 45eV)最適合用作太陽電池光吸收層。然而,這種材料制 備過程中,除了需要控制CU/(Zn+Sn)原子配比外,更重要的是必須嚴格控制Zn/Sn原子配比。這是因為Zn2+和Sn4+不等價,材料的電學(xué)性能對Zn/Sn原子配比極為敏感,當(dāng)存在十 分微小的化學(xué)計量偏離時,所產(chǎn)生的微量第二相將使器件的轉(zhuǎn)化效率迅速下降。經(jīng)過近20 年的研究與發(fā)展,目前Cu2ZnSnS4太陽電池的最高效率還只有5. 74%。因此,尋找新的等電 子偶來替代三價In仍然是一項艱巨的任務(wù);第二種替代方式是采用廉價的IIIA族元素Al 來等價替代In,因為形成的CuAlSe2禁帶寬度過大(Eg = 2. 67eV),因此需要適當(dāng)?shù)牟捎肁l 原子部分替代In元素以求得到最佳帶隙,這樣可以減少In的使用。研究證明,采用鋁原子部分替代銦原子的CuIrvxAl具(M = Se, S,Te)黃銅礦系 列化合物中的CuIni_xAlxSe2(0<X< 1)薄膜(簡稱CIAS薄膜)具有優(yōu)良的光學(xué)性質(zhì), 由于CuInSe2和CuAlSe2的禁帶寬度分別為1. 05eV和2. 67eV,且CuIn1^xAlxM2的禁帶寬 度主要取決于第三主族金屬元素的性質(zhì),故CuIni_xAlxSe2的禁帶寬度在1. 05 2. 67eV 范圍內(nèi)° J. L0pez_Garci a 等(J. Lopez-Garci a, C. Maffiotte, C. Guillen, ffide-bandgap CuIn1^AlxSe2 thin films deposited on transparent conducting oxides[J]. Solar Energy Materials & Solar Cells 2010,94(7) :1263_1269.)用分布蒸發(fā)法制備出了 0. 7 < χ < 0. 9的CIAS薄膜,測得禁帶寬度為1. 95 2. 25eV,并通過XRD技術(shù)確證了 CuIn1^xAlxSe2 (0 < χ < 1)為具有很強的(112)擇優(yōu)生長的黃銅礦結(jié)構(gòu)。但是制備薄膜太陽 電池用的光吸收層材料理論最優(yōu)禁帶寬度應(yīng)該在1.50eV左右,因此我們希望制備出禁帶 寬度接近1. 50eV的CIAS薄膜。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的目的是提供一種柔性薄膜太陽電池的光吸收層的廉價、環(huán)保且具有優(yōu) 良光電性能的薄膜材料及其制備方法。根據(jù)能帶工程原理,通過成分的控制,當(dāng)CIAS薄膜中銦原子在更大的范圍內(nèi)變 化時其禁帶寬度可在1. 05 1. 95eV范圍內(nèi)連續(xù)調(diào)節(jié),本發(fā)明的薄膜材料采用鋁原子部 分替代銦原子的Cu(InxAl1JM2(M = Se, S,Te)黃銅礦系列化合物中的Cu(InxAly) Sez(0. 8
      <(x+y) < 1.2,1.8 < ζ < 2.5)薄膜,具有以下特點1、優(yōu)良的光學(xué)性質(zhì)本發(fā)明的 Cu(InxAly)Sez(0.8< (x+y) < 1. 2,1. 8 < ζ < 2. 5) 薄膜的禁帶寬度在1. 05 1. 90eV范圍內(nèi)連續(xù)調(diào)節(jié),更適合用作薄膜太陽電池用的光吸收 層材料;2、優(yōu)良電學(xué)性質(zhì)由于Al和In是同族等價替代,不會導(dǎo)致晶格的破壞,就如同 CIGS中的Ga部分替代In,不同的χ取值不僅不會對材料電學(xué)性能造成不利影響,反而可以 調(diào)整材料的禁帶寬度或形成梯度帶隙,便于更充分的吸收太陽光。而且Cu (InxAly) Sez (0.8
      <(x+y) < 1.2,1.8 < ζ < 2. 5)也為黃銅礦結(jié)構(gòu),CuInSe2 及 Cu(In1^xGax)Se2 優(yōu)良的電學(xué) 性質(zhì)已被大家所證實,區(qū)別僅僅在于用同一主族元素Al部分替代In,因此,CIAS薄膜獲得 了與CIGS薄膜相似的優(yōu)良電學(xué)性質(zhì)和缺陷結(jié)構(gòu),如V01 ;3、在光電轉(zhuǎn)化方面,通過對組成為CIAS薄膜的晶體進行光電化學(xué)測試,發(fā)現(xiàn)材料 為P型半導(dǎo)體,且光、暗電流之比的數(shù)量級相當(dāng)高,這意味著CIAS薄膜材料具有良好的光伏 應(yīng)用潛力;4、CIAS薄膜材料還有一巨大優(yōu)勢,就是降低了稀散元素的使用,Al原料廉價易 得,且對環(huán)境無危害;
      優(yōu)選地,Cu(InxAly) Sez (0. 8 < (x+y) < 1. 2,1. 8 < ζ < 2. 5)半導(dǎo)體薄膜中 χ 的范 圍在 0. 32 < χ < 0. 5。本發(fā)明的Cu (InxAly) Sez(0. 8 < (x+y) < 1. 2,1. 8 < ζ < 2. 5)半導(dǎo)體薄膜材料的 制備方法,包括如下步驟1)制備合金預(yù)制層,利用磁控濺射法,在柔性基底上沉積Cu-In-Al合金預(yù)制層, 所述的預(yù)制層的原子配比Cu (Ιη+Α1) =1:1;2)硒化處理,將所述Cu-In-Al合金預(yù)制層置于硒化處理真空室內(nèi),加熱至350 450°C,加熱硒源至150 300°C,通入惰性氣體作為保護氣和運輸硒蒸氣的載氣,硒原子 與預(yù)制層中的金屬原子發(fā)生化合反應(yīng),0. 1 3小時后,得到Cu(InxAly)Sez(0.8 < (x+y)
      <1.2,1.8 < ζ < 2. 5)光吸收層薄膜;優(yōu)選地,所述步驟1)中采用Cu靶、In靶和Al靶同時或先后濺射,在柔性基底上 沉積Cu-In-Al合金預(yù)制層,或采用CuIn合金靶和CuAl合金靶同時或先后濺射,在基底上 沉積Cu-In-Al合金預(yù)制層;或采用CuInAl合金靶濺射,在基底上沉積Cu-In-Al合金預(yù)制 層;所述步驟2)中所述惰性氣體包括Ar或N2 ;優(yōu)選地,所述的CuIn合金靶和CuAl合金靶中的Cu與In或Al的原子配比 1 (0 1);所述的CuInAl合金靶中的原子配比Cu (In+Al) =1:1;優(yōu)選地,Cu(InxAly) Sez (0. 8 < (x+y) < 1. 2,1. 8 < ζ < 2. 5)光吸收層薄膜中 χ 的 范圍在 0. 32 < χ < 0. 5 ;優(yōu)選地,所述的磁控濺射法的濺射工藝參數(shù)包括所述柔性基底至所述靶材的間 距為2. 5 15cm,濺射氣體為Ar,濺射氣壓0. 2 8Pa,各靶的濺射功率為70 175W,濺射 時基底溫度為室溫 450°C ;所述的Cu-In-Al合金預(yù)制層厚度為0. 5 5 μ m ;所述柔性基底包括聚亞酰胺/Mo箔(PI/Mo)、不銹鋼箔、Mo箔、Al箔、Au箔、Cu箔 中的任意一種;所述的合金預(yù)制層和硒源的加熱方式為電阻接觸式熱源加熱、光輻照加熱、電阻 接觸式熱源和光輻照協(xié)同加熱的任意一種;所述合金預(yù)制層硒化的硒源采用固態(tài)源形式,處理環(huán)境為惰性氣體下的密閉真空 腔體。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)對比的有益效果是本發(fā)明的CIAS薄膜材料采用廉價易得的 Al部分替代昂貴的In,降低了成本,更進一步的Cu (InxAly) Sez (0. 8 < (x+y) < 1. 2,1. 8 < ζ
      <2. 5)半導(dǎo)體薄膜中χ的范圍在0. 32 < χ < 0. 5,其禁帶寬度在1. 05 1. 95eV范圍內(nèi)連 續(xù)調(diào)節(jié),具有更好的光電學(xué)性能;本發(fā)明采用磁控濺射法得到銅銦鋁合金預(yù)制層后,再采用 硒化法制備得到柔性薄膜太陽電池的光吸收層材料,即先采用磁控濺射技術(shù)在基底上均勻 沉積Cu-In-Al合金預(yù)制層,通過精確控制濺射工藝參數(shù)來控制預(yù)制層中各元素的配比,然 后將預(yù)制層置于硒氣氛中熱處理,通過調(diào)節(jié)基底溫度和硒源溫度(控制硒氣氛的壓強),以 提高制備CIAS薄膜的均勻性和成分可控性,并確保良好的工藝重現(xiàn)性、高效率和高質(zhì)量, 本發(fā)明采用柔性基底,相應(yīng)的其熱處理溫度較低,可以降低能耗,相對與現(xiàn)有的剛性基地來 說更易于大面積沉積和工業(yè)化生產(chǎn)等優(yōu)勢。本發(fā)明所述的材料及其制備方法有望解決當(dāng)前太陽電池發(fā)展所遇到的資源、環(huán)境 等系列問題,為太陽電池的發(fā)展開辟新的途徑。


      附圖為CIAS薄膜的XRD衍射圖譜。
      具體實施例方式下面結(jié)合實施例,對本發(fā)明作進一步詳細說明,但不得將這些實施例解釋為對本 發(fā)明保護范圍的限制。實施例一在Mo箔上采用Cu靶、In靶和Al靶同時濺射沉積形成厚度為1. 5 μ m的Cu-In-Al 合金預(yù)制層,濺射工藝參數(shù)為基底至靶材間距為6cm,本底真空度為5X10_4Pa,濺射氣體 為99. 99% Ar,濺射氣壓lPa,Cu和In靶的濺射功率為75W,A1靶濺射功率為125W,濺射時 基底溫度為室溫。將沉積的Cu-In-Al合金預(yù)制層放入固態(tài)源硒化處理真空室內(nèi),采用電阻 接觸式熱源加熱至500°C ;同時采用電阻接觸式熱源加熱固態(tài)硒源至200°C,并通入Ar作為 保護氣體和運輸硒蒸氣的載氣,硒原子與預(yù)制層中的金屬原子發(fā)生化合反應(yīng),1小時后,最 終得到化學(xué)計量組成為CuIntl.35Ala65Se2.12的銅銦鋁硒太陽電池光吸收層,其光電等性能參
      數(shù)如下
      權(quán)利要求
      1.一種柔性薄膜太陽電池的光吸收層材料,其特征在于所述光吸收層材料為 CuIrvxAlxM2 (M = Se,S,Te)系列化合物中的 Cu (InxAly) Sez (0. 8 < (x+y) < 1. 2,1. 8 < z <2. 5)半導(dǎo)體薄膜。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性薄膜太陽電池的光吸收層材料,其特征在于所述 Cu (InxAly) Sez (0. 8 < (x+y) < 1. 2,1. 8 < ζ < 2. 5)半導(dǎo)體薄膜中 χ 的范圍在 0.32 < χ<0. 5。
      3.—種權(quán)利要求1所述的柔性薄膜太陽電池的光吸收層材料的制備方法,其特征在于 包括如下步驟1)制備合金預(yù)制層,利用磁控濺射法,在柔性基底上沉積Cu-In-Al合金預(yù)制層,所述 的合金預(yù)制層的原子配比Cu (Ιη+Α1) =1:1;2)硒化處理,將所述Cu-In-Al合金預(yù)制層置于硒化處理真空室內(nèi),加熱至350 450°C,加熱硒源至150 30(TC,通入惰性氣體作為保護氣和運輸硒蒸氣的載氣,硒原子 與預(yù)制層中的金屬原子發(fā)生化合反應(yīng),0. 1 3小時后,得到Cu (InxAly) Sez(0. 8 < (x+y)<1.2,1.8 < ζ < 2. 5)光吸收層薄膜。
      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光吸收層材料的制備方法,其特征在于所述步驟1)中采用Cu靶、In靶和Al靶同時或先后濺射,在柔性基底上沉積Cu-In-Al 合金預(yù)制層,或采用CuIn合金靶和CuAl合金靶同時或先后濺射,在基底上沉積Cu-In-Al 合金預(yù)制層;或采用CuInAl合金靶濺射,在基底上沉積Cu-In-Al合金預(yù)制層;所述步驟2) 中所述惰性氣體包括Ar或Ν2。
      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光吸收層材料的制備方法,其特征在于所述的CuIn合金靶 和CuAl合金靶中的Cu與In或Al的原子配比1 (0 1);所述的CuInAl合金靶中的原 子配比 Cu (Ιη+Α1) =1:1。
      6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光吸收層材料的制備方法,其特征在于所述Cu(InxAly) Sez(0. 8 < (x+y) < 1. 2,1. 8 < ζ < 2. 5)光吸收層薄膜中 χ 的范圍在 0. 32 < χ < 0. 5。
      7.根據(jù)權(quán)利要求3-6任一權(quán)利要求所述的光吸收層材料的制備方法,其特征在于 所述的磁控濺射法的濺射工藝參數(shù)包括所述柔性基底至所述靶材的間距為2. 5 15cm,濺射氣體為Ar,濺射氣壓0. 2 8Pa,各靶的濺射功率為70 175W,濺射時基底溫度 為室溫 450°C ;所述的Cu-In-Al合金預(yù)制層厚度為0. 5 5 μ m。
      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光吸收層材料的制備方法,其特征在于所述柔性基底包括聚亞酰胺/Mo箔、不銹鋼箔、Mo箔、Al箔、Au箔、Cu箔中的任意一種。
      9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光吸收層材料的制備方法,其特征在于所述的合金預(yù)制層 和硒源的加熱方式為電阻接觸式熱源加熱、光輻照加熱、電阻接觸式熱源和光輻照協(xié)同加 熱的任意一種。
      10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的柔性薄膜太陽電池的光吸收層材料的制備方法,其特征在 于所述合金預(yù)制層硒化的硒源采用固態(tài)源形式,處理環(huán)境為惰性氣體下的密閉真空腔體。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及一種柔性薄膜太陽電池用光吸收層材料及其制備方法。所述光吸收層材料為黃銅礦結(jié)構(gòu)Cu(InxAl1-x)M2(M=Se,S,Te)系列化合物中的Cu(InxAly)Sez(0.8<(x+y)<1.2,1.8<z<2.5)半導(dǎo)體薄膜。其制備方法是利用磁控濺射法,在柔性基底上沉積Cu-In-Al合金預(yù)制層,然后將所述Cu-In-Al合金預(yù)制層置于硒化處理真空室內(nèi)進行硒化處理。本發(fā)明所述的材料及其制備方法有望解決當(dāng)前太陽電池發(fā)展所遇到的資源短缺與環(huán)境污染等問題,為太陽電池的發(fā)展應(yīng)用開辟新的途徑。
      文檔編號C23C14/35GK102005487SQ20101050108
      公開日2011年4月6日 申請日期2010年10月9日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月9日
      發(fā)明者劉萍 申請人:深圳丹邦投資集團有限公司
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