專利名稱：一種環(huán)形氣囊拋光磨頭的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一種環(huán)形氣囊拋光磨頭
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及拋光技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種環(huán)形氣囊拋光磨頭。背景技術(shù)：
隨著光電子技術(shù)的發(fā)展，在新型的具有高性能、高精密、高集成的光電子系統(tǒng)中， 采用光學(xué)玻璃和微晶玻璃等硬脆材料制造的元器件應(yīng)用不斷增多，而且要求具有很高的面形精度和超光滑的表面，因此高精度的鏡面拋光技術(shù)是必不可少的。在過去幾十年里，出現(xiàn)了許多拋光方法，如浮法拋光、浴法拋光、磁流變拋光、機(jī)械化學(xué)拋光等等，以適應(yīng)各種光學(xué)材料超高精度、超光滑、無損傷的加工。然而，該等拋光方法應(yīng)用光學(xué)玻璃或微晶玻璃等硬脆材料制造的元器件時(shí)，效果不佳。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種環(huán)形氣囊拋光磨頭，以解決上述技術(shù)問題。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案一種環(huán)形氣囊拋光磨頭，包括拋光布、密封膜和基體，所述密封膜固定于所述基體上，所述密封膜與基體之間形成密封氣腔，所述拋光布設(shè)置于所述密封膜外表面。所述環(huán)形氣囊拋光磨頭還包括充氣閥，所述充氣閥連通所述密封氣腔。所述環(huán)形氣囊拋光磨頭還包括內(nèi)壓圈、螺栓和外壓圈，所述密封膜通過內(nèi)壓圈、螺栓和外壓圈固定于所述基體上。所述密封氣腔呈環(huán)形。所述密封氣腔中充有氣體。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)本實(shí)用新型一種環(huán)形氣囊將密封膜固定于基體表面，使密封膜與基體表面形成密封氣腔，該密封氣腔中充有一定量氣體使密封膜外張形成環(huán)形氣囊，密封膜外表面貼上一層拋光布，拋光布與工件接觸并產(chǎn)生相對運(yùn)動時(shí)，通過拋光液的作用，達(dá)到拋光玻璃表面的目的，該種環(huán)形氣囊拋光磨頭可安裝在光學(xué)零件銑磨機(jī)上，按照斜截圓原理實(shí)現(xiàn)平面、球面等光學(xué)玻璃或微晶玻璃等硬脆材料的高精度面形的拋光。

圖1為本實(shí)用新型一種環(huán)形氣囊拋光磨頭的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)描述。請參閱圖1所示，本實(shí)用新型一種環(huán)形氣囊拋光磨頭包括拋光布1、內(nèi)壓圈2、螺栓 3、密封膜4、外壓圈5、基體6、充氣閥7和密封圈8。密封膜4外覆蓋有拋光布1，拋光布1和密封膜4通過內(nèi)壓圈2、螺栓3和外壓圈5固定于基體6頂部，充氣閥7通過密封圈8固定于基體6底部。密封膜4與基體6之間形成密封氣腔，當(dāng)通過充氣閥7往密封氣腔充入氣體，拋光布1形成柔性環(huán)形凸起氣冠，并可通過控制氣體的輸入量來控制氣冠的壓力。密封氣腔中沖完氣體后形成環(huán)形的柔性氣囊拋光磨頭，該拋光磨頭與工件接觸并產(chǎn)生相對運(yùn)動時(shí)，通過拋光液的作用，達(dá)到拋光玻璃表面的目的，該種環(huán)形氣囊拋光磨頭能夠?qū)崿F(xiàn)平面、球面等光學(xué)元件的高精度面形的拋光。
權(quán)利要求1.一種環(huán)形氣囊拋光磨頭，其特征在于包括拋光布(1)、密封膜(4)和基體(6)，所述密封膜(4)固定于所述基體(6)上，所述密封膜(4)與基體(6)之間形成密封氣腔，所述拋光布(1)設(shè)置于所述密封膜(4)外表面。
2.如權(quán)利要求1所述一種環(huán)形氣囊拋光磨頭，其特征在于所述環(huán)形氣囊拋光磨頭還包括充氣閥(7)，所述充氣閥(7)連通所述密封氣腔。
3.如權(quán)利要求1所述一種環(huán)形氣囊拋光磨頭，其特征在于所述環(huán)形氣囊拋光磨頭還包括內(nèi)壓圈O)、螺栓⑶和外壓圈(5)，所述密封膜(4)通過內(nèi)壓圈O)、螺栓(3)和外壓圈(5)固定于所述基體(6)上。
4.如權(quán)利要求1所述一種環(huán)形氣囊拋光磨頭，其特征在于所述密封氣腔呈環(huán)形。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述一種環(huán)形氣囊拋光磨頭，其特征在于所述密封氣腔中充有氣體。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種環(huán)形氣囊拋光磨頭，包括拋光布、密封膜和基體，所述密封膜固定于所述基體上，所述密封膜與基體之間形成密封氣腔，所述拋光布設(shè)置于所述密封膜外表面。本實(shí)用新型一種環(huán)形氣囊將密封膜固定于基體表面，使密封膜與基體表面形成密封氣腔，該密封氣腔中充有一定量氣體使密封膜外張形成囊，密封膜外表面貼上一層拋光布，拋光布與工件接觸并產(chǎn)生相對運(yùn)動時(shí)，通過拋光液的作用，達(dá)到拋光玻璃表面的目的，該種環(huán)形氣囊拋光磨頭能夠?qū)崿F(xiàn)平面、球面等光學(xué)玻璃或微晶玻璃等硬脆材料的高精度面形的拋光。
文檔編號B24B41/04GK202088093SQ20102058434
公開日2011年12月28日 申請日期2010年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月29日
發(fā)明者王新海 申請人:西安北方捷瑞光電科技有限公司