專利名稱：采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法。
背景技術(shù)：
先前技術(shù)所鍍氧化錫膜主要用于制備導(dǎo)電薄膜、ITO膜，膜層具有低表面電阻、高 透光率、低比電阻值等特性、圖案加工性、電化學(xué)安定性。ITO膜主要應(yīng)用在觸摸元件、透明 加熱元件、抗靜電膜、電磁波防護(hù)膜、太陽能電池之透明電極、防反光塗佈及熱反射鏡等電 子、光學(xué)及光電裝置上。但是現(xiàn)有的鍍膜工藝其鍍膜顏色過于單一，色彩是通過色粉或顏料 簡單調(diào)色而成，時(shí)間長久后，易褪色，而且不能達(dá)到膜層表面的不導(dǎo)電，會影響電子產(chǎn)品的 射頻通訊。雖然有些鍍膜工藝克服了光反射差，易褪色的問題，但是其工藝非常復(fù)雜，例如 申請?zhí)枮?9246379. 3的專利，其使用真空磁控濺射法生產(chǎn)紫色鍍膜玻璃，其紫色很鮮艷， 顏色濃淡可隨意調(diào)節(jié)，可見光反射率和透射率可隨意調(diào)節(jié)。但是其膜層結(jié)構(gòu)為4層膜復(fù)合， 工藝較為復(fù)雜，各膜層厚度變化均會影響產(chǎn)品的質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明的目的是提供一種采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法，能實(shí)現(xiàn)所 鍍膜層為單層氧化錫膜，其反射光顏色為多種單色光，而且附著力強(qiáng)、不導(dǎo)電。本發(fā)明的采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法，其特征在于在真空室中，通入工作氣 體Ar和O2，借由真空室內(nèi)設(shè)置的陰極錫靶材和陽極基板電離出Ar+離子，該離子受到電場 加速具有高能量后，轟擊陰極錫靶材表面，將離子動量轉(zhuǎn)移給錫靶材原子，錫靶材原子獲得 動量后逸出靶材表面，在電場作用下，與化反應(yīng)形成氧化錫并附著于陽極基板上成膜。本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)
(1)通過改變氧化錫薄膜的折射率和厚度使產(chǎn)品產(chǎn)生某一特定顏色；產(chǎn)品顏色為膜 層折射或反射不同波長的光而產(chǎn)生，不易褪色，外觀看起來具有絢麗的金屬反光色澤，特別 高雅美觀；可通過調(diào)節(jié)膜層厚度及折射率，制成銀白色、粉紅、綠色、藍(lán)色和金黃色等產(chǎn)品；
(2)業(yè)界NCVM主要應(yīng)用于電子產(chǎn)品外殼鍍制一層金屬或金屬氧化物，以達(dá)到反光顏 色為多種單色光的目的。本發(fā)明則是主要應(yīng)用于電子產(chǎn)品顯示屏幕，以達(dá)到反光顏色為多 種單色光的目的；
(3)所鍍膜層為單層氧化錫膜，工藝簡單，成本降低；
(4)膜層電阻109Ω以上，為不導(dǎo)電層，不影響射頻通訊；膜層附著力好，具有很好的 物理性能及耐候性。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明提供一種采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法，其特征在于在真空室中，通入 工作氣體Ar和O2，借由真空室內(nèi)設(shè)置的陰極錫靶材和陽極基板電離出Ar+離子，該離子受到 電場加速具有高能量后，轟擊陰極錫靶材表面，將離子動量轉(zhuǎn)移給錫靶材原子，錫靶材原子獲得動量后逸出靶材表面，在電場作用下，與A反應(yīng)形成氧化錫并附著于陽極基板上成膜。這里要說明的是，本發(fā)明的方法在實(shí)施前，跟業(yè)界產(chǎn)品鍍膜的方式類似，都要將基 片進(jìn)行前處理，包括純清水洗凈一超音波溶劑清洗一超音波純水清洗一烘干；然后裝夾于 治具上一電槍除塵一本發(fā)明的磁控濺射一印刷油墨一烘烤一清潔一檢查一包裝。這里我 們就以手機(jī)顯示屏幕為例，對于詳細(xì)的操作我們就不進(jìn)行分析介紹。手機(jī)顯示屏幕的鍍膜包括
(1)基片前處理，該工序的目的是為了除去基片表面的灰塵、油膩、白點(diǎn)、指紋；
(2)裝夾于治具上；
(3)電槍除塵，目的是在濺鍍前再次除去基片上的灰塵，增加膜層的附著力；
(4)Sputter coating，在基片鍍氧化錫膜層；
(5)印刷油墨，在膜層表面周圍網(wǎng)印一層帶logo黑色油墨，同時(shí)起保護(hù)膜層的作 用及使膜層在油墨底色的映照下，呈現(xiàn)絢麗的金屬顏色光澤；
(6)烘烤，在160°C烘箱內(nèi)，烘烤0. ，該工藝主要為了干燥固化油墨；
(7)清潔，用酒精擦拭去除不潔、異物等；
(8)檢查，確認(rèn)是否存在刮擦傷、白點(diǎn)、顏色不均等不良；
(9)包裝。值得一提的是，采用本發(fā)明實(shí)現(xiàn)的氧化錫膜的反光顏色包括金黃色、銀白色、粉 紅色、藍(lán)色以及綠色等。該些反光顏色可通過改變氧化錫膜的厚度實(shí)現(xiàn)。這里我們以金黃 色為例，所述濺射的起始壓力為7. 50E-05托，濺射過程中的壓力為1.80E-03托，我們將陽 極基板設(shè)為靜止的，把陰極錫靶材設(shè)為運(yùn)動的，在制程中，我們將陰極錫靶材的運(yùn)行速度設(shè) 定為18 mm/s，加于陰極錫靶材上面的電功率為0. 6KW，通入的Ar氣速度為105ml/min，通 入的化氣速度為8ml/min，經(jīng)過4趟的濺射處理，所述的趟數(shù)是指靶材從起點(diǎn)到終點(diǎn)，或者 從終點(diǎn)到起點(diǎn)為一趟，往返為兩趟，即可作出反光顏色為金黃色NCVM。表一是列出了生成其他幾種顏色，所需要的較佳的條件，可見，本發(fā)明制備不同顏 色的方法是通過改變氧化錫膜的厚度實(shí)現(xiàn)。
顏色速度(mm/s)功率(kw)趟數(shù)O2 (ml/min)Ar (ml/min)起始壓力(托)制程壓力(托)銀白色180. 6401057. 50E-051. 80E-03黃色180. 6581057. 50E-051. 80E-03藍(lán)色180. 6981057. 50E-051. 80E-03綠色180. 61081057. 50E-051. 80E-03粉紅180. 6881057. 50E-051. 80E-03表一
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，凡依本發(fā)明申請專利范圍所做的均等變化與修 飾，皆應(yīng)屬本發(fā)明的涵蓋范圍。
權(quán)利要求
1.一種采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法，其特征在于在真空室中，通入工作氣體Ar 和O2，借由真空室內(nèi)設(shè)置的陰極錫靶材和陽極基板電離出Ar+離子，該離子受到電場加速具 有高能量后，轟擊陰極錫靶材表面，將離子動量轉(zhuǎn)移給錫靶材原子，錫靶材原子獲得動量后 逸出靶材表面，在電場作用下，與化反應(yīng)形成氧化錫并附著于陽極基板上成膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法，其特征在于所述的氧化 錫膜的反光顏色包括金黃色、銀白色、粉紅色、藍(lán)色以及綠色。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法，其特征在于所述的氧化 錫膜的反光顏色是通過改變氧化錫膜的厚度實(shí)現(xiàn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法，其特征在于所述濺射的 起始壓力為7· 50Ε-05托，濺射過程中的壓力為1· 80Ε-03托。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法，其特征在于所述的陰極 錫靶材是運(yùn)動的，所述的陽極基板是靜止的，在制備反光顏色為金黃色的氧化錫膜時(shí)，所述 的陰極錫靶材的運(yùn)行速度為18 mm/s，加于陰極錫靶材上面的電功率為0.6KW，通入的Ar氣 速度為105ml/min，通入的02氣速度為8ml/min。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種采用磁控濺射鍍氧化錫膜的方法，其特征在于在真空室中，通入工作氣體Ar和O2，借由真空室內(nèi)設(shè)置的陰極錫靶材和陽極基板電離出Ar+離子，該離子受到電場加速具有高能量后，轟擊陰極錫靶材表面，將離子動量轉(zhuǎn)移給錫靶材原子，錫靶材原子獲得動量后逸出靶材表面，在電場作用下，與O2反應(yīng)形成氧化錫并附著于陽極基板上成膜。采用本發(fā)明的方法，所鍍膜層為單層氧化錫膜，工藝簡單，成本低；而且膜層電阻109Ω以上，為不導(dǎo)電層，不影響射頻通訊；膜層附著力好，具有很好的物理性能及耐候性。
文檔編號C23C14/35GK102061443SQ201110033178
公開日2011年5月18日 申請日期2011年1月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月31日
發(fā)明者盧長榮, 王海峰, 陳永瑞 申請人:華映光電股份有限公司