專利名稱：真空鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于鍍膜設(shè)備，特別涉及一種在真空沉積腔室內(nèi)對工件鍍膜的加工裝置。
背景技術(shù)：
真空鍍膜技術(shù)在經(jīng)濟社會各個領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用，特別是科技迅速發(fā)展、人們生活的不斷提高以及高科技鍍膜產(chǎn)品的不斷涌現(xiàn)，給真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展和推廣應(yīng)用帶來了新的機遇。真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材?；c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜就是加熱靶材，使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。濺射鍍膜，就是利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。

實用新型內(nèi)容為了克服上述缺陷，本實用新型提供了一種基于真空濺射沉積技術(shù)的真空鍍膜裝置，該裝置簡單實用，操作方便。本實用新型為了解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種真空鍍膜裝置，包括真空沉積腔室、位于該真空沉積腔室內(nèi)的托架和靶材，該托架為表面能放置鍍膜工件的網(wǎng)狀型穹頂結(jié)構(gòu)，該托架之環(huán)部通過環(huán)狀滾珠軸承支撐在位于該真空沉積腔室內(nèi)的環(huán)形支撐架，該托架之環(huán)部側(cè)部為齒條，并與位于該真空沉積腔室內(nèi)的驅(qū)動齒輪嚙合，而該驅(qū)動齒輪上轉(zhuǎn)軸延伸出該真空沉積腔室后，由控制馬達驅(qū)動轉(zhuǎn)動，該靶材位于該穹頂結(jié)構(gòu)下方，還設(shè)有一個可控制該靶材加熱蒸發(fā)的加熱機構(gòu)，該穹頂結(jié)構(gòu)與該真空沉積腔室頂部之間至少設(shè)有一個能對該托架上的工件加熱的預(yù)加熱機構(gòu)。作為本實用新型的進一步改進，該加熱機構(gòu)為安裝于該真空沉積腔室內(nèi)的、可放置該靶材的槽狀金屬加熱體，該槽狀金屬加熱體兩側(cè)設(shè)有一對電極，該對電極另一端引出于該真空沉積腔室后，分別與電源變壓器之次級繞組引出端連接。作為本實用新型的進一步改進，該預(yù)加熱機構(gòu)為電熱絲加熱體或紅外加熱體。作為本實用新型的進一步改進，該托架頂部設(shè)有一個通孔，該通孔與該真空沉積腔室之間設(shè)有一個鍍膜厚度檢測機構(gòu)，該鍍膜厚度檢測機構(gòu)包括帶有臺階孔的固定座、置于該固定座之臺階孔內(nèi)的透明測試片以及位于該真空沉積腔室外且用于觀測該透明測試片的影像傳感器，該固定座設(shè)置于該通孔與該真空沉積腔室頂部下方之間，且該固定座之臺階孔針對該通孔設(shè)置，該影像傳感器可通過該真空沉積腔室頂部上由透明玻璃材質(zhì)組成的觀察窗接收該透明測試片鍍膜信息。[0009]作為本實用新型的進一步改進，該真空沉積腔室側(cè)部設(shè)有操作門，便于裝卸該托架上鍍膜工件。本實用新型的有益技術(shù)效果是所述托架呈網(wǎng)狀的穹頂結(jié)構(gòu)，并通過驅(qū)動馬達和驅(qū)動齒輪來控制其支撐于環(huán)狀支撐架轉(zhuǎn)動，而所述靶材位于該托架之穹頂結(jié)構(gòu)下方，這樣所述靶材經(jīng)加熱機構(gòu)加熱后，其組分揮發(fā)到穹頂結(jié)構(gòu)上的工件，達到真空鍍膜目的，與此同時所述托架與所述真空沉積腔室之間還設(shè)有預(yù)加熱機構(gòu)，保證真空鍍膜具有足夠高溫。所述鍍膜厚度檢測機構(gòu)通過影像傳感器接收位于所述真空沉積腔室內(nèi)透明測試片上的鍍膜效果來達到檢測工件實際鍍膜效果。

圖1為本實用新型的半剖視結(jié)構(gòu)示意圖。對照以上附圖，作如下補充1—一真空沉積腔室71——一槽狀金屬加熱體[0015]11—一環(huán)部72——一電極[0016]12—一環(huán)狀滾珠軸承73——一電源變壓器[0017]2———托架81——電熱絲加熱體[0018]3———靶材91——固定座[0019]4——一環(huán)形支撐架92——一透明測試片[0020]5——一驅(qū)動齒輪93——一影像傳感器[0021]6——一控制馬達100—一工件
具體實施方式
一種真空鍍膜裝置，包括真空沉積腔室1、位于該真空沉積腔室內(nèi)的托架2和靶材 3，該托架2為表面能放置鍍膜工件的網(wǎng)狀型穹頂結(jié)構(gòu)，該托架之環(huán)部11通過環(huán)狀滾珠軸承12支撐在位于該真空沉積腔室內(nèi)的環(huán)形支撐架4，該托架之環(huán)部11側(cè)部為齒條，并與位于該真空沉積腔室內(nèi)的驅(qū)動齒輪5嚙合，而該驅(qū)動齒輪5上轉(zhuǎn)軸51延伸出該真空沉積腔室后，由控制馬達6驅(qū)動轉(zhuǎn)動，該靶材3位于該穹頂結(jié)構(gòu)下方，還設(shè)有一個可控制該靶材加熱蒸發(fā)的加熱機構(gòu)，這樣所述靶材經(jīng)加熱機構(gòu)加熱后，其組分揮發(fā)到穹頂結(jié)構(gòu)上的工件，達到真空鍍膜目的，該加熱機構(gòu)為安裝于該真空沉積腔室內(nèi)的、可放置該靶材的槽狀金屬加熱體71，該槽狀金屬加熱體兩側(cè)設(shè)有一對電極72，該對電極72另一端引出于該真空沉積腔室 1后，分別與電源變壓器73之次級繞組引出端連接，該穹頂結(jié)構(gòu)與該真空沉積腔室頂部之間至少設(shè)有一個能對該托架2上的工件100加熱的預(yù)加熱機構(gòu)，該預(yù)加熱機構(gòu)為電熱絲加熱體81 (也可以為紅外加熱體)，這樣保證了真空鍍膜具有足夠高溫，該真空沉積腔室側(cè)部設(shè)有操作門，便于裝卸該托架上鍍膜工件。該托架2頂部設(shè)有一個通孔，該通孔與該真空沉積腔室之間設(shè)有一個鍍膜厚度檢測機構(gòu)，該鍍膜厚度檢測機構(gòu)包括帶有臺階孔的固定座91、置于該固定座91之臺階孔內(nèi)的透明測試片92以及位于該真空沉積腔室外且用于觀測該透明測試片的影像傳感器93，該固定座91設(shè)置于該通孔與該真空沉積腔室頂部下方之間，且該固定座91之臺階孔針對該通孔設(shè)置，該影像傳感器93可通過該真空沉積腔室頂部上由透明玻璃材質(zhì)組成的觀察窗接收該透明測試片鍍膜信息。所述鍍膜厚度檢測機構(gòu)通過該影像傳感器接收位于所述真空沉積腔室內(nèi)透明測試片上的鍍膜效果來達到檢測工件實際鍍膜效果。 所述真空沉積腔室如何實現(xiàn)真空度屬于現(xiàn)有技術(shù)，不是本實用新型的技術(shù)創(chuàng)新點，在此不作陳述。上述電熱絲加熱方式也可以采用紅外加熱體。所謂金屬加熱體就是利用金屬體兩端接通交流電，使得金屬體發(fā)熱產(chǎn)生熱量，而紅外加熱和金屬體加熱不是本實用新型的創(chuàng)新點，屬于現(xiàn)有技術(shù)，在此不作詳細(xì)描述。
權(quán)利要求1.一種真空鍍膜裝置，包括真空沉積腔室(1)、位于該真空沉積腔室內(nèi)的托架(2)和靶材(3)，其特征在于該托架O)為表面能放置鍍膜工件的網(wǎng)狀型穹頂結(jié)構(gòu)，該托架之環(huán)部 (11)通過環(huán)狀滾珠軸承(1 支撐在位于該真空沉積腔室內(nèi)的環(huán)形支撐架G)，該托架之環(huán)部(11)側(cè)部為齒條，并與位于該真空沉積腔室內(nèi)的驅(qū)動齒輪(5)嚙合，而該驅(qū)動齒輪(5) 上轉(zhuǎn)軸(51)延伸出該真空沉積腔室后，由控制馬達(6)驅(qū)動轉(zhuǎn)動，該靶材(3)位于該穹頂結(jié)構(gòu)下方，還設(shè)有一個可控制該靶材加熱蒸發(fā)的加熱機構(gòu)，該穹頂結(jié)構(gòu)與該真空沉積腔室頂部之間至少設(shè)有一個能對該托架( 上的工件(100)加熱的預(yù)加熱機構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于該加熱機構(gòu)為安裝于該真空沉積腔室內(nèi)的、可放置該靶材的槽狀金屬加熱體(71)，該槽狀金屬加熱體兩側(cè)設(shè)有一對電極 (72)，該對電極(7 另一端引出于該真空沉積腔室(1)后，分別與電源變壓器(7 之次級繞組引出端連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于該預(yù)加熱機構(gòu)為電熱絲加熱體 (81)或紅外加熱體。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于該托架( 頂部設(shè)有一個通孔， 該通孔與該真空沉積腔室之間設(shè)有一個鍍膜厚度檢測機構(gòu)，該鍍膜厚度檢測機構(gòu)包括帶有臺階孔的固定座(91)、置于該固定座(91)之臺階孔內(nèi)的透明測試片(92)以及位于該真空沉積腔室外且用于觀測該透明測試片的影像傳感器(93)，該固定座(91)設(shè)置于該通孔與該真空沉積腔室頂部下方之間，且該固定座(91)之臺階孔針對該通孔設(shè)置，該影像傳感器 (93)可通過該真空沉積腔室頂部上由透明玻璃材質(zhì)組成的觀察窗接收該透明測試片鍍膜 fn息ο
5.根據(jù)權(quán)利要求ι所述的真空鍍膜裝置，其特征在于該真空沉積腔室側(cè)部設(shè)有便于裝卸該托架上鍍膜工件的操作門。
專利摘要一種真空鍍膜裝置，包括真空沉積腔室、位于真空沉積腔室內(nèi)的托架和靶材，托架為網(wǎng)狀的穹頂結(jié)構(gòu)，托架之環(huán)部通過環(huán)狀滾珠軸承支撐在位于真空沉積腔室內(nèi)的環(huán)形支撐架，托架之環(huán)部側(cè)部為齒條，并與位于真空沉積腔室內(nèi)的驅(qū)動齒輪嚙合，驅(qū)動齒輪上轉(zhuǎn)軸延伸出真空沉積腔室后，由控制馬達驅(qū)動轉(zhuǎn)動，靶材位于該穹頂結(jié)構(gòu)下方，還設(shè)有一個可控制靶材加熱揮發(fā)的加熱機構(gòu)，穹頂結(jié)構(gòu)與真空沉積腔室頂部之間至少設(shè)有一個能對托架上的工件加熱的電熱絲加熱體，加熱機構(gòu)為安裝于真空沉積腔室內(nèi)的、可放置靶材的槽狀金屬加熱體，槽狀金屬加熱體兩側(cè)設(shè)有一對電極，對電極另一端引出于真空沉積腔室后，分別與電源變壓器之次級繞組引出端連接。
文檔編號C23C14/34GK202181344SQ20112026601
公開日2012年4月4日 申請日期2011年7月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月26日
發(fā)明者黃水祥 申請人:御林汽配(昆山)有限公司