專利名稱：模塊化結(jié)構(gòu)真空涂覆系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種具有多個功能腔的模塊化結(jié)構(gòu)真空涂覆系統(tǒng)，該多個功能腔被沿著縱向范圍一個接一個地布置，在該縱向范圍上，使基底在基底傳送區(qū)中移動通過所述腔。
背景技術(shù)：
真空涂覆系統(tǒng)由功能部和物理部限定。該物理部限定真空涂覆系統(tǒng)的可見配置。物理配置不必對應(yīng)于功能配置。真空涂覆系統(tǒng)I的物理部的部分是系統(tǒng)腔2和段3，諸如在圖I和圖2中圖示的。為了區(qū)別物理部和功能部，(物理)腔被設(shè)計為系統(tǒng)腔2。以物質(zhì)上一體化方式連接并且含有加強元件4的結(jié)構(gòu)單元被稱為真空涂覆系統(tǒng)·的系統(tǒng)腔2。墻壁5被連接到加強元件4，所述墻壁5圍繞真空空間6。墻壁5由腔底板、腔壁和腔頂板形成。墻壁5也可以由鋪設(shè)在密封表面上的蓋子形成。系統(tǒng)腔2的加強元件4可以位于真空空間6的內(nèi)側(cè)，如圖I中圖示的。因此，系統(tǒng)腔2的至少一部分伸入到真空空間6中。相應(yīng)地，如下解決方案也是已知的在這些方案中，系統(tǒng)腔2構(gòu)成一種“骨架”的結(jié)構(gòu)單元，由于這些加強元件被布置在真空空間6的外側(cè)，所以該結(jié)構(gòu)單元在真空空間中無需加強元件4。多個系統(tǒng)腔2照慣例能夠借助于可釋放的連接件、通常經(jīng)由腔凸緣彼此連接。每個系統(tǒng)腔2可以因此具有專用的真空空間。相互相鄰的真空空間的真空也可以相互合并并且因此形成單元。由橫向于真空涂覆系統(tǒng)的縱向范圍固定在真空空間6中的壁7限定并且位于真空空間6的內(nèi)部的部分被稱為段3。在一個段3中基本上執(zhí)行一個功能的范圍內(nèi)，也可以通過其主要起到的功能的命名來命名這些段，諸如過程段、泵送段、涂覆段等。該功能部描述由真空涂覆系統(tǒng)的各個部分的功能所確定的配置。該功能部未必可見。該功能部的部分是腔8和室9，如圖3中圖示的。腔8是在一個或更多個連接的物理系統(tǒng)腔2的范圍內(nèi)具有一個或更多個互動功能的單元。也可以通過其主要起到的功能的命名來命名功能部的腔8，諸如過程腔。由于所有的腔8用于容納真空，所以它們也可以被總體上稱為真空腔。也可由其功能的命名來命名室9，例如為泵送室、濺射室、氣體分離室等。室9是在縱向延伸的真空涂覆系統(tǒng)的腔8的內(nèi)部的功能單元，功能明確地歸屬于該功能單元，并且該功能單元與其它這樣的功能單元沿著真空涂覆系統(tǒng)的縱向范圍接連地布置。室9優(yōu)選地具有相同的長度。室9可以被形成在基底傳送區(qū)的上方或下方，或者被形成為包含該基底傳送區(qū)。
3-腔系統(tǒng)或5-腔系統(tǒng)的配置將作為功能部的示例被給出如圖4中圖示的3-腔系統(tǒng)由如下部分構(gòu)成-第一(功能)腔10，確切地講，(在物理系統(tǒng)腔2中的)入口鎖室Cl，-第二(功能)腔11，其本身由如下部分構(gòu)成-(在物理系統(tǒng)腔2中的)第一轉(zhuǎn)移腔C3，_(在一個或更多個物理系統(tǒng)腔2中的)過程腔C4. I和可能的進一步的過程腔C4. x至C4. n,以及-(在物理系統(tǒng)腔2中的)第二轉(zhuǎn)移腔C5，以及 -第三(功能)腔12，確切地講，(在物理系統(tǒng)腔2中的)出口鎖室C7。如圖5中圖示的5-腔系統(tǒng)由如下部分構(gòu)成-第一(功能)腔13，確切地講，(在物理系統(tǒng)腔2中的)入口鎖室Cl，-第二(功能)腔14，確切地講，(在物理系統(tǒng)腔2中的)第一緩沖腔C2，-第三(功能的)腔15，其本身構(gòu)成如下-(在物理系統(tǒng)腔2中的)第一轉(zhuǎn)移腔C3，-(在物理系統(tǒng)腔2中的)過程腔C4.I或可能的進一步過程腔C4. X至C4. n，以及-(在物理系統(tǒng)腔2中的)第二轉(zhuǎn)移腔C5，-第四(功能)腔16，確切地講，(在物理系統(tǒng)腔2中的)第二緩沖腔C6，以及-第五(功能)腔17，確切地講，(在物理系統(tǒng)腔2中的)出口鎖室C7。必須向所有的腔10至腔17提供不同的介質(zhì)。具體地，這樣的介質(zhì)是真空、壓縮空氣、氣體、水、電流和數(shù)據(jù)。取決于系統(tǒng)，各種介質(zhì)供應(yīng)部被全部地合并或部分地合并。因此，可以為整個系統(tǒng)合并電流源并且可以從該電流源向每個單獨的腔10至腔17供電。從中央供水部等對需要供水的腔供給。在這種情況下的缺點是，對于每個真空涂覆系統(tǒng)來說必須單獨地計劃和改變介質(zhì)供應(yīng)部，因此在生產(chǎn)和安裝方面造成高支出。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是降低在真空涂覆系統(tǒng)的介質(zhì)供應(yīng)部中的生產(chǎn)和安裝方面的支出。借助于具有權(quán)利要求I的特征的真空涂覆系統(tǒng)來實現(xiàn)這個目的。權(quán)利要求2至8詳細說明根據(jù)本發(fā)明的解決方案的改進。因此，功能腔作為第一子模塊被布置在模塊中，所述模塊設(shè)置有外接口，所述外接口對于至少一個第二模塊來說相同。由于可以在模塊本身中實現(xiàn)單獨的設(shè)置，所以這樣的接口配置使得可以制造完全作為單元的模塊。這些模塊具有相同的向外配置。在這種情況下，存在如下可能性將接口設(shè)計成對該第一子模塊供應(yīng)至少一種介質(zhì)的介質(zhì)接口。然而，為在接口處的其它介質(zhì)提供連接可能性也是權(quán)宜之計，即使在模塊中不需要這些。這使得遍及整個真空涂覆系統(tǒng)任何部分的接口的一致。術(shù)語“介質(zhì)”在此處應(yīng)理解為被傳送至模塊或從模塊排出的所有東西，具體地，數(shù)據(jù)、切換信號、安全信號、水、電能或氣體。內(nèi)部介質(zhì)分布可以優(yōu)選地被實現(xiàn)，因為在該模塊中已經(jīng)布置有第二子模塊，在每種情況下，該第二子模塊充當?shù)谝蛔幽K的介質(zhì)供應(yīng)部，并且第二子模塊設(shè)有對于所有模塊來說完全相同的外介質(zhì)接口。優(yōu)選地，介質(zhì)線路被布置成連續(xù)地通過整個真空涂覆系統(tǒng)，模塊借助于其第二子模塊經(jīng)由第二子模塊的外介質(zhì)接口連接到該介質(zhì)線路。在這種情況下，存在如下可能性僅僅通過在模塊處不被需要的介質(zhì)循環(huán)。如已經(jīng)限定的，介質(zhì)可以具有許多不同的種類。因此，在一個改進中，第二子模塊的接口具有至少從如下的組到介質(zhì)線路的連接部，所述組包括數(shù)據(jù)總線、應(yīng)急/斷開回路、安全回路、水線路、電流供應(yīng)線路和氣體線路。 模塊化設(shè)置可優(yōu)選地被繼續(xù)，因為它不僅被限制于介質(zhì)。因此，可提供用于將接口設(shè)計為連接接口，所述連接接口將第一子模塊連接到相鄰模塊的第一子模塊。這樣的連接接口可以具有純粹機械設(shè)計，例如作為在兩個系統(tǒng)腔之間的凸緣或作為在位于每個腔中的傳送系統(tǒng)的部件之間的接口。在這種情況下，模塊也可以具有至少兩個接口，確切地講具有第一接口和第二接口，所述第一接口被設(shè)計成介質(zhì)接口，所述第二接口被設(shè)計成連接接口。因此，可以產(chǎn)生完全獨立的模塊。對于中央供應(yīng)任務(wù)，例如，對于中央介質(zhì)源或系統(tǒng)計算機的安裝，可能是的，總模塊被布置，所述總模塊對真空涂覆系統(tǒng)的多個模塊供應(yīng)一種或更多種介質(zhì)。


下面將借助于示例性實施例更詳細地解釋本發(fā)明。在所附的附圖中圖I示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的帶有內(nèi)部系統(tǒng)腔的真空涂覆系統(tǒng)的物理部，圖2示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的帶有外部系統(tǒng)腔的真空涂覆系統(tǒng)的物理部，圖3示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的真空涂覆系統(tǒng)的功能部，圖4示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的3-腔系統(tǒng)的圖解圖示，圖5示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的5-腔系統(tǒng)的圖解圖示，圖6示出根據(jù)本發(fā)明的模塊，圖7不出根據(jù)本發(fā)明的帶有子模塊的模塊，圖8示出根據(jù)本發(fā)明的帶有腔作為第一子模塊的模塊，所述腔被劃分成室，圖9示出形成真空涂覆系統(tǒng)的模塊的組件，圖10示出總模塊的圖解布置，圖11示出多級別模型的圖示，以及圖12示出根據(jù)本發(fā)明的完整真空涂覆系統(tǒng)的圖示。
具體實施例方式圖I至圖5示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的真空涂覆系統(tǒng)1，如以上圖示的。一定模塊化類型的配置已經(jīng)以如下方式被實施該配置被細分為腔8和室9，并且，例如，試圖將腔8配置成具有與圖4和圖5中圖示的相同的長度，以便因此在部件方面達到較高程度的可重復(fù)性。
根據(jù)本發(fā)明，功能腔8被布置為在模塊19中的第一子模塊18，該模塊19設(shè)置有對于其它模塊完全相同的外接口 20。這樣的接口 20可以被設(shè)計為介質(zhì)接口 21，使得該介質(zhì)接口 21可以被連接到數(shù)據(jù)總線22、應(yīng)急/斷開回路23、安全回路24、水線路、電流供應(yīng)線路或氣體線路。這些附圖用圖解法僅圖示出數(shù)據(jù)總線22、應(yīng)急/斷開回路23和安全回路24以代表所有可能的介質(zhì)線路。因此，可以以統(tǒng)一的方式引導介質(zhì)線路22 ;23 ;24通過整個真空涂覆系統(tǒng)I。因此，可以無需每個腔8單個單獨地連接到介質(zhì)裝置。對于所選擇的介質(zhì)，因為其介質(zhì)需求，存在如下可能性可以實現(xiàn)直接從總模塊向模塊19或子模塊18供應(yīng)例如電能。如在圖7至圖9圖示的，模塊19中在每個情形中已經(jīng)布置有第二子模塊25，該第二子模塊25充當?shù)谝蛔幽K18的介質(zhì)供應(yīng)部，并且該第二子模塊25設(shè)有對于所有模塊19完全相同的外介質(zhì)接口 21。因此，模塊19借助于其第二子模塊25經(jīng)由第二子模塊25的外 介質(zhì)接口 21被連接。如果作為第一子模塊18的腔8含有多個室9，則第二子模塊25可以被設(shè)計成使得每個室9可以根據(jù)其功能被連接到各種介質(zhì)。然而，盡管該單獨的內(nèi)部配置，但是模塊19在外觀上具有接口 20的統(tǒng)一配置。還存在腔8僅需要選擇介質(zhì)的可能性。例如，鎖室將不需要水。不過，在這種情況下，由在介質(zhì)接口 21處的模塊19提供水連接。因此在模塊19中，具體地在第二子模塊25中水線路僅僅是“回路通過”。如圖9中圖示的，單獨的模塊19的介質(zhì)接口 21也可以被設(shè)計，使得它們在每種情況下直接連接到相鄰模塊，并且因此形成封閉的介質(zhì)線路22 ；23 ;24。然而，如在圖7中圖示的，可以在簡單的介質(zhì)供應(yīng)部之外執(zhí)行子模塊形成。確切地講，用于在腔8的內(nèi)部傳送基底的傳送系統(tǒng)可以因此被設(shè)計為第三子模塊26，因為該傳送系統(tǒng)設(shè)置有連接接口 27。這些連接接口 27因此適合于將第三子模塊26連接到相鄰模塊的第三子模塊26，也就是說，將傳送系統(tǒng)的屬于腔8的那部分連接到傳送系統(tǒng)的在相鄰室8中的那部分。圖10圖示出總模塊28。這樣的總模塊28針對每種介質(zhì)被設(shè)置在真空涂覆系統(tǒng)I中，并且確保各種介質(zhì)的介質(zhì)供應(yīng)部被合并到所有模塊19。該類型的總模塊28可以包括，例如，中央水處理系統(tǒng)或中央能量分布。因此，變得清楚的是，根據(jù)本發(fā)明的設(shè)置在真空涂覆系統(tǒng)I中實現(xiàn)為如在圖11中圖示的多級別模型，因此尤其在級別2和3下確保高程度的可重復(fù)性。完全獨立地制造模塊19和總模塊28以及在制造之后測試模塊19和總模塊28也變得可能。僅在整個真空涂覆系統(tǒng)I完成之后，到目前為止已經(jīng)完成了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的完整的試驗。因此，模塊19和總模塊28在本質(zhì)上可以在完整狀態(tài)下被放入組裝位置。它們在本質(zhì)上僅僅需要被連接在那里。大大減少了在組裝方面的支出。圖12非常清楚地示出以這種方式完成的真空涂覆系統(tǒng)I的細分的設(shè)置。附圖標記列表I真空涂覆系統(tǒng)2系統(tǒng)腔3 段
4加強元件5 墻壁6真空空間7 壁8 腔9 室10 3-腔系統(tǒng)的第一腔11 3-腔系統(tǒng)的第二腔12 3-腔系統(tǒng)的第三腔·Cl入口鎖室C2入口側(cè)緩沖腔C3入口側(cè)轉(zhuǎn)移腔C4. I …C4. X…C4. n 過程腔C5出口側(cè)緩沖腔C6出口側(cè)轉(zhuǎn)移腔C7出口鎖室13 5-腔系統(tǒng)的第一腔14 5-腔系統(tǒng)的第二腔15 5-腔系統(tǒng)的第三腔16 5-腔系統(tǒng)的第四腔17 5-腔系統(tǒng)的第五腔18第一子模塊19 模塊20 接口21介質(zhì)接口22數(shù)據(jù)總線23應(yīng)急/斷開回路24安全回路25第二子模塊26第三子模塊27連接接口28總模塊。
權(quán)利要求
1.一種模塊化結(jié)構(gòu)真空涂覆系統(tǒng)，所述真空涂覆系統(tǒng)具有多個功能腔(8)，所述多個功能腔(8)被沿著縱向范圍一個接一個地布置，在所述縱向范圍中，使基底在基底傳送區(qū)中移動通過所述腔(8)，其特征在于，功能腔(8)作為第一子模塊(18)被布置在模塊(19)中，所述模塊(19)設(shè)置有外接口(20)，所述外接口(20)被構(gòu)造成與至少一個第二模塊(19)的外接口相同。
2.如權(quán)利要求I中所述的真空涂覆系統(tǒng)，其特征在于，所述接口(20)被設(shè)計成介質(zhì)接口(21)，所述介質(zhì)接口(21)向所述第一子模塊(18)供應(yīng)至少一種介質(zhì)。
3.如權(quán)利要求I或2中所述的真空涂覆系統(tǒng)，其特征在于，所述模塊(19)中在每個情形下均已布置有第二子模塊(25)，所述第二子模塊(25)充當用于所述第一子模塊(18)的介質(zhì)供應(yīng)部，并且所述第二子模塊(25 )設(shè)置有所述模塊(19 )的外介質(zhì)接口( 21)，所述外介質(zhì)接口( 21)對于所有模塊(19 )來說均是相同的。
4.根據(jù)權(quán)利要求3中所述的真空涂覆系統(tǒng)，其特征在于，介質(zhì)線路(22；23 ;24)被布置成通過整個真空涂覆系統(tǒng)(1)，模塊(19)借助于其第二子模塊(25)經(jīng)由所述第二子模塊的外介質(zhì)接口(21)被連接到所述介質(zhì)線路。
5.根據(jù)權(quán)利要求4中所述的真空涂覆系統(tǒng)，其特征在于，所述第二子模塊(25)的所述接口(20)具有至少從如下的組至介質(zhì)線路(22 ；23 ；24)的連接部，所述組包括數(shù)據(jù)總線(22)、應(yīng)急/斷開回路(23)、安全回路(24)、水線路、電流供應(yīng)線路和氣體線路。
6.如權(quán)利要求I中所述的真空涂覆系統(tǒng)，其特征在于，所述接口(20)被設(shè)計成連接接口(27)，所述連接接口(27)將所述第一子模塊(18)連接到相鄰模塊(19)的第一子模塊(18)。
7.如權(quán)利要求2至6中的任一項所述的真空涂覆系統(tǒng)，其特征在于，模塊(19)具有兩個接口(20)，確切地講具有第一接口(20)以及第二接口(20)，所述第一接口(20)被設(shè)計成介質(zhì)接口(21)，而所述第二接口(20)被設(shè)計成連接接口(27)。
8.如權(quán)利要求I至7中的任一項所述的真空涂覆系統(tǒng)，其特征在于，布置有總模塊(28)，所述總模塊(28)向所述真空涂覆系統(tǒng)(I)的多個模塊(19)供應(yīng)一種或更多種介質(zhì)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種具有多個功能腔的模塊化結(jié)構(gòu)真空涂覆系統(tǒng)，該多個功能腔被沿著縱向范圍一個接一個地布置，在該縱向范圍中，使基底在基座傳送區(qū)中移動通過腔，其具有如下問題降低在對真空涂覆系統(tǒng)供應(yīng)介質(zhì)中所涉及的生產(chǎn)相關(guān)的以及安裝相關(guān)的支出。該問題由功能腔解決，該功能腔作為第一子模塊被布置在設(shè)置有外接口的模塊中，該外接口對于至少一個第二模塊是相同的。
文檔編號C23C14/56GK102971448SQ201180028799
公開日2013年3月13日 申請日期2011年6月14日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月11日
發(fā)明者馬蒂亞斯·斯莫克, 馬蒂亞斯·克魯斯, 安德烈·沃爾夫, 約翰內(nèi)斯·施特羅姆費爾 申請人:馮·阿德納設(shè)備有限公司