專利名稱：一種可加熱式整體熔杯的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種可加熱式整體熔杯。
背景技術(shù)：
目前常規(guī)熔杯一般不需加熱就可以實(shí)現(xiàn)鑄造溫度為620°C_680°C的高壓高速壓射，但當(dāng)鑄造溫度需求達(dá)到700°C以上時(shí)，常規(guī)熔杯無(wú)法實(shí)現(xiàn)高溫高壓低速壓射，為了解決上述問(wèn)題，傳統(tǒng)解決問(wèn)題的方法是采用液化氣噴燒，這種方法的溫度不能控制，而且還存在安全問(wèn)題，同時(shí)也保證不了工藝要求，產(chǎn)品質(zhì)量非常不 穩(wěn)定。若能設(shè)計(jì)一種能使鑄造溫度達(dá)到700°C以上的熔杯，則能很好地解決常規(guī)熔杯無(wú)法實(shí)現(xiàn)的高壓低速的高溫壓射問(wèn)題。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、能使鑄造溫度達(dá)到700°C以上高壓低速壓射的可加熱式整體熔杯。本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是本實(shí)用新型包括熔杯和澆口套，所述熔杯和所述澆口套成一體式結(jié)構(gòu)，所述熔杯在兩端分別設(shè)置有進(jìn)料口和出料口，所述進(jìn)料口和所述出料口連通，所述澆口套設(shè)置在所述出料口的一端，所述可加熱式整體熔杯還包括加熱裝置，所述加熱裝置設(shè)置在所述熔杯和所述澆口套的配合處。所述熔杯在所述出料口的那一端設(shè)置有環(huán)形凹槽。所述加熱裝置包括電阻絲，所述電阻絲均勻設(shè)置在所述環(huán)形凹槽內(nèi)。所述澆口套設(shè)置有所述電阻絲的通孔。本實(shí)用新型的有益效果是由于本實(shí)用新型采用了可加熱式的設(shè)計(jì)，所述電阻絲均勻分布在所述出料口的那一端，所述電阻絲通電后生成交變磁場(chǎng)，所述交變磁場(chǎng)能對(duì)熔杯內(nèi)的金屬液體進(jìn)行加溫，所以，采用本實(shí)用新型能使熔杯在高壓低速的條件下實(shí)現(xiàn)高溫壓射。

圖I是本實(shí)用新型長(zhǎng)度方向上的正面局部剖面示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖I所示，在本實(shí)施例中，本實(shí)用新型包括熔杯I和澆口套2，所述熔杯I和所述澆口套2成一體式結(jié)構(gòu)，一體式結(jié)構(gòu)可以消除一些安全隱患和提高效率，所述熔杯I在兩端分別設(shè)置有進(jìn)料口 3和出料口 4，所述進(jìn)料口 3和所述出料口 4連通，所述澆口套2設(shè)置在所述出料口 4的一端，所述可加熱式整體熔杯還包括加熱裝置，所述加熱裝置設(shè)置在所述熔杯I和所述澆口套2的配合處，所述澆口套2。所述熔杯I在所述出料口 4的那一端設(shè)置有環(huán)形凹槽5，所述環(huán)形凹槽5用于置放所述加熱裝置。所述加熱裝置包括電阻絲6，所述電阻絲6均勻設(shè)置在所述環(huán)形凹槽5內(nèi)，當(dāng)所述電阻絲通入高頻交流電后能生成高頻交變磁場(chǎng)，所述高頻交變磁場(chǎng)能對(duì)熔杯內(nèi)的金屬液體進(jìn)行加溫，溫度容易控制。所述澆口套2設(shè)置有所述電阻絲6的通孔7，所述通孔7可使所述電阻絲方便進(jìn)出所述澆口套2。當(dāng)使用本實(shí)用新型時(shí)，由所述進(jìn)料口 3注進(jìn)金屬液體，所述金屬液體流經(jīng)所述出料口 4 一端時(shí)，所述電阻絲通入高頻交流電，則能生成高頻交變磁場(chǎng)，所述高頻交變磁場(chǎng)能對(duì)本實(shí)用新型內(nèi)的金屬液體進(jìn)行加溫或保持溫度，能實(shí)現(xiàn)在高壓低速的前提下進(jìn)行高溫壓射。 本實(shí)用新型可應(yīng)用于燒鑄領(lǐng)域。
權(quán)利要求1. 一種可加熱式整體熔杯，包括熔杯(I)和澆口套(2 )，所述熔杯(I)和所述澆口套(2 )成一體式結(jié)構(gòu)，所述熔杯(I)在兩端分別設(shè)置有進(jìn)料口( 3 )和出料口( 4)，所述進(jìn)料口( 3 )和所述出料口(4)連通，所述澆口套(2)設(shè)置在所述出料口(4)的一端，其特征在于所述可加熱式整體熔杯還包括加熱裝置，所述加熱裝置設(shè)置在所述熔杯(I)和所述澆口套(2 )的配合處。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的可加熱式整體熔杯，其特征在于所述熔杯(I)在所述出料口(4)的那一端設(shè)置有環(huán)形凹槽(5)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的可加熱式整體熔杯，其特征在于所述加熱裝置包括電阻絲(6)，所述電阻絲(6)均勻設(shè)置在所述環(huán)形凹槽(5)內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的可加熱式整體熔杯，其特征在于所述澆口套(2)設(shè)置有所述電阻絲(6)的通孔(7)。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種可加熱式整體熔杯,旨在提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、能使鑄造溫度達(dá)到700℃以上高壓低速壓射的可加熱式整體熔杯。本實(shí)用新型包括熔杯(1)和澆口套(2)，所述熔杯(1)和所述澆口套(2)成一體式結(jié)構(gòu)，所述熔杯(1)在兩端分別設(shè)置有進(jìn)料口(3)和出料口(4)，所述進(jìn)料口(3)和所述出料口(4)連通，所述澆口套(2)設(shè)置在所述出料口(4)的一端，其特征在于所述可加熱式整體熔杯還包括加熱裝置，所述加熱裝置設(shè)置在所述熔杯(1)和所述澆口套(2)的配合處。本實(shí)用新型可應(yīng)用于澆鑄領(lǐng)域。
文檔編號(hào)B22D17/20GK202539524SQ201220181899
公開(kāi)日2012年11月21日 申請(qǐng)日期2012年4月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月26日
發(fā)明者劉海科 申請(qǐng)人:珠海嶸泰有色金屬鑄造有限公司