專利名稱：一種三氯氫硅合成濕法除塵裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種三氯氫硅合成濕法除塵裝置。
背景技術(shù)：
二氯氫娃是多晶娃生廣系統(tǒng)的重要原料，在二氯氫娃的合成環(huán)節(jié)中，因?yàn)樵牧瞎璺?，氯氣和氫氣中帶有水份，?huì)伴隨著三氯氫硅的合成而產(chǎn)生二氧化硅等固體物質(zhì)，這些物質(zhì)會(huì)緩慢的在管道和設(shè)備中沉積下來，會(huì)嚴(yán)重堵塞管道和設(shè)備。目前普遍采用的雜質(zhì)處理方法是在三氯氫硅合成爐之后增加一套濕法除塵系統(tǒng)， 利用四氯化硅噴淋液體對(duì)三氯氫硅合成氣進(jìn)行噴淋，將合成氣中的硅氯高聚物、硅渣等洗滌下來，同時(shí)，合成氣中的三氯化鋁還會(huì)溶解在四氯化硅噴淋液中，使?jié)穹ǔ龎m系統(tǒng)處理后的合成氣中含有的雜質(zhì)減少，避免了合成氣后續(xù)處理系統(tǒng)堵塞。濕法除塵后的噴淋液再通過精餾純化，將所攜帶的硅氯高聚物、硅渣以及溶解的三氯化鋁等雜質(zhì)進(jìn)行濃縮分離，并以釜液的形式排出廢液廢渣處理系統(tǒng)，進(jìn)行無害化處理，分離后的噴淋液又循環(huán)進(jìn)濕法除塵系統(tǒng)進(jìn)行噴淋。然而，由于噴淋液精餾純化系統(tǒng)設(shè)備過于復(fù)雜和龐大，處理能力有限，釜液中雜質(zhì)濃度較低時(shí)，會(huì)造成大量四氯化硅浪費(fèi)，加重了廢液廢渣處理系統(tǒng)的處理量，會(huì)使多晶硅生產(chǎn)的物耗增加，增加了生產(chǎn)成本；釜液中雜質(zhì)含量較高時(shí)，雜質(zhì)依然會(huì)導(dǎo)致釜液排放管道、 再沸器堵塞，進(jìn)而堵塞整個(gè)噴淋液精餾純化系統(tǒng)。硅氯高聚物、硅渣以及三氯化鋁等雜質(zhì)所形成的混合物，其化學(xué)性質(zhì)非?；顫姡坏┙佑|空氣就會(huì)發(fā)生燃燒或爆炸，在處理濕法除塵后嗔淋液精懼純化系統(tǒng)堵塞時(shí)，存在著極大的危險(xiǎn)性。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型其目的就在于提供一種三氯氫硅合成濕法除塵裝置，能有效的將大部分雜質(zhì)進(jìn)行分離，防止三氯氫硅生產(chǎn)系統(tǒng)堵塞。具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低的特點(diǎn)，且維護(hù)方便。實(shí)現(xiàn)上述目的而采取的技術(shù)方案，包括濕法除塵釜，所述濕法除塵釜中部連接三氯氫硅合成氣體輸入管，濕法除塵釜底部連接沉淀罐，濕法除塵釜下端經(jīng)料液泵連接水冷卻器，水冷卻器出口連接濕法除塵釜頂端，所述濕法除塵釜頂端設(shè)有三氯氫硅氣體輸出管。與現(xiàn)有技術(shù)相比本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)。本實(shí)用新型構(gòu)思巧妙、成本低廉，能有效的將大部分雜質(zhì)進(jìn)行分離，防止三氯氫硅合成濕法除塵噴淋液精餾純化系統(tǒng)堵塞，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低的特點(diǎn)，且維護(hù)方便。
以下結(jié)合附圖
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳述。附圖為本裝置結(jié)構(gòu)原理示意圖。圖中1三氯氫硅合成氣體輸入管、2濕法除塵釜、3水冷卻器、4料液泵、5沉淀罐、 6三氯氫娃氣體輸出管。
具體實(shí)施方式
本裝置包括濕法除塵釜2，如附圖所示，所述濕法除塵釜2中部連接三氯氫硅合成氣體輸入管1，濕法除塵釜2底部連接沉淀罐5，濕法除塵釜2下端經(jīng)料液泵4連接水冷卻器3，水冷卻器3出口連接濕法除塵釜2頂端，所述濕法除塵釜2頂端設(shè)有三氯氫娃氣體輸出管6。實(shí)施例，如附圖所示，包括濕法除塵釜2、水冷卻器3和沉淀罐5，所述濕法除塵釜2 的中部連接三氯氫硅合成氣體輸入管I，三氯氫硅合成氣體進(jìn)入濕法除塵釜2后向上流動(dòng)， 由濕法除塵釜中的冷卻的部分三氯氫硅液體由料液泵4輸送至水冷卻器3將料液進(jìn)一步冷卻后輸送至濕法除塵釜的頂部進(jìn)行向下噴淋，將進(jìn)入濕除塵氣體中含的二氧化硅等固體通過噴淋沉降至濕法除塵釜底部的錐形釜底。二氧化硅等固體經(jīng)過沉降以后定期將固體排放至沉淀罐5中進(jìn)行沉淀后進(jìn)一步處理。工作原理三氯氫硅合成氣體輸送至濕法除塵釜中部進(jìn)入濕法除塵釜，沿著釜內(nèi)填料的空隙向上流動(dòng)，水冷卻器中輸送至濕法除塵釜頂部向下噴淋，沿著釜內(nèi)填料向下流動(dòng)，噴淋的三氯氫硅液體將三氯氫硅合成氣體中夾帶的固體二氧化硅帶入濕法除塵釜的錐形釜底經(jīng)沉淀后定期將固體排放至沉淀罐進(jìn)行沉淀。同時(shí)濕法除塵釜錐形釜底上部的三氯氫硅清潔液體經(jīng)料液泵輸送至水冷卻器進(jìn)行冷卻后再次輸送回濕法除塵進(jìn)行噴淋，這樣循環(huán)使用保證其三氯氫硅合成氣體排出濕法除塵釜的氣體已經(jīng)去除二氧化硅等固體的三氯氫硅氣體輸送至生產(chǎn)系統(tǒng)。沉淀罐中的固液物料經(jīng)沉淀后將進(jìn)行進(jìn)一步處理。本裝置去除了三氯氫硅合成氣體中的固體雜質(zhì)，保證了三氯氫硅在進(jìn)入后續(xù)生產(chǎn)系統(tǒng)中的順利輸送，避免了由于二氧化硅等固體在后續(xù)生產(chǎn)管道流通時(shí)因?yàn)槎氯斐上到y(tǒng)危險(xiǎn)性增加，以及在管道堵塞后造成大的維修工程。本裝置能有效的去除了三氯氫硅合成氣體中的固體雜質(zhì)，并保證了其正常的輸送量，保證生產(chǎn)產(chǎn)量不受除塵的影響。同時(shí)收集的二氧化硅等固體在進(jìn)一步的處理后保證其環(huán)保和經(jīng)濟(jì)效益。
權(quán)利要求1.一種三氯氫硅合成濕法除塵裝置，包括濕法除塵釜(2)，其特征在于，所述濕法除塵釜(2 )中部連接三氯氫硅合成氣體輸入管(I)，濕法除塵釜(2 )底部連接沉淀罐(5 )，濕法除塵釜(2)下端經(jīng)料液泵(4)連接水冷卻器(3)，水冷卻器(3)出口連接濕法除塵釜(2)頂端， 所述濕法除塵釜(2)頂端設(shè)有三氯氫硅氣體輸出管(6)。
專利摘要一種三氯氫硅合成濕法除塵裝置，包括濕法除塵釜，所述濕法除塵釜中部連接三氯氫硅合成氣體輸入管，濕法除塵釜底部連接沉淀罐，濕法除塵釜下端經(jīng)料液泵連接水冷卻器，水冷卻器出口連接濕法除塵釜頂端，所述濕法除塵釜頂端設(shè)有三氯氫硅氣體輸出管。能有效的將大部分雜質(zhì)進(jìn)行分離，防止三氯氫硅生產(chǎn)系統(tǒng)堵塞。具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低的特點(diǎn)，且維護(hù)方便。
文檔編號(hào)C01B33/107GK202346776SQ201120505368
公開日2012年7月25日 申請(qǐng)日期2011年12月7日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月7日
發(fā)明者丁建峰 申請(qǐng)人:諾貝爾(九江)高新材料有限公司