一種易潔工業(yè)瓷及其制法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及工業(yè)陶瓷技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種易潔工業(yè)瓷及其制法。
【背景技術(shù)】
[0002]工業(yè)陶瓷，即工業(yè)生產(chǎn)用及工業(yè)產(chǎn)品用陶瓷，現(xiàn)有技術(shù)中主要是利用其耐酸堿，耐磨系數(shù)高等特點。
[0003]化學(xué)、橡膠或塑料行業(yè)用工業(yè)瓷中，有時工業(yè)瓷會直接接觸各種化工原料、橡膠溶液或PVC溶液，這類工業(yè)瓷存在清潔困難的問題。
[0004]陶瓷表面沾染污垢的原因是:微觀結(jié)構(gòu)上，陶瓷表面存在凹凸不平以及微小的針孔或氣孔，在陶瓷的使用過程中很容易接觸到環(huán)境中的污染物，這些污染物在范德華力、毛細管力、氫鍵等多種物理或化學(xué)力的作用下，很容易積聚在表面的凹凸處或進入微孔中，對陶瓷的表面造成污染。
[0005]為提高陶瓷表面的抗污性能以及使陶瓷易于清潔，現(xiàn)有技術(shù)常采用以下技術(shù)手段:
[0006]I)采用特殊材質(zhì)的陶瓷原料，例如:以鋯英石為主；
[0007]2)陶瓷表面超級光滑技術(shù)，即:通過改變陶瓷表面成分、燒結(jié)工藝等方法，使陶瓷形成致密的表面，減少陶瓷表面微觀缺陷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明提供一種易潔工業(yè)瓷及其制法，其在工業(yè)瓷表面附著一層易潔的陶瓷釉、并優(yōu)化制作工藝，得到了表面超光滑的工業(yè)瓷，該工業(yè)瓷具有優(yōu)良的抗污性能和易潔性能。
[0009]本發(fā)明具體采用的技術(shù)方案是:
[0010]一種易潔工業(yè)瓷，包括坯體和覆蓋在坯體上的釉面，其特征是，所述釉面是采用包括如下重量份的原料制成的熔塊釉:
[0011]長石20-40，焦寶石10-20，熟滑石10-20，大同土 5-10，鐘乳石1-2，石英1-3，欽酸鋇1-2，氧化鉍1-2，改進劑0.1-0.5 ；
[0012]所述改進劑是氧化釔、氧化鈰、氧化釤按照重量比1:1:1組成的混合物；或者所述改進劑是氧化鈰、氧化釤和釓按照重量比1:1:1組成的混合物；
[0013]所述坯體由如下原料制成:
[0014]煤矸石30?35份，長石17?22份，石英8?12份，煅燒大同土 8?13份，煅燒高招鞏土 10份，介休土 5?10份，紫母節(jié)土 5?10份，蘇州土 I?3份，坊子土 5?8份，熟滑石I?3份。
[0015]本發(fā)明中，坯體原料均為本領(lǐng)域常用原料，在市場上容易獲得。
[0016]為得到陽黃色的釉面，所述釉面原料中還添加有氧化鐠；
[0017]為得到綠色的釉面，所述釉面原料中還添加有氧化鐠和五氧化二釩，二者添加重量比可根據(jù)實際顏色需要調(diào)整，一般是1:3?10。
[0018]為得到紫色的釉面，所述釉面原料中還添加有氧化鐠和砸化鋅，二者添加重量比可根據(jù)實際顏色需要調(diào)整，一般是1:3?10。
[0019]根據(jù)需要，本發(fā)明還可以添加其他的無機顏料，以使釉面著色，所加無機顏料需耐受燒成最高溫。
[0020]申請人特別指出，釉料中的著色劑添加量本領(lǐng)域技術(shù)人員可通過顏色的具體要求進行調(diào)整。
[0021]一種無鉛易潔工業(yè)瓷的制法，其特征是，包括如下步驟:
[0022]I)坯料的制備；
[0023]2)釉料的制備:按照現(xiàn)有技術(shù)制成釉料，其中，釉料的平均細度為200-400目。
[0024]3)等靜壓成型:在真空度為0.07?0.09MPa的條件下等靜壓成型；
[0025]4)干燥、修坯；
[0026]5)坯體內(nèi)外施釉；
[0027]6)高溫釉燒:燒成制度是:
[0028]常溫至300 °C 升溫速率為50 °C /h ；
[0029]300 °C 至 900 °C 升溫速率為 60 °C /h ；
[0030]900 °C 至 1300°C 升溫速率為 100 °C /h ；
[0031]在最高溫1300°C保持0.5?Ih ;
[0032]7)自然降至常溫，得制品
[0033]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點是:
[0034]I)本發(fā)明通過在工業(yè)瓷表面附著釉層并優(yōu)化制備工藝，得到了表面超光滑的工業(yè)瓷，該工業(yè)瓷具有優(yōu)良的抗污性能和易潔性能。
[0035]2)本發(fā)明釉料中改進劑可使釉面在燒成過程中形成更多致密晶相，且能提高釉面的耐酸堿性能。
[0036]3)本發(fā)明等靜壓成型可最大程度降低坯體中殘留空氣，降低產(chǎn)生氣泡、爆裂或開裂的可能性；
[0037]4)與現(xiàn)有技術(shù)的燒成制度相比，本發(fā)明燒成速率慢，保證在燒成蒸發(fā)期、晶型轉(zhuǎn)變期、成瓷期氣體緩慢排出，制得產(chǎn)品表面光滑度遠遠高于現(xiàn)有技術(shù)。
【具體實施方式】
[0038]實施例
[0039]一種無鉛易潔工業(yè)瓷的制法，包括如下步驟:
[0040]I)坯料的制備；
[0041]煤矸石30份，長石15份，煅燒高招研10份，介休土 6份，紫母節(jié)土 5份，蘇州土I份，坊子土 5份，熟滑石I份。
[0042]2)釉料的制備:按照現(xiàn)有技術(shù)制成釉料，其中，釉料的平均細度為200-400目。
[0043]釉料配方:長石20-40，焦寶石10-20，熟滑石10-20，大同土 5_10，鐘乳石1_2，石英1-3，鈦酸鋇1-2，氧化鉍1-2，改進劑0.1-0.5 ;所述改進劑是氧化釔、氧化鈰、氧化釤按照重量比1:1:1組成的混合物。
[0044]3)等靜壓成型:在真空度為0.07?0.09MPa的條件下等靜壓成型；
[0045]4)干燥、修坯；
[0046]5)坯體內(nèi)外施釉；
[0047]6)高溫釉燒:燒成制度是:
[0048]常溫至300 °C 升溫速率為50 °C /h ；
[0049]300 °C 至 900 °C 升溫速率為 60 °C /h ；
[0050]900 °C 至 1300°C 升溫速率為 100 °C /h ；
[0051]在最高溫1300°C保持0.5?Ih ;
[0052]7)自然降至常溫，得制品。
【主權(quán)項】
1.一種易潔工業(yè)瓷，包括坯體和覆蓋在坯體上的釉面，其特征是，所述釉面是采用包括如下重量份的原料制成的熔塊釉: 長石20-40，焦寶石10-20，熟滑石10-20，大同土 5-10，鐘乳石1-2，石英1-3，欽酸鋇.1-2，氧化鉍1-2，改進劑0.1-0.5 ； 所述改進劑是氧化釔、氧化鈰、氧化釤按照重量比1:1:1組成的混合物；或者所述改進劑是氧化鈰、氧化釤和釓按照重量比1:1:1組成的混合物； 所述坯體由如下原料制成: 煤矸石30?35份，長石17?22份，石英8?12份，煅燒大同土 8?13份，煅燒高鋁鞏土 10份，介休土 5?10份，紫母節(jié)土 5?10份，蘇州土 1?3份，坊子土 5?8份，熟滑石1?3份。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的易潔工業(yè)瓷，其特征是，所述釉面原料中還添加有氧化鐠。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的易潔工業(yè)瓷，其特征是，所述釉面原料中還添加有氧化鐠和五氧化二釩，二者添加重量比是1:3?10。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的易潔工業(yè)瓷，其特征是，所述釉面原料中還添加有氧化鐠和砸化鋅，二者重量比是1:3?10。5.一種易潔工業(yè)瓷的制法，其特征是，包括如下步驟: .1)坯料的制備； .2)釉料的制備:按照現(xiàn)有技術(shù)制成釉料，其中，釉料的平均細度為200-400目； .3)等靜壓成型:在真空度為0.07?0.09MPa的條件下等靜壓成型； .4)干燥、修坯； .5)坯體內(nèi)外施釉； .6)高溫釉燒:燒成制度是: 常溫至300 °C 升溫速率為50 °C /h ； .300 °C至900 0C 升溫速率為60 0C /h ； .900 °C 至 1300°C 升溫速率為 100 °C /h ； 在最高溫1300°C保持0.5?Ih ; .7)自然降至常溫，得制品。
【專利摘要】一種易潔工業(yè)瓷及其制法，屬于工業(yè)陶瓷技術(shù)領(lǐng)域，包括坯體和覆蓋在坯體上的釉面，其特征是，所述釉面是采用包括如下重量份的原料制成的熔塊釉：長石20-40，焦寶石10-20，熟滑石10-20，大同土5-10，鐘乳石1-2，石英1-3，鈦酸鋇1-2，氧化鉍1-2，改進劑0.1-0.5；所述改進劑是氧化釔、氧化鈰、氧化釤按照重量比1:1:1組成的混合物；或者所述改進劑是氧化鈰、氧化釤和釓按照重量比1:1:1組成的混合物；所述坯體由如下原料制成：煤矸石30～35份，長石17～22份，石英8～12份，煅燒大同土8～13份，煅燒高鋁礬土10份，介休土5～10份，紫母節(jié)土5～10份，蘇州土1～3份，坊子土5～8份，熟滑石1～3份。本發(fā)明在工業(yè)瓷表面附著一層陶瓷釉、并優(yōu)化制備工藝，得到了表面超光滑的工業(yè)瓷，具有優(yōu)良的抗污和易潔性能。
【IPC分類】C04B33/132, C04B33/34, C04B41/86
【公開號】CN105218159
【申請?zhí)枴緾N201510595851
【發(fā)明人】劉云龍
【申請人】淄博市共享陽光陶瓷藝術(shù)研究中心
【公開日】2016年1月6日
【申請日】2015年9月17日