觸控面板及其制造方法、觸控裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種觸控面板及其制造方法、觸控裝置，屬于觸控面板制造領(lǐng)域。觸控面板包括：襯底基板；在襯底基板上形成有黑矩陣，黑矩陣位于襯底基板邊緣的環(huán)形區(qū)域；形成有黑矩陣的襯底基板上形成有透明導(dǎo)電圖形，透明導(dǎo)電圖形的外邊緣和黑矩陣的內(nèi)邊緣存在重疊區(qū)域，透明導(dǎo)電圖形包括：多條橫向設(shè)置的觸摸驅(qū)動線Tx和多條縱向設(shè)置的觸摸感應(yīng)線Rx，以及多個空置塊，多條橫向設(shè)置的Tx和多條縱向設(shè)置的Rx相互絕緣；其中，位于重疊區(qū)域中的空置塊的分布密度大于位于可視區(qū)域中的空置塊的分布密度。本發(fā)明能夠解決觸控面板的觸摸效果較差的問題，本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)改善觸控面板的觸摸效果的有益效果，本發(fā)明用于觸控面板的制造。
【專利說明】
觸控面板及其制造方法、觸控裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及觸控面板制造領(lǐng)域，特別涉及一種觸控面板及其制造方法、觸控裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]單片式觸控面板(英文:0neGlass Solut1n;簡稱:0GS)是在襯底基板(通常為保護(hù)玻璃)上依次形成黑矩陣(英文:Black Matrix;簡稱:BM)、氧化銦錫(英文:Indium TinOxide;簡稱:I TO)圖形所得到的觸控面板。
[0003]目前的OGS中的ITO圖形包括:多條橫向設(shè)置的觸摸驅(qū)動線Tx和多條縱向設(shè)置的觸摸感應(yīng)線Rx，以及多個空置(Dummy)塊，也稱獨立塊，該多個Dummy塊用于調(diào)節(jié)Tx和Rx之間的互電容，改善可視區(qū)域(英文= View Area;簡稱:VA)的光學(xué)效果。多條橫向設(shè)置的Tx和多條縱向設(shè)置的Rx相互絕緣，且形成多個十字結(jié)構(gòu)，每個十字結(jié)構(gòu)以及位于該十字結(jié)構(gòu)四角的Dummy區(qū)內(nèi)的多個Dummy塊組成一個觸控單元。通常一個Dummy區(qū)內(nèi)設(shè)置三個相互間隔的Dummy 塊。
[0004]但是，由于BM材質(zhì)中含有碳元素，具有一定的導(dǎo)電性，因而形成有BM的區(qū)域比VA更易發(fā)生靜電擊穿(英文:Electro-Static discharge；簡稱:ESD)現(xiàn)象，使得形成有BM的區(qū)域(簡稱:BM區(qū))中，Tx或Rx與Dummy塊更容易發(fā)生短路(Short)，從而影響Tx和Rx電容的大小，進(jìn)而影響觸控面板的觸摸效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為了解決現(xiàn)有技術(shù)的觸控面板的觸摸效果較差的問題，本發(fā)明實施例提供了一種觸控面板及其制造方法、觸控裝置。所述技術(shù)方案如下:
[0006]第一方面，提供一種觸控面板，所述觸控面板包括:
[0007]襯底基板；
[0008]在所述襯底基板上形成有黑矩陣，所述黑矩陣位于所述襯底基板邊緣的環(huán)形區(qū)域；
[0009]形成有所述黑矩陣的襯底基板上形成有透明導(dǎo)電圖形，所述透明導(dǎo)電圖形的外邊緣和所述黑矩陣的內(nèi)邊緣存在重疊區(qū)域，所述透明導(dǎo)電圖形包括:多條橫向設(shè)置的觸摸驅(qū)動線Tx和多條縱向設(shè)置的觸摸感應(yīng)線Rx，以及多個空置塊，多條橫向設(shè)置的Tx和多條縱向設(shè)置的Rx相互絕緣；
[0010]其中，所述空置區(qū)中位于所述重疊區(qū)域中的空置塊的分布密度均大于位于所述可視區(qū)域的空置塊的分布密度。
[0011]可選的，所述多條橫向設(shè)置的Tx和多條縱向設(shè)置的Rx形成多個十字結(jié)構(gòu)，每個十字結(jié)構(gòu)以及位于所述十字結(jié)構(gòu)四角的空置區(qū)內(nèi)的多個空置塊組成一個觸控單元；
[0012]其中，每個位于所述重疊區(qū)域中的第一空置區(qū)中的空置塊的分布密度均大于位于所述可視區(qū)域的第二空置區(qū)中空置塊的分布密度，所述第一空置區(qū)域和所述第二空置區(qū)在不同觸控單元中的相對位置相同。
[0013]可選的，所述重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度大于30um。
[0014]可選的，所述重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度為lOOum。
[0015]可選的，所述透明導(dǎo)電圖形中任一圖形單元的邊角為圓角。
[0016]可選的，所述重疊區(qū)域中的多個空置塊的面積從遠(yuǎn)離到靠近主觸控線依次減小，所述主觸控線為Tx或Rx。
[0017]可選的，所述透明導(dǎo)電圖形為軸對稱圖形，且存在兩個互相垂直的對稱軸。
[0018]可選的，第一空置塊為所述重疊區(qū)域中與第一主觸控線相鄰的空置塊，所述第一主觸控線為所述Tx和所述Rx的某一個，
[0019]圍繞所述第一空置塊的間隙包括:所述第一空置塊與所述的第一主觸控線形成的間隙、所述第一空置塊與相鄰的空置塊形成的第一間隙，以及所述第一空置塊與黑矩陣的內(nèi)邊界形成的第二間隙；
[0020]其中，所述第一間隙的延伸方向平行所述第一主觸控線的設(shè)置方向，所述第一間隙從所述透明導(dǎo)電圖形的邊界延伸出所述黑矩陣的內(nèi)邊界預(yù)設(shè)距離，所述第二間隙的延伸方向平行所述黑矩陣的內(nèi)邊界，所述預(yù)設(shè)距離與所述可視區(qū)域中的圖形單元的間隙寬度相等。
[0021]可選的，所述透明導(dǎo)電圖形還包括翅膀線，所述翅膀線為從第二主觸控線上延伸出的，且設(shè)置方向與所述第二主觸控線的設(shè)置方向不同的從觸控線，所述第二主觸控線為所述Tx和所述Rx的某一個，
[0022]第二空置塊為所述重疊區(qū)域中與所述第二主觸控線、所述翅膀線均相鄰的空置塊，第三空置塊為所述重疊區(qū)域中與所述第二主觸控線不相鄰且與所述翅膀線均相鄰的空置塊，
[0023]圍繞所述第二空置塊的間隙包括:所述第二空置塊分別與所述第二主觸控線、所述翅膀線形成的間隙、所述第二空置塊與相鄰的空置塊形成的第三間隙，以及所述第二空置塊與黑矩陣的內(nèi)邊界形成的第四間隙；
[0024]圍繞所述第三空置塊的間隙包括:所述第三空置塊與所述翅膀線形成的間隙和所述第三空置塊與相鄰的空置塊形成的第五間隙；
[0025]其中，所述第三間隙的延伸方向平行所述第一主觸控線的設(shè)置方向，所述第三間隙從所述翅膀線與所述第二空置塊的間隙處開始，直至延伸出所述黑矩陣的內(nèi)邊界預(yù)設(shè)距離終止，所述第四間隙的延伸方向平行所述黑矩陣的內(nèi)邊界，所述第五間隙的延伸方向平行所述翅膀線的設(shè)置方向，所述預(yù)設(shè)距離與所述可視區(qū)域中的圖形單元的間隙寬度相等。
[0026]可選的，所述透明導(dǎo)電圖形由氧化銦錫ITO制成。
[0027]可選的，所述襯底基板為透明玻璃。
[0028]第二方面，提供一種觸控裝置，包括:第一方面任一所述的觸控面板。
[0029]第三方面，提供一種觸控面板，所述觸控面板包括:
[0030]襯底基板；
[0031]在所述襯底基板上形成有黑矩陣，所述黑矩陣位于所述襯底基板邊緣的環(huán)形區(qū)域；
[0032]形成有所述黑矩陣的襯底基板上形成有透明導(dǎo)電圖形，所述透明導(dǎo)電圖形的外邊緣和所述黑矩陣的內(nèi)邊緣存在重疊區(qū)域，所述透明導(dǎo)電圖形包括:多條橫向設(shè)置的觸摸驅(qū)動線Tx和多條縱向設(shè)置的觸摸感應(yīng)線Rx，以及多個空置塊，多條橫向設(shè)置的Tx和多條縱向設(shè)置的Rx相互絕緣；
[0033]其中，所述重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度大于30um。
[0034]可選的，所述重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度為lOOum。
[0035]本發(fā)明實施例提供的技術(shù)方案帶來的有益效果是:
[0036]本發(fā)明實施例提供的觸控面板及其制造方法、觸控裝置，由于透明導(dǎo)電圖形中存在位于重疊區(qū)域中的空置塊的分布密度大于位于可視區(qū)域中的空置塊的分布密度，由于位于重疊區(qū)域W中的空置塊的分布密度較大，也即是，在單位面積中，重疊區(qū)域中的空置塊的個數(shù)較多，重疊區(qū)域中的每個空置塊的面積相對較小，在Tx或Rx與空置塊發(fā)生短路時，由于BM區(qū)上，空置塊的面積較小，對Tx和Rx電容的大小的影響較弱，從而有效減少了對觸控面板的觸摸效果的影響。
【附圖說明】
[0037]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0038]圖1-1是本發(fā)明實施例提供的一種觸控面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0039]圖1-2為圖1-1中未對BM進(jìn)行陰影標(biāo)示的觸控面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖2為全部區(qū)域位于圖1-1中VA的觸控單元LI的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0041]圖3至圖6分別存在部分區(qū)域為位于圖1所示的重疊區(qū)域的上邊緣、下邊緣、左邊緣和右邊緣的觸控單元L2、L3、L4和L5的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0042]圖7至圖10為存在部分區(qū)域分別位于圖1所示的重疊區(qū)域的左上角、右上角、左下角和右下角的觸控單元L6、L7、L8和L9的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0043]圖11為本發(fā)明實施例提供的不帶有翅膀線的透明觸控電極的觸控單元的局部示意圖；
[0044]圖12為本發(fā)明實施例提供的帶有翅膀線的透明觸控電極的觸控單元的局部示意圖；
[0045]圖13是一種傳統(tǒng)的觸控面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0046]圖14是本發(fā)明實施例提供的一種觸控面板的部分結(jié)構(gòu)示意圖；
[0047]圖15是本發(fā)明實施例提供的一種觸控面板的制造方法流程圖；
[0048]圖16是本發(fā)明實施例提供的形成BM的襯底基板的截面視圖；
[0049]圖17是本發(fā)明實施例提供的形成BM的襯底基板的俯視圖；
[0050]圖18是本發(fā)明實施例的一種觸控面板的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0051]為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明實施方式作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。
[0052]如圖1-1所示，圖1-1是本發(fā)明實施例提供的一種觸控面板10的結(jié)構(gòu)示意圖，觸控面板1包括:
[0053]襯底基板(圖1-1中未標(biāo)示)，該襯底基板可以為透明玻璃。
[0054]在襯底基板上形成有BMlOl，BM101位于襯底基板邊緣的環(huán)形區(qū)域(圖1-1中的陰影區(qū)域)。
[0055]形成有BMlOl的襯底基板上形成有透明導(dǎo)電圖形102(圖1-1中虛線框中的圖形)，透明導(dǎo)電圖形102的外邊緣和BM的內(nèi)邊緣存在重疊區(qū)域W，為了更為清晰地進(jìn)行說明，如圖1 -2所示，圖1 -2為圖1 -1中未對BM進(jìn)行陰影標(biāo)示的觸控面板的結(jié)構(gòu)示意圖，透明導(dǎo)電圖形102包括:多條橫向設(shè)置的觸摸驅(qū)動線Txl021和多條縱向設(shè)置的觸摸感應(yīng)線Rxl022，以及多個空置塊1023，多條橫向設(shè)置的Txl021和多條縱向設(shè)置的Rxl022相互絕緣。在本發(fā)明實施例中，Txl021和Rxl022可以是通過一次構(gòu)圖工藝形成的同層設(shè)置的圖形，通過設(shè)置間隙使兩者絕緣。進(jìn)一步的，透明導(dǎo)電圖形102還包括:多個導(dǎo)電橋1024，該多個導(dǎo)電橋用于連接該多個橫向設(shè)置的Tx。
[0056]其中，位于重疊區(qū)域中的空置塊的分布密度大于位于VA中的空置塊的分布密度。本發(fā)明實施例中，空置塊的分布密度指的是在單位面積內(nèi)空置塊分布的緊密程度。單位面積內(nèi)空置塊的個數(shù)越多，其分布密度越大。
[0057]綜上所述，本發(fā)明實施例提供的觸控面板，透明導(dǎo)電圖形中存在位于重疊區(qū)域中的空置塊的分布密度大于位于VA中的空置塊的分布密度，由于位于重疊區(qū)域中的空置塊的分布密度較大，也即是，在單位面積中，重疊區(qū)域中的空置塊的個數(shù)較多，重疊區(qū)域中的每個空置塊的面積相對較小，在Tx或Rx與空置塊發(fā)生短路時，由于BM區(qū)上，空置塊的面積較小，對Tx和Rx電容的大小的影響較弱，從而有效減少了對觸控面板的觸摸效果的影響。
[0058]進(jìn)一步的，多條橫向設(shè)置的Tx和多條縱向設(shè)置的Rx形成多個十字結(jié)構(gòu)M。如圖2所示，每個十字結(jié)構(gòu)M以及位于十字結(jié)構(gòu)M四角的空置區(qū)N(該空置區(qū)類似于矩形區(qū)，圖2以矩形虛線框示意性標(biāo)出)內(nèi)的多個空置塊1023組成一個觸控單元。示例的，透明導(dǎo)電圖形102可以由ITO制成?？蛇x的，透明導(dǎo)電圖形102為軸對稱圖形，且存在兩個互相垂直的對稱軸。如圖1-2所示，該透明導(dǎo)電圖形102近似于矩形，這樣可以保證觸控面板的光學(xué)性能的一致性。
[0059]如圖1-2所示，空置區(qū)中位于重疊區(qū)域中的空置塊的分布密度均大于位于VA的空置塊的分布密度。例如，圖1-2中位于重疊區(qū)域W中的的部分空置區(qū)NI中的空置塊的分布密度大于位于VA的空置區(qū)N2的空置塊的分布密度，本發(fā)明實施例中，VA也即是透明導(dǎo)電圖形上除重疊區(qū)域之外的區(qū)域。
[0060]實際應(yīng)用中，位于重疊區(qū)域中的可以是一個空置區(qū)的部分或全部，圖1-1和圖1-2是以位于重疊區(qū)域中的空置區(qū)均為部分空置區(qū)為例進(jìn)行說明的。并且，透明導(dǎo)電圖形102中的Tx和Rx的個數(shù)是根據(jù)觸控面板的尺寸來適應(yīng)性設(shè)置的，圖1-1和圖1-2只是以3個1^和3個Rx為例進(jìn)行說明。
[0061]在本發(fā)明實施例中，重疊區(qū)域中的空置塊的分布規(guī)律通常是空置塊的面積正相關(guān)于該空置塊與主觸控線的距離，也即是，空置塊越靠近主觸控線，其面積越小。該主觸控線可以為Tx或Rx。優(yōu)選的，該重疊區(qū)域中的多個空置塊的面積從遠(yuǎn)離到靠近主觸控線依次減小。由于靠近主觸控線的空置塊的面積較小，當(dāng)主觸控線與該空置塊發(fā)生短路時，對Tx和Rx電容的大小的影響較弱，從而有效減少了對觸控面板的觸摸效果的影響。
[0062]但是實際應(yīng)用中，由于透明導(dǎo)電圖形的空置塊的形狀各異，通常是不規(guī)則形狀，不一定能保證重疊區(qū)域中的多個空置塊的面積從遠(yuǎn)離到靠近觸控線依次減小。因此，通常保證重疊區(qū)域中靠近觸控線的空置塊的面積小于預(yù)設(shè)面積即可，該預(yù)設(shè)面積為在該空置塊與觸控線短路時，對Tx和Rx電容的大小的影響小于預(yù)設(shè)程度時，對應(yīng)的面積。
[0063]圖2至圖10均為本發(fā)明實施例提供的觸控單元的結(jié)構(gòu)示意圖，其中，圖2為全部區(qū)域位于圖1 -1中VA的觸控單元LI的結(jié)構(gòu)示意圖，由圖1-1可以看出，全部區(qū)域位于VA的觸控單元的結(jié)構(gòu)相同，均與觸控單元LI的結(jié)構(gòu)相同；圖3至圖6分別存在部分區(qū)域為位于圖1所示的重疊區(qū)域的上邊緣、下邊緣、左邊緣和右邊緣的觸控單元L2、L3、L4和L5的結(jié)構(gòu)示意圖；圖7至圖10為存在部分區(qū)域分別位于圖1所示的重疊區(qū)域的左上角、右上角、左下角和右下角的觸控單元L6、L7、L8和L9的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0064]透明觸控電極102通?？梢苑譃閮深?，帶有翅膀(wing)線的透明觸控電極和不帶有翅膀線的透明觸控電極。其中，圖1-1至圖10中的透明觸控電極102均為帶有翅膀線的透明觸控電極，由圖1 -1至圖1O可以看出，本發(fā)明實施例中的透明觸控電極102還可以包括翅膀(wing)線，該翅膀線為從某一主觸控線上延伸出的，且設(shè)置方向與該某一主觸控線的設(shè)置方向不同的從觸控線，該某一主觸控線為Tx和Rx的某一個。設(shè)置有翅膀線的透明觸控電極102的整體電阻較小，觸控單元的銜接更順暢。
[0065]圖11為本發(fā)明實施例提供的不帶有翅膀線的透明觸控電極的觸控單元的局部示意圖。如圖11所示，第一空置塊為重疊區(qū)域中與第一主觸控線相鄰的空置塊，第一主觸控線為Tx和Rx的某一個，圍繞第一空置塊的間隙包括:第一空置塊與第一主觸控線形成的間隙、第一空置塊與相鄰的空置塊形成的第一間隙，以及第一空置塊與BM的內(nèi)邊界形成的第二間隙。該相鄰的空置塊可以為一個或多個。
[0066]示例的，假設(shè)圖11中第一主觸控線為Tx，第一空置塊為A，圍繞第一空置塊A的間隙包括:第一空置塊A與第一主觸控線Tx形成的間隙al、第一空置塊A與相鄰的空置塊形成的第一間隙a2，以及第一空置塊A與BM的內(nèi)邊界形成的第二間隙a3。
[0067]示例的，假設(shè)圖11第一主觸控線為Rx，第一空置塊為B，圍繞第一空置塊B的間隙包括:第一空置塊B與第一主觸控線Rx形成的間隙bl、第一空置塊B與相鄰的空置塊形成的第一間隙b2，以及第一空置塊B與BM的內(nèi)邊界形成的第二間隙b3。
[0068]其中，第一間隙的延伸方向平行第一主觸控線的設(shè)置方向，第一間隙從透明導(dǎo)電圖形的邊界延伸出BM的內(nèi)邊界預(yù)設(shè)距離，第二間隙的延伸方向平行BM的內(nèi)邊界，該預(yù)設(shè)距離與VA中的圖形單元的間隙寬度相等，通常為30um。這樣可以保證VA的光學(xué)均勻性并且減少ESD的發(fā)生。該第二間隙的兩個邊界分別和BM的內(nèi)邊界存在一定距離，其中靠近VA的邊界與BM的內(nèi)邊界的距離為上述預(yù)設(shè)距離F，另一個邊界與該BM的內(nèi)邊界的距離可以為30um至90um，優(yōu)選為 30um。
[0069]圖12為本發(fā)明實施例提供的帶有翅膀線的透明觸控電極的觸控單元的局部示意圖。如圖12所示，透明導(dǎo)電圖形還包括翅膀線，翅膀線為從第二主觸控線上延伸出的，且設(shè)置方向與第二主觸控線的設(shè)置方向不同的觸控線，第二主觸控線為Tx和Rx的某一個。
[0070]第二空置塊為重疊區(qū)域中與第二主觸控線、翅膀線均相鄰的空置塊，第三空置塊為重疊區(qū)域中與第二主觸控線不相鄰且與翅膀線均相鄰的空置塊。
[0071]圍繞第二空置塊的間隙包括:第二空置塊分別與第二主觸控線、翅膀線形成的間隙、第二空置塊與相鄰的空置塊形成的第三間隙，以及第二空置塊與BM的內(nèi)邊界形成的第四間隙；圍繞第三空置塊的間隙包括:第三空置塊與翅膀線形成的間隙和第三空置塊與相鄰的空置塊形成的第五間隙。
[0072]示例的，假設(shè)圖12假設(shè)第二主觸控線為Tx，第二空置塊為C，第三空置塊為D，翅膀線為Tw，圍繞第二空置塊C的間隙包括:第二空置塊C分別與第二主觸控線Τχ、翅膀線Tw形成的間隙Cl、第二空置塊C與相鄰的空置塊形成的第三間隙c2，以及第二空置塊C與BM的內(nèi)邊界形成的第四間隙c3;圍繞第三空置塊D的間隙包括:第三空置塊D與翅膀線Tw形成的間隙dl和第三空置塊D與相鄰的空置塊形成的第五間隙d2。
[0073]其中，第三間隙的延伸方向平行第一主觸控線的設(shè)置方向，第三間隙從翅膀線與第二空置塊的間隙處開始，直至延伸出BM的內(nèi)邊界預(yù)設(shè)距離終止，第四間隙的延伸方向平行BM的內(nèi)邊界，第五間隙的延伸方向平行翅膀線的設(shè)置方向，該預(yù)設(shè)距離與VA中的圖形單元的間隙寬度相等，通常為30um。這樣可以保證VA的光學(xué)均勻性并且減少ESD的發(fā)生。該第四間隙的兩個邊界分別和BM的內(nèi)邊界存在一定距離，其中靠近VA的邊界與BM的內(nèi)邊界的距離為上述預(yù)設(shè)距離F，另一個邊界與該BM的內(nèi)邊界的距離可以為30um至90um，優(yōu)選的為30umo
[0074]需要說明的是，實際應(yīng)用中，重疊區(qū)域中與第二主觸控線不相鄰且與翅膀線均相鄰的第三空置塊，圍繞其的間隙也可以不存在與翅膀線的設(shè)置方向平行的間隙，只要保證該第三空置塊的面積較小即可，例如，圖12中，第三空置塊也可以為E，則第三空置塊E與翅膀線形成的間隙el和第三空置塊E與相鄰的空置塊形成的第五間隙e2，該第五間隙e2與翅膀線的設(shè)置方向不平行。
[0075]進(jìn)一步的，在帶有翅膀線的透明觸控電極的觸控單元中，如果有的觸控單元的空置塊僅與Tx或Rx相鄰，該空置塊的結(jié)構(gòu)可以參考圖11所示的第一空置塊的結(jié)構(gòu)。本發(fā)明實施例對此不作贅述。
[0076]采用圖11和圖12所示的空置塊的構(gòu)圖方式來形成透明導(dǎo)電圖形，可以保證與主觸控線的相鄰的空置塊的面積較小，對Tx和Rx電容的大小的影響小于預(yù)設(shè)程度。并且形成該透明導(dǎo)電圖形只需在構(gòu)圖工藝中將掩膜版的透光區(qū)域或不透光區(qū)域的形狀進(jìn)行調(diào)整，就可以得到該透明導(dǎo)電圖形了。
[0077]進(jìn)一步的，在存在翅膀線且實際允許的情況下，重疊區(qū)域中的空置塊的分布規(guī)律也可以包括空置塊的面積正相關(guān)于該空置塊與翅膀線的距離，也即是，空置塊越靠近翅膀線，其面積越小。
[0078]如圖13所示，圖13是一種傳統(tǒng)的觸控面板20的結(jié)構(gòu)示意圖(為了圖13的清晰，未對BM進(jìn)行陰影標(biāo)示)，觸控面板20包括:襯底基板;在襯底基板上形成有BM，BM位于襯底基板邊緣的環(huán)形區(qū)域;形成有BM的襯底基板上形成有透明導(dǎo)電圖形201，透明導(dǎo)電圖形201的外邊緣和BM的內(nèi)邊緣存在重疊區(qū)域，透明導(dǎo)電圖形201包括:多條橫向設(shè)置的觸摸驅(qū)動線Tx和多條縱向設(shè)置的觸摸感應(yīng)線Rx，以及多個空置塊，多條橫向設(shè)置的Tx和多條縱向設(shè)置的Rx相互絕緣，且形成多個十字結(jié)構(gòu)。每個十字結(jié)構(gòu)以及位于十字結(jié)構(gòu)四角的空置區(qū)內(nèi)的多個空置塊組成一個觸控單元;透明導(dǎo)電圖形201中每個觸控單元LO的結(jié)構(gòu)相同，相關(guān)技術(shù)中，通常將觸控單元稱為Pixel(英文:像素)，圖13的透明導(dǎo)電圖形201實際上是由同一個Pixel陣列而來。示例的，每個觸控單元LO的結(jié)構(gòu)可以參考圖2所示的觸控單元的結(jié)構(gòu)LI。
[0079]因此，將圖1-1、圖1-2或圖3至圖10中提供的觸控單元與圖13提供的觸控單元進(jìn)行比較，可以明顯看出，在本發(fā)明實施例提供的觸控面板10中，BM與透明導(dǎo)電圖形的重疊區(qū)域中空置塊的分布密度明顯大于傳統(tǒng)的觸控面板20的分布密度。也即是，在單位面積中，重疊區(qū)域中的空置塊的個數(shù)較多，每個空置塊的面積相對較小，在Tx或Rx與空置塊發(fā)生短路時，由于BM區(qū)上，空置塊的面積較小，對Tx和Rx電容的大小的影響較弱，從而有效減少了對觸控面板的觸摸效果的影響。并且，本發(fā)明實施例中，改變的是透明導(dǎo)電圖形的非顯示區(qū)域上的空置塊的結(jié)構(gòu)，不影響其VA的顯示。
[0080]傳統(tǒng)的觸控面板20中，為了改善VA的光學(xué)效果，VA中相鄰的各個圖形單元的間隙寬度通常為30um(微米)，為了保證觸控面板整體結(jié)構(gòu)的均一性，透明導(dǎo)電圖形上所有的圖形單元的間隙寬度均設(shè)置為固定的寬度，也即是30um。本發(fā)明實施例中，圖形單元可以為構(gòu)成透明導(dǎo)電圖形的最小獨立圖形，如空置塊、Tx等。
[0081]但是，發(fā)明人經(jīng)過多次的實驗證實，在透明導(dǎo)電圖形和BM的重疊區(qū)域中，兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度越大，產(chǎn)生短路的概率越低，因此，在本發(fā)明實施例中，位于該重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度可以大于30um。這樣會有效降低重疊區(qū)域短路的概率。
[0082]但是，實際應(yīng)用中，BM區(qū)圖形單元的間隙寬度增大時，單個觸控單元的節(jié)點互容值會增大，當(dāng)間隙寬度過大時(例如大于10um)，節(jié)點電容值的增大過多，這樣BM區(qū)的節(jié)點電容值普遍比VA的節(jié)點電容值大很多，導(dǎo)致透明導(dǎo)電圖形的均勻性差，影響觸控面板邊緣區(qū)域的觸摸性能。由于與Tx、Rx分別連接的驅(qū)動集成電路(英文:Integrated Circuit;簡稱:IC)芯片所能支持的間隙寬度的上限為10um(也即是，在間隙寬度為10um以內(nèi)時，節(jié)點電容值在驅(qū)動IC芯片的可接受范圍內(nèi)，此時對觸控面板邊緣區(qū)域的觸摸性能影響不大)，為了保證驅(qū)動IC芯片的有效驅(qū)動，優(yōu)選的，如圖14所示，本發(fā)明實施例所提供的觸控面板10中，重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度為10um JA的間隙寬度依然可以為30umo
[0083]需要說明的是，導(dǎo)體表面有電荷堆積時，電荷密度與導(dǎo)體表面的形狀有關(guān)，由于尖銳處曲率大，電力線密集，電荷密度在平緩的部位小，在尖的部位最大。因此，導(dǎo)體的尖端容易聚集電荷，當(dāng)電荷密度達(dá)到一定的量值后，電荷產(chǎn)生的電場會很大，就容易會出現(xiàn)尖端放電現(xiàn)象。
[0084]本發(fā)明實施例中，為了避免尖端放電現(xiàn)象的產(chǎn)生，透明導(dǎo)電圖形中任一圖形單元的邊角為圓角，而圓角相對于尖銳的銳角，其曲率較小，實現(xiàn)圖形的平滑過渡，能夠減少電荷聚集，避免尖端放電現(xiàn)象的產(chǎn)生。
[0085]綜上所述，本發(fā)明實施例提供的觸控面板，透明導(dǎo)電圖形中存在位于重疊區(qū)域中的空置塊的分布密度大于位于VA中的空置塊的分布密度，由于位于重疊區(qū)域W中的空置塊的分布密度較大，也即是，在單位面積中，重疊區(qū)域中的空置塊的個數(shù)較多，重疊區(qū)域中的每個空置塊的面積相對較小，在Tx或Rx與空置塊發(fā)生短路時，由于BM區(qū)上，空置塊的面積較小，對Tx和Rx電容的大小的影響較弱，從而有效減少了對觸控面板的觸摸效果的影響。
[0086]本發(fā)明實施例提供一種觸控面板的制造方法，用于制造本發(fā)明上述實施例提供的觸控面板10，如圖15所示，該制造方法包括:
[0087]步驟301、在襯底基板上形成BM，該BM位于襯底基板邊緣的環(huán)形區(qū)域。
[0088]示例的，可以通過沉積或涂覆工藝在襯底基板上形成BM層，再對該BM層通過一次構(gòu)圖工藝處理得到BM。其中，一次構(gòu)圖工藝可以包括光刻膠涂覆、曝光、顯影、刻蝕和光刻膠剝離等工藝。
[0089 ] 形成BMl OI的襯底基板103的截面視圖如圖16所示，俯視圖如圖17所示。
[0090]步驟302、在形成有BM的襯底基板上形成透明導(dǎo)電圖形，透明導(dǎo)電圖形的外邊緣和BM的內(nèi)邊緣存在重疊區(qū)域，透明導(dǎo)電圖形包括:多條橫向設(shè)置的觸摸驅(qū)動線Tx和多條縱向設(shè)置的觸摸感應(yīng)線Rx，以及多個空置塊，多條橫向設(shè)置的Tx和多條縱向設(shè)置的Rx相互絕緣。
[0091]示例的，可以通過沉積或涂覆工藝在襯底基板上形成透明導(dǎo)電層，再對該透明導(dǎo)電層通過一次構(gòu)圖工藝處理得到透明導(dǎo)電圖形。其中，一次構(gòu)圖工藝可以包括光刻膠涂覆、曝光、顯影、刻蝕和光刻膠剝離等工藝。
[0092]需要說明的是，在步驟302之前或步驟302之后，該方法還包括:在襯底基板上形成多個導(dǎo)電橋，該多個導(dǎo)電橋用于連接該多個橫向設(shè)置的Tx，該多個橫向設(shè)置的Tx能夠通過該導(dǎo)電橋進(jìn)行信號的傳輸。在本發(fā)明實施例中，可以通過5次構(gòu)圖工藝，也稱5mask(中文:掩膜)，或者6次構(gòu)圖工藝，也稱6mask，形成該觸控面板。在通過5次構(gòu)圖工藝形成該觸控面板的場景中，該導(dǎo)電橋由金屬(Metal)材質(zhì)形成;在通過6次構(gòu)圖工藝形成該觸控面板的場景中，該導(dǎo)電橋由ITO材質(zhì)形成，與透明導(dǎo)電圖形的形成材質(zhì)相同。具體的構(gòu)圖工藝可以參考相關(guān)技術(shù)，本發(fā)明實施例對此不再贅述。
[0093 ]形成導(dǎo)電橋和透明導(dǎo)電層的襯底基板俯視圖可以如圖1-1或圖1 -2所示。
[0094]其中，位于重疊區(qū)域中的空置塊的分布密度大于位于VA中的空置塊的分布密度。多條橫向設(shè)置的Tx和多條縱向設(shè)置的Rx形成多個十字結(jié)構(gòu)，每個十字結(jié)構(gòu)以及位于十字結(jié)構(gòu)四角的空置區(qū)內(nèi)的多個空置塊組成一個觸控單元。其中，每個位于重疊區(qū)域中的第一空置區(qū)中的空置塊的分布密度均大于位于VA的第二空置區(qū)中空置塊的分布密度，第一空置區(qū)域和第二空置區(qū)在不同觸控單元中的相對位置相同。
[0095]可選的，位于重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度大于30um。
[0096]可選的，重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度為lOOum。
[0097]可選的，透明導(dǎo)電圖形中任一圖形單元的邊角為圓角。
[0098]可選的，透明導(dǎo)電圖形為軸對稱圖形，且存在兩個互相垂直的對稱軸。
[0099]本發(fā)明實施例中觸控面板的制造方法的具體解釋可以參考上述裝置實施例中的相應(yīng)解釋，本發(fā)明實施例對此不再贅述。
[0100]綜上所述，本發(fā)明實施例提供的觸控面板的制造方法，由于透明導(dǎo)電圖形中存在位于重疊區(qū)域中的空置塊的分布密度大于位于VA中的空置塊的分布密度，由于位于重疊區(qū)±或評中的空置塊的分布密度較大，也即是，在單位面積中，重疊區(qū)域中的空置塊的個數(shù)較多，重疊區(qū)域中的每個空置塊的面積相對較小，在Tx或Rx與空置塊發(fā)生短路時，由于BM區(qū)上，空置塊的面積較小，對Tx和Rx電容的大小的影響較弱，從而有效減少了對觸控面板的觸摸效果的影響。
[0101]本發(fā)明實施例提供一種觸控裝置，本發(fā)明任一實施例提供的觸控面板10。本發(fā)明實施例提供的觸控裝置可以為手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有觸控顯示功能的產(chǎn)品或部件。
[0102]本發(fā)明實施例還提供一種觸控面板40，如圖18所示，觸控面板包括:
[0103]襯底基板(圖18未標(biāo)示)。
[0104]在襯底基板上形成有BM401，BM位于襯底基板邊緣的環(huán)形區(qū)域；
[0105]形成有BM的襯底基板上形成有透明導(dǎo)電圖形402，透明導(dǎo)電圖形的外邊緣和BM的內(nèi)邊緣存在重疊區(qū)域，透明導(dǎo)電圖形包括:多條橫向設(shè)置的觸摸驅(qū)動線Tx和多條縱向設(shè)置的觸摸感應(yīng)線Rx，以及多個空置塊，多條橫向設(shè)置的Tx和多條縱向設(shè)置的Rx相互絕緣；
[0106]其中，重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度大于30um。
[0107]可選的，重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度為1O u m。圖18以I OOum為例進(jìn)行了標(biāo)示。
[0108]傳統(tǒng)的觸控面板20中，如圖13所示，為了改善VA的光學(xué)效果，VA中相鄰的各個圖形單元的間隙寬度通常為30um(微米)，為了保證觸控面板整體結(jié)構(gòu)的均一性，透明導(dǎo)電圖形上所有的圖形單元的間隙寬度均設(shè)置為固定的寬度，也即是30um。
[0109]但是，發(fā)明人經(jīng)過多次的實驗證實，在透明導(dǎo)電圖形和BM的重疊區(qū)域中，兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度越大，產(chǎn)生短路的概率越低，因此，在本發(fā)明實施例中，位于該重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度可以大于30um。這樣會有效降低重疊區(qū)域短路的概率。
[0110]但是，實際應(yīng)用中，BM區(qū)圖形單元的間隙寬度增大時，單個觸控單元的節(jié)點互容值會增大，當(dāng)間隙寬度過大時(例如大于10um)，節(jié)點電容值的增大過多，這樣BM區(qū)的節(jié)點電容值普遍比VA的節(jié)點電容值大很多，導(dǎo)致透明導(dǎo)電圖形的均勻性差，影響觸控面板邊緣區(qū)域的觸摸性能。由于與Tx、Rx分別連接的驅(qū)動集成電路(英文:Integrated Circuit;簡稱:IC)芯片所能支持的間隙寬度的上限為10um(也即是，在間隙寬度為10um以內(nèi)時，節(jié)點電容值在驅(qū)動IC芯片的可接受范圍內(nèi)，此時對觸控面板邊緣區(qū)域的觸摸性能影響不大)，為了保證驅(qū)動IC芯片的有效驅(qū)動，優(yōu)選的，如圖14所示，本發(fā)明實施例所提供的觸控面板10中，重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度為10um JA的間隙寬度依然可以為30umo
[0111]需要說明的是，導(dǎo)體表面有電荷堆積時，電荷密度與導(dǎo)體表面的形狀有關(guān)，由于尖銳處曲率大，電力線密集，電荷密度在平緩的部位小，在尖的部位最大。因此，導(dǎo)體的尖端容易聚集電荷，當(dāng)電荷密度達(dá)到一定的量值后，電荷產(chǎn)生的電場會很大，就容易會出現(xiàn)尖端放電現(xiàn)象。
[0112]綜上所述，本發(fā)明實施例提供的觸控面板，由于重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度大于30um有效降低重疊區(qū)域短路的概率，并且，在任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度為10um時，能夠在保證驅(qū)動IC芯片的有效驅(qū)動的前提下，實現(xiàn)盡量減少重疊區(qū)域短路的概率。
[0113]需要說明的是，本發(fā)明實施例中所述的“相鄰”是指兩個圖形通過間隙絕緣，但是挨得最近。
[0114]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種觸控面板，其特征在于，所述觸控面板包括: 襯底基板； 在所述襯底基板上形成有黑矩陣，所述黑矩陣位于所述襯底基板邊緣的環(huán)形區(qū)域； 形成有所述黑矩陣的襯底基板上形成有透明導(dǎo)電圖形，所述透明導(dǎo)電圖形的外邊緣和所述黑矩陣的內(nèi)邊緣存在重疊區(qū)域，所述透明導(dǎo)電圖形包括:多條橫向設(shè)置的觸摸驅(qū)動線Tx和多條縱向設(shè)置的觸摸感應(yīng)線Rx，以及多個空置塊，多條橫向設(shè)置的Tx和多條縱向設(shè)置的Rx相互絕緣； 其中，位于所述重疊區(qū)域中的空置塊的分布密度大于位于可視區(qū)域中的空置塊的分布FtFt也/又。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于，所述多條橫向設(shè)置的Tx和多條縱向設(shè)置的Rx形成多個十字結(jié)構(gòu)，每個十字結(jié)構(gòu)以及位于所述十字結(jié)構(gòu)四角的空置區(qū)內(nèi)的多個空置塊組成一個觸控單元； 其中，所述空置區(qū)中位于所述重疊區(qū)域中的空置塊的分布密度均大于位于所述可視區(qū)域的空置塊的分布密度。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于， 所述重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度大于30um。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控面板，其特征在于，所述重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度為10um05.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于， 所述透明導(dǎo)電圖形中任一圖形單元的邊角為圓角。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一所述的觸控面板，其特征在于，所述重疊區(qū)域中的多個空置塊的面積從遠(yuǎn)離到靠近主觸控線依次減小，所述主觸控線為Tx或Rx。7.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一所述的觸控面板，其特征在于，所述透明導(dǎo)電圖形為軸對稱圖形，且存在兩個互相垂直的對稱軸。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于，第一空置塊為所述重疊區(qū)域中與第一主觸控線相鄰的空置塊，所述第一主觸控線為所述Tx和所述Rx的某一個， 圍繞所述第一空置塊的間隙包括:所述第一空置塊與所述的第一主觸控線形成的間隙、所述第一空置塊與相鄰的空置塊形成的第一間隙，以及所述第一空置塊與黑矩陣的內(nèi)邊界形成的第二間隙； 其中，所述第一間隙的延伸方向平行所述第一主觸控線的設(shè)置方向，所述第一間隙從所述透明導(dǎo)電圖形的邊界延伸出所述黑矩陣的內(nèi)邊界預(yù)設(shè)距離，所述第二間隙的延伸方向平行所述黑矩陣的內(nèi)邊界，所述預(yù)設(shè)距離與所述可視區(qū)域中的圖形單元的間隙寬度相等。9.根據(jù)權(quán)利要求1或8所述的觸控面板，其特征在于，所述透明導(dǎo)電圖形還包括翅膀線，所述翅膀線為從第二主觸控線上延伸出的，且設(shè)置方向與所述第二主觸控線的設(shè)置方向不同的從觸控線，所述第二主觸控線為所述Tx和所述Rx的某一個， 第二空置塊為所述重疊區(qū)域中與所述第二主觸控線、所述翅膀線均相鄰的空置塊，第三空置塊為所述重疊區(qū)域中與所述第二主觸控線不相鄰且與所述翅膀線均相鄰的空置塊， 圍繞所述第二空置塊的間隙包括:所述第二空置塊分別與所述第二主觸控線、所述翅膀線形成的間隙、所述第二空置塊與相鄰的空置塊形成的第三間隙，以及所述第二空置塊與黑矩陣的內(nèi)邊界形成的第四間隙； 圍繞所述第三空置塊的間隙包括:所述第三空置塊與所述翅膀線形成的間隙和所述第三空置塊與相鄰的空置塊形成的第五間隙； 其中，所述第三間隙的延伸方向平行所述第一主觸控線的設(shè)置方向，所述第三間隙從所述翅膀線與所述第二空置塊的間隙處開始，直至延伸出所述黑矩陣的內(nèi)邊界預(yù)設(shè)距離終止，所述第四間隙的延伸方向平行所述黑矩陣的內(nèi)邊界，所述第五間隙的延伸方向平行所述翅膀線的設(shè)置方向，所述預(yù)設(shè)距離與所述可視區(qū)域中的圖形單元的間隙寬度相等。10.—種觸控裝置，其特征在于，包括:權(quán)利要求1至9任一所述的觸控面板。11.一種觸控面板，其特征在于，所述觸控面板包括: 襯底基板； 在所述襯底基板上形成有黑矩陣，所述黑矩陣位于所述襯底基板邊緣的環(huán)形區(qū)域； 形成有所述黑矩陣的襯底基板上形成有透明導(dǎo)電圖形，所述透明導(dǎo)電圖形的外邊緣和所述黑矩陣的內(nèi)邊緣存在重疊區(qū)域，所述透明導(dǎo)電圖形包括:多條橫向設(shè)置的觸摸驅(qū)動線Tx和多條縱向設(shè)置的觸摸感應(yīng)線Rx，以及多個空置塊，多條橫向設(shè)置的Tx和多條縱向設(shè)置的Rx相互絕緣； 其中，所述重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度大于30um。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的觸控面板，其特征在于，所述重疊區(qū)域中的任意兩個相鄰的圖形單元的間隙寬度為10um0
【文檔編號】G06F3/041GK106055147SQ201610355428
【公開日】2016年10月26日
【申請日】2016年5月25日
【發(fā)明人】鄭啟濤, 胡明, 張明, 許世峰, 朱雨, 田新斌, 劉純建
【申請人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 合肥鑫晟光電科技有限公司