專(zhuān)利名稱(chēng)：噴嘴清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于清洗處理液供給噴嘴的噴嘴清洗裝置，該處理液供給噴 嘴從在長(zhǎng)尺狀的狹縫噴嘴的下端部形成的狹縫狀的吐出口吐出處理液。
背景技術(shù)：
在對(duì)半導(dǎo)體晶片、液晶顯示面板用玻璃基板或者半導(dǎo)體制造裝置用掩模 基板等基板，涂敷光致抗蝕劑等處理液的涂敷裝置中，通過(guò)從在長(zhǎng)尺狀的狹 縫噴嘴的下端部形成的狹縫狀的吐出口吐出處理液，對(duì)基板表面涂敷處理液。 該涂敷裝置為由噴嘴清洗裝置清洗因涂敷處理液而污染的噴嘴的結(jié)構(gòu)。
例如，作為這種噴嘴清洗裝置，如在日本國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)JP2005-262127 號(hào)公報(bào)中所記載的那樣，使用了通過(guò)向噴嘴下端部供給清洗液來(lái)清洗噴嘴的 噴嘴清洗裝置。
另外，也提出了如在日本國(guó)專(zhuān)利公開(kāi)JP2004-122065號(hào)公報(bào)中所記載的那 樣，通過(guò)利用由供給了清洗液的多孔材料構(gòu)成的拂拭構(gòu)件來(lái)清洗噴嘴的噴嘴 清洗裝置。
如日本國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)JP2005-262127號(hào)公報(bào)中所記載的那樣，在采用了 僅通過(guò)清洗液來(lái)清洗噴嘴的結(jié)構(gòu)時(shí)，存在由于處理液的種類(lèi)不同無(wú)法充分洗 凈噴嘴的情況。此外，如日本國(guó)專(zhuān)利公開(kāi)JP2004-122065號(hào)公報(bào)中所記載的 那樣，在使用了由多孔材料構(gòu)成的拂拭構(gòu)件時(shí)，會(huì)產(chǎn)生因拂拭構(gòu)件接觸噴嘴 而發(fā)生損傷的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述課題而做出的，其目的在于提供一種在長(zhǎng)時(shí)間內(nèi) 對(duì)噴嘴進(jìn)行充分清洗的噴嘴清洗裝置。
本申請(qǐng)的第一方案是一種噴嘴清洗裝置，用于清洗處理液供給噴嘴，該 處理液供給噴嘴從在長(zhǎng)尺狀的狹縫噴嘴的下端部上形成的狹縫狀的吐出口吐
出處理液，其特征在于，具備清洗區(qū)，其具有可抵接于所述狹縫噴嘴的下端部的下面上的下面清洗構(gòu)件；朝向所述狹縫噴嘴的長(zhǎng)度方向，可抵接于所 述下端部的右側(cè)面的右側(cè)面清洗構(gòu)件；相對(duì)于所述狹縫噴嘴長(zhǎng)度方向，配設(shè) 于與所述右側(cè)面清洗構(gòu)件不同的位置，并朝向所述狹縫噴嘴的長(zhǎng)度方向可抵 接于所述下端部的左側(cè)面的左側(cè)面清洗構(gòu)件，移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使所述清洗區(qū)在 清洗區(qū)域和待機(jī)位置之間往復(fù)移動(dòng)，其中，該清洗區(qū)域是所述清洗區(qū)利用所 述下面清洗構(gòu)件、所述右側(cè)面清洗構(gòu)件以及所述左側(cè)面清洗構(gòu)件清洗狹縫噴 嘴的下端部的同時(shí)進(jìn)行移動(dòng)的區(qū)域；該待機(jī)位置是所述下面清洗構(gòu)件、右側(cè) 面清洗構(gòu)件以及左側(cè)面清洗構(gòu)件從狹縫噴嘴分離開(kāi)的位置；第一噴嘴，其在 所述清洗區(qū)配置于所述清洗區(qū)域時(shí)，設(shè)置在所述清洗區(qū)的隔著所述狹縫噴嘴 而與所述右側(cè)面清洗構(gòu)件相對(duì)向的位置上，并能夠向所述右側(cè)面清洗構(gòu)件吐 出清洗液；第二噴嘴，其在所述清洗區(qū)配置于所述清洗區(qū)域時(shí)，設(shè)置在所述 清洗區(qū)的隔著所述狹縫噴嘴而與所述左側(cè)面清洗構(gòu)件相對(duì)向的位置上，并能 夠向所述左側(cè)面清洗構(gòu)件吐出清洗液；清洗液供給部，其在清洗區(qū)在所述清 洗區(qū)域內(nèi)移動(dòng)時(shí)、和在清洗區(qū)配置于所述待機(jī)位置時(shí)，向所述第一噴嘴以及 所述第二噴嘴供給清洗液。
本申請(qǐng)的第二方案是在第一方案所述發(fā)明的基礎(chǔ)上，還具有能夠向所述 下面清洗構(gòu)件吐出清洗液的第三噴嘴，而且，所述清洗液供給部在清洗區(qū)在 所述清洗區(qū)域內(nèi)移動(dòng)時(shí)、和在清洗區(qū)配置于所述待機(jī)位置時(shí)，向所述第三噴 嘴供給清洗液。
本申請(qǐng)的第三方案是在第一或第二方案所述發(fā)明的基礎(chǔ)上，還具備右 側(cè)面用氣體噴出裝置，其配置于所述清洗區(qū)中所述右側(cè)面清洗構(gòu)件的移動(dòng)方 向的后側(cè)，并向由所述右側(cè)面清洗構(gòu)件清洗過(guò)的所述狹縫噴嘴的下端部的右 側(cè)面噴出氣體；左側(cè)面用氣體噴出裝置，其配置于所述清洗區(qū)中所述左側(cè)面 清洗構(gòu)件的移動(dòng)方向的后側(cè)，并向由所述左側(cè)面清洗構(gòu)件清洗過(guò)的所述狹縫 噴嘴的下端部的左側(cè)面噴出氣體；
本申請(qǐng)的第四方案是在第三方案所述發(fā)明的基礎(chǔ)上，所述右側(cè)面用氣體 噴出裝置和所述左側(cè)面用氣體噴出裝置分別具有向所述狹縫噴嘴的下端部噴 出氣體的狹縫狀的氣體噴出孔。
本申請(qǐng)的第五方案是在第一方案所述發(fā)明的基礎(chǔ)上，還包括清洗液飛散 防止罩，該飛散防止罩在所述清洗區(qū)移動(dòng)到所述待機(jī)位置時(shí)，覆蓋所述清洗區(qū)的上部。
本申請(qǐng)的第六方案是在第一方案所述發(fā)明的基礎(chǔ)上，所述下面清洗構(gòu)件、 右側(cè)面清洗構(gòu)件以及左側(cè)面清洗構(gòu)件是刷子。
若根據(jù)第一方案所記載的發(fā)明，則清洗刷在清洗區(qū)域移動(dòng)時(shí)，能夠采用 下面清洗構(gòu)件、右側(cè)面清洗構(gòu)件以及左側(cè)面清洗構(gòu)件充分干凈地清洗狹縫噴 嘴，另外，清洗區(qū)配置于待機(jī)位置時(shí)，能夠采用處理液清洗下面清洗構(gòu)件、 右側(cè)面清洗構(gòu)件以及左側(cè)面清洗構(gòu)件。此時(shí)，右側(cè)面清洗構(gòu)件和左側(cè)面清洗 構(gòu)件相對(duì)于狹縫噴嘴的長(zhǎng)度方向，配設(shè)于不同的位置，由此能夠防止從第一 噴嘴吐出的清洗液和從第二噴嘴噴出的清洗液相碰撞。
若根據(jù)第二方案所記載的發(fā)明，則即使是從第一噴嘴以及第二噴嘴吐出 的清洗液沒(méi)有充分到達(dá)下面清洗構(gòu)件的情況，也能夠充分清洗下面清洗構(gòu)件。
若根據(jù)第三方案所記載的發(fā)明，則能夠利用氣體除去在噴嘴下端部上附 著的清洗液。
若根據(jù)第四方案所記載的發(fā)明，則能夠通過(guò)狹縫狀的氣體充分地除去在 噴嘴下端部上附著的清洗液。
若根據(jù)第五方案所記載的發(fā)明，則在待機(jī)位置由清洗液清洗下面清洗構(gòu) 件、右側(cè)面清洗構(gòu)件以及左側(cè)面清洗構(gòu)件時(shí)，有效地防止處理液向外部飛散。
若根據(jù)第六方案所記載的發(fā)明，則能夠利用刷子充分地清洗狹縫噴嘴， 另外，能夠使壽命變長(zhǎng)。


圖1是適用本發(fā)明的噴嘴清洗裝置的涂敷裝置的立體圖。
圖2是適用本發(fā)明的噴嘴清洗裝置的涂敷裝置的側(cè)視圖。
圖3是示意性地示出狹縫噴嘴41的抗蝕劑供給動(dòng)作的說(shuō)明圖。
圖4是將狹縫噴嘴41切斷一部分而示出的主視圖。
圖5是將本發(fā)明的噴嘴清洗裝置6與狹縫噴嘴41 一起示出的側(cè)視圖。
圖6是清洗區(qū)61的俯視圖。
圖7是將清洗區(qū)61分解而示出的立體圖。
圖8是示出由清洗區(qū)61清洗狹縫噴嘴41的狀態(tài)的概略圖。
圖9是下面清洗刷82的立體圖。圖10是下面清洗刷82的立體圖。
圖11是示出第一噴嘴87、第二噴嘴84以及第三噴嘴85、 86的清洗液的
吐出狀態(tài)的主視圖。
圖12是示出第一噴嘴87、第二噴嘴84、以及第三噴嘴85、 86的清洗液
的吐出狀態(tài)的俯視圖。
圖13是其他實(shí)施方式的惰性氣體噴出用區(qū)75的立體圖。
圖14是示出狹縫噴嘴41的端邊的傾斜角0和惰性氣體噴出用狹縫91、
92之間關(guān)系的說(shuō)明圖。
圖15是將惰性氣體噴出用噴嘴93與狹縫噴嘴41 一起示出的側(cè)視圖。 圖16是示出配置于清洗區(qū)61上方的飛散防止罩71的說(shuō)明圖。
具體實(shí)施例方式
以下，根據(jù)

本發(fā)明的實(shí)施方式。圖1是適用本發(fā)明的噴嘴清洗 裝置的涂敷裝置的立體圖，圖2是其側(cè)視圖。此外，在圖1中省略了預(yù)先分 配(pre-dispense)機(jī)構(gòu)2以及噴嘴清洗裝置6等的圖示。另外，在圖2中省 略了搬運(yùn)器4等的圖示。
該涂敷裝置用于在矩形的液晶面板用的玻璃基板(以下稱(chēng)作"基板") W上涂敷例如包括被稱(chēng)為彩色抗蝕劑的顏料的抗蝕劑。
在該涂敷裝置具備用于保持基板W的載物臺(tái)3。該載物臺(tái)3采用長(zhǎng)方體 形狀的石材，其上表面為水平面，作為基板W的保持面30。在保持面30上 形成并分布有未圖示的多個(gè)真空吸附口，成為在涂敷裝置中吸附保持基板W 的結(jié)構(gòu)。另夕卜，如在圖l中示意性地示出，在保持面30上，隔開(kāi)適當(dāng)間隔地 設(shè)置有通過(guò)未圖示的驅(qū)動(dòng)裝置可自由上下升降的多個(gè)升降銷(xiāo)39。在搬入、搬 出基板W時(shí)，該升降銷(xiāo)39從基板W的下方支撐該基板W而使從載物臺(tái)3 表面向上方上升。
在載物臺(tái)3的上方設(shè)置有搬運(yùn)器4，該搬運(yùn)器4以大致水平地橫跨于該載 物臺(tái)3的兩側(cè)部分之間。該搬運(yùn)器4具備用于支撐狹縫噴嘴41的噴嘴支撐 部40;和支撐該噴嘴支撐部40兩端的左右一對(duì)的升降機(jī)構(gòu)43。另外，在載 物臺(tái)3的兩端部配設(shè)有一對(duì)掃描軌道31，該掃描軌道31在大致水平方向平行 延伸。這些掃描軌道31通過(guò)引導(dǎo)搬運(yùn)器4的兩端部使搬運(yùn)器4在圖1所示的x方向往復(fù)移動(dòng)。
在載物臺(tái)3以及搬運(yùn)器4的兩部分上固定設(shè)置有一對(duì)AC無(wú)鐵心線性馬 達(dá)(以下，簡(jiǎn)稱(chēng)為"線性馬達(dá)")50，該AC無(wú)鐵心線性馬達(dá)50沿著載物臺(tái) 3的兩側(cè)邊緣側(cè)分別具有固定件(定子)50a和移動(dòng)件50b。另外，在載物臺(tái) 3以及搬運(yùn)器4的兩側(cè)部分固定設(shè)置有分別具備換算部和檢測(cè)件的一對(duì)線性 編碼器52。該線性編碼器52檢測(cè)搬運(yùn)器4的位置。
如圖2所示，在載物臺(tái)3的保持面30的側(cè)方配設(shè)有預(yù)先分配機(jī)構(gòu)2。該 預(yù)先分配機(jī)構(gòu)2具備預(yù)先分配輥22，該預(yù)先分配輥22的一部分浸泡在貯存 于貯存槽21內(nèi)的清洗液中；以及，刮粉刀(doctorbled) 23。相對(duì)于Y方向， 預(yù)先分配輥22和刮粉刀(doctor bled) 23具有大于等于狹縫噴嘴41長(zhǎng)度的 長(zhǎng)度。還有，預(yù)先分配輥22在未圖示的馬達(dá)的驅(qū)動(dòng)下旋轉(zhuǎn)。
在該涂敷裝置中，在實(shí)行處理動(dòng)作之前，通過(guò)從移動(dòng)到預(yù)先分配輥22上 方的狹縫噴嘴41吐出少量的抗蝕劑，實(shí)行從狹縫噴嘴41內(nèi)除去在后述的噴 嘴清洗工序中含有了清洗液的抗蝕劑的工序。
如圖2所示，在載物臺(tái)3的保持面30的側(cè)方配設(shè)有本發(fā)明的噴嘴清洗裝 置6。該噴嘴清洗裝置6具備清洗區(qū)61和待機(jī)容器62。此外，關(guān)于該噴嘴清 洗裝置6的結(jié)構(gòu)，在后面進(jìn)行說(shuō)明。
圖3是示意性地示出狹縫噴嘴41的抗蝕劑的供給動(dòng)作的說(shuō)明圖，圖4是 將狹縫噴嘴41切斷一部分而示出的主視圖。
該狹縫噴嘴41具有在其長(zhǎng)度方向(圖3中垂直于紙面的方向/圖4中的左 右方向)延伸的狹縫狀的吐出口 44。該吐出口 44在長(zhǎng)度方向的長(zhǎng)度大于等于 基板W中矩形的元件形成部分的短邊的長(zhǎng)度。如圖3所示，由抗蝕劑供給配 管46供給的抗蝕劑45經(jīng)由該狹縫狀的吐出口 44向基板W表面供給。
以下說(shuō)明通過(guò)涂敷裝置對(duì)基板W涂敷抗蝕劑的涂敷動(dòng)作。在實(shí)行抗蝕劑 的涂敷動(dòng)作之前的狀態(tài)中，狹縫噴嘴41配置于與本發(fā)明的噴嘴清洗裝置6 相對(duì)向的位置。關(guān)于此時(shí)的狹縫噴嘴41等狀態(tài)，在后面進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。
在該狀態(tài)中，在開(kāi)始抗蝕劑的涂敷動(dòng)作時(shí)，將狹縫噴嘴41從在噴嘴清洗 裝置6上方待機(jī)的狀態(tài)移動(dòng)到預(yù)先分配機(jī)構(gòu)2的上部，并實(shí)行預(yù)先分配動(dòng)作。
接著，在將狹縫噴嘴41水平移動(dòng)到基板W的一端上方之后，通過(guò)左右 一對(duì)的升降機(jī)構(gòu)將狹縫噴嘴41配置于對(duì)基板W的涂敷位置。此時(shí)基板W表面和狹縫噴嘴41的吐出口 44之間的間隔已變成了適于涂敷抗蝕劑的給定值。 在該狀態(tài)中，從狹縫噴嘴41的狹縫狀的吐出口 44吐出抗蝕劑，并使狹 縫噴嘴41沿著基板W的表面水平移動(dòng)。如圖3所示，在該狀態(tài)中，從狹縫 噴嘴41的狹縫狀的吐出口 44吐出的抗蝕劑45薄膜狀地被涂敷在基板W的 表面。
當(dāng)狹縫噴嘴41的狹縫狀的吐出口 44移動(dòng)到與基板W的另一端部相對(duì)向 的位置時(shí)，停止從狹縫噴嘴41的狹縫狀的吐出口 44吐出抗蝕劑，并將狹縫 噴嘴41移動(dòng)到噴嘴清洗裝置6的上方。然后，實(shí)行后述的噴嘴清洗工序。
接著，說(shuō)明本發(fā)明的噴嘴清洗裝置6的結(jié)構(gòu)。圖5是將本發(fā)明的噴嘴清 洗裝置6與狹縫噴嘴41 一起示出的側(cè)視圖。
該噴嘴清洗裝置6具備沿著與上述狹縫噴嘴41平行地配設(shè)的軌道63 可移動(dòng)的支架64;通過(guò)使與該支架64相連接的同步帶65往復(fù)移動(dòng)，使支架 64與狹縫噴嘴41平行地往復(fù)移動(dòng)的馬達(dá)66;配設(shè)于支架64上方的上述清洗 區(qū)。該清洗區(qū)61用于拂拭狹縫噴嘴41的狹縫狀的吐出口 44附近。該清洗區(qū) 61借助于馬達(dá)66的驅(qū)動(dòng)在圖5中以實(shí)線表示的位置和雙點(diǎn)劃線表示的位置之 間進(jìn)行往復(fù)移動(dòng)。
此時(shí)，在圖5中以實(shí)線表示的位置是，后述的下面清洗刷82、右側(cè)面清 洗刷83以及左側(cè)面清洗刷81與狹縫噴嘴41離開(kāi)相隔的待機(jī)位置。另外，圖 5中該待機(jī)位置的右側(cè)位置是由下面清洗刷82、右側(cè)面清洗刷83以及左側(cè)面 清洗刷81清洗狹縫噴嘴41的下端部的清洗區(qū)域。另外，在移動(dòng)到待機(jī)位置 的清洗區(qū)61的上方配設(shè)有飛散防止罩71。
另一方面，待機(jī)容器62在沒(méi)涂敷抗蝕劑的狀態(tài)中，用于防止狹縫噴嘴41 的狹縫狀的吐出口 44附近的抗蝕劑干燥而發(fā)生變質(zhì)。在該待機(jī)容器62的內(nèi) 部例如貯存有溶解抗蝕劑的溶劑等。該待機(jī)容器62，在氣缸67驅(qū)動(dòng)下，能夠 在圖5中以雙點(diǎn)劃線表示的、其上端的開(kāi)口部與狹縫噴嘴41的狹縫狀的吐出 口44相對(duì)向的上升位置，和以實(shí)線表示的下降位置之間進(jìn)行升降。因此，當(dāng) 在使狹縫噴嘴41在噴嘴清洗裝置6的上方待機(jī)的狀態(tài)下，待機(jī)容器62處于 上升位置，則狹縫噴嘴41的吐出口44露于由待機(jī)容器62封閉的空間中。此 時(shí)，由于該空間充滿(mǎn)了含有蒸汽的空氣，所以防止吐出口44附近的抗蝕劑發(fā) 生干燥。接著，說(shuō)明上述清洗區(qū)61的結(jié)構(gòu)。圖6是清洗區(qū)61的俯視圖。另外， 圖7是將清洗區(qū)61分解而示出的立體圖。進(jìn)而，圖8是示出由該清洗區(qū)61 清洗狹縫噴嘴41的狀態(tài)的概略圖。
該清洗區(qū)61具備 一對(duì)飛散防止板73;具備惰性氣體噴出用狹縫77、 78的四個(gè)惰性氣體噴出用區(qū)75;隔板74;由支撐構(gòu)件79 (參照?qǐng)D8)支撐的 下面清洗刷82、右側(cè)面清洗刷83以及左側(cè)面清洗刷81;支撐第一噴嘴87、 第二噴嘴84以及第三噴嘴85、 86的一對(duì)噴嘴用區(qū)76。該清洗區(qū)61由支撐臂 72支撐，并且在該清洗區(qū)61的下方配設(shè)有回收清洗液等的排水管96。此外， 上述支撐構(gòu)件79經(jīng)由自動(dòng)調(diào)芯用彈簧部80固定于支撐臂72上。
如圖8所示，當(dāng)清洗區(qū)61配置于清洗區(qū)域時(shí)，下面清洗刷82能夠抵接 于狹縫噴嘴41下端部的下面，也就是能夠與形成有圖3中示出的吐出口 44 的區(qū)域抵接。另外，當(dāng)清洗區(qū)61配置于清洗區(qū)域時(shí)，右側(cè)面清洗刷83向著 狹縫噴嘴41的長(zhǎng)度方向(清洗區(qū)61的進(jìn)行方向)能夠抵接于下端部的右側(cè) 面。進(jìn)而，當(dāng)清洗區(qū)61配置于清洗區(qū)域時(shí)，左側(cè)面清洗刷81向著狹縫噴嘴 41的長(zhǎng)度方向能夠抵接于下端部的左側(cè)面。
圖9以及圖10是下面清洗刷82的立體圖。
作為下面清洗刷82，可以使用如圖9所示的直線狀刷子，另外，還可以 使用如圖10所示的嵌入式刷子。 一般來(lái)講，當(dāng)難以除去附著在狹縫噴嘴41 上的抗蝕劑時(shí)，優(yōu)選使用圖9中所示的直線狀刷子。另外，當(dāng)重視耐久性時(shí)， 優(yōu)選使用圖10中所示的嵌入式刷子。刷部的材料，優(yōu)選采用具有耐溶劑性的 氟樹(shù)脂類(lèi)的素材。通過(guò)使用具有這樣的刷部的刷子，與利用如在日本國(guó)專(zhuān)利 申請(qǐng)公開(kāi)JP2005-262127號(hào)公報(bào)中所記載那樣的、由多孔材料構(gòu)成的拂拭構(gòu) 件的情況相比，能夠提高其耐久性。此外，右側(cè)面清洗刷83以及左側(cè)面清洗 刷81也具有與該下面清洗刷82相同的結(jié)構(gòu)。
當(dāng)清洗區(qū)61配置于清洗區(qū)域時(shí)，第一噴嘴87隔著狹縫噴嘴41配置于與 右側(cè)面清洗刷83相對(duì)向的位置。另外，當(dāng)清洗區(qū)61配置于清洗區(qū)域時(shí)，第 二噴嘴84隔著狹縫噴嘴41配置于與左側(cè)面清洗刷81相對(duì)向的位置。進(jìn)而， 第三噴嘴85、 86配置于與下面清洗刷82相對(duì)向的位置。
圖11是示出第一噴嘴87、第二噴嘴84以及第三噴嘴85、 86的清洗液的 吐出狀態(tài)的主視圖，圖12是其俯視圖。第一噴嘴87朝向右側(cè)清洗刷83和下面清洗刷82吐出清洗液。第二噴嘴 84朝向左側(cè)清洗刷81和下面清洗刷82吐出清洗液。第三噴嘴85、 86朝向下 面清洗刷82吐出清洗液。如圖12所示，這些第一、第二、第三清洗噴嘴87、 84、 85、 86以互相交錯(cuò)排列的形狀配置。因此，能夠有效地防止從這些第一、 第二、第三清洗噴嘴87、 84、 85、 86吐出的清洗液互相碰撞而向周?chē)w散。
此外，如圖8所示，當(dāng)清洗區(qū)61配置于清洗區(qū)域時(shí)，下面清洗刷82配 置于可與狹縫噴嘴41下端部的下面相抵接的位置；右側(cè)面清洗刷83配置于 向著狹縫噴嘴41的長(zhǎng)度方向可與下端部的右側(cè)面相抵接的位置；左側(cè)面清洗 刷81配置于向著狹縫噴嘴41的長(zhǎng)度方向可與下端部的左側(cè)面相抵接的位置。 因此，從第一、第二、第三清洗噴嘴87、 84、 85、 86吐出的清洗液也向狹縫 噴嘴41下端部供給。
此外，如圖6所示，第一、第二、第三清洗噴嘴87、 84、 85、 86與清洗 液供給部100相連接。該清洗液供給部100接到來(lái)自噴嘴清洗裝置的控制部 的指令，控制向第一、第二、第三清洗噴嘴87、 84、 85、 86供給清洗液的動(dòng) 作。此外，通常，從該清洗液控制部100向第一、第二、第三清洗噴嘴87、 84、 85、 86供給清洗液，但在狹縫噴嘴41的污染程度較高等情況時(shí)，也可以 供給混合了清洗液和惰性氣體的混合流體。
在惰性氣體噴出用區(qū)75形成的惰性氣體噴出用狹縫77、 78利用氮?dú)鈱?從第一、第二、第三清洗噴嘴87、 84、 85、 86供給的、殘留在狹縫噴嘴41 下端部的處理液吹散。當(dāng)清洗區(qū)61向圖6所示的Y+方向移動(dòng)時(shí)，僅使用惰 性氣體噴出用狹縫77、 78當(dāng)中，位于右側(cè)面用刷子83和左側(cè)面用刷子81的 移動(dòng)方向后側(cè)的惰性氣體噴出用狹縫77、 78 (圖6中Y-側(cè)的惰性氣體噴出用 狹縫77、 78);而當(dāng)清洗區(qū)61向圖6所示的Y-方向移動(dòng)時(shí)，僅使用惰性氣 體噴出用狹縫77、 78當(dāng)中，位于右側(cè)面用刷子83和左側(cè)面用刷子81的移動(dòng) 方向后側(cè)的惰性氣體噴出用狹縫77、 78 (圖6中Y+側(cè)的惰性氣體噴出用狹縫 77、 78)。
另外，在上述實(shí)施方式中，在惰性氣體噴出用區(qū)75形成的惰性氣體噴出 用狹縫77、 78的長(zhǎng)度方向朝向與清洗區(qū)61的移動(dòng)方向垂直相交的方向。但 是，如圖13以及圖14所示，也可采用側(cè)視具有與狹縫噴嘴41的端邊傾斜角 為e相同的傾斜角的惰性噴出用狹縫91、 92。在這種情況下，能夠提高狹縫噴嘴41的端邊附近的液滴切斷作用。
另外，如圖15所示，除了上述惰性氣體噴出用狹縫77、 78、 91、 92之 外，還可以附加設(shè)置朝向狹縫噴嘴41前端部之外的下面噴出惰性氣體的惰性 氣體噴出用噴嘴93。
接著，說(shuō)明具有上述結(jié)構(gòu)的噴嘴清洗裝置中的狹縫噴嘴41的清洗動(dòng)作。
在開(kāi)始狹縫噴嘴41的清洗工作時(shí)，清洗區(qū)61配置于圖5中以實(shí)線表示 的待機(jī)位置。另外，此時(shí)，狹縫噴嘴41由于圖1中所示的升降機(jī)構(gòu)43的作 用，配置于其下端部與下面清洗刷82、右側(cè)面清洗刷83以及左側(cè)面清洗刷 81相分離隔開(kāi)的位置。
在該狀態(tài)下，通過(guò)清洗液供給部100的控制，從第一、第二、第三清洗 噴嘴87、 84、 85、 86吐出清洗液。然后，通過(guò)升降機(jī)構(gòu)43的作用使狹縫噴 嘴41下降，以使狹縫噴嘴41下端部與下面清洗刷82、右側(cè)面清洗刷83以及 左側(cè)面清洗刷81相抵接。然后，在該狀態(tài)下，將清洗區(qū)61向圖5中所示的 右方向(例如圖6中的Y+方向)移動(dòng)。在該狀態(tài)下，通過(guò)從第一、第二、第 三清洗噴嘴87、 84、 85、 86吐出的清洗液與下面清洗刷82、右側(cè)面清洗刷 83以及左側(cè)面清洗刷81的作用，充分地清洗狹縫噴嘴41的下端部。
當(dāng)清洗區(qū)61移動(dòng)到清洗區(qū)域的端部時(shí)，停止清洗區(qū)61的移動(dòng)。然后通 過(guò)升降機(jī)構(gòu)43的作用使狹縫噴嘴41上升，從而狹縫噴嘴41的下端部與下面 清洗刷82、右側(cè)面清洗刷83以及左側(cè)面清洗刷81相分離隔開(kāi)。然后，將清 洗區(qū)61向與上述方向相反的方向(圖6中Y-方向)移動(dòng)。由此，通過(guò)從第 一、第二、第三清洗噴嘴87、 84、 85、 86吐出的清洗液，實(shí)行狹縫噴嘴41 下端部的最終清洗。
此時(shí)，從惰性氣體噴出用狹縫77、 78當(dāng)中，位于右側(cè)面用刷子83和左 側(cè)面用刷子81的移動(dòng)方向后側(cè)的惰性氣體噴出用狹縫77、 78噴出惰性氣體。 由此，殘留在狹縫噴嘴41上的清洗液被吹散，并從狹縫噴嘴41被除去。
當(dāng)清洗區(qū)61復(fù)位到圖5中以實(shí)線表示的待機(jī)位置時(shí)，停止從第一、第二、 第三清洗噴嘴87、 84、 85、 86吐出清洗液、并停止從惰性氣體噴出用狹縫77、 78噴出惰性氣體。
當(dāng)通過(guò)以上步驟完成了狹縫噴嘴41的清洗動(dòng)作之后，接著，實(shí)行采用下 面清洗刷82、右側(cè)面清洗刷83以及左側(cè)面清洗刷81的清洗。在清洗區(qū)61復(fù)位到圖5中以實(shí)線表示的待機(jī)位置的狀態(tài)下，如圖5以及 圖16所示，在清洗刷61的上方配置有飛散防止罩71。在該狀態(tài)下，再次從 第一、第二、第三清洗噴嘴87、 84、 85、 86吐出清洗液。由此，如圖11以 及圖12所示，下面清洗刷82、右側(cè)面清洗刷83以及左側(cè)面清洗刷81，由從 第一、第二、第三清洗噴嘴87、 84、 85、 86吐出的清洗液來(lái)清洗。
此外，在上述的實(shí)施例中，清洗區(qū)61從待機(jī)位置移動(dòng)時(shí)，使用從第一、 第二、第三清洗噴嘴87、 84、 85、 86吐出的清洗液、和下面清洗刷82、右側(cè) 面清洗刷83以及左側(cè)面清洗刷81來(lái)進(jìn)行清洗，而清洗區(qū)61回到待機(jī)位置時(shí)， 僅使用從第一、第二、第三清洗噴嘴87、 84、 85、 86吐出的清洗液來(lái)進(jìn)行清 洗。但是，為了更可靠地清洗狹縫噴嘴41，使清洗區(qū)61進(jìn)行多次往復(fù)移動(dòng)的 同時(shí)，使用從第一、第二、第三清洗噴嘴87、 84、 85、 86吐出的清洗液、和 下面清洗刷82、右側(cè)面清洗刷83以及左側(cè)面清洗刷81來(lái)進(jìn)行清洗之后，僅 使用從第一、第二、第三清洗噴嘴87、 84、 85、 86吐出的清洗液來(lái)進(jìn)行最終 清洗也可。
權(quán)利要求
1.一種噴嘴清洗裝置，用于清洗處理液供給噴嘴，該處理液供給噴嘴從在長(zhǎng)尺狀的狹縫噴嘴的下端部上形成的狹縫狀的吐出口吐出處理液，其特征在于，具備清洗區(qū)，其具有可抵接于所述狹縫噴嘴的下端部的下面上的下面清洗構(gòu)件；朝向所述狹縫噴嘴的長(zhǎng)度方向而可抵接于所述下端部的右側(cè)面的右側(cè)面清洗構(gòu)件；相對(duì)于所述狹縫噴嘴的長(zhǎng)度方向配設(shè)于與所述右側(cè)面清洗構(gòu)件不同的位置，并朝向所述狹縫噴嘴的長(zhǎng)度方向而可抵接于所述下端部的左側(cè)面的左側(cè)面清洗構(gòu)件；移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使所述清洗區(qū)在清洗區(qū)域和待機(jī)位置之間往復(fù)移動(dòng)，其中，該清洗區(qū)域是所述清洗區(qū)利用所述下面清洗構(gòu)件、所述右側(cè)面清洗構(gòu)件以及所述左側(cè)面清洗構(gòu)件清洗狹縫噴嘴的下端部的同時(shí)進(jìn)行移動(dòng)的區(qū)域；該待機(jī)位置是所述下面清洗構(gòu)件、右側(cè)面清洗構(gòu)件以及左側(cè)面清洗構(gòu)件從狹縫噴嘴分離開(kāi)的位置；第一噴嘴，其在所述清洗區(qū)配置于所述清洗區(qū)域時(shí)，設(shè)置在所述清洗區(qū)的隔著所述狹縫噴嘴而與所述右側(cè)面清洗構(gòu)件相對(duì)向的位置上，并能夠向所述右側(cè)面清洗構(gòu)件吐出清洗液；第二噴嘴，其在所述清洗區(qū)配置于所述清洗區(qū)域時(shí)，設(shè)置在所述清洗區(qū)的隔著所述狹縫噴嘴而與所述左側(cè)面清洗構(gòu)件相對(duì)向的位置上，并能夠向所述左側(cè)面清洗構(gòu)件吐出清洗液；清洗液供給部，其在清洗區(qū)在所述清洗區(qū)域內(nèi)移動(dòng)時(shí)、和在清洗區(qū)配置于所述待機(jī)位置時(shí)，向所述第一噴嘴以及所述第二噴嘴供給清洗液。
2. 如權(quán)利要求1所述的噴嘴清洗裝置，其特征在于， 還具有能夠向所述下面清洗構(gòu)件吐出清洗液的第三噴嘴，而且，所述清洗液供給部在清洗區(qū)在所述清洗區(qū)域內(nèi)移動(dòng)時(shí)、和在清洗 區(qū)配置于所述待機(jī)位置時(shí)，向所述第三噴嘴供給清洗液。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的噴嘴清洗裝置，其特征在于，還具備 右側(cè)面用氣體噴出裝置，其配置于所述清洗區(qū)中所述右側(cè)面清洗構(gòu)件的移動(dòng)方向的后側(cè)，并向由所述右側(cè)面清洗構(gòu)件清洗過(guò)的所述狹縫噴嘴的下端 部的右側(cè)面噴出氣體；左側(cè)面用氣體噴出裝置，其配置于所述清洗區(qū)中所述左側(cè)面清洗構(gòu)件的 移動(dòng)方向的后側(cè)，并向由所述左側(cè)面清洗構(gòu)件清洗過(guò)的所述狹縫噴嘴的下端 部的左側(cè)面噴出氣體。
4. 如權(quán)利要求3所述的噴嘴清洗裝置，其特征在于， 所述右側(cè)面用氣體噴出裝置和所述左側(cè)面用氣體噴出裝置分別具有向所述狹縫噴嘴的下端部噴出氣體的狹縫狀的氣體噴出孔。
5. 如權(quán)利要求1所述的噴嘴清洗裝置，其特征在于， 還包括防止清洗液飛散的飛散防止罩，該飛散防止罩在所述清洗區(qū)移動(dòng)到所述待機(jī)位置時(shí)，覆蓋所述清洗區(qū)的上部。
6. 如權(quán)利要求1所述的噴嘴清洗裝置，其特征在于， 所述下面清洗構(gòu)件、右側(cè)面清洗構(gòu)件以及左側(cè)面清洗構(gòu)件是刷子。
全文摘要
本發(fā)明提供一種在長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)都能夠充分干凈地清洗噴嘴的噴嘴清洗裝置。該清洗區(qū)(61)具有一對(duì)飛散防止板(73)；具備惰性氣體噴出用狹縫(77、78)的四個(gè)惰性氣體噴出用區(qū)(75)；隔板(74)；由支撐構(gòu)件支撐的下面清洗刷(82)、右側(cè)面清洗刷(83)以及左側(cè)面清洗刷(81)；支撐第一噴嘴(87)、第二噴嘴(84)以及第三噴嘴(85、86)的一對(duì)噴嘴用區(qū)(76)。當(dāng)清洗區(qū)配置于清洗區(qū)域時(shí)，下面清洗刷配置于能夠抵接于狹縫噴嘴下端部下面的位置；右側(cè)面清洗刷配置于朝向狹縫噴嘴的長(zhǎng)度方向能夠抵接于下端部右側(cè)面的位置；左側(cè)面清洗刷配置于向著狹縫噴嘴的長(zhǎng)度方向能夠抵接于下端部左側(cè)面的位置。
文檔編號(hào)B05B15/02GK101314153SQ20081000196
公開(kāi)日2008年12月3日 申請(qǐng)日期2008年1月4日 優(yōu)先權(quán)日2007年5月28日
發(fā)明者高木善則 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社