專利名稱：一種高垂直度、溫度及壓力處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于將芯片固定到天線上的高垂直度、溫度及壓力處理裝置。
背景技術(shù)：
一種高垂直度、溫度及壓力處理裝置是用于將芯片固定到天線上的裝置，現(xiàn)有的處理裝 置，是采用氣缸驅(qū)動熱壓頭，但由于氣缸的活塞桿與活塞筒之間的配合間隙較大，汽缸的上 下運動精度不高，導致芯片被固定到天線上的位置精度不高，由此會導致產(chǎn)品的合格率較低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的在于提供一種產(chǎn)品的合格率高，質(zhì)量好的高垂直度、溫度及壓力處理裝置。 本發(fā)明的高垂直度、溫度及壓力處理裝置，包括基座，基座上安裝有壓力施加裝置，壓
力施加裝置與帶有上熱壓頭的上熱壓頭座相連，所述上熱壓頭座的側(cè)面與滑塊相連，滑塊與
滑道相配合，滑道固定在所述基座上。
本發(fā)明的高垂直度、溫度及壓力處理裝置，其中所述滑道的橫截面為矩形或燕尾形，所
述滑塊具有與滑道相配合的矩形卡槽或燕尾形卡槽。
本發(fā)明的高垂直度、溫度及壓力處理裝置，其中所述壓力施加裝置為氣缸或彈簧，氣缸
的活塞桿或彈簧的施壓端與帶有上熱壓頭的上熱壓頭座相連。
本發(fā)明的高垂直度、溫度及壓力處理裝置，其中所述上熱壓頭座釆用絕緣材料制成。 本發(fā)明的高垂直度、溫度及壓力處理裝置，其中所述氣缸或彈簧沿垂直方向安裝在所述
基座上。
本發(fā)明的高垂直度、溫度及壓力處理裝置，其中所述基座包括立板，立板的頂端具有向 一端延伸的橫板，橫板的板面與所述滑道上的導軌垂直。
本發(fā)明的高垂直度、溫度及壓力處理裝置，其中所述上熱壓頭的下方設(shè)有下熱壓頭，下 熱壓頭固定在下熱壓頭座上，所述上熱壓頭座為一個整體部件。
本發(fā)明的高垂直度、溫度及壓力處理裝置的優(yōu)點和積極效果在于由于在上熱壓頭座的 側(cè)面設(shè)有滑塊，滑塊與沿垂直方向設(shè)置的滑道相配合，滑道固定在基座上，在將芯片固定到 天線上的工作過程中，上述滑軌可以極大地提高熱壓頭的運動精度，從而保證產(chǎn)品的一致性， 極大地提高產(chǎn)品質(zhì)量，減少廢品率，并能保證不同批次的產(chǎn)品具有很好的配合與互換性，即 產(chǎn)品質(zhì)量也有大幅度的提高。由于上熱壓頭座具有極高的導向精度，運動輕快靈活，熱壓壓 力均勻，能極大地提高生產(chǎn)效率和合格率，采用本發(fā)明的高垂直度、溫度及壓力處理裝置，
其生產(chǎn)合格率可以由原來的96%提高到99%強。
本發(fā)明的高垂直度、溫度及壓力處理裝置的其他細節(jié)和特點可通過閱讀下文結(jié)合附圖詳 加描述的實施例便可清楚明了 。


圖1為本發(fā)明的一種高垂直度、溫度及壓力處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖的立體圖； 圖2為本發(fā)明的上熱壓頭座部分的主視圖； 圖3為本發(fā)明的上熱壓頭座部分的仰視圖。
具體實施例方式
如圖l、圖2和圖3所示，本發(fā)明的一種高垂直度、溫度及壓力處理裝置，包括基座5， 基座5上安裝有壓力施加裝置，壓力施加裝置為氣缸6，氣缸6沿垂直方向安裝在基座5上， 氣缸6的活塞桿與帶有熱壓頭1的上熱壓頭座2相連，上熱壓頭座2的側(cè)面與滑塊3相連， 滑塊3與滑道4相配合，滑道4固定在基座5上?；?的橫截面為矩形，滑塊3具有與滑 道4相配合的矩形卡槽。
上述滑道4的橫截面也可以為燕尾形，滑塊3則為具有與滑道4相配合的燕尾形卡槽。
上述壓力施加裝置也可以為彈簧，彈簧的施壓端與帶有上熱壓頭的上熱壓頭座相連。上 熱壓頭座的側(cè)面設(shè)有滑塊，滑塊與沿垂直方向設(shè)置的滑道相配合，滑道固定在基座上?；?的橫截面為矩形，滑塊具有與滑道相配合的矩形卡槽。
上述上熱壓頭座可采用絕緣材料制成。上熱壓頭座2為一個整體部件。上熱壓頭座采用 絕緣材料制成的好處在于，通電后可以僅僅使熱壓頭加熱，即熱量不會分散到其它元件上， 由于絕緣導電材料的隔熱性好，可是使熱壓頭上集中更多的熱量，即可以控制熱量不擴散。
上述基座包括立板11，立板11的頂端具有向一端延伸的橫板10，橫板10的板面與滑道 4上的導軌垂直。
上述上熱壓頭1的下方設(shè)有下熱壓頭9,下熱壓頭9固定在下熱壓頭座8上， 本發(fā)明的高垂直度、溫度及壓力處理裝置在使用時，氣缸6的活塞桿驅(qū)動帶有熱壓頭1
的上熱壓頭座2沿著滑道4上、下運動，由于有滑道4的引導定位作用，可極大地提高熱壓
頭1的運動精度，從而可提高產(chǎn)品質(zhì)量，減少廢品率。
上面所述的實施例僅僅是對本發(fā)明的優(yōu)選實施方式進行描述，并非對本發(fā)明范圍進行限
定，在不脫離本發(fā)明設(shè)計精神前提下，本領(lǐng)域普通工程技術(shù)人員對本發(fā)明的技術(shù)方案作出的
各種變形和改進，均應(yīng)落入本發(fā)明的權(quán)利要求書確定的保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1. 一種高垂直度、溫度及壓力處理裝置，包括基座(5)，基座(5)上安裝有壓力施加裝置，壓力施加裝置與帶有上熱壓頭(1)的上熱壓頭座(2)相連，其特征在于所述上熱壓頭座(2)的側(cè)面與滑塊(3)相連，滑塊(3)與滑道(4)相配合，滑道(4)固定在所述基座(5)上。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的高垂直度、溫度及壓力處理裝置，其特征在于所述滑道(4) 的橫截面為矩形或燕尾形，所述滑塊(3)具有與滑道(4)相配合的矩形卡槽或燕尾形 卡槽。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的高垂直度、溫度及壓力處理裝置，其特征在于所述壓力施 加裝置為氣缸(6)或彈簧，氣缸(6)的活塞桿或彈簧的施壓端與帶有上熱壓頭(1) 的上熱壓頭座(2)相連。
4. 根據(jù)權(quán)力要求1或2或3所述的高垂直度、溫度及壓力處理裝置，其特征在于所 述上熱壓頭座采用絕緣材料制成。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的高垂直度、溫度及壓力處理裝置，其特征在于所述氣缸(6) 或彈簧沿垂直方向安裝在所述基座(5)上。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的高垂直度、溫度及壓力處理裝置，其特征在于所述基座包 括立板(11)，立板(11)的頂端具有向一端延伸的橫板(10)，橫板(10)的板面與所 述滑道(4)上的導軌垂直。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的高垂直度、溫度及壓力處理裝置，其特征在于所述上熱壓 頭(1)的下方設(shè)有下熱壓頭(9)，下熱壓頭(9)固定在下熱壓頭座(8)上，所述上 熱壓頭座(2)為一個整體部件。
全文摘要
一種高垂直度、溫度及壓力處理裝置包括基座(5)，基座(5)上安裝有壓力施加裝置，壓力施加裝置與帶有上熱壓頭(1)的上熱壓頭座(2)相連，所述上熱壓頭座(2)的側(cè)面與滑塊(3)相連，滑塊(3)與滑道(4)相配合，滑道(4)固定在所述基座(5)上。其目的在于提供一種產(chǎn)品的合格率高，質(zhì)量好的高垂直度、溫度及壓力處理裝置。
文檔編號H01Q1/00GK101478075SQ20091007790
公開日2009年7月8日 申請日期2009年2月3日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月3日
發(fā)明者張曉冬 申請人:北京德鑫泉科技發(fā)展有限公司