專(zhuān)利名稱(chēng)：高頻加熱裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種高頻加熱裝置，該裝置一方面結(jié)合使用高頻電磁波和蒸汽對(duì)被加熱物進(jìn)行加熱處理，另一方面還能夠?qū)σ蚣訜崽幚矶兣K了的加熱室進(jìn)行清掃。
背景技術(shù)：
在利用高頻電磁波對(duì)被加熱物進(jìn)行加熱處理的高頻加熱裝置中，有只能進(jìn)行高頻加熱的單功能型及附加有烤箱功能的復(fù)合功能型等機(jī)型。在這些高頻加熱裝置中的供被加熱物放入并對(duì)其進(jìn)行加熱處理的加熱室中，被加熱物的湯汁及殘?jiān)仍诩訜崽幚頃r(shí)有可能附著在加熱室中，任其自然時(shí)將會(huì)發(fā)生板結(jié)及烤焦，使加熱室內(nèi)變臟。這些附著的污垢不但給加熱室內(nèi)保持衛(wèi)生帶來(lái)問(wèn)題，而且在進(jìn)行高頻加熱時(shí)還有可能成為產(chǎn)生煙霧的主要原因。因此，需要對(duì)加熱室內(nèi)部進(jìn)行仔細(xì)的清掃，或利用加熱裝置自身設(shè)有的“高溫自潔(通過(guò)高溫將附著物燒掉)”功能將加熱室內(nèi)的污垢清除掉。
但是，上面所述的對(duì)加熱室內(nèi)進(jìn)行清掃的操作很麻煩，附著上的污垢也不是能簡(jiǎn)單地除去的。污垢很?chē)?yán)重時(shí)有時(shí)需要使用中性清洗劑，但這樣的話又需要進(jìn)行仔細(xì)的擦拭，使清掃操作又增加了一道手續(xù)。另外，在利用“高溫自潔”功能進(jìn)行清掃時(shí)，即使污垢中的一部分能被分解，臭味等能夠清除掉，但要完全清除掉附著的污垢在很多情況下是很困難的。結(jié)果，還是不得不依靠手工作業(yè)。
另一方面，在將盛有水的容器放入加熱室內(nèi)用高頻電磁波進(jìn)行加熱時(shí)，加熱室內(nèi)會(huì)充滿蒸汽，附著在加熱室上的污垢在蒸汽的作用下將被軟化，其后再進(jìn)行清掃時(shí)，可以得到良好的洗凈效果。這一清掃方法是公知的。但是，對(duì)高頻加熱裝置的加熱室內(nèi)部采用這種清掃方法進(jìn)行清掃時(shí)，每次都需要在耐熱容器中裝上水，放置到加熱室中，非常麻煩。與此同時(shí)，在直到充滿蒸汽為止的期間內(nèi)，必須持續(xù)地監(jiān)視加熱裝置，所以還是不方便。
另外，對(duì)于向加熱室供給蒸汽的帶有蒸汽發(fā)生功能的高頻加熱裝置，到目前為止也已經(jīng)有好幾種提案。但是，在這些加熱裝置中，產(chǎn)生的蒸汽都是用來(lái)對(duì)被加熱物加熱，目的不是為了對(duì)加熱室進(jìn)行清掃。因此，設(shè)有被設(shè)計(jì)成用來(lái)對(duì)加熱室進(jìn)行清掃的自動(dòng)清掃功能的、帶有蒸汽發(fā)生功能的高頻加熱裝置到現(xiàn)在還沒(méi)有出現(xiàn)。換句話說(shuō)，上述帶有蒸汽發(fā)生功能的高頻加熱裝置和上面描述的那些裝置一樣，清掃時(shí)存在操作不便的問(wèn)題。
另外，在上述的帶有蒸汽發(fā)生功能的高頻加熱裝置中，在蒸汽發(fā)生部分中發(fā)生蒸汽時(shí)，水分中的鈣及鎂等會(huì)發(fā)生濃縮，沉淀/固著在汽化單元的底部及供水管中。這樣，蒸汽的發(fā)生量將會(huì)減少，結(jié)果，使霉斑等容易繁殖，存在環(huán)境變得不衛(wèi)生的問(wèn)題。特別是，在通過(guò)加熱產(chǎn)生蒸汽的汽化單元埋設(shè)在加熱室的下方等人手夠不著的位置上的結(jié)構(gòu)中，除了上面提到的問(wèn)題之外，還存在平時(shí)對(duì)加熱室周?chē)那鍜卟僮饕搽y于進(jìn)行的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是鑒于這樣的狀況中而做出的，其目的在于提供這樣一種高頻加熱裝置，即對(duì)被加熱物進(jìn)行加熱的蒸汽同時(shí)也能用于對(duì)加熱室內(nèi)部進(jìn)行清掃，使得該清掃作業(yè)很簡(jiǎn)單地就能進(jìn)行。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明中的技術(shù)方案1中所述的高頻加熱裝置中利用向容納被加熱物的加熱室中供給高頻電磁波的高頻發(fā)生單元和向所述加熱室中供給蒸汽的蒸汽發(fā)生單元向所述加熱室中供給高頻電磁波和蒸汽中的至少一種，對(duì)被加熱物進(jìn)行加熱處理，其特征在于包括設(shè)置有加熱室清掃模式的控制單元，在所述加熱室清掃模式下，所述蒸汽發(fā)生單元向所述加熱室內(nèi)自動(dòng)地供給蒸汽，清掃加熱室內(nèi)的污垢；信號(hào)輸入裝置，用于使所述控制單元實(shí)行所述的加熱室清掃模式。
采用這種高頻加熱裝置的話，當(dāng)有實(shí)行加熱室清掃模式的信號(hào)輸入時(shí)，控制單元將向加熱室內(nèi)自動(dòng)供給蒸汽，對(duì)加熱室內(nèi)的污垢進(jìn)行清掃。這樣，無(wú)需進(jìn)行煩雜的作業(yè)，可以很容易地將附著在加熱室中的污垢清除掉，從而能夠保持清潔狀態(tài)。
技術(shù)方案2所述的高頻加熱裝置利用向容納被加熱物的加熱室中供給高頻電磁波的高頻發(fā)生單元、和具有設(shè)在所述加熱室中的用來(lái)存積水的蒸發(fā)皿及對(duì)所述蒸發(fā)皿進(jìn)行加熱從而產(chǎn)生蒸汽的蒸發(fā)皿加熱裝置、向所述加熱室內(nèi)供給蒸汽的蒸汽發(fā)生單元向所述加熱室供給高頻電磁波和蒸汽中的至少一種，對(duì)被加熱物進(jìn)行加熱處理，其特征在于包括控制單元，所述控制單元中設(shè)有蒸發(fā)皿清掃模式，在該模式下，通過(guò)向所述蒸發(fā)皿中注入清洗液后利用所述蒸發(fā)皿加熱裝置進(jìn)行加熱，對(duì)所述蒸發(fā)皿的污垢進(jìn)行清掃；以及信號(hào)輸入裝置，用于使所述控制單元實(shí)行所述的蒸發(fā)皿清掃模式。
采用這種高頻加熱裝置的話，當(dāng)有實(shí)行蒸發(fā)皿清掃模式的信號(hào)輸入時(shí)，控制單元通過(guò)蒸發(fā)皿加熱裝置對(duì)注入蒸發(fā)皿中的清洗液進(jìn)行加熱，從而對(duì)蒸發(fā)皿中的污垢進(jìn)行清掃。這樣，無(wú)需進(jìn)行煩雜的作業(yè)，就可以很容易地將附著在蒸發(fā)皿中的污垢清除掉，從而能夠保持清潔狀態(tài)。
技術(shù)方案3所述的高頻加熱裝置利用向容納被加熱物的加熱室中供給高頻電磁波的高頻發(fā)生單元、和具有設(shè)在所述加熱室中的用來(lái)存積水的蒸發(fā)皿及對(duì)所述蒸發(fā)皿進(jìn)行加熱從而產(chǎn)生蒸汽的蒸發(fā)皿加熱裝置、向所述加熱室內(nèi)供給蒸汽的蒸汽發(fā)生單元向所述加熱室供給高頻電磁波和蒸汽中的至少一種，對(duì)被加熱進(jìn)行加熱處理，其特征在于包括設(shè)置有加熱室清掃模式和蒸發(fā)皿清掃模式的控制單元，在所述加熱室清掃模式下，通過(guò)所述蒸汽發(fā)生單元向所述加熱室中自動(dòng)供給蒸汽，對(duì)加熱室內(nèi)的污垢進(jìn)行清掃，在所述蒸發(fā)皿清掃模式下，通過(guò)在所述蒸發(fā)皿中注入清洗液再由所述蒸發(fā)皿加熱裝置進(jìn)行加熱，對(duì)所述蒸發(fā)皿的污垢進(jìn)行清掃；以及信號(hào)輸入裝置，用于使所述控制單元實(shí)行任一種上述的清掃模式。
采用該高頻加熱裝置的話，當(dāng)有指示實(shí)行加熱室清掃模式的信號(hào)輸入時(shí)，控制單元向加熱室內(nèi)中自動(dòng)供給蒸汽，對(duì)加熱室內(nèi)的污垢進(jìn)行清掃；當(dāng)有指示實(shí)行蒸發(fā)皿清掃模式的信號(hào)輸入時(shí)，控制單元通過(guò)蒸發(fā)皿加熱裝置對(duì)注入蒸發(fā)皿中的清洗液進(jìn)行加熱，對(duì)蒸發(fā)皿中的污垢進(jìn)行清掃。這樣，無(wú)需進(jìn)行煩雜的操作，就可以有選擇地、輕而易舉地將附著在加熱室及蒸發(fā)皿中的污垢清除掉，從而保持清潔狀態(tài)。
技術(shù)方案4所述的高頻加熱裝置的特征在于在所述加熱室清掃模式下，通過(guò)蒸發(fā)皿加熱裝置對(duì)供給到所述蒸汽發(fā)生單元的蒸發(fā)皿中的水進(jìn)行加熱，使所述加熱室內(nèi)充滿蒸汽，在構(gòu)成所述加熱室的面上產(chǎn)生結(jié)露，從而進(jìn)行清掃。
采用這種高頻加熱裝置的話，通過(guò)使蒸汽在加熱室的內(nèi)表面上發(fā)生結(jié)露，使附著加熱室的內(nèi)表面上的污垢浮起，從而可以輕而易舉地對(duì)加熱室的內(nèi)表面進(jìn)行清掃，從而保持清潔狀態(tài)。
技術(shù)方案5所述的高頻加熱裝置的特征在于設(shè)有對(duì)所述加熱室內(nèi)的空氣進(jìn)行攪拌的循環(huán)風(fēng)扇，在所述蒸汽發(fā)生單元產(chǎn)生蒸汽時(shí)，對(duì)加熱室內(nèi)產(chǎn)生的蒸汽進(jìn)行攪拌。
采用這種高頻加熱裝置的話，在蒸汽發(fā)生單元產(chǎn)生蒸汽時(shí)，通過(guò)對(duì)產(chǎn)生的蒸汽進(jìn)行攪拌，加熱室內(nèi)的蒸汽不會(huì)偏向一方，而是會(huì)在加熱室內(nèi)的壁面上均勻地發(fā)生結(jié)露，從而可以更可靠地在加熱室內(nèi)全部壁面上清除掉附著在其上的污垢。
技術(shù)方案6所述的高頻加熱裝置的特征在于設(shè)有向所述蒸發(fā)皿進(jìn)行供水的供水單元。
采用這種高頻加熱裝置的話，通過(guò)從供水單元向蒸發(fā)皿供水，再使供給到該蒸發(fā)皿中的水發(fā)生蒸發(fā)，在加熱室的內(nèi)表面上發(fā)生結(jié)露，從而可以使清掃容易進(jìn)行。
技術(shù)方案7所述的高頻加熱裝置的特征在于所述供水單元具有水罐和從該水罐經(jīng)過(guò)供水管路向所述蒸發(fā)皿供給規(guī)定量的水的水泵。
采用這種高頻加熱裝置的話，由水泵將水罐內(nèi)的水通過(guò)進(jìn)水管路送入蒸發(fā)皿，從而容易做到向蒸發(fā)皿中供入規(guī)定量的水。
技術(shù)方案8所述的高頻加熱裝置的特征在于在所述蒸發(fā)皿清掃模式下，將供給至所述蒸汽發(fā)生單元的蒸發(fā)皿中的水和清洗液通過(guò)蒸發(fā)皿加熱裝置加熱到規(guī)定溫度后，浸泡規(guī)定的時(shí)間，從而進(jìn)行清掃。
采用這種高頻加熱裝置的話，通過(guò)向蒸發(fā)皿中注入水和清洗液，加熱到規(guī)定的溫度再進(jìn)行浸泡，可以可靠并且容易地清除掉附著在蒸發(fā)皿中的鈣及鎂等物。
技術(shù)方案9所述的高頻加熱裝置的特征在于上述的清洗液使用的是檸檬酸溶液。
采用這種高頻加熱裝置的話，將檸檬酸溶解形成的檸檬酸溶液作為清洗液，將該檸檬酸溶液注入蒸發(fā)皿中，在此狀態(tài)下加熱到規(guī)定的溫度，再進(jìn)行浸泡。這樣，就可以清除掉蒸發(fā)皿表面的附著物，保證食品衛(wèi)生、安全。


圖1為表示本發(fā)明中的高頻加熱裝置的可開(kāi)閉的爐門(mén)處于打開(kāi)狀態(tài)的正視圖；圖2為圖1的高頻加熱裝置中所使用的蒸汽發(fā)生單元中的蒸發(fā)皿的斜視圖；圖3為蒸汽發(fā)生單元中的蒸發(fā)皿加熱器和反射板的斜視圖；圖4為蒸汽發(fā)生單元的截面圖；圖5示出了在高頻加熱裝置的側(cè)面裝入水罐時(shí)的情形；圖6為高頻加熱裝置的側(cè)面圖；圖7為高頻加熱裝置的設(shè)有輸入操作單元以及顯示單元的可開(kāi)閉爐門(mén)的正視圖；圖8為高頻加熱裝置的控制系統(tǒng)的方框圖；圖9為高頻加熱裝置的操作示意圖；圖10為用于說(shuō)明高頻加熱裝置的清掃模式的流程圖；圖11為用于說(shuō)明高頻加熱裝置的蒸發(fā)皿清掃模式的流程圖；圖12為用于說(shuō)明高頻加熱裝置的加熱室清掃模式的流程圖；圖中，11為加熱室，13為磁控管(高頻發(fā)生單元)，15為蒸汽發(fā)生單元，35為蒸發(fā)皿，37為蒸發(fā)皿加熱器(蒸發(fā)皿加熱裝置)，43為水罐，57為配管(進(jìn)水管路)，55為泵，83為控制單元，100為高頻加熱裝置，M為被加熱物。
具體實(shí)施例方式
下面參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的高頻加熱裝置的優(yōu)選實(shí)施例。
圖1為表示本發(fā)明中的高頻加熱裝置的可開(kāi)閉的爐門(mén)處于打開(kāi)狀態(tài)的正視圖，圖2為圖1中的高頻加熱裝置中所使用的蒸汽發(fā)生單元中的蒸發(fā)皿的斜視圖，圖3為蒸汽發(fā)生單元中的蒸發(fā)皿加熱器和反射板的斜視圖，圖4為蒸汽發(fā)生單元的截面圖。
首先，描述本發(fā)明的高頻加熱裝置100的基本構(gòu)成。
本發(fā)明的帶有蒸汽發(fā)生功能的高頻加熱裝置100通過(guò)向容納被加熱物的加熱室11中供給高頻電磁波(微波)和蒸汽中的至少任何一種從而對(duì)被加熱物進(jìn)行加熱處理，它包括用作產(chǎn)生高頻電磁波的高頻發(fā)生單元的磁控管13；在加熱室11內(nèi)產(chǎn)生蒸汽的蒸汽發(fā)生單元15；對(duì)加熱室11內(nèi)的空氣進(jìn)行攪拌使之發(fā)生循環(huán)的循環(huán)風(fēng)扇17；作為對(duì)加熱室11內(nèi)進(jìn)行循環(huán)的空氣進(jìn)行加熱的室內(nèi)空氣加熱器的對(duì)流加熱器19；通過(guò)設(shè)在加熱室11壁面上的檢測(cè)孔檢測(cè)加熱室11內(nèi)的溫度的紅外線傳感器20；以及用于向蒸汽發(fā)生單元15供水的水罐43。
加熱室11形成在前面開(kāi)放的箱形高頻加熱裝置主機(jī)體10的內(nèi)部。高頻加熱裝置主機(jī)體10的前表面上設(shè)有用來(lái)打開(kāi)/關(guān)閉加熱室11的被加熱物取出口的、帶有透光窗21a的可開(kāi)閉爐門(mén)21?？砷_(kāi)閉爐門(mén)21下端與高頻加熱裝置主機(jī)體10的下緣通過(guò)鉸鏈相聯(lián)接，從而可以打開(kāi)/關(guān)閉。加熱室11和高頻加熱裝置主機(jī)體10的壁面之間設(shè)置有一定的隔熱空間，該空間中裝填有必要的隔熱材料。加熱室11后面的空間為用來(lái)安裝循環(huán)風(fēng)扇17及其驅(qū)動(dòng)電機(jī)23(詳見(jiàn)圖9)的循環(huán)風(fēng)扇室25，加熱室11的后壁將成為隔開(kāi)加熱室11和循環(huán)風(fēng)扇室25的隔斷板27。隔斷板27上分不同的區(qū)域設(shè)有從加熱室11一側(cè)向循環(huán)風(fēng)扇室25一側(cè)進(jìn)行吸氣的吸氣通風(fēng)孔29、和從循環(huán)風(fēng)扇室25一側(cè)向加熱室11一側(cè)進(jìn)行送風(fēng)的送風(fēng)通風(fēng)孔31。通風(fēng)孔29、31均由大量的通孔構(gòu)成。
循環(huán)風(fēng)扇17的旋轉(zhuǎn)中心被配置在矩形隔斷板27的中央位置上，循環(huán)風(fēng)扇室25內(nèi)設(shè)有包圍住循環(huán)風(fēng)扇17的矩形環(huán)狀對(duì)流加熱器19。而且，形成在隔斷板27上的用于吸氣的通風(fēng)孔29配置在循環(huán)風(fēng)扇17的前方，用于送風(fēng)的通風(fēng)孔31則沿矩形環(huán)狀的對(duì)流加熱器19進(jìn)行配置。循環(huán)風(fēng)扇17旋轉(zhuǎn)時(shí)，由于氣流被設(shè)定為從循環(huán)風(fēng)扇17的前面一側(cè)流向驅(qū)動(dòng)電機(jī)所在的后面一側(cè)，加熱室11內(nèi)的空氣被通過(guò)吸氣用通風(fēng)孔29吸入循環(huán)風(fēng)扇17的中心部分，穿過(guò)循環(huán)風(fēng)扇室25內(nèi)的對(duì)流加熱器19，再?gòu)乃惋L(fēng)通風(fēng)孔31送入加熱室11中。這樣，在該氣流的作用下，加熱室11內(nèi)的空氣一邊被攪拌一邊經(jīng)循環(huán)風(fēng)扇室25產(chǎn)生循環(huán)。
磁控管13配置在比方說(shuō)加熱室11下方的空間中，在接受磁控管產(chǎn)生的高頻電磁波的位置設(shè)有攪波葉片33。這樣，隨著攪波葉片33的旋轉(zhuǎn)，從磁控管13射到攪波葉片33上的高頻電磁波將一邊被攪波葉片33所攪拌一邊被供給到加熱室11中。另外，磁控管13及攪波葉片33不一定非得設(shè)置在加熱室11的底部，也可以設(shè)在加熱室11的上面及側(cè)面。另外，也可以使用轉(zhuǎn)盤(pán)式高頻加熱方式。
蒸汽發(fā)生單元15由圖2中所示的具有經(jīng)加熱會(huì)產(chǎn)生蒸汽的存水凹坑35a的蒸發(fā)皿35、設(shè)置在蒸發(fā)皿35的下側(cè)的如圖3及圖4中所示的對(duì)蒸發(fā)皿35進(jìn)行加熱的蒸發(fā)皿加熱器37、以及將該加熱器的輻射熱反射至蒸發(fā)皿35的截面略呈U字形的反射板39所構(gòu)成。蒸發(fā)皿35可以是比分說(shuō)不銹鋼制成的細(xì)長(zhǎng)板狀，其長(zhǎng)邊在與加熱室11的被加熱物取出口處于相反一側(cè)的里側(cè)底面上沿隔斷板27進(jìn)行配置，且設(shè)置在紅外線傳感器20進(jìn)行的溫度檢測(cè)掃描的實(shí)際檢測(cè)范圍以外。另外，蒸發(fā)皿加熱器37可以使用玻璃管加熱器、鎧裝加熱器、極板加熱器等各種加熱器。
圖5中示出了在高頻加熱裝置的側(cè)面裝入水罐時(shí)的情形，圖6為高頻加熱裝置的側(cè)視圖。如圖5中所示，高頻加熱裝置主機(jī)體10的側(cè)壁10a上設(shè)有可以開(kāi)閉自如的水罐蓋41，向蒸汽發(fā)生單元15中進(jìn)行供水的水罐43以裝拆自如的方式設(shè)置在側(cè)壁10a的內(nèi)部空間10b中。結(jié)合參照?qǐng)D6，可以看到水罐43為較薄的矩形狀，具有上部設(shè)有開(kāi)口的主罐體45、以及以裝拆自如的方式安裝在主機(jī)體45的開(kāi)口上的罐蓋47。蓋47上設(shè)有取水管安裝部分49，取水管安裝部分49的下方設(shè)有貫穿蓋47、延伸到主機(jī)體45的底面45a附近為止的取水管51。另外，聯(lián)結(jié)管53設(shè)置成向取水管安裝部分49的后方(圖5中的水罐插入方向的前方)伸出。
另外，如圖6中所示，高頻加熱裝置主機(jī)體10的側(cè)壁10a的內(nèi)部空間10b內(nèi)設(shè)置有間歇地送出一定量的水的水泵55，該水泵55與取水側(cè)配管55a和供水側(cè)配管55b相聯(lián)接。在水罐43被安裝到高頻加熱裝置主機(jī)體10內(nèi)時(shí)，在取水側(cè)配管55a的與水泵55一側(cè)相對(duì)的另一側(cè)的前端，水罐43的聯(lián)結(jié)管53的端部以裝拆自如的方式與接頭部件56相聯(lián)接。另一方面，供水側(cè)配管55b則經(jīng)過(guò)配管57與蒸汽發(fā)生單元15中的蒸發(fā)皿35相連接。側(cè)壁10a的內(nèi)部空間10b中，在水罐43的取水管安裝部分49的上方位置上還設(shè)有用于檢測(cè)水罐43的裝拆情況的水罐裝拆檢測(cè)單元59，檢測(cè)水罐43是否已經(jīng)裝上。
圖7中示出了高頻加熱裝置100的可開(kāi)閉爐門(mén)的一部分，如圖中所示，位于高頻加熱裝置100的前部一例的可開(kāi)閉爐門(mén)21的下部設(shè)有輸入操作單元61以及顯示單元63。輸入操作單元61中設(shè)有指示加熱烹調(diào)開(kāi)始的啟動(dòng)開(kāi)關(guān)65、進(jìn)行清掃的清掃開(kāi)關(guān)81、設(shè)定旋鈕82(信號(hào)輸入裝置)等。另外，顯示單元63中設(shè)有作為提示裝置的顯示屏75等。另外，雖然圖中未示出，顯示單元63也可以具有能發(fā)出聲音及告警音的功能。
按下清掃開(kāi)關(guān)81后，可以進(jìn)行各種模式的清掃操作。另外，顯示屏75的兩側(cè)單元設(shè)有設(shè)定旋鈕82，通過(guò)旋轉(zhuǎn)這些設(shè)定旋鈕82，能夠選擇各種各樣的設(shè)定。
這里所述的清掃模式有蒸發(fā)皿清掃模式、加熱室清掃模式、除臭模式等模式。按下清掃開(kāi)關(guān)81后，通過(guò)旋轉(zhuǎn)設(shè)定旋鈕82，可以任意選擇各種清掃模式。然后，在通過(guò)設(shè)定旋鈕82選定了模式的狀態(tài)下，按下啟動(dòng)開(kāi)關(guān)65，高頻加熱裝置100就將執(zhí)行選定的清掃模式。
圖8示出了清掃模式的控制系統(tǒng)的控制電路方框圖。所述控制系統(tǒng)具有被送入來(lái)自輸入操作單元61的輸入信號(hào)的控制單元83。該控制單元83與蒸發(fā)皿加熱器37、驅(qū)動(dòng)循環(huán)風(fēng)扇17旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)電機(jī)23、向蒸發(fā)皿供水的水泵55分別聯(lián)結(jié)，由控制單元83進(jìn)行統(tǒng)一控制。另外，該控制單元83還與檢測(cè)蒸發(fā)皿35的溫度的熱敏電阻等溫度傳感器84相聯(lián)結(jié)，通過(guò)從溫度傳感器84送入檢測(cè)信號(hào)，對(duì)蒸發(fā)皿加熱器37等進(jìn)行反饋控制。然后，控制單元83根據(jù)來(lái)自輸入操作單元61的輸入信號(hào)以及來(lái)自溫度傳感器84的檢測(cè)信號(hào)，以規(guī)定的時(shí)序?qū)φ舭l(fā)皿加熱器37、驅(qū)動(dòng)電機(jī)23、水泵55進(jìn)行控制。
下面描述作為具有上述結(jié)構(gòu)的高頻加熱裝置100進(jìn)行的基本加熱操作的一例的蒸汽加熱時(shí)的操作情況。
從高頻加熱模式、蒸汽加熱模式、烤箱加熱模式等的多種加熱模式中選擇蒸汽加熱模式，按下啟動(dòng)開(kāi)關(guān)65時(shí)，如圖9中的高頻加熱裝置100的操作示意圖所示的那樣，蒸發(fā)皿加熱器37被通電時(shí)，水泵55從水罐43供給到蒸發(fā)皿35內(nèi)的水被加熱，有蒸汽S發(fā)生。從蒸發(fā)皿35上升的蒸汽S經(jīng)設(shè)在隔斷板27的大致中央部分上的吸氣用通風(fēng)孔29被吸引到循環(huán)風(fēng)扇17的中心部分，穿過(guò)循環(huán)風(fēng)扇室25，再?gòu)脑O(shè)在隔斷板27的周?chē)乃惋L(fēng)通風(fēng)孔31被吹向加熱室11內(nèi)。
吹出的蒸汽在加熱室11內(nèi)被攪拌，然后再次從設(shè)在隔斷板27的大致中央部分的吸氣通風(fēng)孔29被吸引到循環(huán)風(fēng)扇室25一側(cè)。這樣，將在加熱室11內(nèi)部和循環(huán)風(fēng)扇室25中形成循環(huán)通道。另外，由于在隔斷板27上循環(huán)風(fēng)扇17的配置位置下方?jīng)]有設(shè)置送風(fēng)用通風(fēng)孔31，故產(chǎn)生的蒸汽將被導(dǎo)向吸氣通風(fēng)孔29中。這樣，如圖中的箭頭所示的那樣，蒸汽將在加熱室11內(nèi)發(fā)生循環(huán)，從而能以很高的效率吹到被加熱物M上。
由于此時(shí)處于加熱室11內(nèi)的蒸汽能由室內(nèi)空氣加熱器19進(jìn)行加熱，故可以將在加熱室11內(nèi)發(fā)生循環(huán)的蒸汽的溫度設(shè)定成高溫。這樣，可以得到所謂的過(guò)熱蒸汽，能夠進(jìn)行使被加熱物M的表面中帶上焦痕的加熱烹調(diào)。
另外，在進(jìn)行高頻加熱時(shí)，對(duì)磁控管13進(jìn)行通電后，通過(guò)使攪波葉片33發(fā)生旋轉(zhuǎn)，可以一邊對(duì)高頻電磁波進(jìn)行攪拌一邊供給加熱室11中。本發(fā)明的高頻加熱裝置100可以進(jìn)行將蒸汽和高頻電磁波結(jié)合起來(lái)進(jìn)行高頻加熱處理。
以上為通常的包含有蒸汽加熱的加熱處理過(guò)程的操作順序。下來(lái)描述本發(fā)明的特征部分即加熱室內(nèi)的清掃功能。
下面根據(jù)圖10中所示的操作流程圖來(lái)描述通過(guò)輸入操作單元61選擇/執(zhí)行清掃模式的高頻加熱裝置100的操作情況。
按下輸入操作單元61上的清掃開(kāi)關(guān)81(步驟1，以下步驟兩字用字母S來(lái)表示)后，從輸入操作單元61向控制單元83送出輸入信號(hào)，控制單元83進(jìn)入清掃模式選擇等待狀態(tài)(S2)。然后，在該狀態(tài)下通過(guò)旋轉(zhuǎn)設(shè)定旋鈕82選定蒸發(fā)皿清掃模式、加熱室清掃模式、或除臭模式。在選定任一清掃模式后按下啟動(dòng)開(kāi)關(guān)65，即開(kāi)始被選擇的清掃模式的操作(S3，S4)。
下面，通過(guò)圖11及圖12中所示的流程圖對(duì)各種清掃模式進(jìn)行說(shuō)明。
(蒸發(fā)皿清掃模式)首先，向蒸發(fā)皿35內(nèi)注入檸檬酸溶解在水中形成的清洗液(S11)。在此狀態(tài)上，選擇蒸發(fā)皿清掃模式，按下啟動(dòng)開(kāi)關(guān)65，蒸發(fā)皿加熱器37將對(duì)蒸發(fā)皿35進(jìn)行加熱，蒸發(fā)皿35內(nèi)的清洗液約在1分鐘左右被加熱到大約80℃(S12)。然后，蒸發(fā)皿加熱器37在5分鐘的時(shí)間內(nèi)斷續(xù)地工作，將清洗液的溫度維持約60～80℃的狀態(tài)下(S13)。其后，使溫度逐漸降到能進(jìn)行擦拭的40℃左右，對(duì)蒸發(fā)皿35進(jìn)行浸泡處理。
清洗液的浸泡時(shí)間經(jīng)過(guò)了規(guī)定的時(shí)間(例如從加熱開(kāi)始約30分鐘)后(S14)，通過(guò)下面的方式提示用戶(hù)清掃處理結(jié)束即發(fā)出聲音或報(bào)警音等，同時(shí)在顯示屏75上顯示出清掃已經(jīng)結(jié)束的信息(S15)。在確認(rèn)以上的清掃操作已經(jīng)結(jié)束之時(shí)，打開(kāi)可開(kāi)閉爐門(mén)21，用布等擦拭蒸發(fā)皿35(S16)。
通過(guò)執(zhí)行這樣的蒸發(fā)皿清掃模式，附著在蒸發(fā)皿35中的鈣及鎂等附著物將被檸檬酸分解，從而可以可靠且容易地清除掉。
另外，本發(fā)明中的清洗液雖然使用的是在食品衛(wèi)生方面比較安全、且對(duì)鈣及鎂等分解效果高的檸檬酸，但這并不是限制性的，比方說(shuō)在檸檬酸溶液中還可以添加入界面活性劑等，提高對(duì)油性污垢的洗凈性。另外，使用其它類(lèi)型的清洗液也是可以的。
(加熱室清掃模式)選定加熱室清掃模式后按下啟動(dòng)開(kāi)關(guān)65時(shí)，水泵55將從水罐43向蒸發(fā)皿35中進(jìn)行間隙的供水(S21)。然后，蒸發(fā)皿加熱器37將被通電，這樣，蒸發(fā)皿35內(nèi)的水將被加熱，就會(huì)有蒸汽發(fā)生(S22)。并且，使驅(qū)動(dòng)循環(huán)風(fēng)扇17的驅(qū)動(dòng)電機(jī)23斷續(xù)地工作(S23)。此時(shí)的驅(qū)動(dòng)電機(jī)23的驅(qū)動(dòng)方式可以是例如30秒期間工作2秒鐘左右的斷續(xù)驅(qū)動(dòng)方式。這樣，可以得到前述的圖9中所示的循環(huán)風(fēng)，產(chǎn)生的蒸汽不會(huì)傾向于停留在加熱室11內(nèi)的上部空間中，而是會(huì)被分散，蒸汽將在加熱室11的全部?jī)?nèi)表面上呈結(jié)露狀態(tài)。
然后，經(jīng)過(guò)約5～8分鐘的規(guī)定時(shí)間后(S24)，使水泵55及驅(qū)動(dòng)電機(jī)23停止工作(S25)，使裝置被放置在上述的結(jié)露狀態(tài)下(S26)。當(dāng)從加熱室清掃模式開(kāi)始起經(jīng)過(guò)了30分鐘時(shí)(S27)，向用戶(hù)發(fā)出清掃已經(jīng)結(jié)束的通知發(fā)出音聲及警報(bào)音等，同時(shí)在顯示屏75上顯示出清掃已經(jīng)結(jié)束的信息(S28)。確認(rèn)清掃操作已經(jīng)結(jié)束后，打開(kāi)爐門(mén)21，用布等擦拭加熱室11的內(nèi)表面(S29)。
通過(guò)執(zhí)行這樣的加熱室清掃模式，板結(jié)在加熱室11的內(nèi)表面上的從被加熱物M的飛散物等污垢將加熱室11的內(nèi)表面從浮起。在這樣的與加熱室內(nèi)表面的密著度降低的狀態(tài)下，通過(guò)擦拭附著的污垢，可以一下子將污垢清除掉。
另外，在與蒸汽蒸發(fā)皿清掃模式和加熱室清掃模式一起設(shè)置的除臭模式中，將進(jìn)行下面的操作。
選定除臭模式并按下啟動(dòng)開(kāi)關(guān)65時(shí)，對(duì)流加熱器19及循環(huán)風(fēng)扇17的驅(qū)動(dòng)電機(jī)23將分別工作，將加熱室11內(nèi)加熱到相當(dāng)于大約230℃的溫度，在表面被施于自我清潔加工的加熱室11的內(nèi)表面上，烹調(diào)時(shí)從加熱物M飛散從而附著在其上的油星等的異味源的附著物能被完全燒掉。
這樣，在具有上述構(gòu)造的高頻加熱裝置100中，控制單元83根據(jù)輸入操作單元61送來(lái)的信號(hào)，控制蒸汽發(fā)生單元15、進(jìn)水用的水泵55、循環(huán)風(fēng)扇17等就可以執(zhí)行所希望的清掃模式，通過(guò)簡(jiǎn)單的操作就能對(duì)加熱室11的內(nèi)表面及蒸發(fā)皿35進(jìn)行清掃，無(wú)需煩雜的操作，附著在加熱室11的內(nèi)表面及蒸發(fā)皿35上的污垢非常容易清除掉，從而能夠始終保持清潔狀態(tài)。
也就是說(shuō)，在蒸發(fā)皿清掃模式下，通過(guò)向蒸發(fā)皿35中注入檸檬酸溶液形成的清洗液、加熱到規(guī)定的溫度再進(jìn)行浸泡處理，附著在蒸發(fā)皿35上的鈣及鎂等污垢能夠被分解。這樣，只需擦拭蒸發(fā)皿35，就可以可靠而且容易地清除掉附著物。另外，在加熱室清掃模式中，通過(guò)使蒸汽在加熱室11的內(nèi)表面結(jié)露，可以使附著在加熱室11的內(nèi)表面上的污垢浮起，污垢就變得很容易擦掉，這樣可以將加熱室11的內(nèi)表面保持在清潔的狀態(tài)下。
另外，在上述各種清掃模式下，只要按下啟動(dòng)開(kāi)關(guān)65，高頻加熱裝置100就能自動(dòng)地進(jìn)行清掃，操作者無(wú)需始終監(jiān)視著高頻加熱裝置100，在被告知清掃處理已經(jīng)完成之前，不會(huì)受到任何約束。另外，在清掃處理完成之后，通常很難去掉的污垢將變得很容易就能清除掉，無(wú)需使很大的力量只需輕輕地擦拭就可以將污垢擦干凈，可以以簡(jiǎn)單的方法達(dá)到良好的洗凈效果。
另外，本發(fā)明中的高頻加熱裝置并不限定于上述各實(shí)施例，在不脫離本發(fā)明的技術(shù)思想的范圍下可以進(jìn)行各種各樣適當(dāng)?shù)淖冃?、改良等?br> 綜上所述，采用本發(fā)明的高頻加熱裝置的話，通過(guò)根據(jù)從信號(hào)輸入裝置送入控制單元中的信號(hào)實(shí)施指定的清掃模式，可以無(wú)需進(jìn)行煩雜的操作就能夠輕而易舉地將附著在加熱室中的污垢清除掉。
權(quán)利要求
1.一種高頻加熱裝置，該裝置利用向容納被加熱物的加熱室中供給高頻電磁波的高頻發(fā)生單元、和向所述加熱室內(nèi)供給蒸汽的蒸汽發(fā)生單元，向所述加熱室供給高頻電磁波和蒸汽中的至少一種，對(duì)被加熱物進(jìn)行加熱處理，其特征在于，包括控制單元，所述控制單元中設(shè)有加熱室清掃模式，在該模式下，通過(guò)所述蒸汽發(fā)生單元向所述加熱室中自動(dòng)供給蒸汽，對(duì)加熱室內(nèi)的污垢進(jìn)行清掃；對(duì)所述加熱室內(nèi)的空氣進(jìn)行攪拌的循環(huán)風(fēng)扇；選擇所述加熱室清掃模式時(shí)斷續(xù)驅(qū)動(dòng)所述循環(huán)風(fēng)扇的驅(qū)動(dòng)電機(jī)。
2.如權(quán)利要求1所述的高頻加熱裝置，其特征在于，所述加熱室清掃模式是通過(guò)蒸發(fā)皿加熱裝置對(duì)供給到所述蒸汽發(fā)生單元的蒸發(fā)皿中的水進(jìn)行加熱，使所述加熱室內(nèi)充滿蒸汽，在構(gòu)成所述加熱室的面上產(chǎn)生結(jié)露，從而進(jìn)行清掃的模式。
3.如權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的高頻加熱裝置，其特征在于，設(shè)有向所述蒸發(fā)皿進(jìn)行供水的供水單元。
4.如權(quán)利要求3所述的高頻加熱裝置，其特征在于，所述供水單元具有水罐和從該水罐經(jīng)過(guò)供水管路向所述蒸發(fā)皿供給規(guī)定量的水的水泵。
全文摘要
本發(fā)明將用于對(duì)被加熱物進(jìn)行加熱的蒸汽用于對(duì)加熱室內(nèi)部進(jìn)行清掃，同時(shí)使該清掃作業(yè)簡(jiǎn)單地就能進(jìn)行。其中，由控制單元根據(jù)輸入的信號(hào)以蒸發(fā)皿清掃模式或加熱室清掃模式實(shí)行清掃。在加熱室清掃模式下，使蒸汽在加熱室(11)的內(nèi)表面上結(jié)露，使附著在加熱室(11)的內(nèi)表面上的污垢浮起，從而容易被清除掉。在蒸發(fā)皿清掃模式下，在蒸發(fā)皿(35)中注入檸檬酸溶液形成的清洗液，加熱到規(guī)定的溫度后再浸泡一段時(shí)間，附著在蒸發(fā)皿(35)中的鈣及鎂等就能容易清除。
文檔編號(hào)F24C14/00GK1696573SQ20051006407
公開(kāi)日2005年11月16日 申請(qǐng)日期2003年8月6日 優(yōu)先權(quán)日2002年8月6日
發(fā)明者神崎浩二, 早川雄二 申請(qǐng)人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社